JPH05212221A

JPH05212221A - フィルター装置

Info

Publication number: JPH05212221A
Application number: JP4047745A
Authority: JP
Inventors: Shingo Fujikata; 進吾藤方
Original assignee: Fuji Photo Film Co Ltd
Current assignee: Fujifilm Holdings Corp
Priority date: 1992-02-05
Filing date: 1992-02-05
Publication date: 1993-08-24
Also published as: US5348660A; DE4303427A1

Abstract

(57)【要約】【目的】チキソトロピック性のある塗布液において２
次側のハウジング内におけるデッドスペースを広範囲な
条件下において常時小さくすることのできるフィルター
装置を提供する。【構成】ハウジング内に該ハウジングを塗布液濾過
前の１次側の領域と濾過後の２次側の領域とに画成する
フィルターを設け、可撓性支持体上に塗布する塗布液を
塗布直前にて濾過するフィルター装置である。そして、
２次側のハウジング内のデッドスペースの測定指標が、
前記ハウジングのインデシャル応答時間の実験値におけ
る無次元数をτ、理論上の時間の無次元数をΤとしたと
き、Τ／τ＞０．９５を満足するように構成されてい
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、フィルター装置に関
し、特に磁性塗布液の如くチキソトロピー等の性質を有
した非ニートン流体として特性を示す液体を、可撓性支
持体上に塗布する前に濾過するフィルター装置に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、電子計算機等のフアイルメモリー
として使用されている磁気ディスクや、ＶΤＲ用の磁気
テープカセットのように、フレキシブルなテープ状の支
持体やリジッドな支持体やその他種々の支持体上に磁気
塗料を塗布して製造された磁気記録媒体が多用されてい
る。従来、前記磁気塗料はボールミル、ニーダー、サン
ドグラインダー等によって混練される。このような方法
により混練された磁気塗料中には混練中に生じたボー
ル、その他の摩耗粉やさらには磁性粉、樹脂等の未分
散、再凝集による異物を含有している。従って、これら
を除去するために、混練された前記磁性塗料を適宜フィ
ルターに通過させたのちに、支持体上に塗膜を形成させ
ていた。この塗布方法には種々あるが、例えば生産性の
高い塗布方法としてリバースローラを用いた塗布装置や
エクストルージョン型の塗布装置を用いて走行する可撓
性支持体に連続塗布していた。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】従来のフィルター装置
は、図６及び図７に示すように、フィルターハウジング
３０内に筒状の複数のフィルターカートリッジ４０を並
列にセットし、これらのフィルターを通過して来た液を
ハウジングの２次側空間３１にあつめ、それを所定の配
管によって送液する構造となっていた。

【０００４】しかし、上述のような２次側空間３１の形
状にあっては、フィルターから２次側空間３１への液の
入口３２と該２次側空間３１からの排出口３３との位置
関係により、例えば図中の斜線にて示す領域Ｘにおける
塗布液の流動性が悪くなる。このために、チキソトロピ
ックな性質を有した比較的固形成分の多い塗布液にあっ
ては、この流動性の悪化した領域において、塗布液の再
凝集が発生し易いという問題があった。この現象は塗布
液の見かけ粘度が高くなればなるほど前記領域、すなわ
ち２次側空間のデッドスペース（流動性が悪くなる領
域）による塗布液の凝集が出易くなる。この凝集部分は
塗布液の流れによって、適宜剥がれるように送りだされ
る現象が発生するものと推定できる。この結果、流れ出
た凝集部分は塗布液の塗布工程（塗布ヘッドによる支持
体への塗着工程）において、実質的に異物として作用す
るために、塗布面にスジ故障等が形成される。したがっ
て、前記凝集部分を有した塗布液を使用して磁気テープ
等の磁性記録層が形成された場合は、記録再生時におい
てドロップアウトが多く発生するなど記録再生特性の低
下につながっていた。

【０００５】上記問題は、前記２次側空間３１における
デッドスペースをゼロにするハウジング形状を採用すれ
ば解決するように見えるが、実際にはデッドスペースを
ゼロにする事はむずかしい。すなわち、濾過液が２次側
空間に入る入口と、該２次側空間から出る出口との位置
関係や、液の流速および塗布液の粘度等の諸条件によっ
て上記のデッドスペースの領域は微妙に変化し、特に、
液に加えられる剪断力によってその粘度が変わるチキソ
トロピック性を有する磁性塗料の如き流体においては、
一義的な形状によってあらゆる条件下において常にデッ
ドスペースを小さくできるフィルター装置を提供するこ
とは極めてむずかしかった。したがって、従来において
フィルター装置のハウジングを作成する場合、その都度
対応した形状を経験的な部分によって作成しているのが
現状であった。

【０００６】本発明の課題は、上記のように特にチキソ
トロピック性のある塗布液においても２次側のハウジン
グ内におけるデッドスペースを広範囲な条件下において
常時小さくすることのできるフィルター装置を提供する
ことにある。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明に係る上記課題
は、ハウジング内に該ハウジングを塗布液濾過前の１次
側の領域と濾過後の２次側の領域とに画成するフィルタ
ーを設け、可撓性支持体上に塗布する塗布液を塗布直前
にて濾過するフィルター装置において、前記２次側のハ
ウジング内のデッドスペースの測定指標が、前記ハウジ
ングのインデシャル応答時間の実験値における無次元数
をτ、理論上の時間の無次元数をΤとしたとき、Τ／τ
＞０．９５を満足するように構成されたフィルター装置
によって解決される。本発明の上記の同様の課題は、上
記条件Τ／τ＞０．９５を満足するように構成されたフ
ィルター装置であって、前記塗布液の液体粘度が剪断速
度により変化する性質を有し、剪断速度２０ｃｍ^-1にお
ける粘度をη₁、剪断速度４６５００ｃｍ^-1における粘
度をη₂としたときに、η₁／η₂≧２５０となる流体
を濾過することを特徴とするフィルター装置によっても
解決することができる。

【０００８】なお、本発明で云うインデシャル応答時間
とは、フィルター装置のハウジング内に第一のＡ塗布液
をすきま無く充填しておき、このハウジングの一次側
（注入側）から他の第二のＢ塗布液（一般に色を変えて
検出し易いようにする）を注入しながら二次側（取り出
し側）から両塗布液を取り出す際に、前記ハウジング内
のＡ塗布液がＢ塗布液と完全に入れ代わるまでの時間を
云う。このインデシャル時間を言い換えると、前記Ｂ塗
布液を注入し始めにおいては、二次側から出てくる塗布
液は前記Ａ塗布液だけであるが、時間の経過と共に徐々
に前記Ｂ塗布液がＡ塗布液中に混ざりは始め、さらにＡ
Ｂ両液の割合が逆転して、最後には前記Ａ塗布液が全部
出きってしまうまでに必要な時間である。

【０００９】以下、添付図面を参照して本発明の一実施
態様を説明する。図１は本発明のフィルター装置の要部
断面図であり、図２は本発明のフィルター装置を用いた
塗布設備の概略図である。本実施態様のフィルター装置
１は、磁気テープ製造における磁性層を形成するための
塗布工程に設置したものである。この塗布設備は、例え
ば図２に示すように、磁性分散液Ｆをストックタンク１
３内にて攪拌し、この磁性分散液Ｆを送液用ポンプ１２
にてフィルター装置１に供給し、前記フィルター装置１
により異物を除去した塗布液を塗布ヘッド２０に供給す
る。

【００１０】図１に示すフィルター装置１は、略円筒形
状のハウジング２が取り付けフレーム１１に適所に固定
されている。前記ハウジング２内には複数の円筒型のフ
ィルターカートリッジ４を、例えば中心線Ｃの周りに適
宜間隔でカートリッジ立て９にて立てるように配置した
構造である。前記カートリッジ４はその下端中央の開口
部分４ａが、前記ハウジング２の底面部分に配置された
濾過液の取り出し出口１４に直接対応し、該出口１４に
は取り出し管８に繋げられており、上端部分が蓋３の下
方への圧力を受ける円筒状の押え具１０により押されて
いる。前記カートリッジ４の交換等のときは、前記蓋３
は把持部３ａ等を把持することにより開蓋可能な構造に
なっている。前記取り出し管８には、その屈曲した部分
の内部に液流れを円滑にする湾曲した角部材８ａが配置
されている。前記送液用ポンプ１２により送られた前記
磁性分散液Ｆは、前記ハウジング２の側面に設けられた
液供給部７からハウジングの一次側空間５に入る。そし
て、前記磁性分散液Ｆは前記カートリッジ４を通ること
により濾過され、この濾過された前記磁性分散液Ｆは、
二次側空間６である前記カートリッジ４の中央の通路を
通り前記取り出し管８の流れて行く。

【００１１】前記フィルター装置１は、前記２次側のハ
ウジング内のデッドスペースが形成されに難い構造とな
っている。すなわち、前記二次側空間６はそのほとんど
が前記カートリッジ４の内部の円柱型空間により構成さ
れており、前記磁性分散液Ｆは前記カートリッジ４側面
の濾過壁面を通過（図中において矢印Ｓにて示す）して
前記出口１４に向かって流れていくときに、該濾過壁面
を通過する液量にはその偏りがなく均一化されているだ
けでなく、二次側流路も円柱型空間であって流体送液系
としては理想に近い形状であり、前記出口１４の部分に
て僅かにしぼりこまれる程度であって、前記二次側内の
液流れに関しては送液時の液挙動の安定化ができるもの
と推定される。

【００１２】このように、前記磁性分散液Ｆの塗布時の
品質に深く影響するのは、当然濾過されてからの塗布液
の品質変化に起因することが大きい。この濾過済の前記
塗布液の品質変化、すなわち、濾過された前記塗布液の
凝集やゲル化等による品質変化は、濾過されてからの経
過時間と濾過された前記塗布液が受ける剪断速度の関数
とみなして、該塗布液のレオロジー特性に時間依存性を
大きな要素として導入した。したがって、濾過された前
記磁性分散液Ｆは前記二次側空間６内に滞留することな
く速やかに塗布に供することができる。この結果、前記
二次側空間６内において液凝集が再発する時間的な要素
を排除することができるものと推定できる。前記液凝集
の発生の目安、すなわち、前記２次側のハウジング内の
デッドスペースの測定指標は、前記ハウジング２のイン
デシャル応答時間の実験値における無次元数をτ、理論
上の時間の無次元数をΤとしたとき、これらの無次元数
の比較値（Τ／τ）を、前記液凝集が再発する時間的な
パラメータとして捕らえることができ、前記Τ／τを前
記二次側空間６の構造に置き換えることができる。そし
て、前記比較値Τ／τを０．９５より大きくできる構成
にすれば、前記二次側空間６における磁性分散液Ｆの凝
集を極めて少なくできることが判った。

【００１３】なお、本発明で云うインデシャル応答時間
（ステップ応答時間）とは、前述のように前記ハウジン
グ２内に第一のＡ塗布液をすきま無く充填しておき、他
の第二のＢ塗布液を注入しながら二次側（取り出し側）
から両塗布液を取り出す際に、前記ハウジング２内のＡ
塗布液がＢ塗布液と完全に入れ代わるまでの時間であ
る。そして、これを実験により求めると、インデシャル
応答による系の伝達関数Ｇ（Ｓ）から求めた塗布液の平
均滞留時間を（θ）とする。なお、前記伝達関数とは、
フィルターの１次、２次を含むハウジングの系にインプ
ットとしてインパルス関数（突然Ａ液→Ｂ液に換える）
ときインプットにｘ（ｔ）、アウトプット（フィルター
の出口からの液）ｙ（ｔ）とするとｘ（ｔ）→Ｇ（Ｓ）
→ｙ（ｔ）にて表わす。上記の関係をｔに関してラプラ
ス変換すると上記の関係はＧ（Ｓ）＝Ｙ（Ｓ）／Ｘ（Ｓ）となり、Ｇ（Ｓ）をこの系の伝達関数とよぶ。これを具
体的に示すと、例えば図８に示すようにインプット側の
変化とアウトプット側の変化を見ることができ、上記の
関係でＡ液とＢ液の組成もしくは特性の差を極端にと
り、その差を縦軸にとることで測定できる。一方、系の
実容積、すなわちハウジングの容積（Ｖ）と測定流量
（ｖ）から下記により求めた理論上の平均滞留時間を
（Θ）とする。Ｖ／ｖ＝Θ ここで、ハウジングのインデシャル応答時間を（ｔ）と
すると、実験値の無次元時間（τ）＝ｔ／θ 理論上の無次元時間（Τ）＝ｔ／Θ としたときに、Τ／τの値でデッドスペースの推定がで
きる。

【００１４】このように、前記二次側空間６のデッドス
ペースの測定指標として、インデシャル応答時間の実験
値における無次元数をτと、理論上の時間の無次元数を
Τとを比較することで、チキソトロピー性を有する塗布
液のフィルター装置の構造を決定する極めて簡易な基準
化をはかり、その比較値Τ／τが０．９５よりも大きく
なる構成とすることにより、上記のように特にチキソト
ロピック性等のある塗布液においても２次側のハウジン
グ内におけるデッドスペースを広範囲な条件下において
常時小さくすることができ、濾過後の塗布液の品質低下
を阻止することがきる。また、本実施態様においては、
前記塗布液Ｆの液体粘度が剪断速度により変化するチキ
ソトロピック性を有している場合においては、本発明者
らが鋭意研究した結果、従来のフィルター装置において
は、低剪断速度下の粘度と高剪断速度下の粘度の差が大
きい所謂チキソトロピック性を顕著にあらわす塗布液Ｆ
になればなるほど前記比較値Τ／τの値は急激に小さく
なる傾向にあること、又、下記式

【００１５】により、見かけ粘度変化率ともいえる値を示すことがで
き、且つこの見かけ粘度変化率の値が前記Τ／τ値に依
存したいることを見いだした。このように上記着眼のも
とに、剪断速度２０ｃｍ^-1における粘度をη₁、剪断速
度４６５００ｃｍ^-1における粘度をη₂としたときに、
η₁／η₂≧２５０となる流体を濾過するときに、Τ／
τ＞０．９５を満足するように構成された本実施態様の
フィルター装置によれば、濾過済の塗布液に再凝集の発
生が極めてすくないことが判明した。なお、低剪断速度
条件下における前記粘度η₁と高剪断速度条件下におけ
る前記粘度η₂との前記比（η₁／η₂）の値が大きく
なるほどチキソトロピック性を顕著に呈する液体である
と言える。また、前記剪断速度４６５００ｃｍ^-1の値
は、エクストルージョン型の塗布ヘッドにおけるヘッド
先端部分の剪断速度に相当する。また、各剪断速度にお
ける粘度測定はＢ型粘度計及びロトビスコ粘度計により
測定することができる。前記実施態様においては、前記
塗布液を磁性分散液とした場合についてのべたが、本発
明はこれに限定されるものではなく、その他に各種塗料
や写真感光材料用の塗布液等の非ニュートン流体を濾過
するのに広く適用できるものである。

【００１６】

【発明の効果】以上述べたように、本発明はフィルター
装置において、前記２次側のハウジング内のデッドスペ
ースの測定指標が、前記ハウジングのインデシャル応答
時間の実験値における無次元数をτ、理論上の時間の無
次元数をΤとしたとき、Τ／τ＞０．９５を満足するよ
うに構成されている。したがって、濾過された前記磁性
分散液Ｆはその流れが層流状態に近い状態に維持させ、
流れの乱れ、ひいては前記二次側空間６内の液滞留を防
止でき、濾過済の液を速やかに塗布に供することができ
る。この結果、前記二次側空間６内において液凝集が再
発する時間的な要素を排除することができ、このフィル
ター装置により濾過された塗布液を塗布すると、塗布面
に塗布すじ、塗布ぶつがなく、該塗布液が磁性分散液の
場合、このドロプアウトの少ない磁気記録媒体を提供す
ることができる。その他の塗料等においては、塗布面の
面性のよい塗布液を提供することができる。

【００１７】

【実施例】以下、本発明の実施例により本発明の効果を
より明確にすることができる。（実施例−１）本実施例は、図２に示す設備により磁気
テープを作成した。塗布ヘッドはエクストルージョン型
でバックアップロールのない方法により塗布した。な
お、塗布液を塗布する工程において、下記組成の塗布液
を図１に示す本発明のフィルター装置１により塗布し
た。また、比較例(1) としてＰｏｌｌ社製のＳＴＤシリ
ーズの５ＨＥ型のフィルターハウジング、比較例(2) と
して日本濾器社製のブランズウィック型フィルターハウ
ジングを用いて濾過した。＜液組成＞合金鉄粉末１００部塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニルアルコール共重合体１２５部ポリエステルポリウレタン７．５部オレイン酸２部ブチルステアレート１部アルミナ２部カーボンブラック（粒子１０μ）２部メチルエチルケトン２００部シクロヘキサノン１００部

【００１８】上記混合物をサンドグラインダーにて十分
分散した後に、トリイソシアネート化合物を６．５部加
え混合した。このようにして得られた磁性塗液を、図２
に示すストックタンク１３に貯えて適宜攪拌しながら、
送液ポンプ１２により送液してフィルター装置１により
濾過し、エクストルージョン型の塗布ヘッド２０にて、
塗布速度は１００ｍ／分、厚さ１５μ、表面粗さ０．１
μのポリエステルフイルムに塗布幅３００ｍｍで乾膜の
厚さ５μになるように塗工し、配向した後、乾燥した磁
気テープサンプルを作成した。なお、前記フィルター装
置１に使用したフィルターカートリッジは、カネボウ製
の平均孔径１μｍのフイルターである。

【００１９】上記のような条件下において、各フィルタ
ー装置を用いてサンプルを多数作成した。そして、各サ
ンプルについて塗布スジの本数（塗布長さ１５０ｍ当た
りの目視による確認本数）、ドロップアウトの数（２０
μｓｅｃ，１６ｄＢ以上の出力低下）を測定し、これら
のサンプルを作成したときのフィルターハウジングのΤ
／τ値をそれぞれ算出した。この結果を表１に示し、塗
布スジとΤ/ τ値との関係を図３に示し、ドロップアウ
ト（Ｄ．Ｏ．）個数とΤ/ τ値との関係を図４に示す。
なお、サンプルNo. は図1 に示すフィルター装置おけ
る取り出し管８の角部材８ａを設けたときのもの、サン
プルNo. は前記角部材８ａを外したときのものであ
る。また、各サンプル(No.1 〜No.5) の数値は、それぞ
れ同じフィルターハウジングを使用して各５回の塗布を
繰り返したときの平均値である。

【００２０】

【表１】

【００２１】表１、図２および図３から明らかなよう
に、Τ／τ値が0.95以上の場合には、塗布面の表面性の
向上およびドロップアウトの抑制を極めて効果的に達成
することができた。

【００２２】（実施例−２）本実施例は、前記実施例−
１において用いた本発明によるフィルターハウジング、
比較例(1) としてＰｏｌｌ社製のＳＴＤシリーズの５Ｈ
Ｅ型のフィルターハウジング、比較例(2) として日本濾
器社製のブランズウィック型フィルターハウジング、の
各ハウジングのΤ／τ値が前記η₁/ η₂の変化にてど
のように変わるか調べた。これは、塗布液は下記のメタ
ルテープ用のＡ塗布液、業務用磁気テープ用のＢ塗布
液、1/2 インチ磁気テープ用のＣ塗布液を使用した。

【００２３】＜Ａ液組成＞……メタルテープ合金強磁性粉末１００部ＭＲ１１０１０部（−ＳＯ₃Ｎａ含有塩化ビニル樹脂）ＵＲ８３００１０部（−ＳＯ₃Ｎａ含有ポリウレタン樹脂）ポリイソシアネート５部（コロネートＬ）ミリスチン酸１部ブチルステアレート２部メチルエチルケトン１５０部酢酸ブチル１５０部

【００２４】＜Ｂ液組成＞……業務用磁気テープＣｏ含有α−Ｆｅ₂Ｏ₃粉末３００部塩化ビニル樹脂３８部（ＳＯ₃Ｈエポキシ基含有ＭＲ１１０）ポリウレタン樹脂１８部（クリスボン７２０９）カーボンブラック１２部（バルカンＸＣ７２、平均粒子サイズ３０ｍμ）研摩剤：α−Ａｌ₂Ｏ₃ １８部（ＨＩＴ１００）研摩剤：Ｃｒ₂Ｏ₃ ３部（平均粒子サイズ０．１μｍ）オレイン酸３部シクロヘキサノン１５０部酢酸ブチル８５０部ミリスチン酸ｔｅｒｔブチル３部ポリイソシアネート２１部（コロネート３０４０）ステアリン酸３部酢酸ブチル１００部

【００２５】＜Ｃ液組成＞……１／２インチ磁気テープ用合金鉄粉末１００部塩化ビニル酢酸ビニル、ビニルアルコール共重合体１２．５部ポリエステルポリウレタン７．５部オレイン酸２部ブチルステアレート１部アルミナ２部カーボンブラック２部（平均粒子１０μｍ）メチルエチルケトン２００部シクロヘキサノン１００部トリイソシアネート化合物６．５部

【００２６】そして、前記η₁/ η₂の値はＡ塗布液が
２００、Ｂ塗布液が２５０、Ｃ塗布液が３００であり、
これらの塗布液の各値におけるΤ／τ値を求めた。な
お、η₁は剪断速度２０ｃｍ^-1における粘度を、η₂は
剪断速度４６５００ｃｍ^-1における粘度を示し、また、
各剪断速度における粘度測定はＢ型粘度計及びロトビス
コ粘度計により測定した。この結果を表２に示す。

【００２７】

【表２】

【００２８】表２から判るように、従来のフィルターハ
ウジングにおいては、低剪断速度下の粘度と高剪断速度
下の粘度の差が大きい所謂チキソトロピック性を顕著に
あらわす液になればなるほど前記比較値Τ／τの値は急
激に小さくなる傾向にあり、前記η₁／η₂が２５０以
上ではΤ／τ値が0.95以下になってしまうことが判明し
た。これに比べて、本発明によるフィルターハウジング
は、η₁／η₂≧２５０においてもΤ／τ値が0.95以上
に確保でき、濾過済の塗布液に再凝集の発生が極めてす
くないことが判る。

【００２９】（実施例−３）本実施例は、下記組成の塗
料( 研摩テープの研摩層) の塗布を行った。塗布設備は
図２に示す設備を用いた。塗布条件には実施例−１と同
様とした。そして、塗布液を塗布する工程において、本
発明のフィルター装置１を用いた場合、比較例(1) とし
てＰｏｌｌ社製のＳＴＤシリーズの５ＨＥ型のフィルタ
ーハウジングを用いた場合、比較例(2) として日本濾器
社製のブランズウィック型フィルターハウジングを用い
た場合について行った。＜研摩塗液組成＞ α−Ｆｅ₂Ｏ₃研摩材２２５部（粒状、平均粒子直径０．１１μｍ、モース硬度5.0 ）Ｃｒ₂Ｏ₃研摩材７５部（粒子、平均粒子直径０．３μｍ、モース硬度8.5 ）塩化ビニル系樹脂８．３部（塩化ビニル８７％、エポキシ基３．５％、スルホン酸ソーダ基０．５％含有）スルホン酸含有ポリウレタン樹脂４．８部（分子量25000 、ＳＯ₃Ｈ１つあたりの分子量25000）ポリイソシアネート８．６部Ｃ₁₆Ｈ₃₃Ｏ（ＣＨ₂ＣＨ₂Ｏ）₁₀Ｈ２．９部（日本エマルジョン（株）エマレックス１１０）メチルエチルケトン１１０部シクロヘキサノン１００部

【００３０】このようにして得られた磁性塗液を、図２
に示すストックタンク１３に貯えて適宜攪拌しながら、
送液ポンプ１２により送液してフィルター装置１により
濾過し、エクストルージョン型の塗布ヘッドにて、塗布
速度は１００ｍ／分、厚さ１５μ、表面粗さ０．１μの
ポリエステルフィルムに塗布幅３００ｍｍで乾膜の厚さ
５μになるように塗工してサンプルを作成した。なお、
前記フィルター装置１に使用したフィルターカートリッ
ジは、カネボウ製の平均孔径１μｍフィルターである。

【００３１】上記のような条件下において、各フィルタ
ー装置を用いてサンプルを多数作成した。そして、各サ
ンプルについて塗布スジの本数（塗布長さ１５０ｍ当た
りの目視による確認本数）を測定し、これらのサンプル
を作成したときのフィルターハウジングのΤ／τ値をそ
れぞれ算出した。そして、塗布スジとΤ/ τ値との関係
を図５に示す。なお、各サンプル(No.1 〜No.5) の数値
は、それぞれ同じフィルターハウジングを使用して各５
回の塗布を繰り返したときの平均値とした。

【００３２】図５から明らかなように、Τ／τ値が0.95
以上の場合には、塗布面の表面性の向上を極めて効果的
に達成することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明のフィルター装置一実施態様である。

【図２】図１に示すフィルター装置を配置した塗布設備
の概略図である。

【図３】デッドスペースの測定指標と塗布スジの関係を
示すグラフである。

【図４】デッドスペースの測定指標とドロップアウトの
関係を示すグラフである。

【図５】デッドスペースの測定指標と塗布スジの関係を
示すグラフである。

【図６】従来のフィルター装置の部分断面図である。

【図７】従来のフィルター装置の部分断面図である。

【図８】伝達関数を説明するための液のインプット側と
アウトプット側の変化状態を示す概略図である。

【符号の説明】

１フィルター装置２ハウジング３蓋４フィルターカートリッジ４ａ開口部分５一次側空間６二次側空間７液注入部８取り出し管８ａ角部材９カートリッジ立て１０押え具１１フレーム１２送液ポンプ１３ストックタンク１４出口

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【手続補正書】

【提出日】平成４年３月１１日

【手続補正１】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２０

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２０】

【表１】

【手続補正２】

【補正対象書類名】明細書

【補正対象項目名】００２７

【補正方法】変更

【補正内容】

【００２７】

【表２】

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ハウジング内に該ハウジングを塗布液濾
過前の１次側の領域と濾過後の２次側の領域とに画成す
るフィルターを設け、可撓性支持体上に塗布する塗布液
を塗布直前にて濾過するフィルター装置において、前記
２次側のハウジング内のデッドスペースの測定指標が、
前記ハウジングのインデシャル応答時間の実験値におけ
る無次元数をτ、理論上の時間の無次元数をΤとしたと
き、Τ／τ＞０．９５を満足するように構成されたフィ
ルター装置。
【請求項２】前記塗布液の液体粘度が剪断速度により
変化する性質を有し、剪断速度２０ｃｍ^-1における粘度
をη₁、剪断速度４６５００ｃｍ^-1における粘度をη₂
としたときに、η₁／η₂≧２５０となる流体を濾過す
ることを特徴とする請求項１に記載のフィルター装置。