JPH03194557A - 露光データ生成方式 - Google Patents

露光データ生成方式

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Publication number
JPH03194557A
JPH03194557A JP1335758A JP33575889A JPH03194557A JP H03194557 A JPH03194557 A JP H03194557A JP 1335758 A JP1335758 A JP 1335758A JP 33575889 A JP33575889 A JP 33575889A JP H03194557 A JPH03194557 A JP H03194557A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
exposure data
data
individual
pattern
mutual arrangement
Prior art date
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Pending
Application number
JP1335758A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroshi Hashimoto
宏 橋本
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Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
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Publication of JPH03194557A publication Critical patent/JPH03194557A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔概要〕 この発明は、例えば大規模LSIの製作に好適なマスク
・レチクル用の露光データ生成方式に関し、 個別露光データから最終露光データを合成するに際する
作業性および信頼性を向上させることを目的とし、 同一露光エリアに含まれるべき回路要素を複数に分割し
てそれぞれ独立にパターン設計を行い、該パターン設計
により得られた設計データをそれぞれ計算機にかけて各
分割領域の回路パターンを示す個別露光データに変換し
、それらの個別露光データに基いて、各分割領域間の相
互配置関係及び個々の回路パターンを含む最終露光デー
タを・生成するにおいて、前記個別露光データから最終
露光データを生成する処理を、各分割領域間の相互配置
関係を示すパラメータ情報に基いて計算機処理により行
なうように構成する。
〔産業上の利用分野〕
この発明は、例えば大規模LSIの製作に好適なマスク
・レチクル用の露光データ生成方式に関する。
CAD装置を使用して設計されたマスクパターンデータ
に各種の加工を加えたり、あるいはマスク・レチクル等
を作成するためのデータフォーマットに変換する作業は
、昨今益々複雑かつ大規模なものとなり、しかもより高
速かつ正確な処理が要望されている。
〔従来の技術〕
従来、大規模LSI等の設計分野においては、同一露光
エリアに含まれるべき回路要素を複数に分割してそれぞ
れ独立にパターン設計を行い、該パターン設計により得
られた設計データをそれぞれ計算機にかけて各分割領域
の回路パターンを示す個別露光データに変換し、それら
の個別露光データに基いて、各分割領域間の相互配置関
係及び個々の回路パターンを含む最終露光データを生成
する露光データ生成方式が知られている。
第4図は、このような露光データ生成方式を示すフロー
チャートである。
同図に示されるように、各設計者から磁気テープ(MT
)の形で提供される設計データ1〜nは、それぞれ計算
機により別々に処理され、これにより各分割領域の回路
パターンを示す露光データおよび検査データが磁気テー
プ(MT)の形で作成される。
次いで、これらの個別露光データに基いて、各分割領域
間の相互配置関係及び個々の回路パターンを含む最終露
光データが合成され、この最終露光データによりマスク
・レチクルの作成が行われる。
従来、個別露光データから最終露光データを合成する作
業は人手により行われ、このため合成時のパターン検証
が困難であり、面倒繁雑で時間がかかるという不具合が
あった。
〔発明が解決しようとする課題〕
上述のように、従来この種の露光データ生成方式におい
ては、個別露光データから最終露光データを合成する作
業は人手により行われ、このため合成時のパターン検証
が困難であり、面倒繁雑で時間がかかるという問題があ
った。
この発明は、上述の問題点に鑑みなされたものであり、
その目的とするところは、個別露光データから最終露光
データを合成するに際する作業性および信頼性を向上さ
せることにある。
夕に基いて、各分割領域間の相互配置関係及び個々の回
路パターンを含む最終露光データを生成するにおいて、
前記個別露光データから最終露光データを生成する処理
を、各分割領域間の相互配置関係を示すパラメータ情報
に基いて計算機処理により行なうことを特徴とする。
〔作用〕
このような構成によれば、大規模データの管理を容易に
するとともに、内容の異なるデータファイルの合成も一
括で容易に実行でき、作業性および信頼性の向上を図る
ことができる。
〔課題を解決するための手段〕
この発明は、上記の目的を達成するために、同一露光エ
リアに含まれるべき回路要素を複数に分割してそれぞれ
独立にパターン設計を行い、該パターン設計により得ら
れた設計データをそれぞれ計算機にかけて各分割領域の
回路パターンを示す個別露光データに変換し、それらの
個別露光デー〔実施例〕 第1図は、本発明方式の一例を具体的にを示す概念図で
ある。
同図に示されるように、この例では1チツプマイクロコ
ンピユータを製作するについて、チップ1上に搭載され
るCPU2、RAM3及びROM4をそれぞれ独立にパ
ターン設計を行い、次いで該パターン設計により得られ
た設計データ2a、3as 4aをそれぞれ計算機にか
けて各分割領域の回路パターンを示す個別露光データに
変換し、それらの個別露光データに基いて、各分割領域
間の相互配置関係及び個々の回路パターンを含む最終露
光データ5(マイクロコンピュータ露光データ)を生成
するものである。
すなわち、第2図に示されるように、CPU設計データ
2aSRAM設計データ3a及びROM設計データ4a
をそれぞれ計算機に読み込ませ(ステップ202a〜2
02C)、所定のパラメータ(203a〜203 c)
に基きサイジング処理、リダクション処理及び論理処理
等の各種パラメータ処理を実行して個別露光データ20
4a〜204c及び205a〜205cに変換する。
次いで、これらのデータ204a〜204C及び205
a〜205Cを磁気テープから読み込ませ(ステップ2
06)、各回路要素(この例ではCPU2、RAM3及
びROM4)間の相互配置関係を示すパラメータ情報2
08に基いて計算機処理によりマイクロコンピュータ露
光データ209及び検査データ210を生成する。
ここで、パラメータ情報208は、各個別露光データ間
の配置、寸法及び組合せなどを特定するものである。
また、このようにして得られる露光データ209、検査
データ210は、パターンデータ、配置データを共に有
するものであり、これに基き電子ビーム露光装置等を直
接に制御できるようになっている。
次に、第3図は本発明方式の他の例を示す構成図である
この実施例の特徴は、磁気ディスクを用いることにより
、処理の高速化を図ったものである。
すなわち、設計データ1〜3は磁気ディスク6のディレ
クトリ1〜3にそれぞれ読み込まれ(ステップ301)
、所定のパラメータ302a〜302cに基いて処理さ
れ(ステップ3038〜303c)、これにより得られ
た露光データ1〜3、検査データ1〜3は磁気ディスク
7にそれぞれ格納される。
その後、これらの個別データはパラメータ305に基き
合成処理が行われ(ステップ306)、最終的に検査デ
ータ304及び露光データ305が生成される。
このように、上述の第1、第2実施例によれば、大規模
データの管理を容易にするとともに、内容の異なるデー
タファイルの合成も一括で容易に実行でき、作業性およ
び信頼性の向上を図ることができる。
第3図は本発明方式の第2実施例を示す概念図、第4図
は従来方式を示すフローチャートである。
1・・・チップ 2・・・CPU 3・・・RAM 4・・・ROM 2a・・・CPU設計データ 3a・・・RAM設計データ 4a・・・ROM設計データ 5・・・マイクロコンピュータ露光データ〔発明の効果
〕 以上の説明で明らかなように、この発明によれば、個別
露光データから最終露光データを合成するに際する作業
性および信頼性を向上させることができる。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 同一露光エリア(1)に含まれるべき回路要素(2、3
    、4)を複数に分割してそれぞれ独立にパターン設計を
    行い、該パターン設計により得られた設計データ(2a
    、3a、4a)をそれぞれ計算機にかけて各分割領域の
    回路パターンを示す個別露光データ(204a〜204
    c)に変換し、それらの個別露光データに基いて、各分
    割領域間の相互配置関係及び個々の回路パターンを含む
    最終露光データ(209)を生成する露光データ生成方
    式において、 前記個別露光データから最終露光データを生成する処理
    を、各分割領域間の相互配置関係を示すパラメータ情報
    (208)に基いて計算機処理により行なう(207)
    ことを特徴とする露光データ生成方式。
JP1335758A 1989-12-25 1989-12-25 露光データ生成方式 Pending JPH03194557A (ja)

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JP1335758A JPH03194557A (ja) 1989-12-25 1989-12-25 露光データ生成方式

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JP1335758A JPH03194557A (ja) 1989-12-25 1989-12-25 露光データ生成方式

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JPH03194557A true JPH03194557A (ja) 1991-08-26

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JP1335758A Pending JPH03194557A (ja) 1989-12-25 1989-12-25 露光データ生成方式

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