JP2999518B2 - マスク製造用露光データの作成方法 - Google Patents
マスク製造用露光データの作成方法Info
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- JP2999518B2 JP2999518B2 JP14237190A JP14237190A JP2999518B2 JP 2999518 B2 JP2999518 B2 JP 2999518B2 JP 14237190 A JP14237190 A JP 14237190A JP 14237190 A JP14237190 A JP 14237190A JP 2999518 B2 JP2999518 B2 JP 2999518B2
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- exposure apparatus
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Description
【発明の詳細な説明】 ［概要］ マスク製造用露光データの作成方法、より詳しくは、
LSIを製造する場合に使用されるマスク（レチクルを含
む）を製造する場合に、マスク製造用の露光装置に供給
すべきマスク製造用の露光データを作成する方法に関
し、 トータルとしてのマスク製造用露光データの作成時間
の短縮化を図ると共に、露光装置の変更など、プロセス
の条件に必要が生じた場合であっても、これに柔軟に対
応できるようにすることを目的とし、 設計データをマスク製造用の露光装置に必要なフォー
マットに変換してファイル化すると共に、この露光装置
に必要なフォーマットに変換された設計データに対して
プロセスの条件から要求される種々の処理を行うに必要
なデータをファイル化し、露光実行時に、前記露光装置
に必要なフォーマットに変換された設計データに対して
前記プロセスの条件から要求される種々の処理を行うこ
とにより、前記露光装置に供給すべきマスク製造用露光
データを作成するようにする。
LSIを製造する場合に使用されるマスク（レチクルを含
む）を製造する場合に、マスク製造用の露光装置に供給
すべきマスク製造用の露光データを作成する方法に関
し、 トータルとしてのマスク製造用露光データの作成時間
の短縮化を図ると共に、露光装置の変更など、プロセス
の条件に必要が生じた場合であっても、これに柔軟に対
応できるようにすることを目的とし、 設計データをマスク製造用の露光装置に必要なフォー
マットに変換してファイル化すると共に、この露光装置
に必要なフォーマットに変換された設計データに対して
プロセスの条件から要求される種々の処理を行うに必要
なデータをファイル化し、露光実行時に、前記露光装置
に必要なフォーマットに変換された設計データに対して
前記プロセスの条件から要求される種々の処理を行うこ
とにより、前記露光装置に供給すべきマスク製造用露光
データを作成するようにする。
［産業上の利用分野］ 本発明は、マスク製造用露光データの作成方法、より
詳しくは、LSIを製造する場合に使用されるマスク（レ
チクルを含む）を製造する場合に、マスク製造用露光装
置に供給すべきマスク製造用の露光データを作成する方
法に関する。
詳しくは、LSIを製造する場合に使用されるマスク（レ
チクルを含む）を製造する場合に、マスク製造用露光装
置に供給すべきマスク製造用の露光データを作成する方
法に関する。
［従来の技術］ 従来、マスク製造用露光データは第２図に示すように
して作成されていた。
して作成されていた。
即ち、設計データ・ファイル１に格納された各層のパ
ターンデータ及び特殊パターンデータ（検査用パターン
データ、プロセスコントロールモニタ用パターンデータ
等）からなる設計データを汎用計算機２に供給し、この
汎用計算機２において、露光装置に必要なフォーマット
への変換や、サイジング、ミラー、リダクト、層合成、
特殊パターンの発生などの処理を行うことによって作成
されていた。
ターンデータ及び特殊パターンデータ（検査用パターン
データ、プロセスコントロールモニタ用パターンデータ
等）からなる設計データを汎用計算機２に供給し、この
汎用計算機２において、露光装置に必要なフォーマット
への変換や、サイジング、ミラー、リダクト、層合成、
特殊パターンの発生などの処理を行うことによって作成
されていた。
なお、このようにして作成されたマスク製造用の露光
データは、露光データ・ファイル３に格納され、露光実
行時に、露光装置４に供給されていた。
データは、露光データ・ファイル３に格納され、露光実
行時に、露光装置４に供給されていた。
［発明が解決しようとする課題］ かかる従来のマスク製造用露光データの作成方法にお
いては、汎用計算機２で行うべきデータ処理が多数にわ
たり、マスク製造用露光データの作成に膨大な時間を要
するという問題点があった。
いては、汎用計算機２で行うべきデータ処理が多数にわ
たり、マスク製造用露光データの作成に膨大な時間を要
するという問題点があった。
また、露光装置４を変更する場合など、プロセスの条
件に変更が生じた場合には、新たなプロセスの条件の下
にサイジング処理など、プロセスの条件に依存する処理
を新たに実行する必要があるが、従来のマスク製造用露
光データの作成方法においては、この場合、汎用計算機
２を使用した設計データからのマスク製造用露光データ
の作成を最初から再び実行しなければならず、再び膨大
な時間を要し、このことが、プロセスの条件に変更が生
じた場合における柔軟な対応を困難にさせていた。
件に変更が生じた場合には、新たなプロセスの条件の下
にサイジング処理など、プロセスの条件に依存する処理
を新たに実行する必要があるが、従来のマスク製造用露
光データの作成方法においては、この場合、汎用計算機
２を使用した設計データからのマスク製造用露光データ
の作成を最初から再び実行しなければならず、再び膨大
な時間を要し、このことが、プロセスの条件に変更が生
じた場合における柔軟な対応を困難にさせていた。
本発明は、かかる点に鑑み、トータルとしてのマスク
製造用要露光データの作成時間の短縮化を図ると共に、
露光装置の変更など、プロセスの条件に変更が生じた場
合であっても、これに柔軟に対応できるようにしたマス
ク製造用露光データの作成方法を提供することを目的と
する。
製造用要露光データの作成時間の短縮化を図ると共に、
露光装置の変更など、プロセスの条件に変更が生じた場
合であっても、これに柔軟に対応できるようにしたマス
ク製造用露光データの作成方法を提供することを目的と
する。
［課題を解決するための手段］ 本発明によるマスク製造用露光データの作成方法は、
設計データをマスク製造用の露光装置に必要なフォーマ
ットに変換してファイル化すると共に、この露光装置に
必要なフォーマットに変換された設計データに対してプ
ロセスの条件から要求される種々の処理を行うに必要な
データをファイル化し、露光実行時に、前記露光装置に
必要なフォーマットに変換された設計データに対して前
記プロセスの条件から要求される種々の処理を行うこと
により、前記露光装置に供給すべきマスク製造用露光デ
ータを作成する、というものである。
設計データをマスク製造用の露光装置に必要なフォーマ
ットに変換してファイル化すると共に、この露光装置に
必要なフォーマットに変換された設計データに対してプ
ロセスの条件から要求される種々の処理を行うに必要な
データをファイル化し、露光実行時に、前記露光装置に
必要なフォーマットに変換された設計データに対して前
記プロセスの条件から要求される種々の処理を行うこと
により、前記露光装置に供給すべきマスク製造用露光デ
ータを作成する、というものである。
［作用］ かかる本発明によれば、プロセス条件から要求される
種々の処理を露光実行時に同時に行うようにしているの
で、この処理に必要な時間は、露光時間に吸収されてし
まう。したがって、トータルとしてのマスク製造用露光
データ作成時間の短縮化を図ることができる。
種々の処理を露光実行時に同時に行うようにしているの
で、この処理に必要な時間は、露光時間に吸収されてし
まう。したがって、トータルとしてのマスク製造用露光
データ作成時間の短縮化を図ることができる。
また、本発明によれば、露光装置の変更など、プロセ
スの条件に変更が生じた場合であっても、プロセスの条
件から要求される種々の処理を行うに必要なデータをフ
ァイル化したファイルを入れ替え、露光実行時に、露光
装置に必要なフォーマットに変換された設計データに対
してプロセスの条件から要求される種々の処理を行うこ
とにより、簡単に、必要とするマスク製造用露光データ
を得ることができる。したがって、プロセス条件を変更
する場合においても、これに柔軟に対応することができ
る。
スの条件に変更が生じた場合であっても、プロセスの条
件から要求される種々の処理を行うに必要なデータをフ
ァイル化したファイルを入れ替え、露光実行時に、露光
装置に必要なフォーマットに変換された設計データに対
してプロセスの条件から要求される種々の処理を行うこ
とにより、簡単に、必要とするマスク製造用露光データ
を得ることができる。したがって、プロセス条件を変更
する場合においても、これに柔軟に対応することができ
る。
［実施例］ 以下、第１図を参照して、本発明によるマスク製造用
露光データの作成方法の一実施例について説明する。な
お、第１図において、第２図に対応する部分には同一符
号を付している。
露光データの作成方法の一実施例について説明する。な
お、第１図において、第２図に対応する部分には同一符
号を付している。
第１図は本発明の一実施例の内容を概略的に示す図で
あって、本実施例においては、設計データを格納した設
計データ・ファイル１と、汎用計算機２と、露光装置フ
ォーマット設計データ・ファイル５と、サイジングデー
タ・ファイル６と、論理処理条件ファイル７と、特殊パ
ターン・ファイル８と、ミラー情報ファイル９と、リダ
クト情報ファイル10と、露光前処理用の専用計算機11と
が必要とされる。
あって、本実施例においては、設計データを格納した設
計データ・ファイル１と、汎用計算機２と、露光装置フ
ォーマット設計データ・ファイル５と、サイジングデー
タ・ファイル６と、論理処理条件ファイル７と、特殊パ
ターン・ファイル８と、ミラー情報ファイル９と、リダ
クト情報ファイル10と、露光前処理用の専用計算機11と
が必要とされる。
ここに、本実施例においては、次のようにしてマスク
製造用露光データが作成される。
製造用露光データが作成される。
即ち、まず、設計データ・ファイル１に格納された設
計データが汎用計算機２に供給され、この汎用計算機２
において、露光装置フォーマットへの変換、特殊パター
ンの発生、層合成の処理が行われ、この結果が露光装置
フォーマット設計データ・ファイル５に格納され、その
後、露光を実行する際に、露光装置フォーマット設計デ
ータ・ファイル５に格納された露光装置フォーマット設
計データと、サイジングデータ・ファイル６に格納され
たサイジングデータと、論理処理条件ファイル７に格納
された論理処理条件と、特殊パターン・ファイル８に格
納された特殊パターン・データと、ミラー情報ファイル
９に格納されたミラー情報と、リダクト情報ファイル10
に格納されたリダクト情報とが専用計算機11に供給さ
れ、この専用計算機11において、露光前処理、即ち、露
光装置フォーマット設計データに対するサイジング、論
理処理、特殊パターンの発生、ミラー、リダクトの各処
理が実行される。ここに、マスク製造用露光データが作
成され、このマスク製造用露光データは露光装置４に供
給される。
計データが汎用計算機２に供給され、この汎用計算機２
において、露光装置フォーマットへの変換、特殊パター
ンの発生、層合成の処理が行われ、この結果が露光装置
フォーマット設計データ・ファイル５に格納され、その
後、露光を実行する際に、露光装置フォーマット設計デ
ータ・ファイル５に格納された露光装置フォーマット設
計データと、サイジングデータ・ファイル６に格納され
たサイジングデータと、論理処理条件ファイル７に格納
された論理処理条件と、特殊パターン・ファイル８に格
納された特殊パターン・データと、ミラー情報ファイル
９に格納されたミラー情報と、リダクト情報ファイル10
に格納されたリダクト情報とが専用計算機11に供給さ
れ、この専用計算機11において、露光前処理、即ち、露
光装置フォーマット設計データに対するサイジング、論
理処理、特殊パターンの発生、ミラー、リダクトの各処
理が実行される。ここに、マスク製造用露光データが作
成され、このマスク製造用露光データは露光装置４に供
給される。
かかる本実施例においては、汎用計算機２は、設計デ
ータにつき、露光装置に必要なフォーマットへの変換、
特殊パターンの発生、層合成の処理を行うだけであるか
ら、従来例の方法の場合に比較して、汎用計算機２の使
用時間は短くて済む。また、サイジング、論理処理、特
殊パターンの発生、ミラー、リダクトの各処理は、露光
を実行する場合に行われるので、これらの処理に必要な
時間は露光時間に吸収されてしまう。したがって、トー
タルとしてのマスク製造用露光データの作成時間の短縮
化を図ることができる。
ータにつき、露光装置に必要なフォーマットへの変換、
特殊パターンの発生、層合成の処理を行うだけであるか
ら、従来例の方法の場合に比較して、汎用計算機２の使
用時間は短くて済む。また、サイジング、論理処理、特
殊パターンの発生、ミラー、リダクトの各処理は、露光
を実行する場合に行われるので、これらの処理に必要な
時間は露光時間に吸収されてしまう。したがって、トー
タルとしてのマスク製造用露光データの作成時間の短縮
化を図ることができる。
また、本実施例においては、露光装置４を変更する場
合など、プロセスの条件に変更が生じた場合であって
も、サイジングデータ・ファイル６などを入れ替えて、
露光実行時に、専用計算機11による露光前処理を実行す
るだけで、簡単に、必要とするマスク製造用露光データ
を得ることができる。したがって、プロセスの条件に変
更が生じた場合であっても、これに柔軟に対応すること
ができる。
合など、プロセスの条件に変更が生じた場合であって
も、サイジングデータ・ファイル６などを入れ替えて、
露光実行時に、専用計算機11による露光前処理を実行す
るだけで、簡単に、必要とするマスク製造用露光データ
を得ることができる。したがって、プロセスの条件に変
更が生じた場合であっても、これに柔軟に対応すること
ができる。
［発明の効果］ 以上のように、本発明によれば、プロセス条件から要
求される種々の処理を露光実行時に同時に行うようにし
ているので、この処理に必要な時間を露光時間に吸収
し、トータルとしてのマスク製造用露光データ作成時間
の短縮化を図ることができる。
求される種々の処理を露光実行時に同時に行うようにし
ているので、この処理に必要な時間を露光時間に吸収
し、トータルとしてのマスク製造用露光データ作成時間
の短縮化を図ることができる。
また、本発明によれば、露光装置の変更など、プロセ
スの条件に変更が生じた場合であっても、プロセスの条
件から要求される種々の処理を行うに必要なデータをフ
ァイル化したファイルを入れ替え、露光実行時に、露光
装置に必要なフォーマットに変換された設計データに対
してプロセスの条件から要求される種々の処理を行うこ
とにより、簡単に、必要とするマスク製造用露光データ
を得ることができるので、プロセス条件を変更する場合
においても、これに柔軟に対応することができる。
スの条件に変更が生じた場合であっても、プロセスの条
件から要求される種々の処理を行うに必要なデータをフ
ァイル化したファイルを入れ替え、露光実行時に、露光
装置に必要なフォーマットに変換された設計データに対
してプロセスの条件から要求される種々の処理を行うこ
とにより、簡単に、必要とするマスク製造用露光データ
を得ることができるので、プロセス条件を変更する場合
においても、これに柔軟に対応することができる。
第１図は本発明によるマスク製造用露光データの作成方
法の一実施例の内容を概略的に示す図、 第２図は従来のマスク製造用露光データの作成方法の一
例の内容を概略的に示す図である。 １……設計データ・ファイル ２……汎用計算機 ４……露光装置 ５……露光装置フォーマット設計データ・ファイル ６……サイジングデータ・ファイル ７……論理処理条件ファイル ８……特殊パターン・ファイル ９……ミラー情報ファイル 10……リダクト情報ファイル 11……露光前処理用の専用計算機
法の一実施例の内容を概略的に示す図、 第２図は従来のマスク製造用露光データの作成方法の一
例の内容を概略的に示す図である。 １……設計データ・ファイル ２……汎用計算機 ４……露光装置 ５……露光装置フォーマット設計データ・ファイル ６……サイジングデータ・ファイル ７……論理処理条件ファイル ８……特殊パターン・ファイル ９……ミラー情報ファイル 10……リダクト情報ファイル 11……露光前処理用の専用計算機
Claims (1)
- 【請求項１】設計データをマスク製造用の露光装置に必
要なフォーマットに変換してファイル化する工程と、 前記露光装置に必要なフォーマットに変換された設計デ
ータに対してプロセスの条件から要求される種々の処理
を行うに必要なデータをファイル化する工程とを先行し
て実行し、 露光実行時に、前記露光装置に必要なフォーマットに変
換された設計データに対して前記プロセスの条件から要
求される種々の処理を行うことにより、前記露光装置に
供給すべきマスク製造用露光データを作成することを特
徴とするマスク製造用露光データの作成方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14237190A JP2999518B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-05-31 | マスク製造用露光データの作成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP14237190A JP2999518B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-05-31 | マスク製造用露光データの作成方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0434550A JPH0434550A (ja) | 1992-02-05 |
| JP2999518B2 true JP2999518B2 (ja) | 2000-01-17 |
Family
ID=15313830
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP14237190A Expired - Lifetime JP2999518B2 (ja) | 1990-05-31 | 1990-05-31 | マスク製造用露光データの作成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2999518B2 (ja) |
-
1990
- 1990-05-31 JP JP14237190A patent/JP2999518B2/ja not_active Expired - Lifetime
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH0434550A (ja) | 1992-02-05 |
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