JPH05142785A - 照射された感放射線ポジ作動性およびネガ作動性および反転性の複写層用現像液組成物およびかかる層の現像法 - Google Patents
照射された感放射線ポジ作動性およびネガ作動性および反転性の複写層用現像液組成物およびかかる層の現像法Info
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- JPH05142785A JPH05142785A JP3244383A JP24438391A JPH05142785A JP H05142785 A JPH05142785 A JP H05142785A JP 3244383 A JP3244383 A JP 3244383A JP 24438391 A JP24438391 A JP 24438391A JP H05142785 A JPH05142785 A JP H05142785A
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【目的】 感放射線化合物または感放射線化合物の組み
合わせに加えて必須成分として水不溶性であるが水性−
アルカリ性溶液に可溶性である結合剤を含有する感放射
線ポジ作動性およびネガ作動性および反転性複写層用現
像液組成物を提供する。 【構成】 必須成分として、 ａ）Ｏ−カルボキシメチル−またはＯ，Ｏ′−ビス−カ
ルボキシメチルエチレングリコールまたは２〜約５００
個のエチレングリコール単位を含む適宜置換されたポリ
エチレングリコール、 ｂ）アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ケイ酸塩、ア
ルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属ホウ酸塩、水酸化ア
ンモニウム、ケイ酸アンモニウム、リン酸アンモニウム
およびホウ酸アンモニウムを含めた群から選ばれる少な
くとも１種の化合物、および ｃ）水を含有する現像液組成物。
合わせに加えて必須成分として水不溶性であるが水性−
アルカリ性溶液に可溶性である結合剤を含有する感放射
線ポジ作動性およびネガ作動性および反転性複写層用現
像液組成物を提供する。 【構成】 必須成分として、 ａ）Ｏ−カルボキシメチル−またはＯ，Ｏ′−ビス−カ
ルボキシメチルエチレングリコールまたは２〜約５００
個のエチレングリコール単位を含む適宜置換されたポリ
エチレングリコール、 ｂ）アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ケイ酸塩、ア
ルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属ホウ酸塩、水酸化ア
ンモニウム、ケイ酸アンモニウム、リン酸アンモニウム
およびホウ酸アンモニウムを含めた群から選ばれる少な
くとも１種の化合物、および ｃ）水を含有する現像液組成物。
Description
【０００１】本発明は、感放射線化合物または感放射線
化合物の組み合わせに加えて必須成分として水不溶性で
あるが水性−アルカリ性溶液に可溶性である結合剤を含
有する感放射線ポジ作動性およびネガ作動性および反転
性の（reversible）複写（reprographic）層用現像液組
成物に関する。この現像液組成物は、収率、現像速度お
よび画線部と非画線部との間の弁別の点で特に有利な性
質を示し且つ泡または望ましくないデポジットの形成の
傾向がない。本発明の現像液組成物を使用して、急勾配
の階調が、感光性重合体またはエポキシド基準のポジ作
動性またはネガ作動性または反転性の複製（reproducti
on）層を加工する時に達成される。また、本発明は、前
記種類の複写層を前記現像液組成物で現像するための方
法に関する。
化合物の組み合わせに加えて必須成分として水不溶性で
あるが水性−アルカリ性溶液に可溶性である結合剤を含
有する感放射線ポジ作動性およびネガ作動性および反転
性の（reversible）複写（reprographic）層用現像液組
成物に関する。この現像液組成物は、収率、現像速度お
よび画線部と非画線部との間の弁別の点で特に有利な性
質を示し且つ泡または望ましくないデポジットの形成の
傾向がない。本発明の現像液組成物を使用して、急勾配
の階調が、感光性重合体またはエポキシド基準のポジ作
動性またはネガ作動性または反転性の複製（reproducti
on）層を加工する時に達成される。また、本発明は、前
記種類の複写層を前記現像液組成物で現像するための方
法に関する。
【０００２】露光時に露光部を水性−アルカリ性現像液
に可溶性にさせる感光性化合物を含有するポジ作動性複
写層は、既知である。大抵の場合には、この種の層は、
感光性化合物として１，２−キノンジアジドを含有し且
つフェノール樹脂などのアルカリ可溶性樹脂が、これら
の層に追加的に含有されてもよい。
に可溶性にさせる感光性化合物を含有するポジ作動性複
写層は、既知である。大抵の場合には、この種の層は、
感光性化合物として１，２−キノンジアジドを含有し且
つフェノール樹脂などのアルカリ可溶性樹脂が、これら
の層に追加的に含有されてもよい。
【０００３】また、照射時に酸を生成する化合物（酸に
よってオルトカルボン酸誘導体、単量体および重合体ア
セタール、エノールエーテル、シリルエーテル、アシル
イミノカーボネートなどの酸開裂性化合物を分裂させ
る）をベースとする層が既知である。有機ハロゲン化合
物、特にハロゲン−メチル置換ｓトリアジンが、大抵の
場合に感放射線酸脱離化合物として使用されている。こ
こでも、アルカリ可溶性樹脂が、結合剤として使用され
ている。
よってオルトカルボン酸誘導体、単量体および重合体ア
セタール、エノールエーテル、シリルエーテル、アシル
イミノカーボネートなどの酸開裂性化合物を分裂させ
る）をベースとする層が既知である。有機ハロゲン化合
物、特にハロゲン−メチル置換ｓトリアジンが、大抵の
場合に感放射線酸脱離化合物として使用されている。こ
こでも、アルカリ可溶性樹脂が、結合剤として使用され
ている。
【０００４】また、１，２−キノンジアジドをベースと
するポジ作動性コピー材料を或る一連の加工工程に付す
ことによって、前記材料を場合によって好適な添加剤の
存在下でネガ作動性コピー材料として使用することが既
知である。
するポジ作動性コピー材料を或る一連の加工工程に付す
ことによって、前記材料を場合によって好適な添加剤の
存在下でネガ作動性コピー材料として使用することが既
知である。
【０００５】更に、１，２−キノンジアジドの代わりに
酸開裂性化合物をベースとする材料のポジ−ネガ反転法
は、ＥＰ−Ａ第０，０８２，４６３号明細書（＝米国特
許第４，５０６，００６号明細書）に開示されている。
酸開裂性化合物をベースとする材料のポジ−ネガ反転法
は、ＥＰ−Ａ第０，０８２，４６３号明細書（＝米国特
許第４，５０６，００６号明細書）に開示されている。
【０００６】既知の反転法は、主として同じ一連の加工
工程からなり、即ち、露光後、印刷版を加熱し、冷却
し、次いで、原画なしに後露光し、最後に水性−アルカ
リ性現像液で現像している。
工程からなり、即ち、露光後、印刷版を加熱し、冷却
し、次いで、原画なしに後露光し、最後に水性−アルカ
リ性現像液で現像している。
【０００７】反転法の実際的な応用の場合には、個々の
プロセス工程の安全性能および狭い限定内での結果の信
頼できる再現性は、肝要な重要性を有する。
プロセス工程の安全性能および狭い限定内での結果の信
頼できる再現性は、肝要な重要性を有する。
【０００８】ネガ作動性感放射線系としては、特に、エ
チレン性不飽和単量体と光開始剤との組み合わせおよび
エポキシド化合物と照射時に強酸を脱離する物質との組
み合わせが挙げられている。前記系の組み合わせも既知
である。これらの複写層は、水性−アルカリ性系に可溶
性である結合剤、好ましくはカルボキシル側基を有する
重縮合物または重合体を含有している。
チレン性不飽和単量体と光開始剤との組み合わせおよび
エポキシド化合物と照射時に強酸を脱離する物質との組
み合わせが挙げられている。前記系の組み合わせも既知
である。これらの複写層は、水性−アルカリ性系に可溶
性である結合剤、好ましくはカルボキシル側基を有する
重縮合物または重合体を含有している。
【０００９】感放射線層用現像液組成物および現像法ま
たはそれぞれそれから製造された複製材料は、多数の要
件、特に下記要件を満たさなければならない。 １． 現像液に増大量の除去層成分を装入する時にさ
え、現像液の収率は高くあるべきであり、即ち、複写層
に関する現像液の性能は、できるだけ一定のままである
べきであり且つ色調限度、即ち、層を基体からもはや完
全には除去しない場合の現像液の装入度ができるだけ高
くあるべきである。
たはそれぞれそれから製造された複製材料は、多数の要
件、特に下記要件を満たさなければならない。 １． 現像液に増大量の除去層成分を装入する時にさ
え、現像液の収率は高くあるべきであり、即ち、複写層
に関する現像液の性能は、できるだけ一定のままである
べきであり且つ色調限度、即ち、層を基体からもはや完
全には除去しない場合の現像液の装入度ができるだけ高
くあるべきである。
【００１０】２． 現像法は、層上への現像液の短い作
用期間後に終了すべきである。このことは、加工を加工
ラインの一部分である自動化現像ステーションで行う時
に特定の重要性を有する。短い加工サイクルのため、若
干の場合に現像に見込まれる時間は、３０秒よりもはる
かに短い。
用期間後に終了すべきである。このことは、加工を加工
ラインの一部分である自動化現像ステーションで行う時
に特定の重要性を有する。短い加工サイクルのため、若
干の場合に現像に見込まれる時間は、３０秒よりもはる
かに短い。
【００１１】３． 現像過度に対する抵抗性は、良好で
あるべきであり、即ち、ポジ加工の場合には、未露光層
部は、現像液によって攻撃されるべきではなく、ネガ加
工の場合には、露光層部は、現像液によって攻撃される
べきではなく、反転加工の場合には、露光硬化層部は、
現像液によって攻撃されるべきではない。このことは、
反復現像、例えば、写真植字時における反復現像の場合
でさえ、画像が損傷されないことを保証する。更に、比
較的古いコピー層さえも満足に加工できる。
あるべきであり、即ち、ポジ加工の場合には、未露光層
部は、現像液によって攻撃されるべきではなく、ネガ加
工の場合には、露光層部は、現像液によって攻撃される
べきではなく、反転加工の場合には、露光硬化層部は、
現像液によって攻撃されるべきではない。このことは、
反復現像、例えば、写真植字時における反復現像の場合
でさえ、画像が損傷されないことを保証する。更に、比
較的古いコピー層さえも満足に加工できる。
【００１２】４． 現像時に、発泡が起こるべきではな
く、デポジットも形成すべきではない。発泡形成および
デポジット形成によって現像装置は汚れ、このことはメ
ンテナンスに増大された費用を必要とする。
く、デポジットも形成すべきではない。発泡形成および
デポジット形成によって現像装置は汚れ、このことはメ
ンテナンスに増大された費用を必要とする。
【００１３】５． 使用する現像液の種類によって強く
影響される階調は、できるだけ急勾配であるべきであ
る。このことは、ポジ加工の場合とネガ加工の場合との
両方において改善されたドット複製を可能にする。
影響される階調は、できるだけ急勾配であるべきであ
る。このことは、ポジ加工の場合とネガ加工の場合との
両方において改善されたドット複製を可能にする。
【００１４】一般に、特に反転加工の場合には、上記要
件のすべてを満たす現像液を提供することが非常に困難
であると言われている。
件のすべてを満たす現像液を提供することが非常に困難
であると言われている。
【００１５】ＥＰ−Ａ第０，１０１，０１０号明細書
（＝米国特許第４，５３０，８９５号明細書）は、シリ
ケート、ベンゾエートおよび第四級アンモニウム水酸化
物を含有し且つ現像後に急勾配の階調を生ずる水性−ア
ルカリ性現像液を開示している。しかしながら、この現
像液は、印刷版を現像するのに使用するならば基体材料
の親水特性を損ない、従って、その適用は非常に問題と
なる。
（＝米国特許第４，５３０，８９５号明細書）は、シリ
ケート、ベンゾエートおよび第四級アンモニウム水酸化
物を含有し且つ現像後に急勾配の階調を生ずる水性−ア
ルカリ性現像液を開示している。しかしながら、この現
像液は、印刷版を現像するのに使用するならば基体材料
の親水特性を損ない、従って、その適用は非常に問題と
なる。
【００１６】ＤＥ−Ａ第３２ ２３ ３８６号明細書
（＝米国特許第４，３７４，９２０号明細書）および米
国特許第３，５８６，５０４号明細書は、非イオン界面
活性剤、例えば、脂肪酸アミドまたはエトキシ化アルカ
ノール、アルキンジオールおよびフェノール類を水性−
アルカリ性現像液に加えることを開示している。この種
の現像液を使用する時には、急勾配の階調および短い現
像時間が達成されるが、層成分のデポジットの形成が、
上記問題を生ずる。
（＝米国特許第４，３７４，９２０号明細書）および米
国特許第３，５８６，５０４号明細書は、非イオン界面
活性剤、例えば、脂肪酸アミドまたはエトキシ化アルカ
ノール、アルキンジオールおよびフェノール類を水性−
アルカリ性現像液に加えることを開示している。この種
の現像液を使用する時には、急勾配の階調および短い現
像時間が達成されるが、層成分のデポジットの形成が、
上記問題を生ずる。
【００１７】ＥＰ−Ｂ第０，１７８，４９５号明細書
は、キノンジアジドスルホン酸およびアルカリ可溶性樹
脂を含有する照射された感放射線ポジ作動性層を現像す
るための多段法を記載しており、この多段法においては
照射された層をフルオロカーボンまたはカルボキシル化
界面活性剤を含有する水性−アルカリ性溶液で処理して
いる。カルボキシル化界面活性剤としては、脂肪アルコ
ールおよびヒドロキシ酢酸、ヒドロキシプロピオン酸ま
たはヒドロキシ酪酸でエーテル化された（ポリ）グリコ
ールも挙げられている。
は、キノンジアジドスルホン酸およびアルカリ可溶性樹
脂を含有する照射された感放射線ポジ作動性層を現像す
るための多段法を記載しており、この多段法においては
照射された層をフルオロカーボンまたはカルボキシル化
界面活性剤を含有する水性−アルカリ性溶液で処理して
いる。カルボキシル化界面活性剤としては、脂肪アルコ
ールおよびヒドロキシ酢酸、ヒドロキシプロピオン酸ま
たはヒドロキシ酪酸でエーテル化された（ポリ）グリコ
ールも挙げられている。
【００１８】ＤＥ−Ａ第３９ １５ １４１号明細書に
開示のアリールエーテルサルフェートおよびＯ−脂肪ア
ルキル−Ｏ′−カルボキシメチル−（ポリ）−エチレン
グリコールをベースとするＥＰ−Ａ第０，１７８，４９
６号明細書およびＥＰ−Ａ第０，２０９，１５３号明細
書に開示の水性−アルカリ性現像液を使用すると、優秀
な現像結果が達成されることは真実であるが、これらの
現像液は、許容できない程強い泡形成を示す。
開示のアリールエーテルサルフェートおよびＯ−脂肪ア
ルキル−Ｏ′−カルボキシメチル−（ポリ）−エチレン
グリコールをベースとするＥＰ−Ａ第０，１７８，４９
６号明細書およびＥＰ−Ａ第０，２０９，１５３号明細
書に開示の水性−アルカリ性現像液を使用すると、優秀
な現像結果が達成されることは真実であるが、これらの
現像液は、許容できない程強い泡形成を示す。
【００１９】ＥＰ−Ａ第０，２７９，６３０号明細書
は、それぞれキノンジアジドまたはジアゾニウム塩をベ
ースとするポジ作動性およびネガ作動性コピー層用現像
液を開示している。この現像液は、アルカリ反応を示す
物質、還元剤、非イオン界面活性剤または陽イオン界面
活性剤および芳香族カルボン酸、例えば、芳香環上で置
換されてもよい安息香酸を含む。非イオン界面活性剤ま
たは陽イオン界面活性剤の含量は、上記加工時に損傷を
もたらす。この刊行物は、反転法における現像液の使用
を開示していない。
は、それぞれキノンジアジドまたはジアゾニウム塩をベ
ースとするポジ作動性およびネガ作動性コピー層用現像
液を開示している。この現像液は、アルカリ反応を示す
物質、還元剤、非イオン界面活性剤または陽イオン界面
活性剤および芳香族カルボン酸、例えば、芳香環上で置
換されてもよい安息香酸を含む。非イオン界面活性剤ま
たは陽イオン界面活性剤の含量は、上記加工時に損傷を
もたらす。この刊行物は、反転法における現像液の使用
を開示していない。
【００２０】ＥＰ−Ａ第０，２７４，０４４号明細書
は、特に反転性複製層の加工に適している現像液に関す
る。現像液は、必須成分として、アルカリ、エチレンオ
キシド／プロピレンオキシドブロック共重合体を含有し
および場合によってデポジットの形成を防止するために
リン酸エステルを含有する。この現像液組成物は、反転
性コピー層を加工する時にさえ良好な結果を与える。し
かしながら、デポジットの形成を有効に抑制するのに必
要とされるリン酸エステルの量は、現像液の発泡を生ず
るのに十分な程高く、従って、現像液の組成は理想的で
はない。
は、特に反転性複製層の加工に適している現像液に関す
る。現像液は、必須成分として、アルカリ、エチレンオ
キシド／プロピレンオキシドブロック共重合体を含有し
および場合によってデポジットの形成を防止するために
リン酸エステルを含有する。この現像液組成物は、反転
性コピー層を加工する時にさえ良好な結果を与える。し
かしながら、デポジットの形成を有効に抑制するのに必
要とされるリン酸エステルの量は、現像液の発泡を生ず
るのに十分な程高く、従って、現像液の組成は理想的で
はない。
【００２１】それゆえ、本発明の目的は、感放射線化合
物または感放射線化合物の組み合わせに加えて必須成分
として水不溶性であるが水性−アルカリ性系に可溶性で
ある結合剤を含有する感放射線ポジ作動性およびネガ作
動性および反転性の複写層用現像液組成物、前記要件を
満たす現像液を提案することにある。本発明の別の目的
は、前記要望を満たす現像液組成物によって前記種類の
照射された感放射線層を現像するための方法を提供する
ことにある。
物または感放射線化合物の組み合わせに加えて必須成分
として水不溶性であるが水性−アルカリ性系に可溶性で
ある結合剤を含有する感放射線ポジ作動性およびネガ作
動性および反転性の複写層用現像液組成物、前記要件を
満たす現像液を提案することにある。本発明の別の目的
は、前記要望を満たす現像液組成物によって前記種類の
照射された感放射線層を現像するための方法を提供する
ことにある。
【００２２】本発明によれば、これらの目的は、必須成
分として、 ａ）Ｏ−カルボキシメチルエチレングリコールまたは
Ｏ，Ｏ′−ビス−カルボキシメチルエチレングリコール
または２〜約５００個のエチレングリコール単位を含む
適宜置換されたポリエチレングリコール、 ｂ）アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ケイ酸塩、ア
ルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属ホウ酸塩、水酸化ア
ンモニウム、ケイ酸アンモニウム、リン酸アンモニウム
およびホウ酸アンモニウムを含めた群から選ばれる少な
くとも１種の化合物、および ｃ）水 を含有する現像液によって達成される。
分として、 ａ）Ｏ−カルボキシメチルエチレングリコールまたは
Ｏ，Ｏ′−ビス−カルボキシメチルエチレングリコール
または２〜約５００個のエチレングリコール単位を含む
適宜置換されたポリエチレングリコール、 ｂ）アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ケイ酸塩、ア
ルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属ホウ酸塩、水酸化ア
ンモニウム、ケイ酸アンモニウム、リン酸アンモニウム
およびホウ酸アンモニウムを含めた群から選ばれる少な
くとも１種の化合物、および ｃ）水 を含有する現像液によって達成される。
【００２３】本発明の方法は、前記の３種の必須成分を
含有する現像液が前記種類の照射された感放射線層を現
像するのに使用されることを特徴とする。
含有する現像液が前記種類の照射された感放射線層を現
像するのに使用されることを特徴とする。
【００２４】約５〜約５０個のエチレングリコール単位
を含むＯ−カルボキシメチル−またはＯ，Ｏ′−ビス−
カルボキシメチルポリエチレングリコールが、特に好ま
しい。主として、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノールまたは他のヒドロキシ化合物でエーテル
化されたＯ−カルボキシメチル（ポリ）エチレングリコ
ールを使用することも可能である。化合物が界面活性特
性を有していないことが、この点で決定的である。現像
液に含有されるエーテル化（ポリ）エチレングリコール
の量は、一方で、ポリエーテルセグメントの縮合度に依
存し（高縮合度の場合には、少量ですむ）、他方で現像
液に加える更に他の物質の種類および量、pH値および処
理すべきコピー層の種類に依存する。適当には、最適量
は、各々の場合に試験によって決定される。一般に、組
成物の全重量に対して０．０１〜２０重量％、好ましく
は０．１〜１０重量％が適切である。ヒドロキシ酢酸で
エーテル化された（形式的に）（ポリ）エチレングリコ
ールは、ウイルアムソンのエーテル合成によって対応グ
リコールおよびクロロ酢酸から製造するか、有利には、
例えば、ＤＥ−Ａ第２９ ３６ １２３号明細書に記載
のように場合によって触媒の存在下で行う酸化によって
製造する。
を含むＯ−カルボキシメチル−またはＯ，Ｏ′−ビス−
カルボキシメチルポリエチレングリコールが、特に好ま
しい。主として、メタノール、エタノール、プロパノー
ル、ブタノールまたは他のヒドロキシ化合物でエーテル
化されたＯ−カルボキシメチル（ポリ）エチレングリコ
ールを使用することも可能である。化合物が界面活性特
性を有していないことが、この点で決定的である。現像
液に含有されるエーテル化（ポリ）エチレングリコール
の量は、一方で、ポリエーテルセグメントの縮合度に依
存し（高縮合度の場合には、少量ですむ）、他方で現像
液に加える更に他の物質の種類および量、pH値および処
理すべきコピー層の種類に依存する。適当には、最適量
は、各々の場合に試験によって決定される。一般に、組
成物の全重量に対して０．０１〜２０重量％、好ましく
は０．１〜１０重量％が適切である。ヒドロキシ酢酸で
エーテル化された（形式的に）（ポリ）エチレングリコ
ールは、ウイルアムソンのエーテル合成によって対応グ
リコールおよびクロロ酢酸から製造するか、有利には、
例えば、ＤＥ−Ａ第２９ ３６ １２３号明細書に記載
のように場合によって触媒の存在下で行う酸化によって
製造する。
【００２５】アルカリ反応を示す化合物のうち、アルカ
リ金属水酸化物、水酸化アンモニウムおよびテトラアル
キルアンモニウム水酸化物が好ましく、層基体がヒドロ
キシルイオンによって攻撃されるならば、アルカリ金属
ケイ酸塩およびケイ酸アンモニウムが好ましい。添加量
は、加工すべきコピー層にマッチしなければならず、一
般に、組成物の全重量に対して１〜２０重量％、好まし
くは５〜１０重量％である。
リ金属水酸化物、水酸化アンモニウムおよびテトラアル
キルアンモニウム水酸化物が好ましく、層基体がヒドロ
キシルイオンによって攻撃されるならば、アルカリ金属
ケイ酸塩およびケイ酸アンモニウムが好ましい。添加量
は、加工すべきコピー層にマッチしなければならず、一
般に、組成物の全重量に対して１〜２０重量％、好まし
くは５〜１０重量％である。
【００２６】加工すべきコピー層の種類に応じて、更に
他の添加剤を現像液に配合することが好都合であること
がある。
他の添加剤を現像液に配合することが好都合であること
がある。
【００２７】非常に短い現像時間を達成すべきであるな
らば、または高い割合のネガ作動性コピー層を加工すべ
きであるならば、溶媒、特にグリコールエーテルなどの
アルコールを加えることが好都合である。しかしなが
ら、現像過度に対するコピー層の抵抗性が一般に溶媒の
添加によって減少されるので、溶媒の添加量は、好まし
くは２重量％未満であるべきである。
らば、または高い割合のネガ作動性コピー層を加工すべ
きであるならば、溶媒、特にグリコールエーテルなどの
アルコールを加えることが好都合である。しかしなが
ら、現像過度に対するコピー層の抵抗性が一般に溶媒の
添加によって減少されるので、溶媒の添加量は、好まし
くは２重量％未満であるべきである。
【００２８】更に、現像液組成物は、表面張力を調整す
る１種または数種の界面活性物質を包含してもよい。特
に、現像液を噴霧によって塗布する場合には、５０mN／
ｍの最大表面張力が、コピー層の迅速な濡れを確保する
ために望ましい。陽イオン界面活性剤および陰イオン界
面活性剤を使用することが主として可能であるが、両性
界面活性剤、非イオン界面活性剤または界面活性剤の組
み合わせを使用することも可能である。
る１種または数種の界面活性物質を包含してもよい。特
に、現像液を噴霧によって塗布する場合には、５０mN／
ｍの最大表面張力が、コピー層の迅速な濡れを確保する
ために望ましい。陽イオン界面活性剤および陰イオン界
面活性剤を使用することが主として可能であるが、両性
界面活性剤、非イオン界面活性剤または界面活性剤の組
み合わせを使用することも可能である。
【００２９】現像液が使用前に水で希釈しなければなら
ない濃縮物の形態で市販されているならば、組成物は、
好都合には、希釈を水道の硬水で行う場合に沈殿を防止
するために、金属イオン封鎖剤、即ち、陰イオン錯体中
の多価金属イオンを結合する薬剤も含有する。これらの
硬水用軟化剤としては、特にＮａ2 Ｐ2 Ｏ7 、Ｎａ5 Ｐ
3 Ｏ3 、Ｎａ3 Ｐ3 Ｏ9 、Ｎａ2 Ｏ4 Ｐ（ＮａＯ3 Ｐ）
ＰＯ3 Ｎａ2 、CalgonR （ポリメタリン酸ナトリウム）
などのホスフェート、ポリアミノカルボン酸またはそれ
らの塩、例えば、エチレンジアミン四酢酸およびそのナ
トリウム塩およびカリウム塩、ジエチレントリアミン五
酢酸およびそのナトリウム塩およびカリウム塩、トリエ
チレンテトラミン六酢酸およびそのナトリウム塩および
カリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸
およびそのナトリウム塩およびカリウム塩、ニトリロ三
酢酸およびそのナトリウム塩およびカリウム塩、シクロ
ヘキサン−１，２−ジアミン四酢酸およびそのナトリウ
ム塩およびカリウム塩および２−ヒドロキシプロパン−
１，３−ジアミン四酢酸およびそのナトリウム塩および
カリウム塩が挙げられる。これらの軟化剤は、単独また
は互いの組み合わせで使用できる。最適量は、添加され
る水の硬度に依存するが、一般に、すぐ使用できる現像
液の全重量に対して０．０１〜０．５重量％である。
ない濃縮物の形態で市販されているならば、組成物は、
好都合には、希釈を水道の硬水で行う場合に沈殿を防止
するために、金属イオン封鎖剤、即ち、陰イオン錯体中
の多価金属イオンを結合する薬剤も含有する。これらの
硬水用軟化剤としては、特にＮａ2 Ｐ2 Ｏ7 、Ｎａ5 Ｐ
3 Ｏ3 、Ｎａ3 Ｐ3 Ｏ9 、Ｎａ2 Ｏ4 Ｐ（ＮａＯ3 Ｐ）
ＰＯ3 Ｎａ2 、CalgonR （ポリメタリン酸ナトリウム）
などのホスフェート、ポリアミノカルボン酸またはそれ
らの塩、例えば、エチレンジアミン四酢酸およびそのナ
トリウム塩およびカリウム塩、ジエチレントリアミン五
酢酸およびそのナトリウム塩およびカリウム塩、トリエ
チレンテトラミン六酢酸およびそのナトリウム塩および
カリウム塩、ヒドロキシエチルエチレンジアミン三酢酸
およびそのナトリウム塩およびカリウム塩、ニトリロ三
酢酸およびそのナトリウム塩およびカリウム塩、シクロ
ヘキサン−１，２−ジアミン四酢酸およびそのナトリウ
ム塩およびカリウム塩および２−ヒドロキシプロパン−
１，３−ジアミン四酢酸およびそのナトリウム塩および
カリウム塩が挙げられる。これらの軟化剤は、単独また
は互いの組み合わせで使用できる。最適量は、添加され
る水の硬度に依存するが、一般に、すぐ使用できる現像
液の全重量に対して０．０１〜０．５重量％である。
【００３０】コピー層基体がアルカリ性現像液による攻
撃に感受性であり、例えば、陽極酸化アルミニウム箔で
あるならば、腐食抑制剤を現像液組成物に加えることが
有利である。特に好適な腐食抑制剤としては、ＤＥ−Ａ
第２８ ３４ ９５８号明細書およびＥＰ−Ａ第０，０
７１，８２３号明細書に記載の金属塩およびＥＰ−Ａ第
０，０７１，８２３号明細書に記載のリチウム化合物が
挙げられる。
撃に感受性であり、例えば、陽極酸化アルミニウム箔で
あるならば、腐食抑制剤を現像液組成物に加えることが
有利である。特に好適な腐食抑制剤としては、ＤＥ−Ａ
第２８ ３４ ９５８号明細書およびＥＰ−Ａ第０，０
７１，８２３号明細書に記載の金属塩およびＥＰ−Ａ第
０，０７１，８２３号明細書に記載のリチウム化合物が
挙げられる。
【００３１】更に、現像液が現像時に沈殿の形成をもた
らすことがある添加剤（例えば、現像過度に対する抵抗
性を改良するための添加剤）を含有するならば、アリー
ルスルホネート、アリールカルボキシレート、リン酸エ
ステルなどのヒドロトロープ物質を、現像液に添加でき
る。
らすことがある添加剤（例えば、現像過度に対する抵抗
性を改良するための添加剤）を含有するならば、アリー
ルスルホネート、アリールカルボキシレート、リン酸エ
ステルなどのヒドロトロープ物質を、現像液に添加でき
る。
【００３２】現像液が比較的多量の１種以上の界面活性
剤を含有するならば、消泡剤を加えることが適当であ
る。
剤を含有するならば、消泡剤を加えることが適当であ
る。
【００３３】使用する感放射線コピー層または記録材料
および所要の加工工程を以下に記載する。
および所要の加工工程を以下に記載する。
【００３４】好ましいポジ作動性層としては、１，２−
キノンジアジド、特に１，２−ナフトキノン−２−ジア
ジド−４−スルホン酸またはカルボン酸または１，２−
ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸またはカ
ルボン酸のエステルまたはアミドをベースとするものが
挙げられる。この種の好適な化合物は、例えば、ＤＥ−
Ｃ第９３８，２３３号明細書（＝英国特許第７３９，６
５４号明細書）から既知である。
キノンジアジド、特に１，２−ナフトキノン−２−ジア
ジド−４−スルホン酸またはカルボン酸または１，２−
ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホン酸またはカ
ルボン酸のエステルまたはアミドをベースとするものが
挙げられる。この種の好適な化合物は、例えば、ＤＥ−
Ｃ第９３８，２３３号明細書（＝英国特許第７３９，６
５４号明細書）から既知である。
【００３５】反転性層は、好ましくは１，２−ナフトキ
ノン−２−ジアジド−４−スルホン酸の誘導体および画
像反転用プロセス寛容度を増大する更に他の添加剤、例
えば、ＤＥ−Ａ第３７ １１ ２６３号明細書および先
行の西独特許出願Ｐ第 ４００４ ７１９．９号明細書
に記載のものを含有する。
ノン−２−ジアジド−４−スルホン酸の誘導体および画
像反転用プロセス寛容度を増大する更に他の添加剤、例
えば、ＤＥ−Ａ第３７ １１ ２６３号明細書および先
行の西独特許出願Ｐ第 ４００４ ７１９．９号明細書
に記載のものを含有する。
【００３６】また、少なくとも１個の酸開裂性Ｃ−Ｏ−
Ｃ結合を含む化合物と照射時に強酸を分裂放出する化合
物との組み合わせを含有するポジ作動性反転性層を使用
することが可能である。
Ｃ結合を含む化合物と照射時に強酸を分裂放出する化合
物との組み合わせを含有するポジ作動性反転性層を使用
することが可能である。
【００３７】酸開裂性化合物の例としては、 ａ）重合体特性を有していてもよく且つ結合エレメント
としてオルトエステル基またはアミドアセタール基を主
鎖または側基のいずれかに含有するオルトカルボン酸エ
ステルおよびカルボン酸アミドアセタール、 ｂ）反復アセタールおよび／またはケタール基を主鎖に
有するオリゴマーまたは重合体化合物、 ｃ）少なくとも１個のエノールエーテルまたはアシルイ
ミノカーボネート基を有する化合物、および ｄ）少なくとも１個のシリルエーテル基を有する化合物
が挙げられる。
としてオルトエステル基またはアミドアセタール基を主
鎖または側基のいずれかに含有するオルトカルボン酸エ
ステルおよびカルボン酸アミドアセタール、 ｂ）反復アセタールおよび／またはケタール基を主鎖に
有するオリゴマーまたは重合体化合物、 ｃ）少なくとも１個のエノールエーテルまたはアシルイ
ミノカーボネート基を有する化合物、および ｄ）少なくとも１個のシリルエーテル基を有する化合物
が挙げられる。
【００３８】感放射線混合物の成分としての種類ａ）の
酸開裂性化合物は、ＥＰ−Ａ第０，０３３，５７１号明
細書（＝米国特許第４，３１１，７８２号明細書）に記
載されている。種類ｂ）の化合物を含有する混合物は、
ＤＥ−Ｃ第２３ ０６ ２４８号明細書（＝米国特許第
３，７７９，７７８号明細書）に記載されている。種類
ｃ）の化合物は、ＥＰ−Ａ第０，００６，６２７号明細
書（＝米国特許第４，２４８，９５７号明細書）から既
知である。種類ｄ）の化合物は、ＥＰ−Ａ第０，１３
０，５９９号明細書、ＤＥ−Ａ第３５ ４４ １６５号
明細書およびＤＥ−Ａ第３６ ２８ ０４６号明細書か
ら既知である。
酸開裂性化合物は、ＥＰ−Ａ第０，０３３，５７１号明
細書（＝米国特許第４，３１１，７８２号明細書）に記
載されている。種類ｂ）の化合物を含有する混合物は、
ＤＥ−Ｃ第２３ ０６ ２４８号明細書（＝米国特許第
３，７７９，７７８号明細書）に記載されている。種類
ｃ）の化合物は、ＥＰ−Ａ第０，００６，６２７号明細
書（＝米国特許第４，２４８，９５７号明細書）から既
知である。種類ｄ）の化合物は、ＥＰ−Ａ第０，１３
０，５９９号明細書、ＤＥ−Ａ第３５ ４４ １６５号
明細書およびＤＥ−Ａ第３６ ２８ ０４６号明細書か
ら既知である。
【００３９】照射時に強酸を脱離する好適な感光性成分
としては、大多数の既知の化合物および混合物、例え
ば、ホスホニウム塩、スルホニウム塩およびヨードニウ
ム塩、ハロゲン化合物および有機金属／有機ハロゲン組
み合わせが挙げられる。
としては、大多数の既知の化合物および混合物、例え
ば、ホスホニウム塩、スルホニウム塩およびヨードニウ
ム塩、ハロゲン化合物および有機金属／有機ハロゲン組
み合わせが挙げられる。
【００４０】上記ホスホニウム、スルホニウムおよびヨ
ードニウム化合物は、一般に、有機溶媒に可溶性である
それらの塩の形態で、大抵の場合にはヘキサフルオロリ
ン酸、ヘキサフルオロアンチモン酸およびヘキサフルオ
ロヒ酸との分離生成物として使用される。
ードニウム化合物は、一般に、有機溶媒に可溶性である
それらの塩の形態で、大抵の場合にはヘキサフルオロリ
ン酸、ヘキサフルオロアンチモン酸およびヘキサフルオ
ロヒ酸との分離生成物として使用される。
【００４１】原則として、光化学遊離基開始剤として既
知のいかなる有機ハロゲン化合物も、例えば、炭素原子
上または芳香環上に少なくとも１個のハロゲン原子を有
するものは、ハロゲン化水素酸を生成するハロゲン含有
感光性化合物として有用である。これらの化合物のう
ち、ハロメチル基、特にトリクロロメチル基および芳香
族または不飽和置換基で置換されているｓ−トリアジン
誘導体、例えば、ＤＥ−Ａ第２７ １８ ２５９号明細
書（＝米国特許第４，１８９，３２３号明細書）に記載
のものが好ましい。また、２−トリクロロメチル−
（１，３，４）−オキサジアゾールを使用することが可
能である（ＤＥ−Ａ第２８ ５１ ４７１号明細書＝米
国特許第４，２１２，９７０号明細書）。これらのハロ
ゲン含有化合物の効果も、既知の増感剤によって影響さ
れ、スペクトル的に増大されることがある。
知のいかなる有機ハロゲン化合物も、例えば、炭素原子
上または芳香環上に少なくとも１個のハロゲン原子を有
するものは、ハロゲン化水素酸を生成するハロゲン含有
感光性化合物として有用である。これらの化合物のう
ち、ハロメチル基、特にトリクロロメチル基および芳香
族または不飽和置換基で置換されているｓ−トリアジン
誘導体、例えば、ＤＥ−Ａ第２７ １８ ２５９号明細
書（＝米国特許第４，１８９，３２３号明細書）に記載
のものが好ましい。また、２−トリクロロメチル−
（１，３，４）−オキサジアゾールを使用することが可
能である（ＤＥ−Ａ第２８ ５１ ４７１号明細書＝米
国特許第４，２１２，９７０号明細書）。これらのハロ
ゲン含有化合物の効果も、既知の増感剤によって影響さ
れ、スペクトル的に増大されることがある。
【００４２】これらの層に使用する結合剤は、例えば、
遊離フェノール性ヒドロキシル基を有する重縮合物また
は重合体である（フェノール性ヒドロキシル基の量は好
ましくは２〜９ミリモル／結合剤ｇである）。重縮合物
の例は、ノボラック型のフェノール樹脂またはヒドロキ
シル置換アラミドである。重合体の例は、ビニルフェノ
ール類の単独重合体および共重合体（ＤＥ−Ａ第２３
２２ ２３０号明細書＝米国特許第３，８６９，２９２
号明細書）、アクリル酸とフェノール類とのエステルの
重合体（ＥＰ−Ａ第０，２１２，４３９号明細書）また
はヒドロキシフェニルマレイミドの共重合体（ＥＰ−Ａ
第０，１８７，５１７号明細書）である。更に、Ｎ−Ｈ
−酸基を含有する結合剤、例えば、米国特許第４，７２
０，４４５号明細書またはＤＥ−Ａ第３４ ４５ ２７
６号明細書に記載のものが、好適である。
遊離フェノール性ヒドロキシル基を有する重縮合物また
は重合体である（フェノール性ヒドロキシル基の量は好
ましくは２〜９ミリモル／結合剤ｇである）。重縮合物
の例は、ノボラック型のフェノール樹脂またはヒドロキ
シル置換アラミドである。重合体の例は、ビニルフェノ
ール類の単独重合体および共重合体（ＤＥ−Ａ第２３
２２ ２３０号明細書＝米国特許第３，８６９，２９２
号明細書）、アクリル酸とフェノール類とのエステルの
重合体（ＥＰ−Ａ第０，２１２，４３９号明細書）また
はヒドロキシフェニルマレイミドの共重合体（ＥＰ−Ａ
第０，１８７，５１７号明細書）である。更に、Ｎ−Ｈ
−酸基を含有する結合剤、例えば、米国特許第４，７２
０，４４５号明細書またはＤＥ−Ａ第３４ ４５ ２７
６号明細書に記載のものが、好適である。
【００４３】好適なネガ作動性混合物としては、特にオ
レフィン性不飽和化合物、特に多価アルコールのアクリ
レートおよびメタクリレートと光開始剤との組み合わ
せ、または照射時に強酸を生成する化合物と酸の存在下
で重付加反応を受ける化合物との組み合わせであるもの
が挙げられる。また、例えば、ＥＰ−Ａ第０，１６７，
９３３号明細書およびＥＰ−Ａ第０，１８４，７２５号
明細書に記載のような異なる作用原理を有する化合物を
組み合わせることが可能である。
レフィン性不飽和化合物、特に多価アルコールのアクリ
レートおよびメタクリレートと光開始剤との組み合わ
せ、または照射時に強酸を生成する化合物と酸の存在下
で重付加反応を受ける化合物との組み合わせであるもの
が挙げられる。また、例えば、ＥＰ−Ａ第０，１６７，
９３３号明細書およびＥＰ−Ａ第０，１８４，７２５号
明細書に記載のような異なる作用原理を有する化合物を
組み合わせることが可能である。
【００４４】ネガ作動性混合物に好適な結合剤は、原則
として上記と同じ樹脂を包含する。しかしながら、カル
ボキシル側基を有する樹脂、例えば、ＤＥ−Ａ第３４
０４３６６号明細書およびＤＥ−Ａ第３６ ３８ ７５
７号明細書に記載のものが好ましい。
として上記と同じ樹脂を包含する。しかしながら、カル
ボキシル側基を有する樹脂、例えば、ＤＥ−Ａ第３４
０４３６６号明細書およびＤＥ−Ａ第３６ ３８ ７５
７号明細書に記載のものが好ましい。
【００４５】可撓性、接着性、光沢などの特別の要件を
満たすためには、感光性層は、多数の他の物質、例え
ば、ポリグリコール、セルロースエーテル、例えば、エ
チルセルロース、湿潤剤などを追加的に含有できる。更
に、染料または微分散性顔料を、感光性混合物に添加し
てもよい。
満たすためには、感光性層は、多数の他の物質、例え
ば、ポリグリコール、セルロースエーテル、例えば、エ
チルセルロース、湿潤剤などを追加的に含有できる。更
に、染料または微分散性顔料を、感光性混合物に添加し
てもよい。
【００４６】大抵の場合には、厚さ約１０μｍ未満を有
する層用基体として金属が使用される。オフセット印刷
版の場合には、下記のものが使用できる：ミル仕上げさ
れ、機械的におよび／または電気化学的に研磨されおよ
び場合によって陽極酸化されたアルミニウム（更に、例
えば、ポリビニルホスホン酸、シリケート、ホスフェー
ト、ヘキサフルオロジルコネートまたは加水分解テトラ
エチルオルトシリケートで化学的に前処理しておくこと
ができる）。基体は、既知の方法でスピンコーティン
グ、吹付け、浸漬コーティング、ローラー塗により、フ
ラットフィルムダイにより、ドクターブレードによる塗
布により、または流し塗により被覆される。
する層用基体として金属が使用される。オフセット印刷
版の場合には、下記のものが使用できる：ミル仕上げさ
れ、機械的におよび／または電気化学的に研磨されおよ
び場合によって陽極酸化されたアルミニウム（更に、例
えば、ポリビニルホスホン酸、シリケート、ホスフェー
ト、ヘキサフルオロジルコネートまたは加水分解テトラ
エチルオルトシリケートで化学的に前処理しておくこと
ができる）。基体は、既知の方法でスピンコーティン
グ、吹付け、浸漬コーティング、ローラー塗により、フ
ラットフィルムダイにより、ドクターブレードによる塗
布により、または流し塗により被覆される。
【００４７】露光のためには、蛍光灯、パルス化キセノ
ンランプ、金属ハライドドープ水銀蒸気高圧ランプ、カ
ーボンアークランプなどの通例の光源が、使用される。
本説明における露光または照射は、約５００nm未満の波
長範囲の化学電磁線の効果を意味することが理解され
る。この波長範囲内で放射するいかなる線源も、原則と
して好適である。例えば、アルゴンまたはクリプトンイ
オンレーザーを線源として含有するレーザービーム装
置、特に自動加工ユニットが、有利に使用できる。更
に、照射は、電子ビームを使用して行うことができる。
Ｘ線ビームも、画像発生に使用できる。
ンランプ、金属ハライドドープ水銀蒸気高圧ランプ、カ
ーボンアークランプなどの通例の光源が、使用される。
本説明における露光または照射は、約５００nm未満の波
長範囲の化学電磁線の効果を意味することが理解され
る。この波長範囲内で放射するいかなる線源も、原則と
して好適である。例えば、アルゴンまたはクリプトンイ
オンレーザーを線源として含有するレーザービーム装
置、特に自動加工ユニットが、有利に使用できる。更
に、照射は、電子ビームを使用して行うことができる。
Ｘ線ビームも、画像発生に使用できる。
【００４８】造像的または全体の露光または照射後に、
層を、常法により上記現像液組成物で現像できる。好ま
しくは、現像は、噴霧または浸漬プロセッサー中または
堰止めた現像浴中で１８〜５０℃の温度で行われ且つ現
像時間は約５秒〜約１分である。
層を、常法により上記現像液組成物で現像できる。好ま
しくは、現像は、噴霧または浸漬プロセッサー中または
堰止めた現像浴中で１８〜５０℃の温度で行われ且つ現
像時間は約５秒〜約１分である。
【００４９】現像後に更に他の加工工程を施すことがで
きる。印刷版の製版の場合に、英国特許第１，１５４，
７４９号明細書からジアゾ層の場合に既知のようにプリ
ントラン、または洗い流し剤、修正液およびＵＶ硬化性
印刷インキに対する抵抗性を増大するために印刷版を短
時間で高温に加熱すべきならば、これらは、例えば、酸
性溶液での親水化処理、保存コーティングの塗布または
いわゆるベーキング溶液の塗布からなる。
きる。印刷版の製版の場合に、英国特許第１，１５４，
７４９号明細書からジアゾ層の場合に既知のようにプリ
ントラン、または洗い流し剤、修正液およびＵＶ硬化性
印刷インキに対する抵抗性を増大するために印刷版を短
時間で高温に加熱すべきならば、これらは、例えば、酸
性溶液での親水化処理、保存コーティングの塗布または
いわゆるベーキング溶液の塗布からなる。
【００５０】下記例は、本発明の好ましい態様を説明す
るものである。重量部（ｐｂｗ）および容量部（ｐｂ
ｖ）は、ｇおよびcm3 と同じ関係を有する。特に断らな
い限り、％および比率は、重量単位で与える。感放射線
組成物の調製コーティング溶液を下記表１に従って調製
し、そして研磨され硫酸中で陽極酸化され且つポリビニ
ルホスホン酸で親水化されたアルミニウム基体上にスピ
ンコートする。遠心機の速度（rpm)を、乾燥層厚さ２μ
ｍが得られるように調整する。乾燥を１００℃で２分間
行う。
るものである。重量部（ｐｂｗ）および容量部（ｐｂ
ｖ）は、ｇおよびcm3 と同じ関係を有する。特に断らな
い限り、％および比率は、重量単位で与える。感放射線
組成物の調製コーティング溶液を下記表１に従って調製
し、そして研磨され硫酸中で陽極酸化され且つポリビニ
ルホスホン酸で親水化されたアルミニウム基体上にスピ
ンコートする。遠心機の速度（rpm)を、乾燥層厚さ２μ
ｍが得られるように調整する。乾燥を１００℃で２分間
行う。
【００５１】感光性混合物No. ４、５および７で被覆さ
れた材料をポリビニルアルコールの水溶液からなる０．
２μｍ厚の非感光性トップ層で追加的に被覆する（Ｋ値
４、残留アセチル基含量１２％）。
れた材料をポリビニルアルコールの水溶液からなる０．
２μｍ厚の非感光性トップ層で追加的に被覆する（Ｋ値
４、残留アセチル基含量１２％）。
【００５２】作用形態がＣ−Ｏ−Ｃ結合の酸触媒開裂に
基づく混合物の場合には、上記種類のトップ層の塗布
が、複製層の早期老化を防止し且つポジ加工の場合の熱
的後処理のために広い温度範囲を利用できるようにさせ
るために有利である（ＤＥ−Ａ第３７ １５ ７９０号
明細書参照）。光重合性層の場合には、ポリビニルアル
コールトップ層が、酸素バリヤー層として役立つ（ＤＥ
−Ｃ第１５ ７２ １６２号明細書参照）。
基づく混合物の場合には、上記種類のトップ層の塗布
が、複製層の早期老化を防止し且つポジ加工の場合の熱
的後処理のために広い温度範囲を利用できるようにさせ
るために有利である（ＤＥ−Ａ第３７ １５ ７９０号
明細書参照）。光重合性層の場合には、ポリビニルアル
コールトップ層が、酸素バリヤー層として役立つ（ＤＥ
−Ｃ第１５ ７２ １６２号明細書参照）。
【００５３】表１ 混合物１（反転性）： テトラヒドロフランとプロピレ
ングリコールモノメチルエーテルとからなる溶媒混合物
（５５：４５）１００．００ｐｂｗ中の平均分子量バー
Ｍｗ６，０００を有するｍ−クレゾール／ホルムアルデ
ヒドノボラック〔ゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰ
Ｃ）によって測定〕８．００ｐｂｗ 塩化１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホ
ニル１モルと４−（２−フェニルプロプ−２−イル）フ
ェノール１モルとから得られるエステル化物１．６０ｐ
ｂｗ 塩基としてのＤＥ−Ａ第３７ １１ ２６３号明細書に
係る２，４−ジエトキシ−６−ジエチルアミノ−ｓ−ト
リアジン０．４０ｐｂｗ クリスタルバイオレット（Ｃ．Ｉ．４２，５５５）０．
１０ｐｂｗおよびスダンイエローＧＧＮ（Ｃ．Ｉ．１
１，０２１）０．０２ｐｂｗ。
ングリコールモノメチルエーテルとからなる溶媒混合物
（５５：４５）１００．００ｐｂｗ中の平均分子量バー
Ｍｗ６，０００を有するｍ−クレゾール／ホルムアルデ
ヒドノボラック〔ゲル透過クロマトグラフィー（ＧＰ
Ｃ）によって測定〕８．００ｐｂｗ 塩化１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホ
ニル１モルと４−（２−フェニルプロプ−２−イル）フ
ェノール１モルとから得られるエステル化物１．６０ｐ
ｂｗ 塩基としてのＤＥ−Ａ第３７ １１ ２６３号明細書に
係る２，４−ジエトキシ−６−ジエチルアミノ−ｓ−ト
リアジン０．４０ｐｂｗ クリスタルバイオレット（Ｃ．Ｉ．４２，５５５）０．
１０ｐｂｗおよびスダンイエローＧＧＮ（Ｃ．Ｉ．１
１，０２１）０．０２ｐｂｗ。
【００５４】混合物２（反転性）： プロピレングリコ
ールモノメチルエーテル５０．００ｐｂｗおよびテトラ
ヒドロフラン５０．００ｐｂｗ中の混合物１と同様のｍ
−クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック８．５０ｐ
ｂｗ ２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１モルと塩
化１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニ
ル１モルとから得られるエステル化物１．７０ｐｂｗ ２，４−ビス−トリクロロメチル−６−ｐ−スチルベニ
ル−ｓ−トリアジン０．０６ｐｂｗ、およびクリスタル
バイオレット（Ｃ．Ｉ．４２，５５５）０．０７ｐｂ
ｗ。
ールモノメチルエーテル５０．００ｐｂｗおよびテトラ
ヒドロフラン５０．００ｐｂｗ中の混合物１と同様のｍ
−クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック８．５０ｐ
ｂｗ ２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１モルと塩
化１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホニ
ル１モルとから得られるエステル化物１．７０ｐｂｗ ２，４−ビス−トリクロロメチル−６−ｐ−スチルベニ
ル−ｓ−トリアジン０．０６ｐｂｗ、およびクリスタル
バイオレット（Ｃ．Ｉ．４２，５５５）０．０７ｐｂ
ｗ。
【００５５】混合物３（ポジ作動性）： 混合物１の溶
媒混合物１００．００ｐｂｗ中の混合物１と同様のｍ−
クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック８．００ｐｂ
ｗ ２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１モルと塩
化１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニ
ル３モルとから得られるエステル化物１．６０ｐｂｗ 塩化１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホ
ニル０．２５ｐｂｗ、およびクリスタルバイオレット
（Ｃ．Ｉ．４２，５５５）０．０７ｐｂｗ。
媒混合物１００．００ｐｂｗ中の混合物１と同様のｍ−
クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック８．００ｐｂ
ｗ ２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノン１モルと塩
化１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニ
ル３モルとから得られるエステル化物１．６０ｐｂｗ 塩化１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホ
ニル０．２５ｐｂｗ、およびクリスタルバイオレット
（Ｃ．Ｉ．４２，５５５）０．０７ｐｂｗ。
【００５６】混合物４（反転性）： 混合物１と同様の
溶媒混合物１００．００ｐｂｗ中の 平均分子量バーＭｗ２０，０００（ＧＰＣ）およびヒド
ロキシル価２８０を有するメタクリル酸２−ヒドロキシ
フェニルから得られる重合体５．００ｐｂｗ トリエチレングリコールと２−エチルブチルアルデヒド
との重縮合によって得られるオリゴマーアセタール（ヒ
ドロキシル価１４０）１．４０ｐｂｗ ２−（４−スチリルフェニル）−４，６−ビス−トリク
ロロメチル−ｓ−トリアジン０．２０ｐｂｗ、およびク
リスタルバイオレット（Ｃ．Ｉ．４２，５５５）０．０
３ｐｂｗ。
溶媒混合物１００．００ｐｂｗ中の 平均分子量バーＭｗ２０，０００（ＧＰＣ）およびヒド
ロキシル価２８０を有するメタクリル酸２−ヒドロキシ
フェニルから得られる重合体５．００ｐｂｗ トリエチレングリコールと２−エチルブチルアルデヒド
との重縮合によって得られるオリゴマーアセタール（ヒ
ドロキシル価１４０）１．４０ｐｂｗ ２−（４−スチリルフェニル）−４，６−ビス−トリク
ロロメチル−ｓ−トリアジン０．２０ｐｂｗ、およびク
リスタルバイオレット（Ｃ．Ｉ．４２，５５５）０．０
３ｐｂｗ。
【００５７】混合物５（ポジ作動性）： 混合物１と同
様の溶媒混合物１００．００ｐｂｗ中の 混合物４に記載の高分子結合剤８．００ｐｂｗ 塩化１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホ
ニル３モルと２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン１モルとから得られるエステル化物０．５０ｐｂｗ 混合物４と同様のオリゴマーアセタール１．２０ｐｂｗ ２−（４−スチリルフェニル）−４，６−ビス−トリク
ロロメチル−ｓ−トリアジン０．１５ｐｂｗ、およびク
リスタルバイオレット（Ｃ．Ｉ．４２，５５５）０．０
３ｐｂｗ。
様の溶媒混合物１００．００ｐｂｗ中の 混合物４に記載の高分子結合剤８．００ｐｂｗ 塩化１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホ
ニル３モルと２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン１モルとから得られるエステル化物０．５０ｐｂｗ 混合物４と同様のオリゴマーアセタール１．２０ｐｂｗ ２−（４−スチリルフェニル）−４，６−ビス−トリク
ロロメチル−ｓ−トリアジン０．１５ｐｂｗ、およびク
リスタルバイオレット（Ｃ．Ｉ．４２，５５５）０．０
３ｐｂｗ。
【００５８】混合物６（反転性）： テトラヒドロフラ
ンとプロピレングリコールモノメチルエーテルとからな
る溶媒混合物（５５：４５）１００．００ｐｂｗ中の 平均分子量バーＭｗ６，０００（ＧＰＣ）を有するｍ−
クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック８．００ｐｂ
ｗ 塩化１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホ
ニル１モルと２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン１モルとから得られるエステル化物１．６０ｐｂｗ 西独特許出願Ｐ第４０ ０４ ７１９．９号明細書に係
る、ポリエチレングリコール４００（１モル）とイソシ
アン酸フェニル２モルとから得られる反応生成物０．５
０ｐｂｗ クリスタルバイオレット（Ｃ．Ｉ．４２，５５５）０．
０７ｐｂｗおよびスダンイエローＧＧＮ（Ｃ．Ｉ．１
１，０２１）０．０２ｐｂｗ。
ンとプロピレングリコールモノメチルエーテルとからな
る溶媒混合物（５５：４５）１００．００ｐｂｗ中の 平均分子量バーＭｗ６，０００（ＧＰＣ）を有するｍ−
クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック８．００ｐｂ
ｗ 塩化１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−スルホ
ニル１モルと２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン１モルとから得られるエステル化物１．６０ｐｂｗ 西独特許出願Ｐ第４０ ０４ ７１９．９号明細書に係
る、ポリエチレングリコール４００（１モル）とイソシ
アン酸フェニル２モルとから得られる反応生成物０．５
０ｐｂｗ クリスタルバイオレット（Ｃ．Ｉ．４２，５５５）０．
０７ｐｂｗおよびスダンイエローＧＧＮ（Ｃ．Ｉ．１
１，０２１）０．０２ｐｂｗ。
【００５９】混合物７（ネガ作動性）： 混合物１と同
様の溶媒混合物１００．００ｐｂｗ中の メタクリル酸とメタクリル酸メチルとからなる共重合体
（酸価１９０）１０．００ｐｂｗ トリメチロールプロパントリアクリレート３．２０ｐｂ
ｗ ９−フェニルアクリジン０．０８ｐｂｗ ジベンザルアセトン０．０５ｐｂｗ、および下記構造
様の溶媒混合物１００．００ｐｂｗ中の メタクリル酸とメタクリル酸メチルとからなる共重合体
（酸価１９０）１０．００ｐｂｗ トリメチロールプロパントリアクリレート３．２０ｐｂ
ｗ ９−フェニルアクリジン０．０８ｐｂｗ ジベンザルアセトン０．０５ｐｂｗ、および下記構造
【化１】 を有するブルー染料０．０７ｐｂｗ。
【００６０】基体材料の研磨： 混合物１：塩酸 混合物２：塩酸 混合物３：硝酸 混合物４：塩酸 混合物５：湿式ブラッシング 混合物６：湿式ブラッシングと塩酸での研磨との組み合
わせ 混合物７：塩酸
わせ 混合物７：塩酸
【００６１】例１：１，２−キノンジアジドを含有するコピー層のポジ加工 表１に従って調製された記録材料No. ３を材料から１１
０cmの距離に配置された５ｋＷの金属ハライドランプに
よって密度増分０．１５を有する１３ステップ連続色調
ステップウェッジ（ヘキストＡＧから入手できる露光試
験ウェッジ「ＢＫ０１」）を通して６０秒間露光し、次
いで、下記表２に明記のような現像液を使用して現像す
る。
０cmの距離に配置された５ｋＷの金属ハライドランプに
よって密度増分０．１５を有する１３ステップ連続色調
ステップウェッジ（ヘキストＡＧから入手できる露光試
験ウェッジ「ＢＫ０１」）を通して６０秒間露光し、次
いで、下記表２に明記のような現像液を使用して現像す
る。
【００６２】下記試験判定基準を使用した： １． 現像時間３０秒後のクリーンステップおよび階調
（ベタからクリーンまでのゴーストステップの数）。 ２． ５秒間現像して現像挙動（色調の生起）を試験す
る。 ３． 現像液収率：この試験においては、コピー層１０
m2 を現像液１リットルで現像し、次いで、試験を行っ
て色調を含まない現像が依然として可能であるかどうか
を見つける。 ４． 現像過度に対する抵抗性：この試験の目的は３倍
の現像時間後（即ち、９０秒後）コピーされた中間調ウ
ェッジの最も微細なスクリーン領域が損傷されているか
どうかを見つけることである。 ５． 泡およびフレーク状デポジットの形成による現像
の損傷。
（ベタからクリーンまでのゴーストステップの数）。 ２． ５秒間現像して現像挙動（色調の生起）を試験す
る。 ３． 現像液収率：この試験においては、コピー層１０
m2 を現像液１リットルで現像し、次いで、試験を行っ
て色調を含まない現像が依然として可能であるかどうか
を見つける。 ４． 現像過度に対する抵抗性：この試験の目的は３倍
の現像時間後（即ち、９０秒後）コピーされた中間調ウ
ェッジの最も微細なスクリーン領域が損傷されているか
どうかを見つけることである。 ５． 泡およびフレーク状デポジットの形成による現像
の損傷。
【００６３】試験結果を下記表３に示す。それらは、本
発明の現像液組成物を使用すると、短い現像時間、良好
な現像液収率および急勾配の階調が現像過度に対する抵
抗性なしに、または一般的現像挙動に悪影響を及ぼさず
に達成できる一方、比較試験に使用した現像液が上記要
件のすべてを満たすことができないことを示す。
発明の現像液組成物を使用すると、短い現像時間、良好
な現像液収率および急勾配の階調が現像過度に対する抵
抗性なしに、または一般的現像挙動に悪影響を及ぼさず
に達成できる一方、比較試験に使用した現像液が上記要
件のすべてを満たすことができないことを示す。
【００６４】表２ 現像液No. １種以上の活性物質 量(wt%) １（Ｃ） ケイ酸カリウム 7.6 ２（Ｃ） ケイ酸カリウム 8.6 ３★（Ｃ） ケイ酸カリウム＋下式 8.6
【化２】 ４★★（Ｃ） ケイ酸カリウム＋ 8.6 Ｃ12Ｈ25−Ｏ−ＣＨ2 −ＣＨ2 −ＯＣＨ2 ＣＯＯＨ 0.2 ５★★★（Ｃ）ケイ酸カリウム＋ 8.6 TritonR Ｈ６６（ローム・アンド・ハース）＋ 2.5 SynperonicR Ｔ３０４（ＩＣＩ）（エチレンオキシ 0.2 ド／プロピレンオキシド共重合体） ６★★★（Ｃ）TritonR Ｈ６６を含まない以外は５（Ｃ）と同様 ７ ケイ酸カリウム＋ 8.6 Ｏ，Ｏ′−ビス−カルボキシメチルポリグリコール 0.5 ６００ ８ ケイ酸カリウム＋ 8.6 Ｏ，Ｏ′−ビス−カルボキシメチルポリグリコール 0.5 １０００ （Ｃ）比較★ ＤＥ−Ａ第３９ １５ １４１号明細書★★ ＥＰ−Ａ第０ １７８ ４９６号明細書★★★ ＥＰ−Ａ第０ ２７４ ０４４号明細書
【００６５】表３ 例 現像液 クリーン 階調 現像 現像液消費 現像過度に 現像の No. No. ステップ （ml/m2 ） 対する抵抗 損傷 性（分） 1-1 (C) 1 3 4 色調 ＞100 ＞1 - 1-2 (C) 2 4 5 無色調 ＜100 ＜1 - 1-3 (C) 3 3 3 無色調 ＜100 ＞1 泡 1-4 (C) 4 3 3 無色調 ＜100 ＞1 泡 1-5 (C) 5 3 3 無色調 ＜100 ＞1 泡 1-6 (C) 6 3 3 無色調 ＜100 ＞1 フレーク状 デポジット 1-7 7 3 3 無色調 ＜100 ＞1 - 1-8 8 3 3 無色調 ＜100 ＞1 - Ｃ＝比較例
【００６６】例２：１，２−キノンジアジドを含有する各種のコピー層のポ
ジ加工 表１に従って調製した記録材料を例１と同様に露光し、
現像し、評価する。下記表４は、得られた結果を総括し
且つ各種のコピー層組成物（１，２−キノンジアジド化
合物、コントラストエンハンサー、染料、反転剤）の場
合にさえ、優秀な結果が本発明に係る現像液組成物を使
用して達成されることを示す。
ジ加工 表１に従って調製した記録材料を例１と同様に露光し、
現像し、評価する。下記表４は、得られた結果を総括し
且つ各種のコピー層組成物（１，２−キノンジアジド化
合物、コントラストエンハンサー、染料、反転剤）の場
合にさえ、優秀な結果が本発明に係る現像液組成物を使
用して達成されることを示す。
【００６７】表４ 例 感放射線 現像液 クリー 階調 現像 現像液 現像過度 現像の 組成物 ンステ 消費 に対する 損傷 No. No. No. ップ （ml/m2 ）抵抗性 (表1) (表2) 2-1(C) 1 1 3 4 色調 ＞100 ＞1 - 2-2 1 7 3 3 無色調 ＜100 ＞1 - 2-3(C) 2 1 3 4 色調 ＞100 ＞1 - 2-4 2 7 3 3 無色調 ＜100 ＞1 - 2-5(C) 6 1 3 4 色調 ＞100 ＞1 -2-6 6 7 3 3 無色調 ＜100 ＞1 - Ｃ＝比較例
【００６８】例３：反転加工 上記表１に係る反転性コピー層を使用した反転加工の結
果を次の通り試験し、評価する。記録材料を例１に明記
の条件下で４０秒間露光し、次いで、１３０℃の循環空
気キャビネット中で２分間転化処理に付した後、原画な
しに４０秒間露光する。例１に記載の試験判定基準を使
用して、下記特性を評価した。 １． ベタステップ ２． 現像 ３． 現像過度に対する抵抗性 ４． 現像液の収率 ５． 現像法の損傷
果を次の通り試験し、評価する。記録材料を例１に明記
の条件下で４０秒間露光し、次いで、１３０℃の循環空
気キャビネット中で２分間転化処理に付した後、原画な
しに４０秒間露光する。例１に記載の試験判定基準を使
用して、下記特性を評価した。 １． ベタステップ ２． 現像 ３． 現像過度に対する抵抗性 ４． 現像液の収率 ５． 現像法の損傷
【００６９】試験結果を下記表５に示す。ここで再度、
各々の場合に、少なくとも１つの必須の判定基準が比較
現像液によっては満たされないことがわかる。
各々の場合に、少なくとも１つの必須の判定基準が比較
現像液によっては満たされないことがわかる。
【００７０】表５ 例 感放射線 現像液 クリー 現像 現像液 現像過度 現像の 組成物 ンステ 消費 に対する 損傷 No. No. No. ップ （ml/m2 ）抵抗性 (表1) (表2) （分） 3-1(C) 1 1 2 色調 ＞100 ＞1 - 3-2(C) 1 2 1 無色調 ＜100 ＜1 - 3-3(C) 1 3 2 無色調 ＜100 ＞1 泡 3-4(C) 1 4 2 無色調 ＜100 ＞1 泡 3-5(C) 1 5 2 無色調 ＜100 ＞1 泡 3-6(C) 1 6 2 無色調 ＜100 ＞1 フレーク状 デポジット 3-7 1 7 2 無色調 ＜100 ＞1 - 3-8 1 8 2 無色調 ＜100 ＞1 - 3-9 2 8 2 無色調 ＜100 ＞1 -3-10 6 8 2 無色調 ＜100 ＞1 - Ｃ＝比較例
【００７１】例４：混合加工ポジ−ネガ 感放射線組成物No. ４、５および７を使用して、混合ポ
ジ−ネガ反転加工を行う。 組成物No. ４を使用した反転加工： １． 連続色調ステップウェッジを通して２０秒間造像
的露光。 ２． １３５℃の循環空気キャビネット中で２分間転
化。 ３． 原画なしに４０秒間全露光。 組成物No. ５を使用したポジ加工： １． ２０秒間造像的露光。 ２． アセタール加水分解を完了するために８０℃で１
分間熱処理。 組成物No. ７を使用したネガ加工： １． ４０秒間造像的露光。
ジ−ネガ反転加工を行う。 組成物No. ４を使用した反転加工： １． 連続色調ステップウェッジを通して２０秒間造像
的露光。 ２． １３５℃の循環空気キャビネット中で２分間転
化。 ３． 原画なしに４０秒間全露光。 組成物No. ５を使用したポジ加工： １． ２０秒間造像的露光。 ２． アセタール加水分解を完了するために８０℃で１
分間熱処理。 組成物No. ７を使用したネガ加工： １． ４０秒間造像的露光。
【００７２】現像前に、ポリビニルアルコールトップ層
を水ですすぎ落とす。現像の場合には、それぞれ組成物
で使用する結合剤の高いヒドロキシル価または酸価のた
め、現像液を脱イオン水で１：２の比率で希釈する。下
記性質を評価する：フレーク状デポジット（ＦＤ）の形
成による現像の損傷、発泡（Ｆ）または遅延されるか不
均一な現像（−）。問題なしの現像を（＋）と示す。結
果を下記表６に示し、問題のない混合加工が本発明の現
像剤の場合に可能であることを示す。
を水ですすぎ落とす。現像の場合には、それぞれ組成物
で使用する結合剤の高いヒドロキシル価または酸価のた
め、現像液を脱イオン水で１：２の比率で希釈する。下
記性質を評価する：フレーク状デポジット（ＦＤ）の形
成による現像の損傷、発泡（Ｆ）または遅延されるか不
均一な現像（−）。問題なしの現像を（＋）と示す。結
果を下記表６に示し、問題のない混合加工が本発明の現
像剤の場合に可能であることを示す。
【００７３】表６ 例 現像剤 感放射線組成物No. No. No. ４ ５ ７ 反転 ポジ ネガ ４−１（Ｃ） １ − ＋ − ４−２（Ｃ） ２ ＋ ＋ − ４−３（Ｃ） ３ Ｆ Ｆ Ｆ ４−４（Ｃ） ４ Ｆ Ｆ Ｆ ４−５（Ｃ） ５ Ｆ Ｆ Ｆ ４−６（Ｃ） ６ ＦＤ ＦＤ ＋ ４−７ ７ ＋ ＋ ＋４−８ ８ ＋ ＋ ＋ （Ｃ）＝比較例
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 ハンス、ウエルナー、フラス ドイツ連邦共和国ウイースバーデン‐ナウ ロト、エルプゼンアーカー、37 (72)発明者 エルンスト、インゴ、ロイポルト ドイツ連邦共和国ノイ‐アンスパツハ、ア ウフ、デル、エルレンビーゼ、61
Claims (12)
- 【請求項１】感放射線化合物または感放射線化合物の組
み合わせに加えて必須成分として水不溶性であるが水性
−アルカリ性溶液に可溶性である結合剤を含有する感放
射線ポジ作動性、ネガ作動性および反転性の複写層用現
像液組成物であって、必須成分として、 ａ）Ｏ−カルボキシメチルエチレングリコールまたは
Ｏ，Ｏ′−ビス−カルボキシメチルエチレングリコール
または２〜約５００個のエチレングリコール単位を含む
適宜置換されたポリエチレングリコール、 ｂ）アルカリ金属水酸化物、アルカリ金属ケイ酸塩、ア
ルカリ金属リン酸塩、アルカリ金属ホウ酸塩、水酸化ア
ンモニウム、ケイ酸アンモニウム、リン酸アンモニウム
およびホウ酸アンモニウムを含めた群から選ばれる水溶
液中でアルカリ反応を示す少なくとも１種の化合物、お
よび ｃ）水 を含むことを特徴とする現像液組成物。 - 【請求項２】置換ポリエチレングリコールが、約５〜約
５０個のエチレングリコール単位を含有する、請求項１
に記載の現像液組成物。 - 【請求項３】組成物の全重量に対して０．０１〜２０重
量％の範囲のエーテル化（ポリ）エチレングリコール含
量を有する、請求項１または２に記載の現像液組成物。 - 【請求項４】アルカリ反応を示す物質が、アルカリ金属
水酸化物、アルカリ金属ケイ酸塩、水酸化アンモニウム
またはケイ酸アンモニウムである、請求項１ないし３の
いずれか１項に記載の現像液組成物。 - 【請求項５】現像液が、成分ａ）〜ｃ）に加えて有機溶
媒を含有する、請求項１ないし４のいずれか１項に記載
の現像液組成物。 - 【請求項６】現像液が、陽イオン界面活性剤、陰イオン
界面活性剤、非イオン界面活性剤および両性界面活性剤
を含めた群から選ばれる少なくとも１種の界面活性剤を
含有する、請求項１ないし５のいずれか１項に記載の現
像液組成物。 - 【請求項７】現像液が、金属イオン封鎖剤を含有する、
請求項１ないし６のいずれか１項に記載の現像液組成
物。 - 【請求項８】現像液が、腐食抑制剤を含有する、請求項
１ないし７のいずれか１項に記載の現像液組成物。 - 【請求項９】現像液が、ヒドロトロープ物質を含有す
る、請求項１ないし８のいずれか１項に記載の現像液組
成物。 - 【請求項１０】現像液が、消泡剤を含有する、請求項１
ないし９のいずれか１項に記載の現像液組成物。 - 【請求項１１】感放射線化合物または感放射線化合物の
組み合わせに加えて必須成分として水不溶性であるが水
性−アルカリ性溶液に可溶性である結合剤を含有する造
像的に露光された感放射線ポジ作動性およびネガ作動性
および反転性の複写層を現像するにあたり、請求項１な
いし１０のいずれか１項に記載の現像液組成物を使用し
て現像を行うことを特徴とする複写層の現像法。 - 【請求項１２】現像を温度１８〜５０℃で５秒〜１分間
行う、請求項１１に記載の方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE4027299A DE4027299A1 (de) | 1990-08-29 | 1990-08-29 | Entwicklerzusammensetzung fuer bestrahlte, strahlungsempfindliche, positiv und negativ arbeitende sowie umkehrbare reprographische schichten und verfahren zur entwicklung solcher schichten |
| DE4027299.0 | 1990-08-29 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH05142785A true JPH05142785A (ja) | 1993-06-11 |
| JP2630340B2 JP2630340B2 (ja) | 1997-07-16 |
Family
ID=6413147
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3244383A Expired - Lifetime JP2630340B2 (ja) | 1990-08-29 | 1991-08-29 | 照射された感放射線ポジ作動性およびネガ作動性および反転性の複写層用現像液組成物およびかかる層の現像法 |
Country Status (4)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5292626A (ja) |
| EP (1) | EP0474010B1 (ja) |
| JP (1) | JP2630340B2 (ja) |
| DE (2) | DE4027299A1 (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001242639A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-09-07 | Mitsubishi Chemicals Corp | ポジ画像形成方法及びそれに用いる現像液 |
Families Citing this family (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP0620483A1 (en) * | 1993-04-13 | 1994-10-19 | Agfa-Gevaert N.V. | Processing of silver halide photographic industrial X-ray films |
| DE4419166A1 (de) * | 1994-06-01 | 1995-12-07 | Hoechst Ag | Entwickler für Photoresistschichten |
| NL9400920A (nl) * | 1994-06-07 | 1996-01-02 | Davatech Europ V O F | Ontwikkelaarsamenstelling voor positiefwerkende lithografische drukplaten en werkwijze voor het ontwikkelen van positiefwerkende lithografische drukplaten. |
| US5871887A (en) * | 1994-06-29 | 1999-02-16 | The Procter & Gamble Company | Web patterning apparatus comprising a felt layer and a photosensitive resin layer |
| DE4423140A1 (de) * | 1994-07-01 | 1996-01-04 | Hoechst Ag | Hydrophiliertes Trägermaterial und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial |
| US5811221A (en) * | 1997-05-30 | 1998-09-22 | Kodak Polychrome Graphics, Llc | Alkaline developing composition and method of use to process lithographic printing plates |
| US6083662A (en) * | 1997-05-30 | 2000-07-04 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Methods of imaging and printing with a positive-working infrared radiation sensitive printing plate |
| US5998102A (en) * | 1997-10-06 | 1999-12-07 | Agfa Corporation | Etch inhibitors in developer for lithographic printing plates |
| DE19755131C2 (de) * | 1997-12-11 | 2002-10-31 | Infineon Technologies Ag | Lösung von Tetramethylammoniumhydroxid in Wasser und Verfahren zur Herstellung der Lösung |
| GB9802973D0 (en) * | 1998-02-13 | 1998-04-08 | Du Pont Uk | Improvements in the performance of printing plates |
| JP3328250B2 (ja) * | 1998-12-09 | 2002-09-24 | 岸本産業株式会社 | レジスト残渣除去剤 |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61185745A (ja) * | 1985-02-14 | 1986-08-19 | Toshiba Corp | ポジ型フオトレジスト現像液組成物 |
| JPS61215554A (ja) * | 1985-03-20 | 1986-09-25 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光性平版印刷版の現像液 |
| JPS63204254A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ホトレジストの現像方法 |
Family Cites Families (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US3586504A (en) * | 1969-10-24 | 1971-06-22 | Eastman Kodak Co | Photoresist developers and methods |
| GB1309092A (en) * | 1969-12-23 | 1973-03-07 | Pyrene Chemical Services Ltd | Process of and materials for cleaning the paintwork of road vehicles |
| US4374920A (en) * | 1981-07-27 | 1983-02-22 | American Hoechst Corporation | Positive developer containing non-ionic surfactants |
| DE3151078A1 (de) * | 1981-12-23 | 1983-07-28 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur herstellung von reliefbildern |
| DE3230171A1 (de) * | 1982-08-13 | 1984-02-16 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Waessrig-alkalische loesung und verfahren zum entwickeln von positiv-arbeitenden reproduktionsschichten |
| US4670372A (en) * | 1984-10-15 | 1987-06-02 | Petrarch Systems, Inc. | Process of developing radiation imaged photoresist with alkaline developer solution including a carboxylated surfactant |
| US4824769A (en) * | 1984-10-15 | 1989-04-25 | Allied Corporation | High contrast photoresist developer |
| US4613561A (en) * | 1984-10-17 | 1986-09-23 | James Marvin Lewis | Method of high contrast positive O-quinone diazide photoresist developing using pretreatment solution |
| CA1281578C (en) * | 1985-07-18 | 1991-03-19 | Susan A. Ferguson | High contrast photoresist developer with enhanced sensitivity |
| GB8628613D0 (en) * | 1986-11-29 | 1987-01-07 | Horsell Graphic Ind Ltd | Developing fluid for lithographic plates |
| EP0279630B1 (en) * | 1987-02-16 | 1993-10-13 | Konica Corporation | Developer for light-sensitive lithographic printing plate capable of processing commonly the negative-type and the positive type and developer composition for light-sensitive material |
| JP2626992B2 (ja) * | 1988-05-10 | 1997-07-02 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版用現像液組成物及び現像方法 |
-
1990
- 1990-08-29 DE DE4027299A patent/DE4027299A1/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-08-19 EP EP91113843A patent/EP0474010B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-08-19 DE DE59108882T patent/DE59108882D1/de not_active Expired - Lifetime
- 1991-08-27 US US07/750,313 patent/US5292626A/en not_active Expired - Lifetime
- 1991-08-29 JP JP3244383A patent/JP2630340B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS61185745A (ja) * | 1985-02-14 | 1986-08-19 | Toshiba Corp | ポジ型フオトレジスト現像液組成物 |
| JPS61215554A (ja) * | 1985-03-20 | 1986-09-25 | Konishiroku Photo Ind Co Ltd | 感光性平版印刷版の現像液 |
| JPS63204254A (ja) * | 1987-02-20 | 1988-08-23 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | ホトレジストの現像方法 |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2001242639A (ja) * | 1999-12-21 | 2001-09-07 | Mitsubishi Chemicals Corp | ポジ画像形成方法及びそれに用いる現像液 |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| US5292626A (en) | 1994-03-08 |
| DE59108882D1 (de) | 1997-12-11 |
| DE4027299A1 (de) | 1992-03-05 |
| EP0474010A1 (de) | 1992-03-11 |
| EP0474010B1 (de) | 1997-11-05 |
| JP2630340B2 (ja) | 1997-07-16 |
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