JPH05201863A - リン含有HMG−CoAリダクターゼ抑制剤 - Google Patents

リン含有HMG−CoAリダクターゼ抑制剤

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JPH05201863A
JPH05201863A JP4182198A JP18219892A JPH05201863A JP H05201863 A JPH05201863 A JP H05201863A JP 4182198 A JP4182198 A JP 4182198A JP 18219892 A JP18219892 A JP 18219892A JP H05201863 A JPH05201863 A JP H05201863A
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pyrimidinyl
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phenyl
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Jeffrey A Robl
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Bristol Myers Squibb Co
ER Squibb and Sons LLC
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Bristol Myers Squibb Co
ER Squibb and Sons LLC
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【目的】 3−ヒドロキシ−3−メチルグルタリル補酵
素Aリダクターゼ(HMG−CoAリダクターゼ)抑制活
性を有する、ピリミジニル含有基に結合するリン含有基
を有する化合物を提供する。 【構成】 一般式A−X−Zで示される化合物、特に一
般式(I)で表される化合物およびその塩、ならびに上
記化合物を有効成分とする抗高コレステロール血症剤、
抗高脂血症剤、抗アテローム性動脈硬化症剤および抗高
リポタンパク血症剤。 [式中Xは−(CH−(但しa=1〜3)、−C
H=CH−等;Zはアルキル、アリール、シクロアルキ
ル、アルコキシ等で置換されていてもよい5−ピリミジ
ニル;RはH、低級アルキル;R,RはH、アルキ
ル、アリール、−CH(R)−O−CO−R;R
はH、アルキル、アリール、Rはアルキル、アリール
を表わしこれらの具体例は別図の構造式で示される。]

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、3−ヒドロキシ−3−
メチルグルタリル補酵素A(HMG−CoA)リダクター
ゼの活性を抑制し、この作用によりコレステロール生合
成の抑制に有用な新規リン含有化合物、さらに詳しく
は、該新規化合物を含有する高コレステロール血症、ア
テローム性動脈硬化症、高リポタンパク血症および高脂
血症の予防および治療用組成物、該新規化合物の製造過
程における新規中間体、該新規化合物の使用法に関す
る。
【0002】
【従来の技術】英国特許第2205838号には、一般
式:
【化13】 [式中、RはOHまたは低級アルコキシ;RxはHまたは
低級アルキル;Xは−CH2−、−CH2CH2−、−C
2CH2CH2−、−CH=CH−、−C≡C−または
−CH2O−(ここではOがZに結合);およびZは疎水
性核である]で表される化合物が開示されている。英国
特許第2205837号には、一般式:
【化14】 [式中、RはOH、低級アルコキシまたは低級アルキ
ル;RxはHまたはアルキル;Xは−O−または−NH
−;nは1または2;およびZは疎水性核である]で表
される化合物が開示されている。米国特許第49258
52号には、一般式:
【化15】 [式中、A−Bは、−CH=CH−または−CH2−CH
2−で表される基;Zは−CHで表される基または窒素
原子;およびR1、R2、R3およびR4は列挙された置換
基から選ばれる基である]で表される化合物が開示され
ている。
【0003】
【発明の構成と効果】本発明はピリミジニル含有基に結
合するリン含有基を有する化合物を提供する。本発明化
合物は、3−ヒドロキシ−3−メチルグルタリル補酵素
Aリダクターゼ(HMG−CoAリダクターゼ)抑制剤で
あり、この作用に基づくコレステロール生合成の抑制剤
(抗高コレステロール血症剤)である。従って、本発明は
血漿中のコレステロールレベルを低下あるいは維持する
方法を提供する。本発明はアテローム性動脈硬化症、高
リポタンパク血症および高脂血症を治療および/または
予防する方法をも提供する。さらにまた、本発明は本発
明化合物を含有する医薬組成物および該化合物の製造過
程における新規中間体も提供する。
【0004】本発明化合物は一般式:
【化16】 [式中、Aは
【化17】 で示される、HMG−CoAリダクターゼのHMG結合
部位に結合することができるホスフィニル基含有結合側
鎖であり、該ホスフィニル基を介して架橋鎖Xと結合す
る;ZはHMG−CoAとは結合しないHMG−CoA
リダクターゼの疎水性部位に結合することができる5−
ピリミジニル、または5−ピリミジニル基含有核であ
り、該5−ピリミジニル基を介して架橋鎖Xと結合す
る;およびXはAとZの架橋鎖である]で表される。本
発明は上記一般式で表される化合物およびその塩類、好
ましくは医薬的に許容し得る塩類を提供する。
【0005】Aに関して、HMG−CoAリダクターゼ
のHMG結合部位への結合能力は、例えば上記一般式で
表される化合物のHMG−CoAリダクターゼの活性抑
制作用によって示すことができる。Zに関して、HMG
−CoAとは結合しないHMG−CoAリダクターゼの
疎水性部分への結合能力は、例えばHMG−CoAリダ
クターゼの活性抑制において、Zが水素である対応化合
物が示す抑制活性と比較するときの上記一般式で表され
る化合物の力価の増加によって示すことができる。
【0006】本発明は、また下記一般式(I):
【化18】 [式中、Xは−(CH2)a−(aは1,2または3)、−C
H=CH−、−C≡C−または−CH2O−(ここでは−
CH2−がZに結合するのが好ましい);Rは水素または
低級アルキル;Zは一般式:
【化19】 (式中、R1、R2およびR3は独立して、(i)水素、(ii)
アルキル、(iii)アリール、(iv)アラルキル、(v)アラル
コキシ、(vi)ヘテロシクロ、(vii)シクロアルキル、(vi
ii)アルコキシ、(ix)アルケニル、(x)シクロアルケニ
ル、または(xi)ハロゲン);およびR4およびR5は独立
して、(i)水素、(ii)アルキル、(iii)アリール、(iv)一
般式:
【化20】 (式中、R6は水素、アルキルまたはアリール、およびR
7はアルキルまたはアリール)で表される基、または(v)i
〜iiiに含まれない基であって、その結合する原子とと
もに、生体内で加水分解するエステル基を形成する基で
ある]で表される化合物(これが好ましい)および好ま
しくはその医薬的に許容しうる塩類を提供する。
【0007】従って、一般式(I)に包含される好ましい
本発明化合物は下記一般式(IA)〜(IH)で表される。
【化21】
【化22】
【0008】本明細書で用いる各種語句の定義は、以下
の通りである。「アルキル」とは単独または他の基の一部
のいずれであっても、ノルマル鎖の炭素数1〜12、好
ましくは1〜7の直鎖および分枝鎖基が包含され、たと
えばメチル、エチル、プロピル、イソプロピル、ブチ
ル、t−ブチル、イソブチル、ペンチル、ヘキシル、イ
ソヘキシル、ヘプチル、4,4−ジメチルペンチル、オ
クチル、2,2,4−トリメチルペンチル、ノニル、デシ
ル、ウンデシル、ドデシル等、これらの各種分枝鎖異性
体、およびその他同種のもの、並びにこれらの基であっ
て、F,Br,ClまたはIあるいはCF3などのハロ
置換基、アルコキシ置換基、アリール置換基、アルキル
−アリール置換基、ハロアリール置換基、シクロアルキ
ル置換基、アルキル−シクロアルキル置換基、ヒドロキ
シ置換基、アルキルアミノ置換基、アルカノイルアミノ
置換基、アリールカルボニルアミノ置換基、ニトロ置換
基、シアノ置換基、チオール置換基またはアルキルチオ
置換基を有するものが挙げられる。「低級アルキル」と
は、単独または他の基の一部のいずれであっても、ノル
マル鎖の炭素数1〜6の上記アルキルが包含される。
【0009】「アルケニル」とは、単独または他の基の
一部のいずれであっても、上記アルキルで挙げた基にさ
らに少なくとも1つの炭素間の二重結合が含まれるもの
を意味する。
【0010】「シクロアルキル」とは、単独もしくは他の
基の一部分のいずれであっても、炭素数3〜12(好ま
しくは炭素数3〜8)を含む飽和環式炭化水素基を包含
し、これらはたとえばシクロプロピル、シクロブチル、
シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シ
クロオクチル、シクロデシル、シクロドデシルおよびア
ダマンチル、およびこれらのいずれかであって、たとえ
ば1〜2個のハロゲン、1〜2個の低級アルキル基、1
〜2個の低級アルコキシ基、1〜2個のヒドロキシ基、
1〜2個のアルキルアミノ基、1〜2個のアルカノイル
アミノ基、1〜2個のアリールカルボニルアミノ基、1
〜2個のアミノ基、1〜2個のニトロ基、1〜2個のシ
アノ基、1〜2個のチオール基および/または1〜2個
のアルキルチオ基のような置換基を有するものも包含す
る。
【0011】「シクロアルケニル」とは、単独または他
の基の一部のいずれであっても、上記アルキルで挙げた
基にさらに少なくとも1つの炭素間の二重結合が環中に
含まれるものを意味する。
【0012】「アリール」とは、環部分に炭素数6〜10
を含む単環式または二環式芳香族基、たとえばフェニ
ル、ナフチル、置換フェニルまたは置換ナフチル(この
フェニル基上またはナフチル基上のいずれかの置換基
は、1、2または3個の低級アルキル基、ハロゲン(C
l、BrまたはF)、1、2または3個の低級アルコキシ
基、1、2または3個のヒドロキシ基、1、2または3
個のフェニル基、1、2または3個のアルカノイルオキ
シ基、1、2または3個のベンゾイルオキシ基、1、2
または3個のハロアルキル基、1、2または3個のハロ
フェニル基、1、2または3個のアリル基、1、2また
は3個のシクロアルキルアルキル基、1、2または3個
のアルキルアミノ基、1、2または3個のアルカノイル
アミノ基、1、2または3個のアリールカルボニルアミ
ノ基、1、2または3個のアミノ基、1、2または3個
のニトロ基、1、2または3個のシアノ基および/また
は1、2または3個のチオール基)、好ましくは3個の
置換基を含むアリール基を意味する。
【0013】「アラルキル」、「アリール−アルキル」また
は「アリール(低級)アルキル」とは、単独もしくは他の基
中の一部分のいずれであっても、ベンジルなどのアリー
ル置換基を含む前記のアルキルまたは低級アルキルを意
味する。
【0014】「低級アルコキシ」、「アルコキシ」または
「アリールオキシ」もしくは「アラルコキシ」とは、単独も
しくは他の基中の一部分のいずれであっても、酸素原子
に結合する前記低級アルキル、アルキル、アリールまた
はアラルキル基のいずれをも包含する。
【0015】「低級アルキルチオ」、「アルキルチオ」、
「アリールチオ」または「アラルキルチオ」とは、単独もし
くは他の基中の一部分のいずれであっても、硫黄原子に
結合する前記低級アルキル、アルキル、アリールまたは
アラルキル基のいずれをも包含する。
【0016】「低級アルキルアミノ」、「アルキルアミ
ノ」、「アリールアミノ」または「アリールアルキルアミ
ノ」とは、単独もしくは他の基中の一部分のいずれであ
っても、窒素原子に結合する前記低級アルキル、アルキ
ル、アリールまたはアリールアルキル基のいずれをも包
含する。
【0017】「アルカノイル」とは、単独もしくは他の基
中の一部分のいずれであっても、カルボニル基に結合し
た前記のようなアルキル基を意味する。「ハロゲン」また
は「ハロ」とは塩素、臭素、フッ素、ヨウ素またはCF
3(塩素またはフッ素が好ましい)を意味する。
【0018】「ヘテロシクロ」とは、それぞれが5〜6
員の、飽和または不飽和、単環またはジ環式、芳香環ま
たは脂環式炭化水素基で、少なくともひとつの環原子が
ヘテロ原子である基を意味する。ヘテロシクロ基は、環
原子中に1または2個の酸素原子、1または2個の硫黄
原子、および/または1〜4個の窒素原子を有する。ヘ
テロシクロ基は、ハロゲン(Cl、Br、FまたはC
3)、1、2または3個の低級アルコキシ基、1、2ま
たは3個のアラルキル基、1、2または3個のヒドロキ
シ基、1、2または3個のフェニル基、1、2または3
個のアルカノイルオキシ基、1、2または3個のベンゾ
イルオキシ基、1、2または3個のハロフェニル基、
1、2または3個のアルキル基、1、2または3個のア
ルキルアミノ基、1、2または3個のアルカノイルアミ
ノ基、1、2または3個のアリールカルボニルアミノ
基、1、2または3個のアミノ基、1、2または3個の
ニトロ基、1、2または3個のシアノ基、および1、2
または3個のチオール基で置換されていてもよい。典型
的なヘテロシクロ基としては、2−および3−チエニ
ル、2−および3−フリル、2−および3−ピロリル、
2−、3−および4−ピリジル、2−、4−および5−
イミダゾリル、2−および3−ピロリジニル、2−、3
−および4−ピペリジニル、2−、3−および4−アゼ
ピニル、4−、5−、6−または7−インドリル、4
−、5−、6−または7−イソインドリル、5−、6
−、7−または8−キノリニル、5−、6−、7−また
は8−イソキノリニル、4−、5−、6−または7−ベ
ンゾチアゾリル、4−、5−、6−または7−ベンズオ
キサゾリル、4−、5−、6−または7−ベンズイミダ
ゾリル、4−、5−、6−または7−ベンズオキサジア
ゾリル、および4−、5−、6−または7−ベンゾフラ
ザニルなどが挙げられる。
【0019】「塩類」とは、無機および有機塩基と結合し
て形成される塩基性塩類を意味する。典型的な塩基性塩
類としては、アンモニウム塩、リチウム、ナトリウムお
よびカリウム塩(これらが好ましい)などのアルカリ金属
塩、カルシウム塩およびマグネシウム塩などのアルカリ
土類金属塩、有機性塩基との塩、例えば、ジシクロヘキ
シルアミン塩、ベンザチン、N−メチル−D−グルカミ
ン、ヒドラバミン塩などのアミン塩、アルギニンおよび
リシンなどのアミノ酸との塩およびこれらの塩の等価物
が挙げられる。非毒性の医薬的に許容しうる塩が好まし
いが、他の塩もまた製造過程の中の単離段階または精製
段階などにおいて有用である。
【0020】本発明化合物(I)において、好ましい架橋
鎖Xは−CH2−CH2−、−CH=CH−(シスおよび
トランス)、−C≡C−および−CH2O−(ここでは−
CH2−がZに結合)である。Rは水素が好ましい。R4
およびR5はこれらの基の少なくとも一つがその結合す
る原子とともに化合物(I)において遊離酸または塩(ア
ルカリ金属塩が好ましい)を形成するかまたは化合物
(I)が生体内で加水分解するエステルプロドラッグを形
成するように選ばれるのが好ましい。R4またはR5が、
一般式:
【化23】 で表される基であるとき、R6は水素または低級アルキ
ル、R7は低級アルキルが好ましい。ZにおけるR1がア
リール、特にハロゲン原子でモノ置換されたフェニルが
好ましく、R2はアルキル、特にイソプロピルなどの低
級アルキルが好ましい。
【0021】本発明化合物の特に好ましい具体例を下記
に列挙する。 (S)−4−[[[4−(4−フルオロフェニル)−6−(1−
メチルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニル]エチ
ニル]メトキシホスフィニル]−3−ヒドロキシブタン酸
メチルエステル; (S)−4−[[[4−(4−フルオロフェニル)−6−(1−
メチルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニル]エチ
ニル]ヒドロキシホスフィニル]−3−ヒドロキシブタン
酸ジナトリウム塩; (S)−4−[[2−[4−(4−フルオロフェニル)−6−
(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニ
ル]エテニル]メトキシホスフィニル]−3−ヒドロキシ
ブタン酸メチルエステル; (S)−4−[[2−[4−(4−フルオロフェニル)−6−
(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニ
ル]エテニル]ヒドロキシホスフィニル]−3−ヒドロキ
シブタン酸ジナトリウム塩; (S)−4−[[2−[4−(4−フルオロフェニル)−6−
(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニ
ル]エチル]メトキシホスフィニル]−3−ヒドロキシブ
タン酸メチルエステル;および (S)−4−[[2−[4−(4−フルオロフェニル)−6−
(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニ
ル]エチル]ヒドロキシホスフィニル]−3−ヒドロキシ
ブタン酸ジナトリウム塩。
【0022】本発明化合物のすべての立体異性体、それ
らの混合物あるいは実質的に純粋な形状のいずれもが効
果を期待しうるものである。ホスフィニル側鎖の不斉中
心:
【化24】 がS配位である化合物(I)の単離体もしくはその塩が好
ましい。本発明化合物は、例えば遊離酸または水素化形
状であってよく、下記の反応工程に代表される方法で得
ることができる。
【0023】
【化25】
【化26】
【0024】上記反応工程Aに従って、Xが−C≡C−
である化合物(I)を製造することができる。ここでは、
4’およびR5’はアリールまたはアルキル基、好まし
くはアルキル基である。保護基「プロ」はその次の段階で
分子の残りの部分を破壊することなく開裂しうる基であ
り、−Si(t−ブチル)(ジフェニル)が好ましい。上記
工程ではまず、ヨウ化物(A)をホスファイト(III)と
ともに標準のアルブゾブ条件および手順にて加熱するこ
とによりアルブゾブ反応に付し、ホスホネート(IV)を
得る。次いでホスホネート(IV)の塩化メチレンなどの
不活性有機溶媒中、アルゴンなどの不活性雰囲気下、ビ
ス(トリメチルシリル)トリフルオロアセタミド(BST
FA)およびトリメチルシリルブロミドで連続的に処理
して、リン−エステル開裂を行いホスホン酸(V)を得
る。
【0025】無水ピリジン中、ホスホン酸(V)をメタノ
ールなどの低級アルキルアルコールおよびジシクロヘキ
シルカルボジイミド(DCC)で処理してエステル化し、
得られる反応混合物をアルゴンなどの不活性雰囲気下で
撹拌してホスホン酸モノエステル(VI)を得る。次い
で、ホスホン酸モノエステル(VI)を塩化メチレン、ベ
ンゼンまたはテトラヒドロフラン(THF)などの不活性
有機溶媒に溶解し、トリメチルシリルジエチルアミン
(TMSNEt2)で処理し、アルゴンなどの不活性雰囲
気下で撹拌する。該混合物を蒸発し、次いで塩化メチレ
ンまたは他の適当な不活性有機溶媒に溶解する。得られ
る溶液を約−10℃〜0℃の温度範囲まで冷却し、塩化
オキサリルおよび触媒としてジメチルホルムアミドで処
理し、次いで蒸発して粗ホスホノクロリデート(VII)
を得る。−Clの代わりに−Fを用いる酸−フッ化物生
成反応により、(VII)の構造をもつ新規フルオリデー
ト化合物もまた製造することができ、下記の工程でホス
ホノクロリデート(VII)を用いるところにすべて用い
ることができる。
【0026】ホスホノクロリデート(VII)を塩化メチ
レン、ベンゼン、ピリジンまたはTHFなどの不活性有
機溶媒に溶解し、溶液を約−90℃〜0℃、好ましくは
約−85℃〜−30℃の温度範囲まで冷却し、THFま
たは他の不活性溶媒中のn−ブチルリチウムなどのリチ
ウム源でアセチレン(X)を処理して得られるアセチレン
のリチウムアニオンの冷却溶液(ホスホノクロリデート
(VII)と同じ温度範囲)で処理する。ホスフィン酸ア
セチレン(XI)を得るためのVII:Xのモル比は約
3:1〜1:1、特に1.5:1〜2:1が好ましい。
【0027】次いで、ホスフィネート(XI)の保護基
「プロ」を開裂してホスフィン酸アセチレン(IA1)を得
る。例えば、−O−(プロ)がシリルエーテルであると
き、テトラヒドロフランなどの不活性有機溶媒中、(X
I)を氷酢酸およびテトラブチルアンモニウムで処理し
て開裂し、エステル(IA1)を得る。
【0028】出発物質であるヨウ化物(A)を下記ブロミ
ド(C):
【化27】 から出発して製造してもよい。ブロミド(C)はActa. Ch
em.Scand.,B.1983,37,341〜344頁の記
載に準じて製造することができる。ブロミド(C)をイミ
ダゾールおよび4−ジメチルアミノピリジンとともにジ
メチルホルムアミド(DMF)に溶解し、得られる溶液を
アルゴンなどの不活性雰囲気下、t−ブチルジフェニル
シリルクロリドなどの保護基「プロ」で処理して保護エー
テル(D):
【化28】 を得る。メチルエチルケトンまたはDMFなどの不活性
有機溶媒中の保護エーテル(D)の溶液をアルゴンなどの
不活性雰囲気下、ヨウ化ナトリウムで処理してヨウ化物
(A)を得る。
【0029】本明細書中に引用した米国特許第4925
852号に記載の方法に準じて出発アルコール(B)を得
ることができる。例えば、一般式:
【化29】 で表されるβ−ケトエステル(E)を一般式:
【化30】 で表される化合物(F)で処理し、一般式:
【化31】 で表されるジヒドロピリミジン(G)またはその異性体を
得る。
【0030】トルエン、ベンゼン、エタノール、ジメチ
ルスルホキシドまたはジメチルホルムアミドなどの溶媒
中で縮合反応を行う。高沸点溶媒、とりわけ水と共沸混
合物を形成するものが好ましい。化合物(F)は遊離また
は塩酸塩などの塩形状で用いる。化合物(F)を塩形状で
用いる場合、その化合物を遊離形状にするための炭酸カ
リウム、酢酸ナトリウムまたは、特に酢酸カリウムなど
の遊離剤を用いるのが好ましい。反応は約25℃〜10
0℃の温度範囲で行うのが好ましく、より高温の方が好
ましい。溶媒の還流温度で反応を行うのが特に好まし
い。E:Fのモル比は約1:1〜1:5が好ましい。
【0031】次いでジヒドロピリミジン(G)を臭素、ク
ロルアニル、イオウ(S8状態)、パラジウム/デカリ
ン、あるいは好ましくは2,3−ジクロロ−5,6−ジ
シアノベンゾキノン(DDQ)で選択的に酸化する。該反
応を、好ましくはトルエン、塩化メチレンまたはエタノ
ールなどの不活性溶媒中、約0℃〜80℃の温度範囲で
行い、一般式:
【化32】 で表されるピリミジン(H)を得る。この反応はG:酸化
剤のモル比を約1:1〜1:4にして酸化剤を過剰に用
いて行うのが好ましい。
【0032】ピリミジン(H)を水素化リチウムアルミニ
ウム(ピリミジンとのモル比は約0.5:1〜2:1が好
ましい)、水素化ホウ素リチウム(ピリミジンとのモル比
は約0.5:1〜2:1が好ましい)、または好ましくは
水素化ジイソブチルアンモニウム(DIBAL−H)(ピ
リミジンとのモル比は約2:1〜6:1が好ましい)な
どの還元剤を用いて還元し、出発アルコール(B)を得る
ことができる。テトラヒドロフラン、塩化メチレンまた
はトルエンなどの中性溶媒がを用いるのが好ましい。反
応温度は、約−78℃〜25℃が好ましい。
【0033】ピリジニウムクロロクロメート(PCC)、
過ルテニウム酸テトラ−n−プロピルアンモニウム(T
PAP)および酸化N−メチルモルホリン、または特に
好ましくは塩化オキサリルおよびジメチルスルホキシド
(DMSO)/トリエチルアミン(TEA)などの酸化剤を
用いる酸化反応により、出発アルコール(B)をアルデヒ
ド(VIII)へ転換することから開始してアセチレン
(X)を得る。塩化メチレンなどの溶媒に酸化剤を加える
のが好ましい。反応を効果的に行うために十分な量の酸
化剤を用いる。テトラヒドロフラン(THF)または特に
塩化メチレン(CH2Cl2)などの溶媒中で反応を行うの
が好ましい。塩化オキサリル/DMSOを用いる場合、
約−80℃〜−50℃の低温で反応を行うのが好まし
い。
【0034】トリフェニルホスフィン(PPh3)および
四臭化炭素(CBr4)を用いるコーリー−フックス反応
により、アルデヒド(VIII)をビニルジブロミド(I
X)に転換する。この段階は、アセトニトリル、または
特に塩化メチレンなどの溶媒中、0℃〜室温で行うのが
好ましい。PPh3と化合物(VIII)とのモル比は約
3:1が好ましい。CBr4と化合物(VIII)のモル
比は約1.5:1が好ましい。CBr4の代わりに四塩化
炭素またはCBrCl3を用いてもよく、この場合、化
合物(IX)のビニルジクロリド類縁体が得られる。ビニ
ルジブロミドおよびビニルジクロリドのどちらも次工程
に用いることができる。
【0035】次いで、該ビニル化合物(IX)をn−Bu
Liで脱ハロゲン化水素反応に付し、水で反応を停止
し、アセチレン化合物(X)を得る。別法として、低温
下、テトラヒドロフランなどの溶媒中、ビニル化合物
(IX)をn−BuLiと接触させて、アセチレンのリチ
ウムアニオン(X)に転換することができる。別法とし
て、アルデヒド(VIII)を不活性雰囲気下、テトラヒ
ドロフランなどの不活性溶媒中、−78℃〜25℃にて
カリウムt−ブトキシドの存在下、ジアゾメチルホスホ
ン酸ジメチルで処理してアセチレン(X)に直接転換する
ことができる。
【0036】エステル(IA1)をアルゴンなどの不活性
雰囲気下、ジオキサン、メタノール、アセトニトリル、
テトラヒドロフランまたは他の不活性有機溶媒中、好ま
しくは室温〜80℃にて、塩基:エステル(IA1)のモ
ル比が約1:1〜1.1:1の範囲にて、水酸化リチウ
ムまたは水酸化ナトリウムなどの強塩基で処理して対応
の塩基性塩または酸(すなわち、下記式におけるRxa
アンモニウム、アルカリ金属、アルカリ土類金属、アミ
ンおよびその他同種のものである)へと加水分解して一
般式:
【化33】 で表される対応塩基性塩(IA2)を得る。
【0037】次いで、化合物(IA2)をHClなどの強
酸で処理して一般式:
【化34】 で表される対応酸化合物(IA3)を得る。エステル(IA
1)を例えば、50〜60℃で、塩基:エステル(IA1)
のモル比が約2:1〜4:1にて、強塩基で処理して対
応ジ塩基性塩に転換し、一般式:
【化35】 で表されるジ塩基性塩(IA4)を得る。該ジ塩基性塩を
HClなどの強酸で処理して、対応ジ酸化合物を得る。
【0038】
【化36】 上記反応工程Bにより、架橋鎖Xが(シス)−CH=CH
−である本発明化合物を製造することができる。反応工
程Bに従って、架橋鎖Xが(シス)−CH=CH−である
本発明ホスフィン酸化合物を製造する。例えば、アセチ
レンホスフィン酸塩(XI)をメタノールなどの不活性有
機溶媒中、パラジウム/炭素またはパラジウム/炭酸バ
リウムなどの還元触媒の存在下、H2で処理する選択的
還元反応に付し、保護エーテル(XII)を得る。ここで
「プロ」は−Si(t−ブチル)ジフェニルが好ましい。
【0039】次いで、保護エーテル(XII)を前述のよ
うにエーテル開裂および加水分解に付し、エステル(I
1)、塩基性塩(IB2):
【化37】 酸(IB3):
【化38】 ジ塩基性塩(IB4):
【化39】 および対応するジ酸を得る。
【0040】
【化40】
【化41】
【化42】
【化43】
【0041】上記反応工程Cが示すように、リン原子と
核Z間の架橋鎖Xが(トランス)−CH=CH−である本
発明化合物(I)を製造するためには、まずアセチレン化
合物(X)と(n−C49)3SnHの混合物を触媒量のア
ゾビスイソブチリルニトリル(AIBN)、過酸化水素、
過酸化ベンゾイルおよびその他同種のものなどの遊離基
開始剤で処理し、得られる溶液をアルゴンなどの不活性
雰囲気下、約100℃〜160℃の温度範囲で加熱し、
ビニル錫(XV)を得る。化合物(X):(n−C49)3
nHのモル比は約1:1.5で用いるのが好ましい。溶
媒を用いないのが好ましい。次いで、エチルエーテル、
塩化メチレン、テトラヒドロフランまたはクロロホルム
などの有機溶媒に溶解したビニル錫(XV)をヨウ素で処
理し、アルゴンなどの不活性雰囲気下で撹拌し、ヨウ化
ビニル(XVI)を得る。この反応は室温〜約50℃の温
度範囲で行うのが好ましい。ヨウ素は過剰量、すなわち
ビニル錫に対するモル比3:1あるいはそれ以上で用い
るのが好ましい。テトラヒドロフランまたはエチルエー
テルなどの無水有機溶媒中のヨウ化ビニル(XVI)の冷
却溶液(−100℃〜−40℃、好ましくは−100℃
〜−78℃)をヘキサンまたはテトラヒドロフランなど
の不活性有機溶媒中、n−ブチルリチウムまたはt−ブ
チルリチウムなどのメタル化剤で処理し、アルゴンなど
の不活性雰囲気下、混合物を−100℃〜−40℃、好
ましくは−100℃〜−78℃に冷却する。生成するア
ニオンをテトラヒドロフランまたはエチルエーテルなど
の無水不活性有機溶媒中のホスホノクロリデート(VI
I)(または前記反応工程Aで説明した新規ホスホノフル
オリデート)の冷却溶液(−100℃〜−40℃、好まし
くは−100℃〜−78℃)に、XVI:XIIのモル
比を約1:1〜約1:2、好ましくは約1:1〜1:
1.5にて加え、化合物(XVII)を得る。
【0042】化合物(XVII)の保護基開裂を行う。例
えば「プロ」が−Si(t−ブチル)(ジフェニル)である
場合、シリルエーテル開裂はテトラヒドロフランまたは
アセトニトリルなどの不活性有機溶媒中の化合物(XV
II)の溶液を、氷酢酸およびテトラヒドロフランなど
の不活性有機溶媒中の(n−C49)4NFの溶液で処理
して、ヒドロキシジエステル(IC1)を得る。次いでこ
れを前述のように加水分解して塩基性塩(IC2):
【化44】 酸(IC3):
【化45】 ジ塩基性塩(IC4):
【化46】 および対応するジ酸を得る。
【0043】リン原子と核Z間の架橋鎖Xが(トランス)
−CH=CH−である本発明化合物(I)を製造するため
の前記反応工程Dに示した別法において、アルデヒド
(VIII)をテトラヒドロフランまたはエチルエーテル
などの有機溶媒中のメチルホスホン酸ジアルキルおよび
ブチルリチウム(LiCH2PO(R4’)2)の冷却溶液
(−90℃〜0℃)との縮合反応に付してβ−ヒドロキ
シホスホネート(XX)を得る。次いで、約50℃〜12
0℃に加熱(好ましくは還流)したベンゼンまたはトル
エン中の該β−ヒドロキシホスホネート(XX)を、p−
トルエンスルホン酸で処理し、水分を除去してトランス
−オレフィン(XXI)を得、次いでジオキサンまたは他
の不活性有機溶媒中、LiOHなどの水酸化アルカリ金
属水溶液で処理して加水分解し、次いで塩酸水溶液など
の酸で処理してモノ酸エステル(XXII)を得る。
【0044】次いで、モノ酸エステルの無水塩化メチレ
ン溶液をトリメチルシリルジエチルアミンで処理する。
混合物を蒸発し、得られる油状物に0℃に冷却した無水
塩化メチレンを加え、アルゴンなどの不活性雰囲気下、
塩化オキサリルおよび触媒量のジメチルホルムアミドで
処理し、ホスホノクロリデート(XXIII)を得る。−
Clの代わりに−Fで置き換えた(XXIII)構造のフ
ルオリド化合物もまた酸フッ化物生成により製造するこ
とができ、次工程に用いることができる。
【0045】ホスホノクロリデート(XXIII)をテト
ラヒドロフランなどの不活性有機溶媒中、−90℃〜−
40℃の低温にて、例えばアセト酢酸メチルジアニオン
などのアセト酢酸アルキルジアニオンと、ホスホノクロ
リデート:ジアニオンのモル比約1:1〜0.75:1
にて縮合し、ケトホスフィネート(XXIV)を得、これ
をエタノールなどのアルコール溶媒中、水素化ホウ素ナ
トリウムなどの還元剤で処理して還元し、ホスフィネー
ト(IC1)を得る。次いで(IC1)を前述のように加水分
解して塩基性塩(IC2):
【化47】 酸(IC3):
【化48】 ジ塩基性塩(IC4):
【化49】 および対応するジ酸を得る。
【0046】
【化50】
【化51】
【化52】
【0047】上記反応工程Eに従って、Xが−(CH2)a
−(aは1,2または3)、すなわち−CH2−、−CH2
CH2−または−CH2CH2CH2−である本発明化合物
(I)を製造することができる。まずアルデヒド(VII
I)を通常の方法でハロゲン化物(XXV)に変換する。
例えば、アルデヒド(VIII)をエタノールおよびエー
テル中でNaBH4で処理して還元し、得られる対応ア
ルコールZ−CH2OH(反応工程Aにおける出発物質
B)をトリエチルアミンなどの有機塩基および塩化メチ
レンなどの溶媒の存在下に塩化メシルで処理して塩化物
(XXV)(a=1)を得る。
【0048】塩化物(XXV)を100℃〜150℃の温
度範囲にて、III:XXVのモル比約1:1〜10:
1でホスファイト(III)と縮合し、ホスホン酸ジエス
テル(XXVI)を得る。ジオキサンなどの溶媒中のホス
ホン酸ジエステル(XXVI)の溶液をアルカリ金属水酸
化物、例えばLiOH、などの強塩基、次いで塩酸水溶
液などの強酸で処理し、化合物(XXVIa)を得る。化
合物(XXVIa)をジメチルホルムアミドなどの有機溶
媒中、TMSNEt2、次いで塩化オキサリルで処理し
て対応ホスホノクロリデート(XXVII)を得る。−C
lの代わりに−Fで置き換えた(XXVII)構造のフル
オリド化合物もまた酸フッ化物生成により製造すること
ができ、次工程に用いることができる。
【0049】ホスホノクロリデート(XXVII)をテト
ラヒドロフランなどの不活性有機溶媒中、−90℃〜−
40℃にて、例えばアセト酢酸メチルジアニオンなどの
アセト酢酸アルキルジアニオンと、ホスホノクロリデー
ト:ジアニオンのモル比約1:1〜0.75:1にて縮
合し、ケトホスフィネート(XXVIII)を得る。次い
でケトホスフィネート(XXVIII)を還元して対応す
るホスフィネート(ID1)、(IE1)または(IF1)を
得、これらを前述の操作に従って加水分解して対応する
(ジ)塩基性塩、および(ジ)酸を得る。
【0050】上記反応工程Fに示すように、別法でXが
−CH2−CH2−である本発明ホスフィネート化合物
(I)を製造することができる。まず、ジエステル(I
1)、(IB1)または(IA1)を例えばメタノールなどの
不活性有機溶媒中、パラジウム/炭素などの還元触媒の
存在下に50psiにてH2で処理する接触還元に付
し、ジエステル(ID1)を得る。これを前述の操作に従
って加水分解して塩基性塩(ID2):
【化53】 酸(ID3):
【化54】 ジ塩基性塩(ID4):
【化55】 および対応するジ酸を得る。
【0051】
【化56】
【化57】 上記反応工程Gに従って、Xが−CH2O−である本発
明化合物(I)を製造することができる。出発アルデヒド
(VIII)を塩化メチレンなどの不活性有機溶媒中、メ
タ−クロロ過安息香酸(MCPBA)、次いでKOHまた
はNaOHのようなアルカリ金属水酸化物などの強塩基
およびテトラヒドロフランなどの溶媒で処理してベイヤ
ー−ビリガー酸化に付し、対応アルコール(XXIX)を
得る。アルコール(XXIX)をアルゴンなどの不活性雰
囲気下、ジメチルホルムアミドなどの不活性有機溶媒
中、水素化ナトリウムおよびトシルオキシメチル−ホス
ホネート(XXX)の溶液(XXX:XXIXのモル比が
約1:1〜3:1)で処理してアルキル化を行い、対応
ジアルキルエステル(XXXI)を得る。反応工程Gにお
いて、モノエステル(XXXII)、塩化物(XXXII
I)(またはフッ化物)ケトホスフィネート(XXXI
V)、ジエステル(IG1)および対応の(ジ)塩基性塩およ
び(ジ)酸を製造する際の条件等は前記反応工程Eにおけ
るものと同じである。
【0052】
【化58】 Xが−CH2O−であり、そのメチレン基がZに結合し
ている本発明化合物(I)を上記反応工程Hに従って製造
することができる。まず、前記反応工程Aに従って製造
したアルコール(B)をホスホノクロリデート(VII)と
カップリング反応に付して化合物(XXXV)を得る。該
カップリング反応はピリジンなどの単独溶媒中、あるい
はテトラヒドロフランとの混合溶媒中で行う。必要に応
じてジメチルアミノピリジンなどの触媒を用いる。前記
反応工程Aに従って、エステル(1H1)を得るための保
護基「プロ」の開裂およびさらに対応(ジ)塩基性塩およ
び(ジ)酸を得るための処理を行う。
【0053】本発明にはこれまでの反応工程において製
造された新規中間体も含まれる。これらの新規中間体に
は、前述の(VII)のフッ化物、(IX)およびその対応
ジクロリド、(X)、(XI)、(XII)、(XV)、(XV
I)、(XVII)、(XX)、(XXI)、(XXII)、(X
XIII)およびそのフッ化物、(XXIV)、(XX
V)、(XXVI)、(XXVIa)、(XXVII)および
そのフッ化物、(XXVIII)、(XXIX)、(XXX
I)、(XXXII)、(XXXIII)およびそのフッ化
物、(XXXIV)、(XXXV)で表される化合物および
それらのすべての立体異性体が含まれる。
【0054】従って、本発明は下記一般式(IIa)、
(IIb)、(IIc)、(IId)、および(IIe)で表さ
れる新規中間体またはそれらの塩を提供する。 一般式
(IIa):
【化59】 [式中、Lは−CH=CBr2、−CH=CCl2、−C
≡CH、−CH=CH−Sn(n−C49)3、−CH=
CH−I、−(CH2)a−Cl(aは1,2または3)また
は−OH;およびZは一般式:
【化60】 (式中、R1、R2およびR3は独立して、(i)水素、(ii)
アルキル、(iii)アリール、(iv)アラルキル、(v)アラル
コキシ、(vi)ヘテロシクロ、(vii)シクロアルキル、(vi
ii)アルコキシ、(ix)アルケニル、(x)シクロアルケニ
ル、または(xi)ハロゲンである)]で表される化合物。
【0055】一般式(IIb):
【化61】 [式中、Xは−C≡C−、−CH=CH−または−OC
2−(ここでは−CH2−がZに結合);「プロ」は開裂
しうる保護基;R4’およびR5’は独立してアリールま
たはアルキル;Rは水素またはアルキル;およびZは化
合物(IIa)における定義と同意義である]で表される
化合物。一般式(IIc):
【化62】 [式中、Zは化合物(IIa)における定義と同意義;お
よび(i)E1およびE2は−OR4’(R4’は化合物(II
b)における定義と同意義);およびX*は−CH2−C
H(OH)−、−CH=CH−、−(CH2)a−(aは1,
2または3)もしくは−CH2O−;(ii)E1は−O
4’、E2は−Clまたは−F;およびX*は−CH=
CH−、−(CH2)a−(aは1,2または3)もしくは−
CH2O−;または(iii)E1は−OR4’、E2は−O
H;およびX*は−CH=CH−、−(CH2)a−(aは
1,2または3)、−CH2O−である]で表される化合
物。一般式(IId):
【化63】 [式中、Xは−CH=CH−、−(CH2)a−(aは1,2
または3)もしくは−CH2O−(ここで、−CH2−また
は−O−がZに結合);R4’、ZおよびR5’は化合物
(IIb)における定義と同意義である]で表される化合
物。一般式(IIe):
【化64】 [式中、R4’、R5’Rおよび「プロ」は化合物(II
b)における定義と同意義である]で表される化合物。
【0056】本発明化合物はラセミ混合物として製造し
た後、これを分割して好ましいS−異性体を得ることが
できる。しかしこれらの本発明化合物を前記反応工程お
よび後記実施例に示すように、直接そのS−異性体型と
して製造することができる。このことについては、本明
細書中に引用した英国特許第2202838号記載され
ている。本発明化合物は3−ヒドロキシ−3−メチル−
グルタリル−補酵素A(HMG−CoA)リダクターゼの
抑制剤であり、コレステロール生合成の抑制に有用であ
る。本発明化合物の抑制活性は本明細書中に引用した英
国特許第2202838号におけるいずれの試験によっ
ても実証することができる。一般に、肝組織におけるよ
り優れた抑制活性を助ける化合物選択性は、コレステロ
ール生合成抑制剤の特性である。
【0057】本発明は、本発明化合物、好ましくは化合
物(I)またはその医薬的に許容し得る塩の少なくとも1
種を医薬的担体または希釈剤を組合わせて含む医薬組成
物である。かかる医薬組成物は、通常の希釈剤の固体も
しくは液体担体および所望の投与法に適する種類の医薬
的付加物を用いて製剤することができる。本発明化合物
は、これを経口的方法たとえば錠剤、カプセル剤、顆粒
剤または粉剤型により投与するか、あるいは注射剤型の
非経口的投与方法で投与する。このような投与形態にお
いては、投与単位当り活性化合物を1〜2000mg含む
のが好ましい。投与量は、単位用量、症状、患者の年令
および体重に依存し、それは医者によって決定される。
代表的な本発明医薬組成物としては、本発明化合物を有
効量含む、高コレステロール血症、高リポタンパク血
症、アテローム性動脈硬化症および/または高脂血症の
予防および治療剤が挙げられる。
【0058】本発明化合物、好ましくは化合物(I)また
はその医薬的に許容し得る塩は、ヒト、イヌ、ネコおよ
びその他の哺乳類のコレステロール生合成の抑制に使用
するために示唆された公知化合物たとえばロバスタチン
(lovastatin)の投与方法と同様の方法で投与することが
できる。それ故本発明化合物は、1日当り約4〜200
0mgの1回投与型または1〜4回投与型、好ましくは1
日当りまたは持続放出型として4〜200mg(分割投与
型1〜100mg)、適当には0.5〜50mgを2〜4回に
分けた投与剤型として投与することができる。
【0059】本発明は、治療を必要とする動物に本発明
化合物、好ましくは化合物(I)またはその医薬的に許容
し得る塩を有効量投与することを特徴とする高コレステ
ロール血症、アテローム性動脈硬化症、高リポタンパク
血症および/または高脂血症の治療また予防法も提供す
る。次に挙げる実施例は本発明の好ましい具体例である
が、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0060】
【実施例】
実施例1 (S)−4−[[[4−(4−フルオロフェニル)−6−(1−
メチルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニル]エチ
ニル]メトキシホスフィニル]−3−ヒドロキシブタン酸
メチルエステルの製造 (i)4−(4−フルオロフェニル)−6−(1−メチルエ
チル)−2−フェニル−5−エトキシカルボニル−1,
2−ジヒドロピリミジン
【化65】 3−オキソ−2−(4−フルオロベンジリデン)−4−メ
チルペンタン酸エチルのβ−ケトエステル(10.00
g、38ミリモル)をトルエン(5ml)の溶液として、トル
エン(200ml)中のベンズアミドヒドロクロリド(8.1
3g、52ミリモル)および酢酸カリウム(KOAc)(5.
59g、57ミリモル)のスラリーに、ディーン−スター
クトラップを備えたフラスコ中で撹拌しながら加える。
該溶液を20時間撹拌し、次いで室温に冷却し、24時
間撹拌する。溶液をエーテルで希釈し、濾過する。濾液
を飽和NaHCO3、水および食塩水で洗浄し、次いで
Na2SO4で乾燥し、濾過し、濃縮して黄色油状物を得
る。該油状物をフラッシュクロマトグラフィー(メルク
シリカゲル、30%酢酸エチル(EtOAc)/ヘキサ
ン)で精製する。生成物含有画分を合わせて濃縮し、標
記化合物(4.870g、35%)を黄色泡状物で得る。 TLC:Rf=0.18(20%EtOAc/ヘキサ
ン)。
【0061】(ii)4−(4−フルオロフェニル)−6−
(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−エトキシカル
ボニル−ピリミジン
【化66】 トルエン(200ml)中の前記ステップ(i)で得られた4
−(4−フルオロフェニル)−6−(1−メチルエチル)−
2−フェニル−5−エトキシカルボニル−1,2−ジヒ
ドロピリミジン(10.200g、28ミリモル)の溶液に
2,3−ジクロロ−5,6−ジシアノベンゾキノン(D
DQ)(7.69g、34ミリモル)を加える。次いで該赤
色溶液を50℃で3時間加熱する。溶液を室温まで冷却
し、次いで10%EtOAc/ヘキサンで洗浄したシリ
カゲルプラグに通す。濾液を濃縮して褐色油状物を得
る。該油状物をフラッシュクロマトグラフィー(メルク
シリカゲル、15%EtOAc/ヘキサン)で精製す
る。所望生成物含有画分を合わせて濃縮し、得られる透
明油状物を固化して標記化合物(8.800g、87%)を
白色結晶固体で得る(mp97〜99℃)。 TLC:Rf=0.75(20%EtOAc/ヘキサ
ン)。 元素分析(C22212FO2として) 計算値:C72.51;H5.81;N7.69;F5.2
1 実測値:C72.45;H5.79;N7.72;F5.1
2。
【0062】(iii)4−(4−フルオロフェニル)−6
−(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−ヒドロキシ
メチレン−ピリミジン
【化67】 THF(50ml)中の前記ステップ(ii)で得られた4−
(4−フルオロフェニル)−6−(1−メチルエチル)−2
−フェニル−5−エトキシカルボニル−ピリミジン(4.
000g、11ミリモル)の溶液に、水素化ジイソブチル
アンモニウム(DIBAL−H)の1MのTHF溶液(5
5ml、55モリモル)を加える。次いで、該溶液を室温
まで暖め、混合物を3時間撹拌する。次いで、溶液を0
℃に冷却し、飽和NH4Cl(55ml)を加えて反応を停
止する。溶液をエーテル(100ml)で希釈し、混合物を
セライトパッドで濾過し、エーテルで洗浄する。濾液を
完全に有機性にし、MgSO4で乾燥し、濾過し、濃縮
して黄色油状物を得る。油状物を熱ヘキサンに溶解し、
冷却して標記化合物(2.686g、76%)を白色固体で
得る(mp183〜184℃)。 TLC:Rf=0.57(50%EtOAc/ヘキサ
ン)。
【0063】(iv)4−(4−フルオロフェニル)−6−
(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−ホルミル−ピ
リミジン
【化68】 塩化メチレン(100ml)中の塩化オキサリルの溶液(2.
520g、19.8ミリモル)にジメチルスルホキシド(D
MSO)(3.10g、39.7ミリモル)をアルゴン下、−
78℃にて加える。溶液を15分間撹拌する。次いで、
前記ステップ(iii)で得られる4−(4−フルオロフ
ェニル)−6−(1−メチルエチル)−2−フェニル−5
−ヒドロキシメチレン−ピリミジン(4.942g、15.
3ミリモル)の塩化メチレン/THF(25ml/10ml)
溶液を該反応フラスコに加える。溶液を20分間撹拌
し、次いでトリエチルアミン(10.6ml)を加える。溶
液をさらに10分間撹拌し、次いで室温まで暖める。溶
液をエーテルで希釈し、水および食塩水で洗浄し、Na
2SO4で乾燥し、濾過し、濃縮して黄色固体を得る。固
体をEtOAc/ヘキサンから再結晶して標記化合物
(4.064g、83%)を微細黄色針状晶で得る(mp12
7〜129℃)。 TLC:Rf=0.62(30%EtOAc/ヘキサ
ン)。 元素分析(C20172FOとして) 計算値:C74.98;H5.35;N8.75;F5.9
3 実測値:C74.83;H5.50;N8.58;F6.0
0。
【0064】(v)4−(4−フルオロフェニル)−6−
(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−(2,2−ジ
ブロモビニル)−ピリミジン
【化69】 0℃に冷却した塩化メチレン(50ml)中のトリフェニル
ホスフィン(10.24g、39ミリモル)および前記ステ
ップ(iv)で得られるアルデヒド、4−(4−フルオロ
フェニル)−6−(1−メチルエチル)−2−フェニル−
5−ホルミル−ピリミジン(3.908g、12.2ミリモ
ル)の混合物に、CBr4(6.16g、18.3ミリモル)
の塩化メチレン溶液(20ml)を20分間かけて加える。
該溶液を30分間撹拌し、次いで15分間かけて室温ま
で暖める。反応物に飽和NaHCO3を加えて反応を停
止し、溶液を塩化メチレンで希釈する。有機層を食塩水
で洗浄し、次いでNa2SO4で乾燥し、濾過し、濃縮し
て約35mlにする。溶液をフラッシュクロマトグラフィ
ー(メルクシリカゲル、35〜50%塩化メチレン/ヘ
キサン)に付す。所望の画分を合わせて濃縮し、黄色油
状物を得る。油状物を熱ヘキサンに溶解し、冷却して標
記化合物(7.338g、83%)を大きな黄色結晶で得る
(mp95〜98℃)。 TLC:Rf=0.75(10%EtOAc/ヘキサ
ン)。 元素分析(C21172Br2Fとして) 計算値:C52.97;H3.60;N5.88;F33.
56;F3.99 実測値:C53.41;H3.75;N5.71;F33.
60;F4.03。
【0065】(vi)(S)−4−[[[4−(4−フルオロフ
ェニル)−6−(1−メチルエチル)−2−フェニル−5
−ピリミジニル]エチニル]メトキシホスフィニル]−3
−((t−ブチル)ジフェニルシリルオキシ)ブタン酸メチ
ルエステル
【化70】 (a)3S−ヒドロキシ−4−ブロモブタン酸メチル Acta.Chem.Scand.,B.1983,37,341〜34
4頁に記載の方法に従って、標記化合物を製造する。 (b)3S−((t−ブチル)ジフェニルシリルオキシ)−4
−ブロモブタン酸メチル 無水ジメチルホルムアミド(DMF)(40ml)中の前記ス
テップ(a)で得られる3S−ヒドロキシ−4−ブロモブ
タン酸メチル(4.0g、20.4ミリモル)、イミダゾー
ル(6.94g、5.0当量)および4−ジメチルアミノピ
リジン(4−DMAP)(12mg、0.005当量)の溶液
をt−ブチルジフェニルシリルクロリド(5.84ml、
1.1当量)で処理し、均質混合物をアルゴン下、室温に
て一夜撹拌する。混合物を5%KHSO4およびEtO
Acに分配し、有機相をH2Oおよび食塩水で洗浄し、
次いで無水Na2SO4で乾燥し、蒸発して、一定の13
NMRスペクトルデータを示す標記化合物9.32g(1
00%)を透明粘稠油状物で得る。TLC(3:1)ヘキ
サン−EtOAc、生成物。Rfシリルエーテル=0.
75,UVおよびPMA。
【0066】(c)3S−((t−ブチル)ジフェニルシリ
ルオキシ)−4−ヨードブタン酸メチ ルメチルエチルケトン(60ml、4Åシーブスで乾燥)中
の前記ステップ(b)で得られる3S−((t−ブチル)ジ
フェニルシリルオキシ)−4−ブロモブタン酸メチル
(9.32g、201ミリモル)の溶液をヨウ化ナトリウム
(15.06g、100.5ミリモル、5当量)で処理し、
得られる黄色懸濁液をアルゴン下、5.0時間還流す
る。混合物を冷却し、EtOAcで希釈し、濾過し、濾
液を希NaHSO3(無色になるまで)および食塩水で洗
浄し、無水Na2SO4で乾燥し、減圧蒸発し、黄色油状
物10.17gを得る。粗油状物をメルクシリカゲル(6
00g、50:1)にてヘキサン/塩化メチレン(3:
1)で溶離するフラッシュクロマトグラフィーに付して
精製する。生成物画分を蒸発して標記化合物7.691
g(74.2%、両工程を合わせた収率)を一定の13CN
MRスペクトルデータおよび1HNMRスペクトルデー
タを示す透明無色粘稠油状物で得る。。TLC(3:1)
ヘキサン−EtOAc、生成物。Rf=0.75,UV
およびPMA。
【0067】(d)3S−((t−ブチル)ジフェニルシリ
ルオキシ)−4−ジイソプロポキシホスフィニルブタン
酸メチル 前記ステップ(c)で得られる3S−((t−ブチル)ジフ
ェニルシリルオキシ)−4−ヨードブタン酸メチル(4
5.1ミリモル、21.70g)を高減圧下に30分間撹
拌する。新しく蒸留したトリイソプロピルホスファイト
(0.451モル、93.92g、113.37ml)を一度
に加え、反応混合物をアルゴン下に撹拌し、155℃油
浴で16.5時間加熱する。次いで、混合物を室温まで
冷却する。過剰のトリイソプロピルホスファイトおよび
揮発性反応生成物を短路蒸留(10mmHg)、次いで球
管蒸留(0.50mmHg、100℃、8時間)に付して
除去する。生成物をさらにフラッシュクロマトグラフィ
ー(95mm径カラム、6”メルクシリカゲル、溶離
剤:6/3/1=ヘキサン/アセトン/トルエン、溶離
速度:2”/分、50ml画分)に付して精製し、標記化
合物17.68g(33.96ミリモル、収率75%)を透
明粘稠油状物で得る。 TLC:シリカゲルRf=0.32(6:3:1ヘキサン
/アセトン/トルエン)。1 NMR:(270MHz、CDCl3) δ7.70〜7.65(m,4H)、7.45〜7.35
(m,6H)、4.57〜4.44(m,3H)、3.59
(s,3H)、2.94および2.88(2xd,1H,J
=3.7Hz)、2.65および2.60(2xd,1H,
J=7.4Hz)、2.24〜1.87(シリーズのm,2
H)、1.19および1.12(2xd,12H,J=6.
3Hz)、1.01(s,9H)。
【0068】(e)(S)−4−(ヒドロキシメトキシホス
フィニル)−3−[[(t−ブチル)ジフェニルシリル]オキ
シ]ブタン酸メチルエステル・ジシクロヘキシルアミン
(1:1)塩 無水塩化メチレン80ml中の前記ステップ(d)で得られ
る3S−((t−ブチル)ジフェニルシリルオキシ)−4−
ジイソプロポキシホスフィニルブタン酸メチル(20.5
ミリモル、10.66g)をアルゴン下、室温にて撹拌す
る。この溶液にビス(トリメチルシリル)トリフルオロア
セタミド(BSTFA)(32.8ミリモル、8.44g、
8.71ml)を滴下(5分間)処理し、次いで臭化トリメチ
ルシリル(TMSBr)(51.3ミリモル、7.84g、
6.75ml)を滴下する。室温で20時間撹拌後、反応混
合物に5%KHSH4水溶液200mlを加えて反応を停
止し、15分間激しく撹拌する。水性層をEtOAcで
3回抽出する。有機抽出物を合わせ、食塩水で1回洗浄
し、Na2SO4で乾燥し、減圧濃縮する。残渣をトルエ
ン50mlで2回共沸する。生成した沈殿をトルエンに懸
濁し、濾過する。濾液を濃縮し、共沸/濾過工程を繰り
返す。得られる濾液を減圧蒸発し、次いで5時間高真空
吸引する。得られる粘稠透明油状物を無水ピリジン50
mlとともにアルゴン下、室温にて撹拌する。この溶液を
ジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)(22.6ミリ
モル、4.65g)で一度に処理し、次いでメタノール
(41.0ミリモル、1.31g、1.67ml)を加える。
室温で20時間撹拌後、反応混合物を焼結ガラスロート
にセライトパッドを置いて濾過する。該セライトをEt
OAcで洗浄し、濾液を合わせて減圧蒸発する。残渣を
EtOAcに再溶解し、5%KHSO4水溶液で2回、
食塩水で1回洗浄する。有機抽出物をNa2SO4で乾燥
し、濾過し、濾液を濃縮し、トルエンと2回共沸し、ト
ルエンに懸濁し、濾過する。得られる濾液を再度濃縮
し、共沸し、濾過し、濾液を減圧蒸発し、高真空下に6
時間置き、ホスホン酸モノエステル(10.20g、>1
00%収率)を透明粘稠油状物で得る。TLC:シリカ
ゲルRf=0.50(7:2:1=n−プロパノール(n
PrOH)/NH4OH/H2O)。該ホスホン酸モノエス
テル[1.21gを4時間高減圧吸引し、1.16g(2.
57ミリモル)を得る]を無水エチルエーテル(Et2O)
10mlに溶解し、ジシクロヘキシルアミン(2.65ミリ
モル、0.481g、0.528ml)を滴下処理する。得
られる均質溶液を室温で7時間静置し、重要な結晶の形
成を得る。混合物を−20℃で16時間保持し、次いで
室温まで暖め、濾過する。結晶を冷無水Et2Oで洗浄
し、次いでP25上で高真空下、18時間吸引する。続
いて、結晶を高真空下、45℃にて6時間吸引し、標記
化合物1.25g(1.98ミリモル、77%収率)を白色
粉末固体で得る。TLC:シリカゲルRf=0.57(2
0%メタノール/CH2Cl2)。1 NMR:(270MHz、CDCl3) δ7.71〜7.65(m,4H)、7.40〜7.32
(m,6H)、4.02(m,1H)、3.52(s,3H)、
3.28および3.22(m,1H)、3.11(d,3H,
J=11Hz)、2.77〜2.64(m,2H)、2.62
〜2.56(m,1H)、1.92〜1.08(シリーズのm,
22H)、1.00(s,9H)。 マススペクトル(FAB)m/e:632(M+H)+。 IR(KBr):3466〜3457(ブロード)、304
6、3016、2997、2937、2858、283
6、2798、2721、2704、2633、253
3、2447、1736、1449、1435、142
6、1379、1243、1231、1191、110
7、1074、1061、1051、820cm-1。 元素分析(C223126PSi;C1223Nとして) 計算値:C64.63;H8.61;N2.22 実測値:C64.51;H8.49;N2.18。
【0069】(f)(S)−4−(メトキシクロロホスフィ
ニル)−3−[[(t−ブチル)ジフェニルシリル]オキシ]
ブタン酸メチルエステル 前記ステップ(e)で得られる(S)−4−(ヒドロキシメ
トキシホスフィニル)−3−[[(t−ブチル)ジフェニル
シリル]オキシ]ブタン酸メチルエステル・ジシクロヘキ
シルアミン(1:1)塩(2.389g、3.78ミリモル)
をEtOAcと5%KHSO4に分配する。EtOAc
層を5%KHSO4で3回、次いで食塩水で洗浄し、乾
燥(Na2SO4)、濾過し、溶媒を除去し、無色油状物
(ホスホン酸モノエチルエステル)を得る。油状物を無水
CH2Cl2(20ml)に溶解し、N,N−ジエチルトリメ
チルシリルアミン(1.154g、7.94ミリモル)で処
理する。室温で1時間撹拌後、溶媒を減圧除去し、残渣
を無水トルエン(20ml)と共沸しする。残渣を無水CH
2Cl2(200ml)に再溶解し、0℃に冷却し、ジメチ
ルホルムアミド(DMF)(0.055g、0.756ミリモ
ル)および塩化オキサリル(0.576g、4.54ミリモ
ル)で処理する。15分後、溶液を室温まで暖め、さら
に45分間撹拌する。溶媒を除去し、黄色残渣をトルエ
ン(20ml)と共沸し、1時間減圧乾燥(オイルポンプ)
し、標記化合物を得る。
【0070】(g)(S)−4−[[[4−(4−フルオロフェ
ニル)−6−(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−
ピリミジニル]エチニル]メトキシホスフィニル]−3−
((t−ブチル)ジフェニルシリルオキシ)ブタン酸メチル
エステル 分離フラスコ中のn−ブチルリチウム(nBuLi)(2.
5Mヘキサン溶液、1.68ml、4.20ミリモル)のテ
トラヒドロフラン(THF)の溶液(15ml)に、−78℃
にてTHF(10ml)中の前記ステップ(v)で得られる4
−(4−フルオロフェニル)−6−(1−メチルエチル)−
2−フェニル−5−(2,2−ジブロモビニル)−ピリミ
ジン(1.000g、2.10ミリモル)を滴下する。該溶
液を−78℃で1時間撹拌し、次いで−78℃に冷却し
た前記ステップ(f)で得られる(S)−4−(メトキシク
ロロホスフィニル)−3−[[(t−ブチル)ジフェニルシ
リル]オキシ]ブタン酸メチルエステルのTHF(20ml)
溶液にカニューレで加える。得られる溶液を30分間撹
拌し、次いで飽和NH4Cl(15ml)を加えて反応を停
止し、0℃に暖める。次いで、溶液に飽和NaHCO3
を加え、続いて室温まで暖める。混合物をエーテルで希
釈し、有機層を食塩水で洗浄し、Na2SO4で乾燥し、
濾過し、濃縮してオレンジ色油状物を得る。油状物をメ
ルクシリカゲル中、30〜50%EtOAc/ヘキサン
で溶離するフラッシュクロマトグラフィーに付して精製
する。所望の画分を合わせ、蒸発して標記化合物(0.7
32g、49%)を黄色泡状物で得る。 TLC:Rf=0.50(50%EtOAc/ヘキサ
ン)。
【0071】(vii)(S)−4−[[[4−(4−フルオロ
フェニル)−6−(1−メチルエチル)−2−フェニル−
5−ピリミジニル]エチニル]メトキシホスフィニル]−
3−ヒドロキシブタン酸メチルエステル
【化71】 THF(10ml)中の前記ステップ(vi)で得られる(S)
−4−[[[4−(4−フルオロフェニル)−6−(1−メチ
ルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニル]エチニ
ル]メトキシホスフィニル]−3−((t−ブチル)ジフェ
ニルシリルオキシ)ブタン酸メチルエステル(0.709
g、0.97ミリモル)と酢酸(0.233g、3.89ミリ
モル)の混合物にフッ化テトラブチルアンモニウム((B
u)4NF)(1.0MTHF溶液、2.91ml、2.91ミ
リモル)を加える。溶液を室温で20時間撹拌する。溶
液をエーテルで希釈し、次いで5%KHSO4(3回)で
洗浄する。水層をEtOAc(3回)で逆抽出する。有機
層を集め、食塩水で洗浄し、次いでNa2SO4で乾燥
し、濾過し、濃縮して黄色ゴム状物を得る。ゴム状物を
EtOAcに再溶解し、次いで飽和NaHCO3、5%
KHSO4および食塩水で洗浄し、次いで、Na2SO4
で乾燥し、濾過し、濃縮して黄色油状物を得る。0℃に
て油状物をメタノール(15ml)に溶解し、CH22で処
理する。過剰のCH22をアルゴン気流で除去し、溶液
を濃縮して黄色油状物を得る。油状物をメルクシリカゲ
ル中、40%アセトン/ヘキサンで溶離するフラッシュ
クロマトグラフィーに付して精製する。所望の画分を合
わせ、濃縮して標記化合物(0.315g、64%)を透明
油状物で得る。 TLC:Rf=0.49(50%アセトン/ヘキサン)。
【0072】実施例2 (S)−4−[[[4−(4−フルオロフェニル)−6−(1−
メチルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニル]エチ
ニル]ヒドロキシホスフィニル]−3−ヒドロキシブタン
酸ジナトリウム塩の製造
【化72】 ジオキサン(10ml)中の前記実施例1で得られる(S)−
4−[[[4−(4−フルオロフェニル)−6−(1−メチル
エチル)−2−フェニル−5−ピリミジニル]エチニル]
メトキシホスフィニル]−3−ヒドロキシブタン酸メチ
ルエステル(0.310g、0.61ミリモル)の溶液にN
aOH(1M水溶液、1.82ml、1.82ミリモル)を加
える。溶液を室温で5時間撹拌し、次いで濃縮して白色
固体を得る。残渣を水に溶解し、HP−20樹脂を水
(150ml)、50%メタノール(MeOH)/水(300m
l)、次いでMeOH(150ml)で順次溶離するクロマト
グラフィーに付す。所望の画分を合わせ、濃縮する。残
渣に水を加え、凍結乾燥して標記化合物(0.250g、
78%)を綿状白色固体で得る(m.p.310℃(分解))。
標記化合物は1.10モルの水と水和する。 TLC:Rf=0.68(6:3:1=n−プロパノー
ル:NH4OH:H2O)。 元素分析(C25222FNaPO5*1.10モルH2
として) 計算値:C54.98;H4.46;N5.13;F3.4
8;P5.67 実測値:C54.75;H4.63;N5.36;F3.5
9;P5.66。 旋光度:[α]D=+1.4゜(MeOH、c=3.5mg/m
l)。
【0073】実施例3 (S)−4−[[2−[4−(4−フルオロフェニル)−6−
(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニ
ル]エテニル]メトキシホスフィニル]−3−ヒドロキシ
ブタン酸メチルエステルの製造 (i)4−(4−フルオロフェニル)−6−(1−メチルエ
チル)−2−フェニル−5−エチニル−ピリミジン
【化73】 前記実施例1ステップ(v)で得られる4−(4−フルオ
ロフェニル)−6−(1−メチルエチル)−2−フェニル
−5−(2,2−ジブロモビニル)−ピリミジン(3.47
6g、7.30ミリモル)のTHF(10ml)溶液を、TH
F(30ml)中のnBuLi(2.5Mヘキサン溶液、6.
13ml、15.22ミリモル)の−78℃の溶液に加え
る。溶液を−78℃で1時間撹拌し、次いで飽和NH4
Clを加えて反応を停止する。溶液を0℃まで暖め、飽
和NaHCO3を加える。室温まで暖めた後、混合物を
EtOAcで希釈し、有機層を食塩水で洗浄し、次いで
Na2SO4で乾燥し、濾過し、濃縮して透明油状物を得
る。油状物を熱ヘキサンに溶解し、冷却して標記化合物
(2.004g、87%)を白色針状晶で得る(m.p.157
〜159℃)。 TLC:Rf=0.50(20%EtOAc/ヘキサ
ン)。 元素分析(C21172Fとして) 計算値:C79.72;H5.42;N8.86;F5.9
6 実測値:C79.28;H5.51;N8.69;F5.8
5。
【0074】(ii)4−(4−フルオロフェニル)−6−
(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−(2−トリ−
n−ブチルチンビニル)−ピリミジン
【化74】 水素化トリ−n−ブチルチン(3.11g、10.7ミリモ
ル)、前記ステップ(i)で得られる4−(4−フルオロフ
ェニル)−6−(1−メチルエチル)−2−フェニル−5
−エチニル−ピリミジン(1.880g、5.95ミリモ
ル)およびアゾビスイソブチリルニトリル(AIBN)
(0.062g、0.38ミリモル)の混合物を140℃に
て5時間加熱する。次いで溶液を室温まで冷却し、エー
テル(〜50ml)で希釈する。得られる溶液には標記化合
物が含まれる。
【0075】(iii)4−(4−フルオロフェニル)−6
−(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−(2−ヨー
ドビニル)−ピリミジン
【化75】 2,6−ルチジン(1.913g、17.8ミリモル)およ
びヨウ素(4.25g、16.73ミリモル)を前記ステッ
プ(ii)で得られる溶液に加え、室温で15時間撹拌す
る。次いで該溶液に10%Na223/飽和NaHC
3を加えて反応を停止する。混合物をエーテルで希釈
し、10%Na223/飽和NaHCO(2回)、
食塩水で洗浄し、次いでNa2SO4で乾燥し、濾過し、
濃縮して黄色油状物を得る。油状物をメルクシリカゲル
中、10〜20%トルエン/ヘキサンで溶離するフラッ
シュクロマトグラフィーに付して精製する。所望の画分
を合わせ、濃縮して標記化合物(1.064g、40%)を
黄色固体で得る(m.p.119〜122℃)。 TLC:Rf=0.44(1%EtOAc/ヘキサン)。 元素分析(C21182FIとして) 計算値:C56.77;H4.08;N6.31;F4.2
8;I28.56 実測値:C57.17;H4.03;N6.22;F4.5
3;I28.79。
【0076】(iv)(S)−4−[[[4−(4−フルオロフ
ェニル)−6−(1−メチルエチル)−2−フェニル−5
−ピリミジニル]エテニル]メトキシホスフィニル]−3
−[[(t−ブチル)ジフェニルシリル]オキシ]ブタン酸メ
チルエステル
【化76】 実施例1のステップ(vi)(e)で得られる(S)−4−
(ヒドロキシメトキシホスフィニル)−3−[[(t−ブチ
ル)ジフェニルシリル]オキシ]ブタン酸メチルエステル
・ジシクロヘキシルアミン(1:1)塩(2.690g、4.
25ミリモル)をEtOAcと5%KHSO4に分配す
る。EtOAc層を5%KHSO4(3回)、次いで食塩
水で洗浄し、乾燥(Na2SO4)し、濾過し、溶媒を除去
して無色油状物(ホスホン酸モノメチルエステル)を得
る。油状物を無水CH2Cl2(20ml)に溶解し、N,N
−ジエチルトリメチルシリルアミン(1.235g、8.5
0ミリモル)で処理する。室温で1時間撹拌後、溶媒を
減圧除去し、残渣を無水トルエン(20ml)と共沸する。
残渣を無水CH2Cl2(20ml)に再溶解し、0℃に冷却
し、DMF(0.062g、0.85ミリモル)と塩化オキ
サリル(0.647g、5.1ミリモル)で処理する。15
分後、溶液を室温まで暖め、さらに45分間撹拌する。
溶媒を除去し、ホスホノクロリデート、(S)−4−(ク
ロロ−メトキシホスフィニル)−3−[[(t−ブチル)ジ
フェニルシリル]オキシ]ブタン酸メチルエステルを黄色
残渣で得、トルエン(20ml)で共沸し、1時間減圧乾燥
(オイルポンプ)する。
【0077】分離フラスコ中、アルゴン下、−100℃
に冷却したt−ブチルリチウム(tBuLi)(1.7Mペ
ンタン溶液、2.78ml、4.72ミリモル)のテトラヒ
ドロフラン(10ml)の溶液に、テトラヒドロフラン(T
HF)(5ml)中の前記ステップ(iii)で得られる4−
(4−フルオロフェニル)−6−(1−メチルエチル)−2
−フェニル−5−(2−ヨードビニル)−ピリミジン(1.
050g、2.36ミリモル)を滴下する。該溶液を−1
00℃で20分間撹拌し、次いで−100℃に冷却した
上記で製造したホスホノクロリデートのTHF(15ml)
溶液にカニューレで10分間かけて加える。溶液を−1
00℃で15分間撹拌し、次いで飽和NH4Clを加え
て反応を停止し、0℃に暖め、次いで、飽和NaHCO
3を加える。溶液をエーテルで希釈し、有機層を食塩水
で洗浄し、Na2SO4で乾燥し、濾過し、濃縮して淡黄
色油状物を得る。油状物をメルクシリカゲル中、40〜
60%EtOAc/ヘキサンで溶離するフラッシュクロ
マトグラフィーに付して精製する。所望の画分を合わ
せ、蒸発して標記化合物(0.488g、27%)を黄色泡
状物で得る。 TLC:Rf=0.30(50%EtOAc/ヘキサ
ン)。
【0078】(v)(S)−4−[[2−[4−(4−フルオロ
フェニル)−6−(1−メチルエチル)−2−フェニル−
5−ピリミジニル]エテニル]メトキシホスフィニル]−
3−ヒドロキシブタン酸メチルエステル
【化77】 THF(10ml)中の前記ステップ(iv)で得られる(S)
−4−[[[4−(4−フルオロフェニル)−6−(1−メチ
ルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニル]エテニ
ル]メトキシホスフィニル]−3−[[(t−ブチル)ジフェ
ニルシリル]オキシ]ブタン酸メチルエステル(0.475
g、0.63ミリモル)と酢酸(0.151g、2.52ミリ
モル)の溶液に(C49)4NF(1.0MTHF溶液、1.
90ml、1.90ミリモル)を加え、室温で16時間撹拌
する。溶液をEtOAcで希釈し、次いで5%KHSO
4(3回)で洗浄する。水層をEtOAcで逆抽出(2回)
し、有機層を合わせ、食塩水で洗浄し、次いでNa2
4で乾燥し、濾過し、濃縮して黄色油状物を得る。油
状物をエーテルに溶解し、CH22で処理する。過剰の
CH22をアルゴン気流で除去し、溶液を濃縮してオレ
ンジ色油状物を得る。油状物をメルクシリカゲル中、5
0%アセトン/ヘキサンで溶離するフラッシュクロマト
グラフィーに付して精製する。所望の画分を合わせ、濃
縮して標記化合物(0.300g、93%)を透明油状物で
得る。 TLC:Rf=0.47(50%アセトン/ヘキサン)。
【0079】実施例4 (S)−4−[[2−[4−(4−フルオロフェニル)−6−
(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニ
ル]エテニル]ヒドロキシホスフィニル]−3−ヒドロキ
シブタン酸ジナトリウム塩の製造
【化78】 ジオキサン(10ml)中の前記実施例3で得られる(S)−
4−[[2−[4−(4−フルオロフェニル)−6−(1−メ
チルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニル]エテニ
ル]メトキシホスフィニル]−3−ヒドロキシブタン酸メ
チルエステル(0.172g、0.34ミリモル)の溶液に
NaOH(1M水溶液、1.01ml、1.01ミリモル)を
滴下する。溶液を55℃に暖め、3時間撹拌する。次い
で混合物を濃縮して白色固体を得る。固体を水に溶解
し、HP−20樹脂を水(150ml)、50%MeOH/
水(300ml)、次いでMeOH(50ml)で順次溶離する
クロマトグラフィーに付す。所望の画分を合わせ、濃縮
する。得られる白色固体を水に溶解し、凍結乾燥して標
記化合物(0.140g、79%)を綿状白色固体で得る
(m.p.395℃(分解))。標記化合物は2.41モルの水
と水和する。 TLC:Rf=0.65(6:3:1=n−プロパノー
ル:NH4OH:H2O)。 元素分析(C25242FNa2PO5*2.41モルH2
として) 計算値:C52.51;H5.08;N4.90;F3.3
2;P5.42 実測値:C52.63;H4.84;N4.77;F3.6
4;P5.66。 旋光度:[α]D=−1.5゜(MeOH、c=0.33)。
【0080】実施例5 (S)−4−[[2−[4−(4−フルオロフェニル)−6−
(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニ
ル]エチル]メトキシホスフィニル]−3−ヒドロキシブ
タン酸メチルエステルの製造
【化79】 メタノール(30ml)中の前記実施例3で得られる(S)−
4−[[2−[4−(4−フルオロフェニル)−6−(1−メ
チルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニル]エテニ
ル]メトキシホスフィニル]−3−ヒドロキシブタン酸メ
チルエステル(0.125g、0.24ミリモル)の溶液に
10%Pd/C(0.026g、0.024ミリモル)を加
え、アルゴンで15分間パージする。次いで溶液をパー
ル装置にて水素50Psiの条件で6日間震盪する。パ
ール装置からフラスコを取り外し、セライトパッドで溶
液を濾過し、メタノールで洗浄する。濾液を濃縮して得
られる透明油状物をメルクシリカゲル中、30〜70%
アセトン/ヘキサンで溶離するフラッシュクロマトグラ
フィーに付して精製する。所望の画分を合わせ、濃縮し
て標記化合物(0.080g、64%)を白色固体で得る。 TLC:Rf=0.41(50%アセトン/ヘキサン)。
【0081】実施例6 (S)−4−[[2−[4−(4−フルオロフェニル)−6−
(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニ
ル]エチル]ヒドロキシホスフィニル]−3−ヒドロキシ
ブタン酸ジナトリウム塩の製造
【化80】 ジオキサン(5ml)中の前記実施例5で得られる(S)−4
−[[2−[4−(4−フルオロフェニル)−6−(1−メチ
ルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニル]エチル]
メトキシホスフィニル]−3−ヒドロキシブタン酸メチ
ルエステル(0.080g、0.156ミリモル)の溶液に
NaOH(1M水溶液、0.468ml、0.468ミリモ
ル)を加え、溶液を60℃に暖め、3.5時間撹拌する。
次いで混合物を濃縮して白色固体を得る。固体を水に溶
解し、HP−20樹脂を水(125ml)および50%Me
OH/水(300ml)で順次溶離するクロマトグラフィー
に付す。所望の画分を合わせ、濃縮する。得られる白色
固体を水に溶解し、凍結乾燥して標記化合物(0.070
g、85%)を綿状白色固体で得る(m.p.310℃(分
解))。 TLC:Rf=0.69(6:3:1=n−プロパノー
ル:NH4OH:H2O)。 元素分析(C25262FNa2PO5*2.73モルH2
として) 計算値:C51.80;H5.47;N4.83;F3.2
8;P5.34 実測値:C51.86;H5.48;N4.76;F3.5
0;P5.40 旋光度:[α]D=−1.3゜(MeOH、c=3.1mg/m
l)。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.5 識別記号 庁内整理番号 FI 技術表示箇所 C07D 239/46 8615−4C

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式: 【化1】 [式中、Aは 【化2】 で示される、HMG−CoAリダクターゼのHMG結合
    部位に結合することができるホスフィニル基含有結合側
    鎖であり、該ホスフィニル基を介して架橋鎖Xと結合す
    る;ZはHMG−CoAとは結合しないHMG−CoA
    リダクターゼの疎水性部位に結合することができる5−
    ピリミジニル、または5−ピリミジニル基含有基であ
    り、該5−ピリミジニル基を介して結合鎖Xと結合す
    る;およびXはAとZの架橋鎖である]で表される化合
    物およびその塩。
  2. 【請求項2】 一般式(I): 【化3】 [式中、Xは−(CH2)a−(aは1,2または3)、−C
    H=CH−、−C≡C−または−CH2O−(ここで、−
    CH2−または−O−のいずれかがZに結合する);Rは
    水素または低級アルキル;Zは一般式: 【化4】 (式中、R1、R2およびR3は独立して、(i)水素、(ii)
    アルキル、(iii)アリール、(iv)アラルキル、(v)アラル
    コキシ、(vi)ヘテロシクロ、(vii)シクロアルキル、(vi
    ii)アルコキシ、(ix)アルケニル、(x)シクロアルケニ
    ル、または(xi)ハロゲン);およびR4およびR5は独立
    して、(i)水素、(ii)アルキル、(iii)アリール、(iv)一
    般式: 【化5】 (式中、R6は水素、アルキルまたはアリール、およびR
    7はアルキルまたはアリール)で表される基、または(v)i
    〜iiiに含まれない基であって、その結合する原子とと
    もに、生体内で加水分解するエステル基を形成する基で
    ある]で表される化合物およびその塩。
  3. 【請求項3】 塩が医薬的に許容しうる塩である請求項
    2記載の化合物。
  4. 【請求項4】 一般式: 【化6】 で表されるホスフィニル側鎖の不斉中心がS配位である
    請求項2記載の化合物。
  5. 【請求項5】 Xが−CH2−CH2−、−CH=CH−
    (シスまたはトランス)、−C≡C−または−CH2O−
    (ここでは−CH2−がZに結合)である請求項2記載の
    化合物。
  6. 【請求項6】 Rが水素である請求項2記載の化合物。
  7. 【請求項7】 R4またはR5の少なくとも一方が、その
    結合する原子とともに化合物(I)の遊離酸またはアルカ
    リ金属塩、あるいはその結合する原子とともに化合物
    (I)の生体内で加水分解しうるエステルプロドラッグな
    どを形成する請求項2記載の化合物。
  8. 【請求項8】 R1がアリールおよびR2がアルキルであ
    る請求項2記載の化合物。
  9. 【請求項9】 R3がアリールである請求項2記載の化
    合物。
  10. 【請求項10】 (S)−4−[[[4−(4−フルオロフェ
    ニル)−6−(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−
    ピリミジニル]エチニル]メトキシホスフィニル]−3−
    ヒドロキシブタン酸メチルエステル;(S)−4−[[[4
    −(4−フルオロフェニル)−6−(1−メチルエチル)−
    2−フェニル−5−ピリミジニル]エチニル]ヒドロキシ
    ホスフィニル]−3−ヒドロキシブタン酸ジナトリウム
    塩;(S)−4−[[2−[4−(4−フルオロフェニル)−
    6−(1−メチルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジ
    ニル]エテニル]メトキシホスフィニル]−3−ヒドロキ
    シブタン酸メチルエステル;(S)−4−[[2−[4−(4
    −フルオロフェニル)−6−(1−メチルエチル)−2−
    フェニル−5−ピリミジニル]エテニル]ヒドロキシホス
    フィニル]−3−ヒドロキシブタン酸ジナトリウム塩;
    (S)−4−[[2−[4−(4−フルオロフェニル)−6−
    (1−メチルエチル)−2−フェニル−5−ピリミジニ
    ル]エチル]メトキシホスフィニル]−3−ヒドロキシブ
    タン酸メチルエステル;および(S)−4−[[2−[4−
    (4−フルオロフェニル)−6−(1−メチルエチル)−2
    −フェニル−5−ピリミジニル]エチル]ヒドロキシホス
    フィニル]−3−ヒドロキシブタン酸ジナトリウム塩か
    らなる群から選ばれる請求項2記載の化合物。
  11. 【請求項11】 請求項2記載の化合物を有効成分とす
    る抗高コレステロール血症剤。
  12. 【請求項12】 請求項2記載の化合物を有効成分とす
    る抗高脂血症剤。
  13. 【請求項13】 請求項2記載の化合物を有効成分とす
    る抗アテローム性動脈硬化症剤。
  14. 【請求項14】 請求項2記載の化合物を有効成分とす
    る抗高リポタンパク血症剤。
  15. 【請求項15】 一般式(IIa): 【化7】 [式中、Lは−CH=CBr2、−CH=CCl2、−C
    ≡CH、−CH=CH−Sn(n−C49)3、−CH=
    CH−I、−(CH2)a−Cl(aは1,2または3)また
    は−OH;およびZは一般式: 【化8】 (式中、R1、R2およびR3は独立して、(i)水素、(ii)
    アルキル、(iii)アリール、(iv)アラルキル、(v)アラル
    コキシ、(vi)ヘテロシクロ、(vii)シクロアルキル、(vi
    ii)アルコキシ、(ix)アルケニル、(x)シクロアルケニ
    ル、または(xi)ハロゲン)である]で表される化合物;一
    般式(IIb): 【化9】 [式中、Xは−C≡C−、−CH=CH−または−OC
    2−(ここでは−CH2−がZに結合);「プロ」は開裂
    しうる保護基;R4’およびR5’は独立してアリールま
    たはアルキル;Rは水素またはアルキル;およびZは化
    合物(IIa)における定義と同意義である]で表される
    化合物;一般式(IIc): 【化10】 [式中、Zは化合物(IIa)における定義と同意義;お
    よび(i)E1およびE2は−OR4’(R4’は化合物(II
    b)における定義と同意義);およびX*は−CH2−C
    H(OH)−、−CH=CH−、−(CH2)a−(aは1,
    2または3)もしくは−CH2O−;(ii)E1は−O
    4’、E2は−Clまたは−F;およびX*は−CH=
    CH−、−(CH2)a−(aは1,2または3)もしくは−
    CH2O−;または(iii)E1は−OR4’、E2は−O
    H;およびX*は−CH=CH−、−(CH2)a−(aは
    1,2または3)、−CH2O−である]で表される化合
    物;一般式(IId): 【化11】 [式中、Xは−CH=CH−、−(CH2)a−(aは1,2
    または3)もしくは−CH2O−(ここでは−CH2−また
    は−O−がZに結合);R4’、ZおよびR5’は化合物
    (IIb)における定義と同意義である]で表される化合
    物;または一般式(IIe): 【化12】 [式中、R4’、R5’Rおよび「プロ」は化合物(II
    b)における定義と同意義である]で表される化合物から
    なる群から選ばれる化合物。
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