JPH05120396A - 分子部品座標の合成方式 - Google Patents
分子部品座標の合成方式Info
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- JPH05120396A JPH05120396A JP3282637A JP28263791A JPH05120396A JP H05120396 A JPH05120396 A JP H05120396A JP 3282637 A JP3282637 A JP 3282637A JP 28263791 A JP28263791 A JP 28263791A JP H05120396 A JPH05120396 A JP H05120396A
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- coordinates
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Abstract
(57)【要約】
【目的】 分子部品座標の作成が容易で、合成後分子座
標の解釈が容易な、分子部品座標の合成方式を提供す
る。 【構成】 分子部品座標の合成方式は、合成処理の対象
となる本体分子座標１３を受け入れる本体分子座標受入
部１６と、この本体分子座標１３に対して合成される分
子部品座標１１を受け入れ、最初の３原子がＸＹＺ座標
形式でないならばＸＹＺ座標形式に変換する分子部品座
標受入部１４と、本体分子座標１３と分子部品座標１１
を合成するための分子部品座標変換情報１２を受け入れ
る分子部品座標変換情報受入部１５と、この分子部品座
標変換情報１２により分子部品座標１１のＸＹＺ座標形
式部分を並進回転処理するＸＹＺ座標変換部１７と、本
体分子座標１３およびＸＹＺ座標変換部１７により変換
された分子部品座標から構成される合成後分子座標１９
を出力する合成後分子座標出力部１８により構成され
る。
標の解釈が容易な、分子部品座標の合成方式を提供す
る。 【構成】 分子部品座標の合成方式は、合成処理の対象
となる本体分子座標１３を受け入れる本体分子座標受入
部１６と、この本体分子座標１３に対して合成される分
子部品座標１１を受け入れ、最初の３原子がＸＹＺ座標
形式でないならばＸＹＺ座標形式に変換する分子部品座
標受入部１４と、本体分子座標１３と分子部品座標１１
を合成するための分子部品座標変換情報１２を受け入れ
る分子部品座標変換情報受入部１５と、この分子部品座
標変換情報１２により分子部品座標１１のＸＹＺ座標形
式部分を並進回転処理するＸＹＺ座標変換部１７と、本
体分子座標１３およびＸＹＺ座標変換部１７により変換
された分子部品座標から構成される合成後分子座標１９
を出力する合成後分子座標出力部１８により構成され
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は分子科学における分子座
標の作成方式に関し、特に分子部品座標の合成方式に関
する。
標の作成方式に関し、特に分子部品座標の合成方式に関
する。
【０００２】
【従来の技術】分子科学におけるデータ処理システムは
一般に計算対象となる分子の空間的な構造を数値的に表
現した分子座標が必要である。その分子座標はデータ処
理システム使用者が作成し入力する。
一般に計算対象となる分子の空間的な構造を数値的に表
現した分子座標が必要である。その分子座標はデータ処
理システム使用者が作成し入力する。
【０００３】入力可能な分子座標としては次の３つの表
現がある。 （１）直交座標による形式（ＸＹＺ座標形式）（図２）
で全ての座標を表現したもの （２）既定義３座標を参照し座標を定義する局所的極座
標表現（結合距離、結合角度、結合平面角度）による形
式（Ｚマトリックス形式）（図３，図４）で全ての座標
を表現したもの（ただし、最初の３原子はそれに準じた
形式で座標を表現する） （３）ＸＹＺ座標形式とＺマトリックス形式で表現され
た座標が混在しているもの（ただし、１〜３番めの原子
が全てＸＹＺ座標形式である場合または１〜３番めの原
子が全てＺマトリックス形式である場合に限る） 一般に、大きな分子の分子座標を作成する場合、その分
子を構成している原子の一つ一つに関して座標を毎回作
成していくのは時間がかかり不便であるので、あらかじ
め分子部品として用意しておいた原子団を必要に応じ作
成中の本体分子座標に合成処理し、分子全体の分子座標
を作り上げる手段が使われる。
現がある。 （１）直交座標による形式（ＸＹＺ座標形式）（図２）
で全ての座標を表現したもの （２）既定義３座標を参照し座標を定義する局所的極座
標表現（結合距離、結合角度、結合平面角度）による形
式（Ｚマトリックス形式）（図３，図４）で全ての座標
を表現したもの（ただし、最初の３原子はそれに準じた
形式で座標を表現する） （３）ＸＹＺ座標形式とＺマトリックス形式で表現され
た座標が混在しているもの（ただし、１〜３番めの原子
が全てＸＹＺ座標形式である場合または１〜３番めの原
子が全てＺマトリックス形式である場合に限る） 一般に、大きな分子の分子座標を作成する場合、その分
子を構成している原子の一つ一つに関して座標を毎回作
成していくのは時間がかかり不便であるので、あらかじ
め分子部品として用意しておいた原子団を必要に応じ作
成中の本体分子座標に合成処理し、分子全体の分子座標
を作り上げる手段が使われる。
【０００４】従来、この種の分子部品座標の合成方法と
しては、ＸＹＺ座標方式などがあった。
しては、ＸＹＺ座標方式などがあった。
【０００５】ＸＹＺ座標方式は分子部品座標を全てＸＹ
Ｚ座標形式で表現しておき、本体分子に対する合成処理
においては分子部品座標の全てのＸＹＺ座標形式に対し
て簡単な並進回転処理を行う方式である。この方式では
簡単な並進回転処理により合成処理を行うのでその合成
処理は容易である。しかし分子部品座標の作成において
は分子部品構成原子の３次元的位置とＸＹＺ座標形式と
の対応が人間にとって困難であるため分子部品座標の作
成は容易ではない。また、合成後分子座標においては分
子部品部分が全てＸＹＺ座標形式となるため同一分子部
品であるのか異なる分子部品であるのかが不明確となり
合成後分子座標の解釈が困難である。また、合成後分子
全体もしくは分子部品部分のみをＺマトリックス形式に
変換する場合には参照関係の定義を行う必要がある。
Ｚ座標形式で表現しておき、本体分子に対する合成処理
においては分子部品座標の全てのＸＹＺ座標形式に対し
て簡単な並進回転処理を行う方式である。この方式では
簡単な並進回転処理により合成処理を行うのでその合成
処理は容易である。しかし分子部品座標の作成において
は分子部品構成原子の３次元的位置とＸＹＺ座標形式と
の対応が人間にとって困難であるため分子部品座標の作
成は容易ではない。また、合成後分子座標においては分
子部品部分が全てＸＹＺ座標形式となるため同一分子部
品であるのか異なる分子部品であるのかが不明確となり
合成後分子座標の解釈が困難である。また、合成後分子
全体もしくは分子部品部分のみをＺマトリックス形式に
変換する場合には参照関係の定義を行う必要がある。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】上述した従来の分子部
品座標の合成方式におけるＸＹＺ座標方式は、簡単な並
進回転処理により合成処理を行うのでその合成処理は容
易であるが、分子部品座標の作成においては分子部品構
成原子の３次元的位置とＸＹＺ座標形式との対応が人間
にとって困難であるため分子部品座標の作成は容易では
なく、また合成後分子座標においては分子部品部分が全
てＸＹＺ座標形式となるため同一分子部品であるのか異
なる分子部品であるのかが不明確となり、合成後分子座
標の解釈が困難であり、また合成後分子全体もしくは分
子部品部分のみをＺマトリックス形式に変換する場合に
は参照関係の定義を行う必要があるという欠点がある。
品座標の合成方式におけるＸＹＺ座標方式は、簡単な並
進回転処理により合成処理を行うのでその合成処理は容
易であるが、分子部品座標の作成においては分子部品構
成原子の３次元的位置とＸＹＺ座標形式との対応が人間
にとって困難であるため分子部品座標の作成は容易では
なく、また合成後分子座標においては分子部品部分が全
てＸＹＺ座標形式となるため同一分子部品であるのか異
なる分子部品であるのかが不明確となり、合成後分子座
標の解釈が困難であり、また合成後分子全体もしくは分
子部品部分のみをＺマトリックス形式に変換する場合に
は参照関係の定義を行う必要があるという欠点がある。
【０００７】本発明の目的は、分子部品座標の作成が容
易で、合成後分子座標の解釈が容易な、分子部品座標の
合成方式を提供することである。
易で、合成後分子座標の解釈が容易な、分子部品座標の
合成方式を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明の分子部品座標の
合成方式は、合成処理の対象となる本体分子座標を受け
入れる本体分子座標受入部と、この本体分子座標に対し
て合成される分子部品座標を受け入れ、最初の３原子が
ＸＹＺ座標形式でないならばＸＹＺ座標形式に変換する
分子部品座標受入部と、本体分子座標と分子部品座標を
合成するための分子部品座標変換情報を受け入れる分子
部品座標変換情報受入部と、この分子部品座標変換情報
により分子部品座標のＸＹＺ座標形式部分を並進回転処
理するＸＹＺ座標変換部と、前記本体分子座標およびＸ
ＹＺ座標変換部により変換された分子部品座標から構成
される合成後分子座標を出力する合成後分子座標出力部
を有する。
合成方式は、合成処理の対象となる本体分子座標を受け
入れる本体分子座標受入部と、この本体分子座標に対し
て合成される分子部品座標を受け入れ、最初の３原子が
ＸＹＺ座標形式でないならばＸＹＺ座標形式に変換する
分子部品座標受入部と、本体分子座標と分子部品座標を
合成するための分子部品座標変換情報を受け入れる分子
部品座標変換情報受入部と、この分子部品座標変換情報
により分子部品座標のＸＹＺ座標形式部分を並進回転処
理するＸＹＺ座標変換部と、前記本体分子座標およびＸ
ＹＺ座標変換部により変換された分子部品座標から構成
される合成後分子座標を出力する合成後分子座標出力部
を有する。
【０００９】
【作用】本発明の分子部品座標の合成方式は、 （１）分子部品の座標形式を最初の３原子は必ずＸＹＺ
座標形式で表現し残りの原子はＺマトリックス形式また
はＸＹＺ座標形式で表現する折哀方式とすること（最初
の３原子にダミー原子を用いてもよい） （２）合成処理を分子部品座標のＸＹＺ座標形式部分に
対する並進回転処理のみで実現することを内容とするも
のであり、次のような特長を有している。 （１）ＸＹＺ座標形式で表現すべき部分が最初の３原子
のみで残りはＺマトリックス形式でよいため、分子部品
座標作成において結合距離と結合軸角度と結合平面間角
度についての科学的な値を援用でき、その作成は容易で
ある。 （２）合成処理において分子部品座標のＺマトリックス
形式部分が一切影響を受けず合成後分子座標内に残るた
め、合成後分子座標内の分子部品単位の認識が容易であ
る。 （３）合成後分子座標内に分子部品のＺマトリックス形
式が残るため、合成後分子座標の解釈が容易である。 （４）分子部品座標合成処理がＸＹＺ座標部分のみに対
する並進回転処理で実現されるため、ＸＹＺ座標形式の
みで表現されている場合と比べ並進回転処理対象が限ら
れ、処理量が少ない。 （５）合成後座標の中で分子部品部分をＺマトリックス
形式で表現するための特別な処理を必要としない。 （６）分子部品同志を上述の方式で合成処理したものを
再び分子部品として利用できる。
座標形式で表現し残りの原子はＺマトリックス形式また
はＸＹＺ座標形式で表現する折哀方式とすること（最初
の３原子にダミー原子を用いてもよい） （２）合成処理を分子部品座標のＸＹＺ座標形式部分に
対する並進回転処理のみで実現することを内容とするも
のであり、次のような特長を有している。 （１）ＸＹＺ座標形式で表現すべき部分が最初の３原子
のみで残りはＺマトリックス形式でよいため、分子部品
座標作成において結合距離と結合軸角度と結合平面間角
度についての科学的な値を援用でき、その作成は容易で
ある。 （２）合成処理において分子部品座標のＺマトリックス
形式部分が一切影響を受けず合成後分子座標内に残るた
め、合成後分子座標内の分子部品単位の認識が容易であ
る。 （３）合成後分子座標内に分子部品のＺマトリックス形
式が残るため、合成後分子座標の解釈が容易である。 （４）分子部品座標合成処理がＸＹＺ座標部分のみに対
する並進回転処理で実現されるため、ＸＹＺ座標形式の
みで表現されている場合と比べ並進回転処理対象が限ら
れ、処理量が少ない。 （５）合成後座標の中で分子部品部分をＺマトリックス
形式で表現するための特別な処理を必要としない。 （６）分子部品同志を上述の方式で合成処理したものを
再び分子部品として利用できる。
【００１０】以上より、本方式は、分子部品座標作成の
容易さと合成処理の単純さと合成後座標の解釈の容易さ
とを兼ね備えた分子部品座標の合成処理方式となってい
る。なお、本発明の分子部品座標の合成方式は分子部品
のＸＹＺ座標形式部分が最初の３原子のみに限った場合
に最も効果を発揮するが、その場合に限定されるもので
はない。また、特に分子科学データ処理システムにおけ
る座標入力がＸＹＺ座標形式とＺマトリックス形式の混
在を許している場合、合成後座標を直接入力座標として
使用することができる。
容易さと合成処理の単純さと合成後座標の解釈の容易さ
とを兼ね備えた分子部品座標の合成処理方式となってい
る。なお、本発明の分子部品座標の合成方式は分子部品
のＸＹＺ座標形式部分が最初の３原子のみに限った場合
に最も効果を発揮するが、その場合に限定されるもので
はない。また、特に分子科学データ処理システムにおけ
る座標入力がＸＹＺ座標形式とＺマトリックス形式の混
在を許している場合、合成後座標を直接入力座標として
使用することができる。
【００１１】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。
て説明する。
【００１２】図１は本発明の分子部品座標の合成方式の
一実施例の構成を示すブロック図である。
一実施例の構成を示すブロック図である。
【００１３】本実施例の分子部品座標の合成方式は分子
部品座標受入部１４と分子部品座標変換情報受入部１５
と本体分子座標受入部１６とＸＹＺ座標変換部１７と合
成後分子座標出力部１８とを含んで構成されている。
部品座標受入部１４と分子部品座標変換情報受入部１５
と本体分子座標受入部１６とＸＹＺ座標変換部１７と合
成後分子座標出力部１８とを含んで構成されている。
【００１４】本体分子座標受入部１６は合成処理対象と
なる本体分子座標１３を受け入れる。本体分子座標１３
はＸＹＺ座標形式とＺマトリックス形式が混在していて
もよい。分子部品座標受入部１４はこの本体分子座標１
３に対して合成される分子部品座標１１を受け入れる。
分子部品座標１１の最初の３原子はＸＹＺ座標形式で表
現されているものである。ＸＹＺ座標形式で表現されて
いなければ、ＸＹＺ座標形式に変換される。それ以降の
原子はＸＹＺ座標形式とＺマトリックス形式が混在して
いてもよい。分子部品座標変換情報受入部１５は本体分
子座標１３と分子部品座標１１を合成するための分子部
品座標変換情報１２を受け入れる。この分子部品座標変
換情報１２は分子部品を本体分子のある指定された場所
へ位置づけるための並進回転行列である。この並進回転
行列は分子部品を構成しているある指定された３原子
（分子部品座標のＸＹＺ座標形式で表現されている最初
の３原子である必要はない）を本体分子のある３点で指
定される場所へ位置づけるという処理を表わすものであ
る。このとき分子部品の座標系内の３点と本体の座標系
内の３点のそれぞれの位置関係は同一である。通常座標
系Ｏ’の３点と座標系Ｏの３点へ移動させるための並進
回転行列はアフィン変換行列として求められる（図
５）。ＸＹＺ座標変換部１７は分子部品座標変換情報１
２により分子部品座標１１の最初の３原子のＸＹＺ座標
形式部分ならびにそれ以降でＸＹＺ座標形式で表現され
ている部分を並進回転処理する。合成後分子座標出力部
１８は分子部品座標１１のＺマトリックス形式部分の原
子に対して再番号付けをしたのち本体分子座標１３と併
せてその合成後分子座標１９を出力する。再番号付けは
本体分子座標１３と分子部品座標１１との間で同一原子
がある場合Ｚマトリックス形式での参照関係が不明確と
ならないように分子部品座標１１あるいは本体分子座標
１３のその同一原子に対して番号を付け直す処理である
（ＸＹＺ座標形式およびＺマトリックス形式とも原子に
番号をつけた形を許している）。例えば分子部品同士を
合成処理した場合、合成後分子座標１９の形式は最初の
３原子がＸＹＺ座標形式となるため再び合成後分子座標
１９を特別な処理なしで分子部品として扱うことができ
る。
なる本体分子座標１３を受け入れる。本体分子座標１３
はＸＹＺ座標形式とＺマトリックス形式が混在していて
もよい。分子部品座標受入部１４はこの本体分子座標１
３に対して合成される分子部品座標１１を受け入れる。
分子部品座標１１の最初の３原子はＸＹＺ座標形式で表
現されているものである。ＸＹＺ座標形式で表現されて
いなければ、ＸＹＺ座標形式に変換される。それ以降の
原子はＸＹＺ座標形式とＺマトリックス形式が混在して
いてもよい。分子部品座標変換情報受入部１５は本体分
子座標１３と分子部品座標１１を合成するための分子部
品座標変換情報１２を受け入れる。この分子部品座標変
換情報１２は分子部品を本体分子のある指定された場所
へ位置づけるための並進回転行列である。この並進回転
行列は分子部品を構成しているある指定された３原子
（分子部品座標のＸＹＺ座標形式で表現されている最初
の３原子である必要はない）を本体分子のある３点で指
定される場所へ位置づけるという処理を表わすものであ
る。このとき分子部品の座標系内の３点と本体の座標系
内の３点のそれぞれの位置関係は同一である。通常座標
系Ｏ’の３点と座標系Ｏの３点へ移動させるための並進
回転行列はアフィン変換行列として求められる（図
５）。ＸＹＺ座標変換部１７は分子部品座標変換情報１
２により分子部品座標１１の最初の３原子のＸＹＺ座標
形式部分ならびにそれ以降でＸＹＺ座標形式で表現され
ている部分を並進回転処理する。合成後分子座標出力部
１８は分子部品座標１１のＺマトリックス形式部分の原
子に対して再番号付けをしたのち本体分子座標１３と併
せてその合成後分子座標１９を出力する。再番号付けは
本体分子座標１３と分子部品座標１１との間で同一原子
がある場合Ｚマトリックス形式での参照関係が不明確と
ならないように分子部品座標１１あるいは本体分子座標
１３のその同一原子に対して番号を付け直す処理である
（ＸＹＺ座標形式およびＺマトリックス形式とも原子に
番号をつけた形を許している）。例えば分子部品同士を
合成処理した場合、合成後分子座標１９の形式は最初の
３原子がＸＹＺ座標形式となるため再び合成後分子座標
１９を特別な処理なしで分子部品として扱うことができ
る。
【００１５】
【発明の効果】以上説明したように本発明は、分子部品
座標の最初の３原子をＸＹＺ座標形式で表現することに
より、合成処理がこの分子部品座標のＸＹＺ座標形式部
分に対する並進回転処理のみで実現でき、分子部品の作
成が容易である、合成処理が単純である、合成後座標の
解釈が容易であるという効果がある。
座標の最初の３原子をＸＹＺ座標形式で表現することに
より、合成処理がこの分子部品座標のＸＹＺ座標形式部
分に対する並進回転処理のみで実現でき、分子部品の作
成が容易である、合成処理が単純である、合成後座標の
解釈が容易であるという効果がある。
【図１】本発明の分子部品座標の合成方式の一実施例の
構成を示すブロック図である。
構成を示すブロック図である。
【図２】ＸＹＺ座標形式を示す図である。
【図３】同図（１）はＺマトリックス形式を示す図、同
図（２）は参照関係図、同図（３）はニューマン投影図
である。
図（２）は参照関係図、同図（３）はニューマン投影図
である。
【図４】同図（１），（２），（３）はそれぞれ第１原
子，第２原子，第３原子のＺマトリックス形式を示す
図、同図（４），（５），（６）はそれぞれ第１原子，
第２原子，第３原子のＺマトリックス形式を示す図であ
る。
子，第２原子，第３原子のＺマトリックス形式を示す
図、同図（４），（５），（６）はそれぞれ第１原子，
第２原子，第３原子のＺマトリックス形式を示す図であ
る。
【図５】同図（１）は本体分子の座標系Ｏ、同図（２）
は分子部品の座標系Ｏ’、同図（３）は３次元アフィン
変換を示す図である。
は分子部品の座標系Ｏ’、同図（３）は３次元アフィン
変換を示す図である。
１１ 分子部品座標 １２ 分子部品座標変換情報 １３ 本体分子座標 １４ 分子部品座標受入部 １５ 分子部品座標変換情報受入部 １６ 本体分子座標受入部 １７ ＸＹＺ座標変換部 １８ 合成後分子座標出力部 １９ 合成後分子座標
Claims (1)
- 【請求項１】 合成処理の対象となる本体分子座標を受
け入れる本体分子座標受入部と、 この本体分子座標に対して合成される分子部品座標を受
け入れ、最初の３原子がＸＹＺ座標形式でないならばＸ
ＹＺ座標形式に変換する分子部品座標受入部と、 本体分子座標と分子部品座標を合成するための分子部品
座標変換情報を受け入れる分子部品座標変換情報受入部
と、 この分子部品座標変換情報により分子部品座標のＸＹＺ
座標形式部分を並進回転処理するＸＹＺ座標変換部と、 前記本体分子座標および前記ＸＹＺ座標変換部により変
換された分子部品座標から構成される合成後分子座標を
出力する合成後分子座標出力部を有する、分子部品座標
の合成方式。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03282637A JP3080728B2 (ja) | 1991-10-29 | 1991-10-29 | 分子部品座標の合成方式 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP03282637A JP3080728B2 (ja) | 1991-10-29 | 1991-10-29 | 分子部品座標の合成方式 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05120396A true JPH05120396A (ja) | 1993-05-18 |
| JP3080728B2 JP3080728B2 (ja) | 2000-08-28 |
Family
ID=17655112
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP03282637A Expired - Lifetime JP3080728B2 (ja) | 1991-10-29 | 1991-10-29 | 分子部品座標の合成方式 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3080728B2 (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002023408A1 (fr) * | 2000-09-18 | 2002-03-21 | Hitachi, Ltd. | Procede de description de profiles pleins et dispositif associe et systeme d'aide a la conception de profiles pleins les utilisant |
| JP2004005631A (ja) * | 2003-05-06 | 2004-01-08 | Hitachi Ltd | 立体形状記述方法及びそれを用いたエンジニアリングシステム |
| JP2008129649A (ja) * | 2006-11-16 | 2008-06-05 | Fujitsu Ltd | 分子設計支援装置及びプログラム |
-
1991
- 1991-10-29 JP JP03282637A patent/JP3080728B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2002023408A1 (fr) * | 2000-09-18 | 2002-03-21 | Hitachi, Ltd. | Procede de description de profiles pleins et dispositif associe et systeme d'aide a la conception de profiles pleins les utilisant |
| US6982711B1 (en) | 2000-09-18 | 2006-01-03 | Hitachi, Ltd. | Solid shape describing method and device therefor and solid shape design support system using them |
| US7006087B2 (en) | 2000-09-18 | 2006-02-28 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for describing solid shapes, and CAD/CAM system which employs the method |
| US7468725B2 (en) | 2000-09-18 | 2008-12-23 | Hitachi, Ltd. | Method and apparatus for describing solid shapes, and CAD/CAM system which employs the method |
| JP2004005631A (ja) * | 2003-05-06 | 2004-01-08 | Hitachi Ltd | 立体形状記述方法及びそれを用いたエンジニアリングシステム |
| JP2008129649A (ja) * | 2006-11-16 | 2008-06-05 | Fujitsu Ltd | 分子設計支援装置及びプログラム |
| US8271250B2 (en) | 2006-11-16 | 2012-09-18 | Fujitsu Limited | Molecule design support apparatus and computer-readable storage medium |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP3080728B2 (ja) | 2000-08-28 |
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