JP2001281836A - フォトマスクパターンの補正方法、フォトマスクの製造方法および記録媒体 - Google Patents
フォトマスクパターンの補正方法、フォトマスクの製造方法および記録媒体Info
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- JP2001281836A JP2001281836A JP2000093384A JP2000093384A JP2001281836A JP 2001281836 A JP2001281836 A JP 2001281836A JP 2000093384 A JP2000093384 A JP 2000093384A JP 2000093384 A JP2000093384 A JP 2000093384A JP 2001281836 A JP2001281836 A JP 2001281836A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 光近接効果補正の処理時間の短縮を図り、フ
ォトマスクパターンの線幅やスペース幅のバリエーショ
ンが増加しても、パターンデータの作成におけるＴＡＴ
の増加を抑制する。 【解決手段】 ハッシュテーブルから構成され、補正値
を有する補正テーブルを用いて、図形データに対して補
正処理を行う場合、入力された図形データ１に対して線
分ベクトル化処理（ＳＴ２）および線分ソート処理（Ｓ
Ｔ３）を行う。線分化された図形データ１に対し走査線
を走査し、平面走査法により補正対象となる線幅および
スペース幅を抽出する。走査線が走査した前後で挟まれ
る線分に対し、線幅およびスペース幅の値に基づいて、
ハッシュ関数を用い補正テーブルから所望とする補正値
を検索する。検索された補正値に基づいて、図形データ
１における走査線が走査した前後で挟まれる線分に対し
補正を行い、最終的に図形データ１の補正を行う。
ォトマスクパターンの線幅やスペース幅のバリエーショ
ンが増加しても、パターンデータの作成におけるＴＡＴ
の増加を抑制する。 【解決手段】 ハッシュテーブルから構成され、補正値
を有する補正テーブルを用いて、図形データに対して補
正処理を行う場合、入力された図形データ１に対して線
分ベクトル化処理（ＳＴ２）および線分ソート処理（Ｓ
Ｔ３）を行う。線分化された図形データ１に対し走査線
を走査し、平面走査法により補正対象となる線幅および
スペース幅を抽出する。走査線が走査した前後で挟まれ
る線分に対し、線幅およびスペース幅の値に基づいて、
ハッシュ関数を用い補正テーブルから所望とする補正値
を検索する。検索された補正値に基づいて、図形データ
１における走査線が走査した前後で挟まれる線分に対し
補正を行い、最終的に図形データ１の補正を行う。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、フォトマスクパ
ターンの補正方法、フォトマスクの製造方法および記録
媒体に関し、特に、パターン線幅およびパターンスペー
ス幅における疎密が混在したフォトマスクパターンデー
タにおける線幅疎密補正処理に適用して好適なものであ
る。
ターンの補正方法、フォトマスクの製造方法および記録
媒体に関し、特に、パターン線幅およびパターンスペー
ス幅における疎密が混在したフォトマスクパターンデー
タにおける線幅疎密補正処理に適用して好適なものであ
る。
【０００２】
【従来の技術】近年、ＬＳＩの高集積化によって、半導
体装置の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィ工程
においては、露光近傍のパターンを形成する必要から光
の干渉効果が顕著になっている。そのため、設計パター
ンと転写レジストパターンとの間に差異が生じる光近接
効果が問題となっている。
体装置の製造プロセスにおけるフォトリソグラフィ工程
においては、露光近傍のパターンを形成する必要から光
の干渉効果が顕著になっている。そのため、設計パター
ンと転写レジストパターンとの間に差異が生じる光近接
効果が問題となっている。
【０００３】光近接効果は、孤立ラインパターンと繰り
返しラインパターンとの間の線幅較差や、ライン端の縮
みなどの現象となって現れ、ゲート線幅制御性の劣化や
合わせマージンの減少をもたらす。
返しラインパターンとの間の線幅較差や、ライン端の縮
みなどの現象となって現れ、ゲート線幅制御性の劣化や
合わせマージンの減少をもたらす。
【０００４】この光近接効果が生じると、トランジスタ
特性のばらつきが増大し、最終的に半導体チップにおけ
る製造歩留まりの低下を引き起こし、生産効率に著しい
影響を与える。
特性のばらつきが増大し、最終的に半導体チップにおけ
る製造歩留まりの低下を引き起こし、生産効率に著しい
影響を与える。
【０００５】そのため、この光近接効果によるゲート線
幅制御性の劣化や合わせマージンの減少などの問題を防
止するために、マスクデータパターンの段階において、
パターンにバイアス補正を施したり、図形を付加して補
正を行ったりする、いわゆる光近接効果補正（ＯＰＣ）
処理が一般に行われている。
幅制御性の劣化や合わせマージンの減少などの問題を防
止するために、マスクデータパターンの段階において、
パターンにバイアス補正を施したり、図形を付加して補
正を行ったりする、いわゆる光近接効果補正（ＯＰＣ）
処理が一般に行われている。
【０００６】このような光近接効果補正処理を高速で行
う方法として、所定の限られた図形形状のみを、あらか
じめ設定したルールに基づいて補正処理を行う、いわゆ
るルールベース補正方法がある。以下に、このルールベ
ース補正方法による線幅疎密補正処理について、図面を
参照して説明する。図５に、ルールベース補正方法のフ
ローチャートを示し、図６に、このルールベース補正方
法に用いられる補正ルールテーブル１０１を示す。
う方法として、所定の限られた図形形状のみを、あらか
じめ設定したルールに基づいて補正処理を行う、いわゆ
るルールベース補正方法がある。以下に、このルールベ
ース補正方法による線幅疎密補正処理について、図面を
参照して説明する。図５に、ルールベース補正方法のフ
ローチャートを示し、図６に、このルールベース補正方
法に用いられる補正ルールテーブル１０１を示す。
【０００７】すなわち、まず、図６に示す、パターン線
幅（ｗ1、ｗ2、・・・ｗj、ｗj+1、・・・ｗn)とパター
ン間スペース幅（ｓ1、ｓ2、・・・ｓi、ｓi+1、・・・
ｓm）とに対応した補正値を設定した補正ルールテーブ
ル１０１を用意する。
幅（ｗ1、ｗ2、・・・ｗj、ｗj+1、・・・ｗn)とパター
ン間スペース幅（ｓ1、ｓ2、・・・ｓi、ｓi+1、・・・
ｓm）とに対応した補正値を設定した補正ルールテーブ
ル１０１を用意する。
【０００８】そして、図５に示すように、従来技術によ
るルールベース補正処理方法においては、まず、ステッ
プＳ１において入力処理を行う。すなわち、パターンデ
ータに対して補正処理を行う補正処理装置に、フォトマ
スクパターンを表す図形データ（フォトマスクパターン
データ）を入力する。その後、ステップＳ２に移行す
る。
るルールベース補正処理方法においては、まず、ステッ
プＳ１において入力処理を行う。すなわち、パターンデ
ータに対して補正処理を行う補正処理装置に、フォトマ
スクパターンを表す図形データ（フォトマスクパターン
データ）を入力する。その後、ステップＳ２に移行す
る。
【０００９】ステップＳ２においては、入力された図形
データに対してターゲット幅抽出処理を行う。すなわ
ち、補正ルールテーブル１０１におけるターゲットとな
るそれぞれの線幅に対して、その線幅の図形群を抽出す
る処理を行う。ここで、このステップＳ２におけるター
ゲット幅抽出処理を、線幅Ｗの図形を抽出する場合を例
にして、図７を参照しつつ以下に具体的に説明する。
データに対してターゲット幅抽出処理を行う。すなわ
ち、補正ルールテーブル１０１におけるターゲットとな
るそれぞれの線幅に対して、その線幅の図形群を抽出す
る処理を行う。ここで、このステップＳ２におけるター
ゲット幅抽出処理を、線幅Ｗの図形を抽出する場合を例
にして、図７を参照しつつ以下に具体的に説明する。
【００１０】すなわち、図７に示すように、このターゲ
ット幅抽出処理においては、まず、図７Ａに示す図形２
０１ａ、２０１ｂ、２０１ｃからなる入力図形群２０１
のそれぞれの図形２０１ａ、２０１ｂ、２０１ｃに対し
て、Ｗ／２−δ（Ｗ≫δ、δは図形演算時における最小
単位の値など）だけアンダーサイジング処理を行う。そ
の後、さらに同じ大きさ（Ｗ／２−δ）だけオーバーサ
イジング処理を行う。これらのアンダーサイジング処理
およびオーバーサイジング処理により、図７Ｂに示すよ
うに、線幅がＷ以上の図形群２０２（図７Ｂにおいて
は、図形２０１ｂ、２０１ｃ）が抽出される。他方、入
力図形群２０１に対して、Ｗ／２分だけアンダーサイジ
ング処理を行った後、さらに同じ大きさ（Ｗ／２）だけ
オーバーサイジング処理を行う。これらのアンダーサイ
ジング処理およびオーバーサイジング処理により、線幅
がＷより大きい図形群（図７Ｃにおいては、図形２０１
ｃ）２０３が抽出される。その後、図７Ｂに示す図形群
２０２から図７Ｃに示す図形群２０３を引き、差分を得
ることにより、図７Ｄに示すように、線幅Ｗの図形２０
１ｂのみが抽出される。以上のようにして、ターゲット
線幅抽出処理を行った後、ステップＳ３に移行する。
ット幅抽出処理においては、まず、図７Ａに示す図形２
０１ａ、２０１ｂ、２０１ｃからなる入力図形群２０１
のそれぞれの図形２０１ａ、２０１ｂ、２０１ｃに対し
て、Ｗ／２−δ（Ｗ≫δ、δは図形演算時における最小
単位の値など）だけアンダーサイジング処理を行う。そ
の後、さらに同じ大きさ（Ｗ／２−δ）だけオーバーサ
イジング処理を行う。これらのアンダーサイジング処理
およびオーバーサイジング処理により、図７Ｂに示すよ
うに、線幅がＷ以上の図形群２０２（図７Ｂにおいて
は、図形２０１ｂ、２０１ｃ）が抽出される。他方、入
力図形群２０１に対して、Ｗ／２分だけアンダーサイジ
ング処理を行った後、さらに同じ大きさ（Ｗ／２）だけ
オーバーサイジング処理を行う。これらのアンダーサイ
ジング処理およびオーバーサイジング処理により、線幅
がＷより大きい図形群（図７Ｃにおいては、図形２０１
ｃ）２０３が抽出される。その後、図７Ｂに示す図形群
２０２から図７Ｃに示す図形群２０３を引き、差分を得
ることにより、図７Ｄに示すように、線幅Ｗの図形２０
１ｂのみが抽出される。以上のようにして、ターゲット
線幅抽出処理を行った後、ステップＳ３に移行する。
【００１１】図５に示すように、ステップＳ３において
は、スペース幅抽出処理が行われる。すなわち、上述の
ターゲット線幅抽出処理におけると同様に、補正テーブ
ルにおいてターゲットとなるそれぞれのスペース幅に対
して、アンダーサイジング処理およびオーバーサイジン
グ処理を順次行うことにより、スペースをつぶす処理を
行う。そして、ターゲットとなるスペース幅を有するス
ペースに隣接した図形群を抽出する。その後、ステップ
Ｓ４に移行する。
は、スペース幅抽出処理が行われる。すなわち、上述の
ターゲット線幅抽出処理におけると同様に、補正テーブ
ルにおいてターゲットとなるそれぞれのスペース幅に対
して、アンダーサイジング処理およびオーバーサイジン
グ処理を順次行うことにより、スペースをつぶす処理を
行う。そして、ターゲットとなるスペース幅を有するス
ペースに隣接した図形群を抽出する。その後、ステップ
Ｓ４に移行する。
【００１２】ステップＳ４においては、補正箇所抽出処
理を行う。すなわち、ステップＳ２において抽出された
ターゲットとなる線幅を有する図形群と、ステップＳ３
において抽出されたターゲットとなるスペース幅を有す
るスペースに隣接した図形群とを用いて、図６に示す補
正ルールテーブル１０１におけるそれぞれの線幅とそれ
ぞれのスペース幅との組み合わせに該当する補正値を、
図形的な論理積処理（ＡＮＤ処理）などを用いて検索す
る。その後、図５に示すステップＳ５に移行する。
理を行う。すなわち、ステップＳ２において抽出された
ターゲットとなる線幅を有する図形群と、ステップＳ３
において抽出されたターゲットとなるスペース幅を有す
るスペースに隣接した図形群とを用いて、図６に示す補
正ルールテーブル１０１におけるそれぞれの線幅とそれ
ぞれのスペース幅との組み合わせに該当する補正値を、
図形的な論理積処理（ＡＮＤ処理）などを用いて検索す
る。その後、図５に示すステップＳ５に移行する。
【００１３】ステップＳ５においては、抽出された図形
群に対して、ステップＳ４において抽出された補正値の
分だけ補正処理を行う。その後、ステップＳ６に移行
し、補正処理が行われた図形データが出力される。
群に対して、ステップＳ４において抽出された補正値の
分だけ補正処理を行う。その後、ステップＳ６に移行
し、補正処理が行われた図形データが出力される。
【００１４】以上のようにして、ルールベース法による
光近接効果補正が行われる。
光近接効果補正が行われる。
【００１５】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の近接効果補正処理においては、次のような問題
があった。すなわち、より高精度な補正を行うなどの理
由により、ターゲットとなる、パターンの線幅（ターゲ
ット線幅）およびスペースの幅（ターゲットスペース
幅）のバリエーションが増加した場合、その増加したバ
リエーションの数だけ図５に示すようなフローチャート
に従った演算処理が必要になる。これにより、バリエー
ションの数の増加に伴って処理時間が増加してしまい、
処理時間の増加に伴い、フォトマスクデータの作成にお
けるターンアラウンドタイム（ＴＡＴ）が増加してしま
う。
た従来の近接効果補正処理においては、次のような問題
があった。すなわち、より高精度な補正を行うなどの理
由により、ターゲットとなる、パターンの線幅（ターゲ
ット線幅）およびスペースの幅（ターゲットスペース
幅）のバリエーションが増加した場合、その増加したバ
リエーションの数だけ図５に示すようなフローチャート
に従った演算処理が必要になる。これにより、バリエー
ションの数の増加に伴って処理時間が増加してしまい、
処理時間の増加に伴い、フォトマスクデータの作成にお
けるターンアラウンドタイム（ＴＡＴ）が増加してしま
う。
【００１６】したがって、この発明の目的は、光近接効
果補正に要する時間を大幅に短縮するとともに、フォト
マスクパターンにおける線幅やスペース幅のバリエーシ
ョンが増加した場合であっても、フォトマスクパターン
データの作成におけるＴＡＴの増加を抑制することがで
きるフォトマスクパターンの補正方法、フォトマスクの
製造方法および記録媒体を提供することにある。
果補正に要する時間を大幅に短縮するとともに、フォト
マスクパターンにおける線幅やスペース幅のバリエーシ
ョンが増加した場合であっても、フォトマスクパターン
データの作成におけるＴＡＴの増加を抑制することがで
きるフォトマスクパターンの補正方法、フォトマスクの
製造方法および記録媒体を提供することにある。
【００１７】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、この発明の第１の発明は、補正値を有する補正テー
ブルを用いて、フォトマスクパターンデータに対する補
正処理を行うようにしたフォトマスクパターンの補正方
法であって、補正テーブルがハッシュテーブルから構成
され、フォトマスクパターンデータから、平面走査法に
より選択的に補正対象となる図形データの部分を抽出
し、抽出された図形データの部分に対応した、補正テー
ブルに含まれる補正値をハッシュ関数によって検索し、
検索された補正値に基づいて、抽出された図形データに
対する補正を行うようにしたことを特徴とするものであ
る。
に、この発明の第１の発明は、補正値を有する補正テー
ブルを用いて、フォトマスクパターンデータに対する補
正処理を行うようにしたフォトマスクパターンの補正方
法であって、補正テーブルがハッシュテーブルから構成
され、フォトマスクパターンデータから、平面走査法に
より選択的に補正対象となる図形データの部分を抽出
し、抽出された図形データの部分に対応した、補正テー
ブルに含まれる補正値をハッシュ関数によって検索し、
検索された補正値に基づいて、抽出された図形データに
対する補正を行うようにしたことを特徴とするものであ
る。
【００１８】この発明の第２の発明は、補正テーブルを
用いてフォトマスクパターンデータに対する補正を行
い、補正されたフォトマスクパターンデータに基づい
て、フォトマスクを製造するようにしたフォトマスクの
製造方法であって、補正テーブルがハッシュテーブルか
ら構成され、フォトマスクパターンデータから、平面走
査法により選択的に補正対象となる図形データの部分を
抽出し、抽出された図形データの部分に対応した、補正
テーブルに含まれる補正値をハッシュ関数によって検索
し、検索された補正値に基づいて、抽出された図形デー
タに対する補正を行うようにしたことを特徴とするもの
である。
用いてフォトマスクパターンデータに対する補正を行
い、補正されたフォトマスクパターンデータに基づい
て、フォトマスクを製造するようにしたフォトマスクの
製造方法であって、補正テーブルがハッシュテーブルか
ら構成され、フォトマスクパターンデータから、平面走
査法により選択的に補正対象となる図形データの部分を
抽出し、抽出された図形データの部分に対応した、補正
テーブルに含まれる補正値をハッシュ関数によって検索
し、検索された補正値に基づいて、抽出された図形デー
タに対する補正を行うようにしたことを特徴とするもの
である。
【００１９】この発明の第３の発明は、補正テーブルに
含まれる補正値に基づいて、フォトマスクパターンデー
タの補正を行う処理を有するフォトマスクパターンの補
正方法が記録されたコンピュータ読み取り可能な記録媒
体であって、フォトマスクパターンデータを構成する線
分のうちの所定方向に対して平行な線分をベクトル化す
る、ベクトル線分化処理を行う第１のステップと、ベク
トル化された線分を、ベクトル化された線分の端点でソ
ートする線分ソート処理を行う第２のステップと、ベク
トル化された線分に対して垂直な走査線を、ベクトル化
された線分に沿って走査する第３のステップと、走査線
の走査により得られた値に基づいて、ハッシュ関数によ
り、補正テーブルに含まれる補正値の検索を行う第４の
ステップと、検索された補正値に基づいてベクトル化さ
れた線分の補正を行う補正処理を行う第５のステップと
を有し、第３のステップから第５のステップまでを繰り
返し行うことにより、フォトマスクパターンデータの補
正を行うようにしたフォトマスクパターンの補正方法が
記録されていることを特徴とするコンピュータ読み取り
可能な記録媒体である。
含まれる補正値に基づいて、フォトマスクパターンデー
タの補正を行う処理を有するフォトマスクパターンの補
正方法が記録されたコンピュータ読み取り可能な記録媒
体であって、フォトマスクパターンデータを構成する線
分のうちの所定方向に対して平行な線分をベクトル化す
る、ベクトル線分化処理を行う第１のステップと、ベク
トル化された線分を、ベクトル化された線分の端点でソ
ートする線分ソート処理を行う第２のステップと、ベク
トル化された線分に対して垂直な走査線を、ベクトル化
された線分に沿って走査する第３のステップと、走査線
の走査により得られた値に基づいて、ハッシュ関数によ
り、補正テーブルに含まれる補正値の検索を行う第４の
ステップと、検索された補正値に基づいてベクトル化さ
れた線分の補正を行う補正処理を行う第５のステップと
を有し、第３のステップから第５のステップまでを繰り
返し行うことにより、フォトマスクパターンデータの補
正を行うようにしたフォトマスクパターンの補正方法が
記録されていることを特徴とするコンピュータ読み取り
可能な記録媒体である。
【００２０】この発明において、典型的には、補正処理
は光近接効果補正であり、具体的には、線幅疎密補正処
理である。
は光近接効果補正であり、具体的には、線幅疎密補正処
理である。
【００２１】この発明において、典型的には、補正テー
ブルがフォトマスクパターンにおける線幅およびスペー
ス幅と、このフォトマスクパターンにおける線幅および
スペース幅に対応した補正値とから構成されている。
ブルがフォトマスクパターンにおける線幅およびスペー
ス幅と、このフォトマスクパターンにおける線幅および
スペース幅に対応した補正値とから構成されている。
【００２２】この発明において、一般的に、任意角を有
するパターンをフォトマスク上もしくはウェーハ上に形
成しても、元のフォトマスクパターンデータに対する図
形の再現性があまり高くないため、典型的には、フォト
マスクパターンデータに対する補正を行う前に上記フォ
トマスクパターンデータを構成する線分のうちの所定方
向の線分をベクトル化し、上記フォトマスクパターンデ
ータの補正を、ベクトル化された線分のうち、所定の基
底軸方向に対して４５°×ｎ（ｎは整数）の角度をなす
線分に対して行うようにする。好適には、フォトマスク
パターンデータに対する補正を、ベクトル化された線分
のうち、所定の基底軸に対して４５°×ｎ（ｎ＝０、
１、２）の角度をなす線分に対してのみ行うようにす
る。具体的には、フォトマスクパターンデータに対する
補正を、ベクトル化された線分のうち、Ｘ軸方向に対し
て４５°×ｎ（ｎ＝０、１、２）の角度をなす線分に対
してのみ行うようにする。
するパターンをフォトマスク上もしくはウェーハ上に形
成しても、元のフォトマスクパターンデータに対する図
形の再現性があまり高くないため、典型的には、フォト
マスクパターンデータに対する補正を行う前に上記フォ
トマスクパターンデータを構成する線分のうちの所定方
向の線分をベクトル化し、上記フォトマスクパターンデ
ータの補正を、ベクトル化された線分のうち、所定の基
底軸方向に対して４５°×ｎ（ｎは整数）の角度をなす
線分に対して行うようにする。好適には、フォトマスク
パターンデータに対する補正を、ベクトル化された線分
のうち、所定の基底軸に対して４５°×ｎ（ｎ＝０、
１、２）の角度をなす線分に対してのみ行うようにす
る。具体的には、フォトマスクパターンデータに対する
補正を、ベクトル化された線分のうち、Ｘ軸方向に対し
て４５°×ｎ（ｎ＝０、１、２）の角度をなす線分に対
してのみ行うようにする。
【００２３】以上のように構成されたこの発明によれ
ば、平面走査法（スキャンラインメソッド）によりフォ
トマスクパターンデータにおける補正対象となる線分群
の抽出を行い、ハッシュテーブルからなる補正テーブル
を用いて、ハッシュ関数により補正値を検索して、この
補正値に基づいたフォトマスクパターンデータの補正を
行うようにしていることにより、補正対象となる図形群
の抽出を高速に行うことができるのみならず、補正値の
検索を高速に行うことができるので、フォトマスクパタ
ーンデータに対する補正処理に要する時間を大幅に短縮
することができる。
ば、平面走査法（スキャンラインメソッド）によりフォ
トマスクパターンデータにおける補正対象となる線分群
の抽出を行い、ハッシュテーブルからなる補正テーブル
を用いて、ハッシュ関数により補正値を検索して、この
補正値に基づいたフォトマスクパターンデータの補正を
行うようにしていることにより、補正対象となる図形群
の抽出を高速に行うことができるのみならず、補正値の
検索を高速に行うことができるので、フォトマスクパタ
ーンデータに対する補正処理に要する時間を大幅に短縮
することができる。
【００２４】
【発明の実施の形態】以下、この発明の一実施形態につ
いて図面を参照しながら説明する。図１に、この一実施
形態によるフォトマスクパターンの補正方法を示す。
いて図面を参照しながら説明する。図１に、この一実施
形態によるフォトマスクパターンの補正方法を示す。
【００２５】図１に示すように、この一実施形態による
フォトマスクパターンの補正方法においては、まず、ス
テップＳＴ１において、フォトマスクパターンデータ
（以下、図形データ１）の入力処理を行う。すなわち、
図形データ１を、光近接効果補正の処理を行う補正処理
装置（図示せず）に入力する。次に、この補正処理装置
において、後に製造されるフォトマスクおよびこのフォ
トマスクを用いて行われる露光処理を考慮して、図形デ
ータ１に対してＸ軸方向およびＹ軸方向の設定を行う。
その後、ステップＳＴ２に移行する。
フォトマスクパターンの補正方法においては、まず、ス
テップＳＴ１において、フォトマスクパターンデータ
（以下、図形データ１）の入力処理を行う。すなわち、
図形データ１を、光近接効果補正の処理を行う補正処理
装置（図示せず）に入力する。次に、この補正処理装置
において、後に製造されるフォトマスクおよびこのフォ
トマスクを用いて行われる露光処理を考慮して、図形デ
ータ１に対してＸ軸方向およびＹ軸方向の設定を行う。
その後、ステップＳＴ２に移行する。
【００２６】ステップＳＴ２において、ステップＳＴ１
において入力された図形データ１に対して、線分ベクト
ル化処理を行う。すなわち、図２Ａに示すように、例え
ば、図形データ１が、端点Ｃ1、Ｃ2、Ｃ3、Ｃ4を有する
図形データ１ａと端点Ｃ5、Ｃ6、Ｃ7、Ｃ8を有する図形
データ１ｂとから構成されていた場合、まず、これらの
図形データ１ａ、１ｂにおけるＹ軸方向の線分を切り捨
てる。具体的には、図２Ｂに示すように、図形データ１
ａにおいて、端点Ｃ1、Ｃ4間の線分と端点Ｃ 2、Ｃ3間の
線分とを切り捨てるとともに、図形データ１ｂにおい
て、端点Ｃ5、Ｃ8間の線分と端点Ｃ6、Ｃ7間の線分とを
切り捨てる。これによって、端点Ｃ1、Ｃ2間の線分、端
点Ｃ3、Ｃ4間の線分、端点Ｃ5、Ｃ6間の線分および端点
Ｃ7、Ｃ 8間の線分が抽出される。その後、この抽出され
た線分をベクトル化する。このとき、図形データ１ａ、
１ｂの各辺において、例えば右回りにベクトルの方向を
設定する。このようにして線分ベクトル化を行うことに
より、ベクトルの左右のどちら側が図形の内側部分にな
るかを判定可能となるようにしておく。図２Ｂにおいて
は、ベクトルの向きに沿って右側が図形内部、左側が図
形外部と判定可能になる。その後、図１に示すステップ
ＳＴ３に移行する。
において入力された図形データ１に対して、線分ベクト
ル化処理を行う。すなわち、図２Ａに示すように、例え
ば、図形データ１が、端点Ｃ1、Ｃ2、Ｃ3、Ｃ4を有する
図形データ１ａと端点Ｃ5、Ｃ6、Ｃ7、Ｃ8を有する図形
データ１ｂとから構成されていた場合、まず、これらの
図形データ１ａ、１ｂにおけるＹ軸方向の線分を切り捨
てる。具体的には、図２Ｂに示すように、図形データ１
ａにおいて、端点Ｃ1、Ｃ4間の線分と端点Ｃ 2、Ｃ3間の
線分とを切り捨てるとともに、図形データ１ｂにおい
て、端点Ｃ5、Ｃ8間の線分と端点Ｃ6、Ｃ7間の線分とを
切り捨てる。これによって、端点Ｃ1、Ｃ2間の線分、端
点Ｃ3、Ｃ4間の線分、端点Ｃ5、Ｃ6間の線分および端点
Ｃ7、Ｃ 8間の線分が抽出される。その後、この抽出され
た線分をベクトル化する。このとき、図形データ１ａ、
１ｂの各辺において、例えば右回りにベクトルの方向を
設定する。このようにして線分ベクトル化を行うことに
より、ベクトルの左右のどちら側が図形の内側部分にな
るかを判定可能となるようにしておく。図２Ｂにおいて
は、ベクトルの向きに沿って右側が図形内部、左側が図
形外部と判定可能になる。その後、図１に示すステップ
ＳＴ３に移行する。
【００２７】図１に示すように、ステップＳＴ３におい
ては、線分ソート処理を行う。すなわち、ステップＳＴ
２においてベクトル化されたそれぞれの線分に対して、
その線分の端点をＸ軸方向でソートする。その後、ステ
ップＳＴ４に移行する。
ては、線分ソート処理を行う。すなわち、ステップＳＴ
２においてベクトル化されたそれぞれの線分に対して、
その線分の端点をＸ軸方向でソートする。その後、ステ
ップＳＴ４に移行する。
【００２８】ステップＳＴ４においては、ステップＳＴ
３においてソートされた線分に対して補正処理を行う。
ここで、図２に示す図形データ１ｂを補正する場合を例
にして、このステップＳＴ４における補正処理方法につ
いて、図３を参照しつつ以下に具体的に説明する。
３においてソートされた線分に対して補正処理を行う。
ここで、図２に示す図形データ１ｂを補正する場合を例
にして、このステップＳＴ４における補正処理方法につ
いて、図３を参照しつつ以下に具体的に説明する。
【００２９】すなわち、このステップＳＴ４における補
正処理においては、ソートされた端点に沿って走査線ｘ
を動かしていき、現在の走査線ｘ0'とその直前の走査線
ｘ0との間に存在する線分群に対して、補正テーブルを
用いて線幅疎密補正処理を行う。具体的には、図３Ａに
おいて、Ｘ軸方向に走査線（スキャンライン）を移動さ
せ、現在の走査線ｘ0'とその直前の走査線ｘ0との間に
存在する線分群に対して、図形データ１ｂの線幅ｗ
1と、図形データ１ｂのベクトル線分およびこの図形デ
ータ１ｂのスペース幅（隣接する図形データ１ａにおけ
る反対向きのベクトル線分との間の幅）ｓ1とを検出す
る。
正処理においては、ソートされた端点に沿って走査線ｘ
を動かしていき、現在の走査線ｘ0'とその直前の走査線
ｘ0との間に存在する線分群に対して、補正テーブルを
用いて線幅疎密補正処理を行う。具体的には、図３Ａに
おいて、Ｘ軸方向に走査線（スキャンライン）を移動さ
せ、現在の走査線ｘ0'とその直前の走査線ｘ0との間に
存在する線分群に対して、図形データ１ｂの線幅ｗ
1と、図形データ１ｂのベクトル線分およびこの図形デ
ータ１ｂのスペース幅（隣接する図形データ１ａにおけ
る反対向きのベクトル線分との間の幅）ｓ1とを検出す
る。
【００３０】次に、この検出された図形データ１ｂの線
幅ｗ1およびスペース幅ｓ1に基づいて、図３Ｂに示すハ
ッシュ関数（h(w,s)）を用いて、図３Ｃに示すハッシュ
テーブル（ハッシュデータベース）から構築されている
補正テーブルから、所望の補正値を検索する。その結
果、この図形データ１ｂにおける補正値ｂ1が検索され
る。このように、補正値を検索する方法としてハッシュ
テーブルとハッシュ関数とを用いていることにより、補
正テーブル全体に対して検索を行う必要がなくなるの
で、補正値の検索を高速に行うことができ、補正値のバ
リエーションが増加した場合であっても、処理時間にほ
とんど影響を与えることなく、検索を行うことが可能と
なる。
幅ｗ1およびスペース幅ｓ1に基づいて、図３Ｂに示すハ
ッシュ関数（h(w,s)）を用いて、図３Ｃに示すハッシュ
テーブル（ハッシュデータベース）から構築されている
補正テーブルから、所望の補正値を検索する。その結
果、この図形データ１ｂにおける補正値ｂ1が検索され
る。このように、補正値を検索する方法としてハッシュ
テーブルとハッシュ関数とを用いていることにより、補
正テーブル全体に対して検索を行う必要がなくなるの
で、補正値の検索を高速に行うことができ、補正値のバ
リエーションが増加した場合であっても、処理時間にほ
とんど影響を与えることなく、検索を行うことが可能と
なる。
【００３１】補正値が検索され、所定の補正値が得られ
た後、図形データ１ｂにおける線分のうちの、現在の走
査線ｘ0'と直前の走査線ｘ0との間の線分に対して、こ
の補正値に応じた補正を行う。具体的には、図３Ｄに示
すように、図形データ１ｂの端点Ｃ8（直前の走査線ｘ0
と端点Ｃ7、Ｃ8の間の線分との交点）と交点Ｄ1（現在
の走査線と端点Ｃ7、Ｃ8の間の線分との交点）との間の
線分に対して、図形データ１ｂの外側に向けて、補正値
ｂ1だけ補正を行う。
た後、図形データ１ｂにおける線分のうちの、現在の走
査線ｘ0'と直前の走査線ｘ0との間の線分に対して、こ
の補正値に応じた補正を行う。具体的には、図３Ｄに示
すように、図形データ１ｂの端点Ｃ8（直前の走査線ｘ0
と端点Ｃ7、Ｃ8の間の線分との交点）と交点Ｄ1（現在
の走査線と端点Ｃ7、Ｃ8の間の線分との交点）との間の
線分に対して、図形データ１ｂの外側に向けて、補正値
ｂ1だけ補正を行う。
【００３２】以上のようにしてこの一実施形態による補
正処理が行われた後、図１に示すステップＳＴ５に移行
する。
正処理が行われた後、図１に示すステップＳＴ５に移行
する。
【００３３】ステップＳＴ５においては、走査線ｘ0の
移動方向の側に、少なくとも線分が存在するか否かの判
定を行う。すなわち、走査線ｘ0により分割されて規定
された２つの領域のうち、走査線ｘの移動方向の側に、
図形データ１の端点が存在するか否かの判定を行う。判
定の結果、走査線ｘの移動方向の側に線分が存在する場
合には、ステップＳＴ４に移行して、さらに走査線ｘを
移動させ、上述におけると同様にして線幅疎密補正処理
を行う。他方、走査線ｘの移動方向の側に線分が存在し
なくなった場合には、ステップＳＴ６に移行し、図形デ
ータ１におけるＸ軸方向の線分に対する補正が行われた
補正図形データ２が出力される。
移動方向の側に、少なくとも線分が存在するか否かの判
定を行う。すなわち、走査線ｘ0により分割されて規定
された２つの領域のうち、走査線ｘの移動方向の側に、
図形データ１の端点が存在するか否かの判定を行う。判
定の結果、走査線ｘの移動方向の側に線分が存在する場
合には、ステップＳＴ４に移行して、さらに走査線ｘを
移動させ、上述におけると同様にして線幅疎密補正処理
を行う。他方、走査線ｘの移動方向の側に線分が存在し
なくなった場合には、ステップＳＴ６に移行し、図形デ
ータ１におけるＸ軸方向の線分に対する補正が行われた
補正図形データ２が出力される。
【００３４】次に、Ｙ軸方向に平行な線分に対する補正
を行う。すなわち、まず、補正図形データ２を、例えば
時計回り（右回り）に９０°回転させることにより、補
正図形データ２のＹ軸方向に平行な線分をＸ軸方向に平
行な線分とする。次に、この補正図形データ２に対し
て、図１に示す処理と同様の処理を行うことにより、線
幅疎密補正処理を行う。その後、この補正が行われた補
正図形データ２を逆回り（反時計回り（左回り））に９
０°の角度だけ回転させることにより、補正図形データ
２におけるＸ軸方向およびＹ軸方向を元に戻す。以上に
より、補正図形データ２に対して、そのＹ軸方向に平行
な線分の補正が行われる。
を行う。すなわち、まず、補正図形データ２を、例えば
時計回り（右回り）に９０°回転させることにより、補
正図形データ２のＹ軸方向に平行な線分をＸ軸方向に平
行な線分とする。次に、この補正図形データ２に対し
て、図１に示す処理と同様の処理を行うことにより、線
幅疎密補正処理を行う。その後、この補正が行われた補
正図形データ２を逆回り（反時計回り（左回り））に９
０°の角度だけ回転させることにより、補正図形データ
２におけるＸ軸方向およびＹ軸方向を元に戻す。以上に
より、補正図形データ２に対して、そのＹ軸方向に平行
な線分の補正が行われる。
【００３５】このように、Ｘ軸方向に平行な線分に対す
る補正を行い、補正図形データ２を出力した後、この補
正図形データ２のＹ軸方向に平行な線分に対して、補正
を行うようにしていることにより、図形データ１に対す
る補正をＸ軸方向とＹ軸方向とにおいて独立して行う場
合に問題となる、図形の角部分のへこみを生じさせない
ようにすることができ、補正の精度をより向上させるこ
とができる。
る補正を行い、補正図形データ２を出力した後、この補
正図形データ２のＹ軸方向に平行な線分に対して、補正
を行うようにしていることにより、図形データ１に対す
る補正をＸ軸方向とＹ軸方向とにおいて独立して行う場
合に問題となる、図形の角部分のへこみを生じさせない
ようにすることができ、補正の精度をより向上させるこ
とができる。
【００３６】また、Ｘ軸方向およびＹ軸方向のいずれの
方向に対しても平行でなく、Ｘ軸方向に対して任意の角
度をなす線分を有する図形データ１に対して補正を行う
場合においては、上述のＹ軸方向に平行な線分に対する
補正におけると同様にして行う。すなわち、図４Ａに示
すように、まず、図形データ１のうちの、端点Ｃ11、Ｃ
12、Ｃ13、Ｃ14を有し、Ｘ軸方向に対して角度θをなす
線分（端点Ｃ11、Ｃ12の間の線分、端点Ｃ13、Ｃ14の間
の線分）を有する図形データ１ｃと、同様に端点Ｃ15、
Ｃ16、Ｃ17、Ｃ18を有し、Ｘ軸方向に対して角度θをな
す線分（端点Ｃ 15、Ｃ16の間の線分、端点Ｃ17、Ｃ18の
間の線分）を有する図形データ１ｄとに対して、それら
の線分がＸ軸方向に対して平行になる回転方向に角度θ
だけ回転させる。これにより、図４Ｂに示すように、端
点Ｃ11、Ｃ12の間の線分、端点Ｃ 13、Ｃ14の間の線分、
端点Ｃ15、Ｃ16の間の線分、および端点Ｃ17、Ｃ18の間
の線分がＸ軸方向に対して平行になるように変換され
る。
方向に対しても平行でなく、Ｘ軸方向に対して任意の角
度をなす線分を有する図形データ１に対して補正を行う
場合においては、上述のＹ軸方向に平行な線分に対する
補正におけると同様にして行う。すなわち、図４Ａに示
すように、まず、図形データ１のうちの、端点Ｃ11、Ｃ
12、Ｃ13、Ｃ14を有し、Ｘ軸方向に対して角度θをなす
線分（端点Ｃ11、Ｃ12の間の線分、端点Ｃ13、Ｃ14の間
の線分）を有する図形データ１ｃと、同様に端点Ｃ15、
Ｃ16、Ｃ17、Ｃ18を有し、Ｘ軸方向に対して角度θをな
す線分（端点Ｃ 15、Ｃ16の間の線分、端点Ｃ17、Ｃ18の
間の線分）を有する図形データ１ｄとに対して、それら
の線分がＸ軸方向に対して平行になる回転方向に角度θ
だけ回転させる。これにより、図４Ｂに示すように、端
点Ｃ11、Ｃ12の間の線分、端点Ｃ 13、Ｃ14の間の線分、
端点Ｃ15、Ｃ16の間の線分、および端点Ｃ17、Ｃ18の間
の線分がＸ軸方向に対して平行になるように変換され
る。
【００３７】次に、上述の図１に示すフローチャートに
従って、Ｘ軸方向に対して平行な線分に沿って走査線ｘ
を走査させ、現在の走査線ｘ1'と直前の走査線ｘ1との
間の部分における図形データ１ｄの線幅ｗ2およびスペ
ース幅ｓ2を検出し、補正テーブルおよびハッシュ関数
を用いて補正値ｂ2を検索する。そして、図４Ｃに示す
ように、この補正値ｂ2に基づいて図形データ１ｄに対
する線幅疎密補正処理を行う。その後、この補正処理が
行われた図形データ１ｃ、１ｄを、上述におけると反対
方向に角度θだけ回転させる。これにより、図４Ｄに示
すように、図形データ１ｃ、１ｄを構成する線分の方向
が、元の図形データ１における方向と同方向となる。そ
の後、この補正処理により得られた補正図形データ２を
出力する。
従って、Ｘ軸方向に対して平行な線分に沿って走査線ｘ
を走査させ、現在の走査線ｘ1'と直前の走査線ｘ1との
間の部分における図形データ１ｄの線幅ｗ2およびスペ
ース幅ｓ2を検出し、補正テーブルおよびハッシュ関数
を用いて補正値ｂ2を検索する。そして、図４Ｃに示す
ように、この補正値ｂ2に基づいて図形データ１ｄに対
する線幅疎密補正処理を行う。その後、この補正処理が
行われた図形データ１ｃ、１ｄを、上述におけると反対
方向に角度θだけ回転させる。これにより、図４Ｄに示
すように、図形データ１ｃ、１ｄを構成する線分の方向
が、元の図形データ１における方向と同方向となる。そ
の後、この補正処理により得られた補正図形データ２を
出力する。
【００３８】このようにして補正図形データ２が出力さ
れた後、この補正図形データ２の線分のうち、Ｘ軸方向
に対してθ＋９０°の角度をなす線分に対して、上述の
Ｙ軸方向に平行な線分に対する補正におけると同様に補
正を行う。すなわち、端点Ｃ 12、Ｃ13の間の線分、端点
Ｃ11、Ｃ14の間の線分、端点Ｃ15、Ｃ18の間の線分、お
よび端点Ｃ16、Ｃ17の間の線分を、Ｘ軸方向に対して平
行になる回転方向にθ＋９０°の角度だけ回転させるこ
とにより、これらの線分をＸ軸方向に対して平行にす
る。その後、このＸ軸方向に対して平行な線分に対し
て、図１に示すフローチャートに従って、ハッシュ関数
およびハッシュテーブルを用いて、平面走査法により線
幅疎密補正処理を行う。この補正が終了した後、補正が
行われた図形データを、上述の回転方向におけると反対
方向にθ＋９０°の角度だけ回転させることにより、補
正が行われた図形データを構成するそれぞれの線分の方
向を元に戻す。その後、この補正が行われた補正図形デ
ータを出力する。
れた後、この補正図形データ２の線分のうち、Ｘ軸方向
に対してθ＋９０°の角度をなす線分に対して、上述の
Ｙ軸方向に平行な線分に対する補正におけると同様に補
正を行う。すなわち、端点Ｃ 12、Ｃ13の間の線分、端点
Ｃ11、Ｃ14の間の線分、端点Ｃ15、Ｃ18の間の線分、お
よび端点Ｃ16、Ｃ17の間の線分を、Ｘ軸方向に対して平
行になる回転方向にθ＋９０°の角度だけ回転させるこ
とにより、これらの線分をＸ軸方向に対して平行にす
る。その後、このＸ軸方向に対して平行な線分に対し
て、図１に示すフローチャートに従って、ハッシュ関数
およびハッシュテーブルを用いて、平面走査法により線
幅疎密補正処理を行う。この補正が終了した後、補正が
行われた図形データを、上述の回転方向におけると反対
方向にθ＋９０°の角度だけ回転させることにより、補
正が行われた図形データを構成するそれぞれの線分の方
向を元に戻す。その後、この補正が行われた補正図形デ
ータを出力する。
【００３９】以上のようにして行われる、Ｘ軸方向に対
してθおよびθ＋９０°の角度をなす線分に対する補正
は、典型的にはθ＝４５°の場合について行うようにす
る。すなわち、この一実施形態によるフォトマスクパタ
ーンの補正方法において補正対象となる線分は、Ｘ軸方
向に対して４５°×ｎ（ｎ＝０、１、２）の角度をなす
線分である。これは、一般的にＸ軸方向に対して任意の
角度をなすパターンを、マスク上やウェーハ上に形成し
たとしても、元の図形データ上の図形の再現性があまり
高くないため、現実的には、Ｘ軸方向に対して、０°、
４５°、９０°の角度をなす線分を有する図形に対して
補正を行うようにすることによって、フォトマスクパタ
ーンにおいて、光近接効果に影響されるほとんどのパタ
ーンに対して補正を行うことができるからである。そし
て、Ｘ軸方向に対して４５°×ｎ（ｎ＝０、１、２）の
角度をなす線分以外の線分においては、必要に応じて、
従来公知の方法により補正を行う。このように、上述の
条件以外の図形データに対して従来公知の方法により補
正を行うようにしても、補正を行う必要がある図形デー
タ量は多くないため、補正処理に長時間を要することは
ない。
してθおよびθ＋９０°の角度をなす線分に対する補正
は、典型的にはθ＝４５°の場合について行うようにす
る。すなわち、この一実施形態によるフォトマスクパタ
ーンの補正方法において補正対象となる線分は、Ｘ軸方
向に対して４５°×ｎ（ｎ＝０、１、２）の角度をなす
線分である。これは、一般的にＸ軸方向に対して任意の
角度をなすパターンを、マスク上やウェーハ上に形成し
たとしても、元の図形データ上の図形の再現性があまり
高くないため、現実的には、Ｘ軸方向に対して、０°、
４５°、９０°の角度をなす線分を有する図形に対して
補正を行うようにすることによって、フォトマスクパタ
ーンにおいて、光近接効果に影響されるほとんどのパタ
ーンに対して補正を行うことができるからである。そし
て、Ｘ軸方向に対して４５°×ｎ（ｎ＝０、１、２）の
角度をなす線分以外の線分においては、必要に応じて、
従来公知の方法により補正を行う。このように、上述の
条件以外の図形データに対して従来公知の方法により補
正を行うようにしても、補正を行う必要がある図形デー
タ量は多くないため、補正処理に長時間を要することは
ない。
【００４０】以上のようにして、図形データ１に対する
線幅疎密補正処理を行い、補正図形データ２を出力した
後、この補正図形データ２を例えば電子線描画装置など
の描画装置に供給する。この電子線描画装置を用いて、
従来公知の方法により、上述の所望とする補正図形デー
タ２に基づいたパターンを有するフォトマスクを製造す
る。
線幅疎密補正処理を行い、補正図形データ２を出力した
後、この補正図形データ２を例えば電子線描画装置など
の描画装置に供給する。この電子線描画装置を用いて、
従来公知の方法により、上述の所望とする補正図形デー
タ２に基づいたパターンを有するフォトマスクを製造す
る。
【００４１】以上説明したように、この一実施形態によ
れば、入力された図形データ１に対する補正を、ハッシ
ュテーブルを用いハッシュ関数を用いた平面走査法（ス
キャンラインメソッド）により行っていることにより、
補正テーブルにおける検索を高速で行うことができ、補
正に要する時間の短縮を図ることができるとともに、た
とえ補正値のバリエーションが増加した場合であって
も、このバリエーションの増加は、補正処理に要する処
理時間に対してほとんど影響を与えない。従って、フォ
トマスクの製造プロセスにおけるＴＡＴ（ターンアラウ
ンドタイム）を低減することができるとともに、補正テ
ーブルにおけるターゲット線幅およびターゲットスペー
ス幅の数が増加した場合においても、補正テーブルから
補正値を検索する時間の増加を最小限に抑制することが
できるので、処理時間に対する影響をほとんどなくすこ
とができる。
れば、入力された図形データ１に対する補正を、ハッシ
ュテーブルを用いハッシュ関数を用いた平面走査法（ス
キャンラインメソッド）により行っていることにより、
補正テーブルにおける検索を高速で行うことができ、補
正に要する時間の短縮を図ることができるとともに、た
とえ補正値のバリエーションが増加した場合であって
も、このバリエーションの増加は、補正処理に要する処
理時間に対してほとんど影響を与えない。従って、フォ
トマスクの製造プロセスにおけるＴＡＴ（ターンアラウ
ンドタイム）を低減することができるとともに、補正テ
ーブルにおけるターゲット線幅およびターゲットスペー
ス幅の数が増加した場合においても、補正テーブルから
補正値を検索する時間の増加を最小限に抑制することが
できるので、処理時間に対する影響をほとんどなくすこ
とができる。
【００４２】以上、この発明の一実施形態について具体
的に説明したが、この発明は、上述の一実施形態に限定
されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各
種の変形が可能である。
的に説明したが、この発明は、上述の一実施形態に限定
されるものではなく、この発明の技術的思想に基づく各
種の変形が可能である。
【００４３】例えば、上述の一実施形態において挙げた
図形データの形状、ベクトル化方法はあくまでも例に過
ぎず、必要に応じてこれと異なる図形データの形状、ベ
クトル化方法を用いてもよい。
図形データの形状、ベクトル化方法はあくまでも例に過
ぎず、必要に応じてこれと異なる図形データの形状、ベ
クトル化方法を用いてもよい。
【００４４】また、例えば上述の一実施形態において
は、Ｘ軸方向に対して平行な線分に対して補正を行った
後、Ｙ軸方向に対して平行な線分に対して補正を行うよ
うにしているが、これらの順序は逆の順序で補正処理を
行うようにしてもよい。また、Ｘ軸方向に対してθおよ
びθ＋９０°の角度をなす線分に対する補正を行った
後、Ｘ軸方向に対して平行な線分およびＹ軸方向に対し
て平行な線分に対する補正を行うようにしても良い。
は、Ｘ軸方向に対して平行な線分に対して補正を行った
後、Ｙ軸方向に対して平行な線分に対して補正を行うよ
うにしているが、これらの順序は逆の順序で補正処理を
行うようにしてもよい。また、Ｘ軸方向に対してθおよ
びθ＋９０°の角度をなす線分に対する補正を行った
後、Ｘ軸方向に対して平行な線分およびＹ軸方向に対し
て平行な線分に対する補正を行うようにしても良い。
【００４５】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、フォトマスクの描画に用いられるフォトマスクパタ
ーンデータの補正を、ハッシュテーブルからなる補正テ
ーブルを用いハッシュ関数を用いて検索しつつ、平面走
査法によって行うようにしていることにより、フォトマ
スクの図形データに対する補正処理を高速化することが
でき、補正処理に要する時間を短縮することができる。
したがって、光近接効果補正に要する時間を大幅に短縮
し、フォトマスクパターンデータの作成におけるＴＡＴ
の低減を図ることができるとともに、フォトマスクの製
造や半導体装置の製造におけるＴＡＴの低減を図ること
ができる。
ば、フォトマスクの描画に用いられるフォトマスクパタ
ーンデータの補正を、ハッシュテーブルからなる補正テ
ーブルを用いハッシュ関数を用いて検索しつつ、平面走
査法によって行うようにしていることにより、フォトマ
スクの図形データに対する補正処理を高速化することが
でき、補正処理に要する時間を短縮することができる。
したがって、光近接効果補正に要する時間を大幅に短縮
し、フォトマスクパターンデータの作成におけるＴＡＴ
の低減を図ることができるとともに、フォトマスクの製
造や半導体装置の製造におけるＴＡＴの低減を図ること
ができる。
【図１】この発明の一実施形態による補正処理を説明す
るためのフローチャートである。
るためのフローチャートである。
【図２】この発明の一実施形態による補正処理のうち、
線分ベクトル化処理を説明するための略線図である。
線分ベクトル化処理を説明するための略線図である。
【図３】この発明の一実施形態による線幅疎密補正処理
方法を説明するための略線図である。
方法を説明するための略線図である。
【図４】この発明の一実施形態による、Ｘ軸方向に対し
て任意の角度をなす辺を有する図形データに対する線幅
疎密補正処理を説明するための略線図である。
て任意の角度をなす辺を有する図形データに対する線幅
疎密補正処理を説明するための略線図である。
【図５】従来技術のルールベース補正方法を説明するた
めのフローチャートである。
めのフローチャートである。
【図６】従来技術のルールベース補正方法に用いられる
補正テーブルを示す略線図である。
補正テーブルを示す略線図である。
【図７】従来技術のルールベース補正方法を説明するた
めの平面図である。
めの平面図である。
１・・・図形データ、１ａ、１ｂ、１ｃ、１ｄ・・・図
形データ、２・・・補正図形データ、Ｃ1、Ｃ2、Ｃ3、
Ｃ4、Ｃ5、Ｃ6、Ｃ7、Ｃ8、Ｃ11、Ｃ12、Ｃ13、Ｃ14、
Ｃ15、Ｃ16、Ｃ17、Ｃ18・・・端点、Ｄ1・・・交点
形データ、２・・・補正図形データ、Ｃ1、Ｃ2、Ｃ3、
Ｃ4、Ｃ5、Ｃ6、Ｃ7、Ｃ8、Ｃ11、Ｃ12、Ｃ13、Ｃ14、
Ｃ15、Ｃ16、Ｃ17、Ｃ18・・・端点、Ｄ1・・・交点
Claims (12)
- 【請求項１】 補正値を有する補正テーブルを用いて、
フォトマスクパターンデータに対する補正処理を行うよ
うにしたフォトマスクパターンの補正方法であって、 上記補正テーブルがハッシュテーブルから構成され、 上記フォトマスクパターンデータから、平面走査法によ
り選択的に補正対象となる図形データの部分を抽出し、 上記抽出された図形データの部分に対応した、上記補正
テーブルに含まれる補正値をハッシュ関数によって検索
し、 上記検索された補正値に基づいて、上記抽出された図形
データに対する補正を行うようにしたことを特徴とする
フォトマスクパターンの補正方法。 - 【請求項２】 上記フォトマスクパターンデータに対す
る補正を行う前に、上記フォトマスクパターンデータを
構成する線分のうちの所定方向の線分をベクトル線分化
し、上記フォトマスクパターンデータの補正を、上記ベ
クトル化された線分のうち、所定の基底軸方向に対して
４５°×ｎ（ｎは整数）の角度をなす線分に対して行う
ようにしたことを特徴とする請求項１記載のフォトマス
クパターンの補正方法。 - 【請求項３】 上記補正が光近接効果補正であることを
特徴とする請求項１記載のフォトマスクパターンの補正
方法。 - 【請求項４】 上記補正テーブルがフォトマスクパター
ンデータにおける線幅およびスペース幅と、上記フォト
マスクパターンデータにおける線幅およびスペース幅に
対応する補正値とから構成されていることを特徴とする
請求項１記載のフォトマスクパターンの補正方法。 - 【請求項５】 補正テーブルを用いてフォトマスクパタ
ーンデータに対する補正を行い、上記補正されたフォト
マスクパターンデータに基づいて、フォトマスクを製造
するようにしたフォトマスクの製造方法であって、 上記補正テーブルがハッシュテーブルから構成され、 上記フォトマスクパターンデータから、平面走査法によ
り選択的に補正対象となる図形データの部分を抽出し、 上記抽出された図形データの部分に対応した、上記補正
テーブルに含まれる補正値をハッシュ関数によって検索
し、 上記検索された補正値に基づいて、上記抽出された図形
データに対する補正を行うようにしたことを特徴とする
フォトマスクの製造方法。 - 【請求項６】 上記フォトマスクパターンデータに対す
る補正を行う前に、上記フォトマスクパターンデータを
構成する線分のうちの所定方向の線分をベクトル線分化
し、上記フォトマスクパターンデータの補正を、上記ベ
クトル線分化された線分のうち、所定の基底軸方向に対
して４５°×ｎ（ｎは整数）の角度をなす線分に対して
行うようにしたことを特徴とする請求項５記載のフォト
マスクパターンの補正方法。 - 【請求項７】 上記補正テーブルが、上記フォトマスク
パターンデータにおける線幅およびスペース幅と、上記
フォトマスクパターンにおける線幅およびスペース幅に
対応した補正値とから構成されることを特徴とする請求
項５記載のフォトマスクパターンの補正方法。 - 【請求項８】 上記補正が光近接効果補正であることを
特徴とする請求項５記載のフォトマスクパターンの補正
方法。 - 【請求項９】 補正テーブルに含まれる補正値に基づい
て、フォトマスクパターンデータの補正を行う処理を有
するフォトマスクパターンの補正方法が記録されたコン
ピュータ読み取り可能な記録媒体であって、 フォトマスクパターンデータを構成する線分のうちの所
定方向に対して平行な線分をベクトル化する、ベクトル
線分化処理を行う第１のステップと、 上記ベクトル化された線分を、上記ベクトル化された線
分の端点でソートする線分ソート処理を行う第２のステ
ップと、 上記ベクトル化された線分に対して垂直な走査線を、上
記ベクトル化された線分に沿って走査する第３のステッ
プと、 上記走査線の走査により得られた値に基づいて、ハッシ
ュ関数により、上記補正テーブルに含まれる補正値の検
索を行う第４のステップと、 上記検索された補正値に基づいて上記ベクトル化された
線分の補正を行う補正処理を行う第５のステップとを有
し、 上記第３のステップから上記第５のステップまでを繰り
返し行うことにより、上記フォトマスクパターンデータ
の補正を行うようにしたフォトマスクパターンの補正方
法が記録されていることを特徴とするコンピュータ読み
取り可能な記録媒体。 - 【請求項１０】 上記フォトマスクパターンの補正を、
基底軸方向に対して、４５°×ｎ（ｎは整数）の角度を
なす線分に対して行うようにすることを特徴とする請求
項９記載のコンピュータ読み取り可能な記録媒体。 - 【請求項１１】 上記補正を光近接効果補正とすること
を特徴とする請求項９記載のコンピュータ読み取り可能
な記録媒体。 - 【請求項１２】 上記補正テーブルが、フォトマスクパ
ターンの線幅およびスペース幅と、上記フォトマスクパ
ターンの線幅およびスペース幅に対応した補正値とから
構成されていることを特徴とする請求項９記載のコンピ
ュータ読み取り可能な記録媒体。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000093384A JP2001281836A (ja) | 2000-03-30 | 2000-03-30 | フォトマスクパターンの補正方法、フォトマスクの製造方法および記録媒体 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2000093384A JP2001281836A (ja) | 2000-03-30 | 2000-03-30 | フォトマスクパターンの補正方法、フォトマスクの製造方法および記録媒体 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001281836A true JP2001281836A (ja) | 2001-10-10 |
Family
ID=18608576
Family Applications (1)
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|---|---|---|---|
| JP2000093384A Pending JP2001281836A (ja) | 2000-03-30 | 2000-03-30 | フォトマスクパターンの補正方法、フォトマスクの製造方法および記録媒体 |
Country Status (1)
| Country | Link |
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| JP (1) | JP2001281836A (ja) |
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