JP2706367B2 - マスクパターンデータの処理方法 - Google Patents
マスクパターンデータの処理方法Info
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- JP2706367B2 JP2706367B2 JP2293093A JP29309390A JP2706367B2 JP 2706367 B2 JP2706367 B2 JP 2706367B2 JP 2293093 A JP2293093 A JP 2293093A JP 29309390 A JP29309390 A JP 29309390A JP 2706367 B2 JP2706367 B2 JP 2706367B2
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Description
【発明の詳細な説明】 ［概要］ 半導体リソグラフィ技術中、いわゆるマスクパターン
データの処理方法に関し、 階層設計されたマスクパターンデータの階層構造を維
持したまま、シフト処理等を行うとするパターンに近接
するパターンの認識を容易に行い、処理時間の短縮化を
図ることができるようにすると共に、階層構造を維持し
たまま処理が行える点を利用することにより、設計デー
タの繰り返し情報を使用してデータの圧縮を容易に行う
ことができるようにすることを目的とし、 階層設計されたマスクパターンデータにおける各スト
ラクチャを構成するパターンデータの最も外側の領域を
認識し、該領域に対して枠を設定し、該枠の座標をトッ
プストラクチャに配置された座標に展開し、Ｘ座標又は
Ｙ座標を基準としてソーティングするようにする。
データの処理方法に関し、 階層設計されたマスクパターンデータの階層構造を維
持したまま、シフト処理等を行うとするパターンに近接
するパターンの認識を容易に行い、処理時間の短縮化を
図ることができるようにすると共に、階層構造を維持し
たまま処理が行える点を利用することにより、設計デー
タの繰り返し情報を使用してデータの圧縮を容易に行う
ことができるようにすることを目的とし、 階層設計されたマスクパターンデータにおける各スト
ラクチャを構成するパターンデータの最も外側の領域を
認識し、該領域に対して枠を設定し、該枠の座標をトッ
プストラクチャに配置された座標に展開し、Ｘ座標又は
Ｙ座標を基準としてソーティングするようにする。
［産業上の利用分野］ 本発明は、半導体リソグラフィ技術中、いわゆるマス
クパターンデータの処理方法に関する。
クパターンデータの処理方法に関する。
ここに、CADによって階層設計されたマスクパターン
データを露光用のマスクパターンデータに変換処理する
場合、シフト処理が行われる場合があるが、この場合、
シフト処理されたパターンに近接するパターンとの間に
パターンの断線が発生する場合がある。このため、シフ
ト処理するパターンに近接するパターンを認識してお
き、その後、必要な処理を行う必要がある。本発明は、
かかる認識を容易に行うことができ、かつ、データの圧
縮も容易に行うことができるようにマスクパターンデー
タを処理しようとするものである。
データを露光用のマスクパターンデータに変換処理する
場合、シフト処理が行われる場合があるが、この場合、
シフト処理されたパターンに近接するパターンとの間に
パターンの断線が発生する場合がある。このため、シフ
ト処理するパターンに近接するパターンを認識してお
き、その後、必要な処理を行う必要がある。本発明は、
かかる認識を容易に行うことができ、かつ、データの圧
縮も容易に行うことができるようにマスクパターンデー
タを処理しようとするものである。
［従来の技術］ 従来、設計データの階層構造を保ったまま、あるパタ
ーンに近接するパターンを認識する方法がなく、階層を
全面展開することにより近接するパターンの認識をして
いた。
ーンに近接するパターンを認識する方法がなく、階層を
全面展開することにより近接するパターンの認識をして
いた。
［発明が解決しようとする課題］ ところが、このように、階層を全面展開すると、デー
タ量が大幅に増大し、処理時間が長くなるという問題点
があった。
タ量が大幅に増大し、処理時間が長くなるという問題点
があった。
本発明は、かかる点に鑑み、階層設計されたマスクパ
ターンデータの階層構造を維持し、実際のデータを持ち
込まないで、シフト処理等を行うとするパターンに近接
するパターンの認識を容易に行い、処理時間の短縮化及
びデータの圧縮の容易化を図ることができるようにした
マスクパターンデータの処理方法を提供することを目的
とする。
ターンデータの階層構造を維持し、実際のデータを持ち
込まないで、シフト処理等を行うとするパターンに近接
するパターンの認識を容易に行い、処理時間の短縮化及
びデータの圧縮の容易化を図ることができるようにした
マスクパターンデータの処理方法を提供することを目的
とする。
［課題を解決するための手段］ 本発明によるマスクパターンデータの処理方法は、階
層設計されたマスクパターンデータにおける各ストラク
チャを構成するパターンデータの最も外側の領域を認識
し、該領域に対して枠を設定し、該枠の座標をトップス
トラクチャに配置された座標に展開し、Ｘ座標又はＹ座
標を基準としてソーティングするというものである。
層設計されたマスクパターンデータにおける各ストラク
チャを構成するパターンデータの最も外側の領域を認識
し、該領域に対して枠を設定し、該枠の座標をトップス
トラクチャに配置された座標に展開し、Ｘ座標又はＹ座
標を基準としてソーティングするというものである。
［作用］ 本発明によれば、パターンの認識をストラクチャの下
で行うことができるので、階層構造を保ったまま、ある
パターンに近接するパターンの認識を容易に行うことが
できる。
で行うことができるので、階層構造を保ったまま、ある
パターンに近接するパターンの認識を容易に行うことが
できる。
［実施例］ 以下、第１図〜第４図を参照して、本発明の一実施例
につき説明する。
につき説明する。
第１図は本発明の一実施例を示すフローチャートであ
り、本実施例においては、まず、階層設計されたマスク
パターンデータの各ストラクチャを構成するパターンデ
ータの最も外側の領域を認識し（ステップP1）、続い
て、ステップP1で認識した最も外側の領域に対して枠を
座標Xmin、Xmax、Ymin、Ymaxで設定する（ステップP
2）。
り、本実施例においては、まず、階層設計されたマスク
パターンデータの各ストラクチャを構成するパターンデ
ータの最も外側の領域を認識し（ステップP1）、続い
て、ステップP1で認識した最も外側の領域に対して枠を
座標Xmin、Xmax、Ymin、Ymaxで設定する（ステップP
2）。
次に、ステップP2で設定した枠の座標をトップストラ
クチャに配置された座標に展開し（ステップP3）、座標
Xminを基準にソーティングして（ステップP4）、処理を
終了する。なお、第２図はトップストラクチャに対する
各ストラクチャを構成するパターンデータの存在領域を
示すフォーマットの例である。
クチャに配置された座標に展開し（ステップP3）、座標
Xminを基準にソーティングして（ステップP4）、処理を
終了する。なお、第２図はトップストラクチャに対する
各ストラクチャを構成するパターンデータの存在領域を
示すフォーマットの例である。
ここに、本実施例のようにしてマスクパターンデータ
の処理を行う場合には、第３図に示すようにして、シフ
ト処理等を行うとするパターンに近接するパターンを認
識し、シフト処理等を行うことができる。
の処理を行う場合には、第３図に示すようにして、シフ
ト処理等を行うとするパターンに近接するパターンを認
識し、シフト処理等を行うことができる。
即ち、まず、シフト処理等を行うとするストラクチャ
を構成するパターンデータの存在領域と接し又は重なる
存在領域を有する枠を持つストラクチャを検索し、その
名を明らかにする（ステップN1）。これは、具体的には
第４図に示す手順により行うことができる。
を構成するパターンデータの存在領域と接し又は重なる
存在領域を有する枠を持つストラクチャを検索し、その
名を明らかにする（ステップN1）。これは、具体的には
第４図に示す手順により行うことができる。
即ち、まず、シフト処理等を行うとするストラクチャ
を構成するパターンデータの存在領域を設定し（ステッ
プS1）、続いて、他のストラクチャを構成するパターン
データの存在領域を示すデータを読み込む（ステップS
2）。
を構成するパターンデータの存在領域を設定し（ステッ
プS1）、続いて、他のストラクチャを構成するパターン
データの存在領域を示すデータを読み込む（ステップS
2）。
次に、ステップS2で読み込んだ他のストラクチャの枠
の座標Xmin、Xmaxはシフト処理等を行うとするストラク
チャを構成するパターンデータの存在領域内（接してい
る場合を含む）にあるか否かを判断し（ステップS3）、
存在領域内になければ、ステップS2に戻り、存在領域内
にある場合には、他のストラクチャの枠の座標Ymin、Y
maxはシフト処理等を行うとするストラクチャを構成す
るパターンデータの存在領域内にあるか否かを判断する
（ステップS4）。その結果、存在領域内になければ、ス
テップS2に戻り、存在領域内にある場合には、そのスト
ラクチャ名を展開すべきデータとして認識する（ステッ
プS5）。
の座標Xmin、Xmaxはシフト処理等を行うとするストラク
チャを構成するパターンデータの存在領域内（接してい
る場合を含む）にあるか否かを判断し（ステップS3）、
存在領域内になければ、ステップS2に戻り、存在領域内
にある場合には、他のストラクチャの枠の座標Ymin、Y
maxはシフト処理等を行うとするストラクチャを構成す
るパターンデータの存在領域内にあるか否かを判断する
（ステップS4）。その結果、存在領域内になければ、ス
テップS2に戻り、存在領域内にある場合には、そのスト
ラクチャ名を展開すべきデータとして認識する（ステッ
プS5）。
このようにして、シフト処理等を行うとするストラク
チャを構成するパターンデータの存在領域と接し又は重
なる存在領域を有する枠を持つストラクチャ名を明らか
にする（第３図、ステップN1）。
チャを構成するパターンデータの存在領域と接し又は重
なる存在領域を有する枠を持つストラクチャ名を明らか
にする（第３図、ステップN1）。
そこで次に、シフト処理等を行うとするストラクチャ
を構成するパターンデータの存在領域と接し又は重なる
存在領域を有する枠を持つストラクチャについてデータ
の展開処理を行い（ステップN2）、その後、シフト処理
等を行う（ステップN3）。
を構成するパターンデータの存在領域と接し又は重なる
存在領域を有する枠を持つストラクチャについてデータ
の展開処理を行い（ステップN2）、その後、シフト処理
等を行う（ステップN3）。
このようにして、本実施例によれば、シフト処理等を
行うとするパターンに近接するパターンの認識を容易に
行うことができる。
行うとするパターンに近接するパターンの認識を容易に
行うことができる。
なお、上述の実施例においては、ステップP2で設定し
た枠の座標をトップストラクチャに配置された座標に展
開し、座標Xminを基準にソーティングする場合（ステッ
プP3、P4）につき述べたが、この代わりに、座標Yminを
基準にソーティングしても良く、この場合には、第４図
におけるステップS3とS4の順序を逆にする。
た枠の座標をトップストラクチャに配置された座標に展
開し、座標Xminを基準にソーティングする場合（ステッ
プP3、P4）につき述べたが、この代わりに、座標Yminを
基準にソーティングしても良く、この場合には、第４図
におけるステップS3とS4の順序を逆にする。
［発明の効果］ 以上のように、本発明によれば、階層設計されたマス
クパターンデータにおける各ストラクチャを構成するパ
ターンデータの最も外側の領域を認識し、該領域に対し
て枠を設定し、該枠の座標をトップストラクチャに配置
された座標に展開し、Ｘ座標又はＹ座標を基準としてソ
ーティングするようにしたことにより、パターンの認識
をストラクチャの下で行うことができるので、階層設計
されたマスクパターンデータの階層構造を保ったまま、
シフト処理等を行うとするパターンに近接するパターン
の認識を容易に行い、処理時間の短縮化及びデータの圧
縮の容易化を図ることができる。
クパターンデータにおける各ストラクチャを構成するパ
ターンデータの最も外側の領域を認識し、該領域に対し
て枠を設定し、該枠の座標をトップストラクチャに配置
された座標に展開し、Ｘ座標又はＹ座標を基準としてソ
ーティングするようにしたことにより、パターンの認識
をストラクチャの下で行うことができるので、階層設計
されたマスクパターンデータの階層構造を保ったまま、
シフト処理等を行うとするパターンに近接するパターン
の認識を容易に行い、処理時間の短縮化及びデータの圧
縮の容易化を図ることができる。
第１図は本発明の一実施例を示すフローチャート、 第２図はトップストラクチャに対する各ストラクチャを
構成するパターンデータの存在領域を示すフォーマット
の例を示す図、 第３図はシフト処理等を行うとするパターンに近接する
パターンを認識し、シフト処理等を行う手順を示すフロ
ーチャート、 第４図はシフト処理等を行うとするストラクチャを構成
するパターンデータの存在領域と接し又は重なる存在領
域を有する枠を持つストラクチャ名を明らかにする手順
を示すフローチャートである。
構成するパターンデータの存在領域を示すフォーマット
の例を示す図、 第３図はシフト処理等を行うとするパターンに近接する
パターンを認識し、シフト処理等を行う手順を示すフロ
ーチャート、 第４図はシフト処理等を行うとするストラクチャを構成
するパターンデータの存在領域と接し又は重なる存在領
域を有する枠を持つストラクチャ名を明らかにする手順
を示すフローチャートである。
Claims (1)
- 【請求項１】階層設計されたマスクパターンデータにお
ける各ストラクチャを構成するパターンデータの最も外
側の領域を認識し、該領域に対して枠を設定し、該枠の
座標をトップストラクチャに配置された座標に展開し、
Ｘ座標又はＹ座標を基準としてソーティングすることを
特徴とするマスクパターンデータの処理方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2293093A JP2706367B2 (ja) | 1990-10-30 | 1990-10-30 | マスクパターンデータの処理方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2293093A JP2706367B2 (ja) | 1990-10-30 | 1990-10-30 | マスクパターンデータの処理方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04165574A JPH04165574A (ja) | 1992-06-11 |
| JP2706367B2 true JP2706367B2 (ja) | 1998-01-28 |
Family
ID=17790340
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2293093A Expired - Fee Related JP2706367B2 (ja) | 1990-10-30 | 1990-10-30 | マスクパターンデータの処理方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2706367B2 (ja) |
-
1990
- 1990-10-30 JP JP2293093A patent/JP2706367B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04165574A (ja) | 1992-06-11 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |