JP2001133991A - 照射された放射線感受性記録材料用の現像液 - Google Patents

照射された放射線感受性記録材料用の現像液

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    • G03F7/00Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/26Processing photosensitive materials; Apparatus therefor
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Abstract

(57)【要約】 (修正有) 【課題】 本発明は、照射を行った放射線感受性記録材
料、特にオフセット印刷版の製版で用いられる材料用の
現像液に関する。 【解決手段】 水と水溶液中でアルカリ性を示す化合
物、(I)場合により置換されていてもよい単環状もし
くは二環状(C6−C14)アリール基を少なくとも1つ
有する疎水性ビニル化合物と(II)親水性エチレン系
不飽和カルボン酸からなる単位を有していて乳化剤とし
て働く共重合体のカルボキシル基のいくらかの、(A)
(C1−C30)アルカノール、(C8−C25)アルカン
酸、(C1−C12)アルキルフェノールまたはジ(C1
20)アルキルアミンと(B)(C2−C4)アルキレン
オキサイドまたはテトラヒドロフランを1:2から1:
50の範囲の(A):(B)のモル比で反応させて得た
生成物によるエステル化物。水混和性有機溶媒および表
面活性化合物を含有する現像液。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は、照射をされた放射線感受性記録
材料用の現像液に関し、これには水と水溶液中でアルカ
リ性を示す少なくとも1種の化合物を含んでいる。前記
現像液は、特に、オフセット印刷版の製版で用いられる
放射線感受性記録材料の現像で用いるに適する。
【0002】初めに述べられている種類の水性アルカリ
現像液は下記の如き数多くの要求を満足される必要があ
る:それは高い生産性を示すべきである、即ち現像能力
が使用後に低下する度合は長期使用後、従って層から成
分が脱離することによって汚染物の量が増加した後でも
できるだけ僅かであるべきである。現像液が消費されそ
して層が非画像部分から完全には取り除かれなくなるい
わゆる「トーンリミット(tone limit)」は
できるだけ高くなければならない。勿論、前記現像液は
記録材料をできるだけ迅速かつ完全に現像すべきであ
る。このことは、特に、印刷版を加工ラインで機械的に
製造する時に重要である。サイクル時間(cycle
times)が短くなることから現像時間を実質的に3
0秒未満にする必要があり得る。
【0003】生態学的および経済的な理由で、前記現像
液を濃縮液の形態で提供してそれを消費者自身が水で希
釈することができるようにするのが有利である。水の硬
度は地域から地域で異なるが、それによって、直ちに使
える(ready−to−use)現像液の特性が影響
を受けてはならない。その結果として、水の硬度に対す
る感受性が低いことが要求される。
【0004】現像中に固体状の沈澱物が生成せず、また
それが生成しないようにすべきである。加うるに、泡が
発生すると現像液調製中ばかりでなく使用中のポンプ輸
送および移送が複雑になる。後者では現像装置が汚染さ
れる可能性があり、それによって保守のレベルが高くな
ってしまうか或は現像された記録材料に沈降物が付着す
ることさえある。
【0005】更に、層の残渣が入り込んだ現像液は加工
ラインで用いられるゴム引き用溶液(gumming
solutions)と相溶しなければならない。汚染
された現像液の中を通る印刷版がそれを不可避的に同伴
することから、層の残渣は、比較的短時間後に、下流に
位置するゴム溶液貯蔵容器内に蓄積する可能性がある。
最も好ましくないケースでは、それによって固体状沈澱
物がもたらされ、この固体状の沈澱物は、濃縮段階後、
ゴム引き地点のローラーレールシステム(roller
rail system)によって、その現像された
印刷版の印刷表面に再付着し、それによって印刷版が使
用できなくなる可能性がある。
【0006】ヨーロッパ特許出願公開第0 323 8
36号に、ポジ型およびネガ型機能(positive
− and negative−working)記録
材料用のアルカリ水溶液である現像液が記述されてい
る。そこにはアルカリ性組成物に加えて粘度を5から1
0,000cpsに調整するための増粘剤が含まれてい
る。必要ならば、前記現像液にまた有機溶媒、例えばベ
ンジルアルコールまたはエチレングリコールのモノフェ
ニルエーテルなどを含ませることも可能である。ポジ型
機能記録材料用の現像液には更に界面活性剤、特にアニ
オン性または両性界面活性剤を含ませることも可能であ
る。使用された増粘剤はシリケート微粉末または水溶性
重合体、例えば澱粉、アラビアゴム、アルギン酸ナトリ
ウム、ペクチン、ビスコース、メチルセルロース、カル
ボキシメチルセルロース、ポリビニルアルコール、ポリ
ビニルメチルエーテルまたはポリビニルピロリドンなど
である。
【0007】オフセット印刷版を製版する時に用いられ
るネガ型機能記録材料用の非常に特異的な水性アルカリ
現像液がヨーロッパ特許出願公開第0 602 736
号に開示されている。それを用いると特に現像時間が短
くなりかつ加工装置に余分な付着物が付着しなくなる。
更に、既に生成した付着物を迅速に溶解させるとも述べ
られている。そこには有機溶媒、アニオン界面活性剤、
アルカリ金属のテトラホウ酸塩、脂肪族モノカルボン酸
のアルカリ金属塩、脂肪族ジカルボン酸のアルカリ金属
塩、アルカリ金属のクエン酸塩、ポリ(アルキレングリ
コール)、ヒドロキシル化芳香族カルボン酸もしくはス
ルホン酸のアルカリ金属塩、およびアルカリ性pHを確
保するためのアルカリ性緩衝剤系が含まれている。
【0008】また、ネガ型機能印刷版の製版で用いるに
適した現像液も米国特許第3 954 472号の主題
である。そこには水およびアルコール、特にn−プロパ
ノールに溶解している亜硫酸アンモニウムとポリビニル
ピロリドンが含まれている。このポリビニルピロリドン
はゴム引き用組成物として働く。
【0009】また、ドイツ特許出願公開第42 24
205号に従う水性アルカリ現像液にもポリビニルピロ
リドンまたはN−ビニルピロリドン単位含有共重合体が
用いられている。前記現像液には更にアルカリ剤(al
kaline agent)、例えばNaOH、KO
H、Na2CO3、K2CO3、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸
カリウム、燐酸三ナトリウムまたは燐酸三カリウムなど
も含まれている。必要ならば、また、アルカリ金属の硫
酸塩またはアルカリ金属のスルホン酸塩の種類の界面活
性剤、消泡剤および有機溶媒、例えばベンジルアルコー
ルまたはエチレングリコールのモノメチルエーテル、エ
チレングリコールのモノエチルエーテル、エチレングリ
コールのモノブチルエーテルまたはエチレングリコール
のモノフェニルエーテルなどを添加することも可能であ
る。それは特にカラープルーフ材料(color pr
oof materials)の現像で用いることを意
図したものであり、非画像部分に汚染を生成させない。
【0010】ヨーロッパ特許出願公開第0 004 0
14号には、ジアゾニウム塩重縮合物と水不溶性有機重
合体からなる露出ネガ型機能層が備わっている記録材料
用の特に生産的な(productive)現像液が開
示されている。そこには、アニオン性湿潤剤(anio
nic wetting agent)、ポリビニルア
ルコール、ポリ(N−ビニル−N−メチルアセトアミ
ド)、ベンジルアルコール、三酢酸グリセリル、および
4から8の範囲のpHを確保するための緩衝剤が含まれ
ている。前記現像液で用いられた有機溶媒は高沸点の有
機溶媒のみであることから、その組成は開放容器に入れ
て長期放置した時でも実質的に一定のままである。
【0011】ヨーロッパ特許出願公開第0 180 1
22号に従う水性アルカリ現像液を用いると、露光され
たネガ型機能フォトレジスト層の現像を特に迅速かつ良
好に達成することができる。また、その寿命は長く、自
動現像機で使用可能であり、かつ脱離した層成分のケー
キ(cakes)および小ケーキの発生を防止する。そ
れには水およびアルカリ剤に加えて錯化剤(compl
exing agent)、アニオン界面活性剤、アル
カン酸またはそれの塩、緩衝剤物質および乳化剤[これ
は好適にはポリ(N−ビニル−N−メチルアセトアミ
ド)である]、ポリビニルアルコール、デキストリン、
アラビアゴムまたはセルロースエーテルが含まれてい
る。
【0012】その述べられている高分子乳化剤を用いる
と現像液特性の実質的な向上がもたらされるが、それら
はまた欠点も有する。このように、それらは実質的に粘
度を決定する、即ちそれらをほんの少量でも現像液に含
まれると粘度が比較的高くなってしまう。しかしなが
ら、一方では加工ラインの構成要素(ポンプ、ホース連
結部)への機械的負荷を最小限にしかつ他方では加工機
の現像セクションにあまりにも早期にスラッジが生成し
ないようにする(従って、現像液を変えるための洗浄作
業の度合が大きくならないようにする)には、初期の粘
度をできるだけ低くしかつ脱離した層成分によって現像
液の汚染が増大するに伴って起こる粘度上昇を抑える必
要がある。
【0013】公知乳化剤を用いて達成されるのは常に妥
協のみである。公知の乳化剤は粘度を非常に高くすると
言った影響を与えることから、それらを現像液に加える
量は限られている。
【0014】今日までに公知の現像液を用いて前記要求
の全てを同時に満足させるのは不可能であった、即ち印
刷版加工機の現像液地点または下流に位置するゴム引き
地点で層成分が脱離することによって生じるケーキまた
は小ケーキ生成が全く起こらないようにすると同時に初
期の粘度が低くかつ汚染物の増加に伴う粘度上昇が僅か
であると言った要求を満足させるのは不可能であった。
従って、本目的は、放射線感受性記録材料用の相当する
改良現像液を提供することにあった。
【0015】そのような問題を解決するに有望なアプロ
ーチが既にヨーロッパ特許出願公開第923 001号
に記述されている。そこには、炭素原子数が30以下の
アルキル基を有する少なくとも1種の疎水性ビニル化合
物からなる単位と少なくとも1種の親水性エチレン系不
飽和カルボン酸からなる単位[この単位に含まれるカル
ボキシル基のいくらかは、(A)(C1−C30)アルカ
ノール、(C8−C25)アルカン酸、(C1−C12)アル
キルフェノールまたはジ(C1−C20)アルキルアミン
と(B)(C2−C4)アルキレンオキサイドまたはテト
ラヒドロフランを1:2から1:50の範囲の(A):
(B)のモル比で反応させて得られた反応生成物により
エステル化されている]を有する共重合体を乳化剤とし
て含有する水性アルカリ現像液が開示されている。この
ような現像液は、泡を過剰な度合で発生する以外は本目
的を達成するに実質的に充分である。泡が発生すると現
像液の取り扱い、特に取り出し、移送およびポンプ輸送
が複雑になる。それによって最終的に現像機中の現像浴
液が溢れ出す可能性がある。従って、そのような公知の
現像液が泡を発生する度合が実質的に小さくなるように
それを改良する必要があった。
【0016】乳化作用を示して構造的にヨーロッパ特許
出願公開第932 001号に開示されている共重合体
に類似してはいるがそこに記述されている単位(脂肪族
炭化水素基を有する疎水性ビニル化合物を含有する)を
芳香族炭化水素基を有する疎水性ビニル化合物からなる
単位に置き換えた共重合体を用いると、驚くべきこと
に、本目的が達成された。
【0017】従って、本発明は、照射をされた放射線感
受性記録材料用の現像液(これには水と水溶液中でアル
カリ性を示す少なくとも1種の化合物を含む)に関し、
この現像液は、(I)場合により置換されていてもよい
単環状もしくは二環状(C6−C14)アリール基を少な
くとも1つ有する少なくとも1種の疎水性ビニル化合物
からなる単位、および(II)少なくとも1種の親水性
エチレン系不飽和カルボン酸からなる単位[この単位に
含まれるカルボキシル基のいくらかは、(A)(C1
30)アルカノール、(C8−C25)アルカン酸、(C1
−C12)アルキルフェノールまたはジ(C1−C20)ア
ルキルアミンと(B)(C2−C4)アルキレンオキサイ
ドまたはテトラヒドロフランを1:2から1:50の範
囲の(A):(B)のモル比で反応させることにより得
られた反応生成物によりエステル化されている]、を含
んで成っていて乳化剤として働く少なくとも1種の共重
合体を含有する。
【0018】好適な態様における(A):(B)のモル
比は1:4から1:10の範囲である。
【0019】前記場合により置換されていてもよい単環
状もしくは二環状(C6−C14)アリール基を少なくと
も1つ有する疎水性ビニル化合物(I)は、好適には、
場合により置換されていてもよいフェニル基またはナフ
チル基を有する化合物である。この二環状アリール基は
必ずしも縮合基でなくてもよく、これはまた縮合してい
ない基、例えばビフェニル−4−イル基であってもよ
い。前記芳香族基は、逆に、アラルキル基(これのアル
キル部分の鎖長は一般に炭素原子1から6個分であり、
これは分枝または直鎖であってもよい)の一部であって
もよい。特にビニル芳香族、特にスチレンおよびα−メ
チルスチレンを有利に用いることができる。置換スチレ
ン類およびα−メチルスチレン類の中では、アルキル、
アルコキシ、ヒドロキシルおよび/またはアリールオキ
シ置換基が芳香族環に付いている置換スチレン類および
α−メチルスチレン類が好適である。また、アリルベン
ゼン、(メタ)アクリル酸フェニル、(メタ)アクリル
酸ベンジル、(メタ)アクリル酸フェネチル、(メタ)
アクリル酸ナフチル、(メタ)アクリル酸2−フェノキ
シエチル、(メタ)アクリル酸2−ナフチ−1−もしく
は−2−イルオキシエチル、(メタ)アクリル酸3−フ
ェノキシプロピル、(メタ)アクリル酸3−ナフチ−1
−もしくは−2−イルオキシプロピル、N−フェニル
(メタ)アクリルアミド、N−ベンジル(メタ)アクリ
ルアミド、N−フェネチル(メタ)アクリルアミド、N
−ナフチル(メタ)アクリルアミド、N−ビニルベンズ
アミド、フェニルビニルエーテルおよびベンジルビニル
エーテルも疎水性ビニル化合物として用いるに適切であ
る。ここで、以下も同様に、「(メタ)アクリル
酸...」は、「アクリル酸...および/またはメタ
アクリル酸...」を意味する。同様に「...(メ
タ)アクリルアミド」などにも適用する。また、このよ
うな化合物は場合により置換されていてもよく、特にハ
ロゲン原子(特にClまたはBr)または(C1−C6
アルキルまたは(C1−C6)アルコキシ基で置換されて
いてもよい。このような置換基の種類は何ら特に制限を
受けないが、それによって調製済み(ready−pr
epared)共重合体の泡発生度合が高くならないよ
うに選択されるべきである、即ちその結果として例えば
決して顕著な界面活性特性(例えば炭素原子数が8以上
の長鎖アルキル基を有する場合のように)がもたらされ
るべきでない。前記疎水性ビニル化合物(I)が含む炭
素原子の数は一般に30以下である。
【0020】しかしながら、スチレン、α−メチルスチ
レンおよび置換スチレン類(特にヒドロキシスチレン
類)、および(メタ)アクリル酸ベンジルが好適であ
る。また、異なる複数種のアリール基含有疎水性ビニル
化合物から成る混合物を用いることも可能である。
【0021】前記エチレン系不飽和カルボン酸(II)
は、好適には炭素原子数が3から8のα,β−不飽和カ
ルボン酸である。これはモノ−、ジ−もしくはトリカル
ボン酸であってもよく、(C3−C8)モノカルボン酸、
例えばアクリル酸、メタアクリル酸またはクロトン酸な
ど、および(C4−C8)ジカルボン酸、例えばマレイン
酸、イタコン酸、メチルマロン酸、メサコン酸またはシ
トラコン酸などが好適である。このような共重合体を生
成させる時、勿論、また、酸誘導体、特に酸無水物(a
cid anhydrides)を用いることも可能で
ある。
【0022】適切な(C1−C30)アルカノール類
(A)はメタノール、エタノール、プロパノール、イソ
プロパノール、ブタノール、イソブタノール、s−ブタ
ノール、t−ブタノール、ペンタノール、ヘキサノー
ル、2−エチルヘキサノール、ヘプタノール、オクタノ
ール、デカノール、ドデカノール、トリデカノール、テ
トラデカノール、ペンタデカノール、オクタデカノー
ル、エイコサノールおよびヘキサコサノールである。オ
キソ(oxo)法で入手可能な如き(C10−C15)アル
カノール類[従ってまた「オキソアルコール類」とも呼
ぶ]が好適である。
【0023】好適な(C8−C25)アルカン酸は、オク
タン酸(=カプリル酸)、ノナン酸(=ペラルゴン
酸)、デカン酸(=カプリン酸)、ウンデカン酸、ドデ
カン酸(=ラウリン酸)、トリデカン酸、テトラデカン
酸(=ミリスチン酸)、ペンタデカン酸、ヘキサデカン
酸(=パルミチン酸)、オクタデカン酸(=ステアリン
酸)、エイコサン酸(=アラキジン酸)、ドコサン酸
(=ベヘン酸)およびテトラコサン酸(=リグノセリン
酸)である。
【0024】(C1−C12)アルキルフェノール類
(A)は好適にはメチルフェノール、ブチルフェノー
ル、イソブチルフェノール、ペンチルフェノール、ヘキ
シルフェノール、オクチルフェノール、ノニルフェノー
ル、デシルフェノールおよびドデシルフェノールであ
り、フェノールのヒドロキシル基に対してオルソ位また
はパラ位に直鎖もしくは分枝アルキル基が存在するのが
好適である。
【0025】適切なジ(C1−C20)アルキルアミン類
(A)はジメチルアミン、エチルメチルアミン、ジエチ
ルアミン、ジプロピルアミン、エチルプロピルアミン、
ジブチルアミン、ジペンチルアミン、ジオクチルアミ
ン、エチルオクチルアミン、ジデシルアミン、ジドデシ
ルアミンおよびジオクタデシルアミンである。第二級ア
ミンの中では、各アルキル基中の炭素原子数が8から1
8の第二級アミン類が好適である。
【0026】好適に用いられる(C2−C4)アルキレン
オキサイド類(B)はエチレンオキサイドおよびプロピ
レンオキサイドであるが、しかしながら、またブチレン
オキサイドおよびイソブチレンオキサイドまたはそれら
の混合物も使用可能である。また、上述したアルキレン
オキサイドを2種以上用いた反応を逐次的に実施するこ
とも可能であり、例えば(A)の化合物を最初にエチレ
ンオキサイドと反応させた後にプロピレンオキサイドと
反応させることも可能である(またはその逆も可能であ
る)。
【0027】好適な共重合体は、エチレン系不飽和カル
ボン酸(II)が有するカルボキシル基の5から50
%、特に好適には10から35%がエステル化されてい
る共重合体である。単位(I)と(II)が一緒になっ
て前記共重合体に含まれる全単位の少なくとも50モル
%、好適には少なくとも70モル%を占めるべきであ
る。前記単位(II)の量は少なくとも5モル%、好適
には少なくとも10モル%でなければならない。
【0028】好適な態様では、(I)場合により置換さ
れていてもよいフェニル基もしくはナフチル基を有する
少なくとも1種の化合物を(IIa)炭素原子を4から
8個有する少なくとも1種のエチレン系不飽和ジカルボ
ン酸無水物と7:3から3:7の範囲の(I):(II
a)のモル比で共重合させるか、或は(IIb)炭素原
子を3から8個有する少なくとも1種のエチレン系不飽
和モノカルボン酸と1:1から1:5の範囲の(I):
(IIb)のモル比で共重合させた後、この共重合体が
有するカルボキシル基に、(A)(C1−C30)アルカ
ノール、(C8−C22)脂肪酸、(C1−C12)アルキル
フェノールまたは第二級(C2−C30)アミンと(B)
少なくとも1種の(C2−C4)アルキレンオキサイドま
たはテトラヒドロフランを1:2から1:50の範囲の
(A):(B)のモル比で反応させることにより得られ
た反応生成物を用いて部分エステル化させるが、この部
分エステル化を前記共重合体が有するカルボキシル基の
5から50%がエステル化されるまで継続し、そして前
記共重合体が有する無水物基を加水分解してカルボキシ
ル基またはそれの塩(好適にはアルカリ土類金属または
アルカリ金属塩、特にKもしくはNa塩)にすることに
より、前記乳化剤として働く共重合体を得ることができ
る。
【0029】本発明に従う現像液中で使用される前記共
重合体は、また、(IIa)または(IIb)と(A)
と(B)を上述したモル比で反応させて得た反応生成物
を(I)と共重合させることで得ることも可能である。
この共重合体に、更に、他の単位、特に式 −CO−NR12 [式中、R1は、(C8−C28)アルキル基、または式R
O−[CHR3−CHR4−O]n-1−CHR3−CHR4
で表される基であり、そしてR2は、水素原子または基
1の1つであり、R3およびR4は、同一もしくは異な
り、水素原子、メチル基またはエチル基であり、Rは、
(C1−C28)アルキル基であり、そしてnは、2から
100の整数である]に相当するアミド基を有するモノ
エチレン系不飽和(C3−C8)カルボン酸のアミドから
得られた単位を50モル%以下の量で含有させることも
可能である。
【0030】本発明に従う現像液で用いる共重合体が示
すK値(H.Fikentscherに従い、ナトリウ
ム塩形態においてpHが7.5で25℃の1%濃度水溶
液中で測定)は一般に6から200、好適には10から
80であり、このことは、平均分子量Mwが500から
500,000、好適には1000から150,000
であることに相当する。それに含まれるモノマー単位は
一般にランダムに分布しており、従って前記共重合体は
ブロック共重合体ではない。
【0031】好適な成分(IIa)は、炭素原子数が4
から8のモノエチレン系不飽和ジカルボン酸無水物、例
えば無水マレイン酸、無水イタコン酸、無水メサコン
酸、無水シトラコン酸または無水メチレンマロン酸、特
に無水マレイン酸および無水イタコン酸である。前記共
重合体の製造で用いるに適した条件はヨーロッパ特許出
願公開第0 367 049号に詳述されている。エチ
レン系不飽和(C3−C8)カルボン酸(IIb)の中で
はアクリル酸およびメタアクリル酸が好適である、と言
うのは、それらは工業的に大規模に入手可能であるから
である。
【0032】前記共重合体は、これが有するカルボキシ
ル基に上述した化合物(A)と(B)の反応生成物によ
り部分エステル化させるまでは、特に乳化特性を持たな
い。それらは好適には(C1−C30)アルコールまたは
第二級(C2−C30)アミン(A)のエーテル化生成物
であり、これは、(C2−C4)アルキレンオキサイド単
位(B)、好適にはエチレンオキサイドもしくはプロピ
レンオキサイドまたはこの二者の混合物の単位を3から
30個含んで成るポリアルキレンオキサイド鎖による付
加反応を受けたものである。ポリアルキレンオキサイド
鎖の末端にOH基を有する前記種類の化合物は、ノニオ
ン界面活性剤の形態の通常の市販品である(例えば脂肪
アルコール、脂肪酸、脂肪アミドおよび脂肪アミンのエ
トキシレート/プロポキシレート類)。
【0033】易水溶性の物質を得る目的で、前記部分エ
ステル化された共重合体に残存するカルボキシル基を加
水分解した後にそれをアルカリ、アンモニアおよび/ま
たはアルカノールアミンと反応させて、最終的に得られ
る水溶液のpHが4から10、好適には6から8になる
ように中和する。この中和にはNaOH水溶液またはK
OH水溶液が好適に用いられる。
【0034】本発明に従う現像液が示す荷重容量(lo
ad capacity)は、少なくとも、ヨーロッパ
特許出願公開第923 001号に開示されている現像
液が示すそれと同じほど高い[即ち、これは固体状成分
が沈澱すること(特にケーキを生成すること)もそのよ
うな固体状成分が既に現像された材料の上に沈降する
(それによっていわゆる「再付着物」の形成がもたらさ
れる)こともなく現像された記録材料に由来する層成分
を少なくとも同じ量で吸収し得る]ことに加えて泡が発
生する傾向が実質的に低下している。エチレン系不飽和ジカルボン酸無水物(IIa)の単位
を有する共重合体の一般的合成方法: 重合反応槽に撹拌
機、温度計、コンデンサ、窒素入り口および出口、およ
び計量装置を取り付けて、この反応槽に最初に芳香族ビ
ニル化合物(I)または芳香族ビニル化合物(I)とエ
チレン系不飽和ジカルボン酸無水物(IIa)の混合物
(表I参照)そしてK値が50のポリビニルエチルエー
テルを導入した後、穏やかな窒素流下で100℃に加熱
した。この温度に到達するやいなや1モル%の過オクチ
ル酸t−ブチル(tert−butyl peroxy
−2−ethylhexanoate)(オレフィンま
たはオレフィン混合物中30重量%)を1から3時間か
けて加えた。この反応混合物を100℃に更に2から4
時間加熱する。共重合体がオレフィンに入っている透明
な溶液を得た。次に、転化しなかった芳香族ビニル化合
物(I)を減圧下で留出させた。
【0035】
【表1】
【0036】成分(I)と(IIa)からなる共重合体
の部分エステル化物(重合体1−5)の合成実施例:
チレンオキサイドとオキソアルコールの反応で得た付加
体とこの上に記述した共重合体をパラ−トルエンスルホ
ン酸の存在下で還流下2から12時間かけて反応させ
た。次に、この反応混合物を100℃に冷却した。その
後、水そして必要に応じてアルカリ水溶液またはアルカ
リ土類水溶液を加えて撹拌を50℃から70℃で更に2
時間実施した。その結果、粘性のある明褐色溶液が得ら
れた。
【0037】
【表2】
【0038】前記表の第一横列の番号は下記の通りであ
る: 1 重合体の番号 2 出発共重合体(表Iを参照) 3 転化したCOOH基の量(%) 4 化合物を得る時のアルコキシル化で用いた材料 5 用いた塩基 6 水溶液の固体含有量(%) 7 pH 8 生成物の平均分子量Mw (IIb)のモノマー単位を有する共重合体(重合体
6)の合成実施例: α−メチルスチレン:アクリル酸:
(8モルのエチレンオキサイドと1モルのC13/C15
オキソアルコール及び塩化アクリロイルの反応生成物)
のモル比が5:3:2になるようにこれらをこの上に記
述した重合反応槽中で100℃に加熱した。1モル%の
過オクチル酸t−ブチル(α−メチルスチレン中30重
量%)を計量して3時間かけて入れた後、撹拌を100
℃で更に3時間実施した。次に、過剰のα−メチルスチ
レンを減圧下の蒸留で留出させた後、この蒸留残渣に水
酸化カリウム水溶液を、固体含有量が38.4%でpH
が7.0の粘性溶液が得られるように加えた。平均分子
量Mw(N,N−ジメチルアセトアミドを溶離剤として
用いたGPCで標準としてのポリメタアクリル酸メチル
に対して測定)は15,500であった。
【0039】直ぐに使える形態の本発明に従う水性アル
カリ現像液にこの上に記述した共重合体の1つ(これは
乳化剤として働く)を各場合ともこの直ぐに使える現像
液の全重量を基準にして0.1から10.0重量%、特
に0.2から8.0重量%、好適には0.5から6.0
重量%の量で入れる。
【0040】本発明に従う現像液は、特に、ネガ型に機
能して放射線に感受性を示す層が備わっている記録材料
の現像で用いるに適する。この場合、それは追加的に少
なくとも1種の水混和性有機溶媒および少なくとも1種
の表面活性化合物(界面活性剤)も含む。
【0041】前記アルカリ性化合物は好適にはアルカノ
ールアミン、水酸化物、燐酸塩または炭酸塩である。好
適なアルカノールアミンはエタノールアミン、ジ−およ
びトリエタノールアミン、イソプロパノールアミン、ジ
イソプロパノールアミンおよびトリス(ヒドロキシメチ
ル)アミノメタンである。好適な水酸化物はアルカリ金
属およびアルカリ土類金属の水酸化物、そして水酸化ジ
−、トリ−およびテトラ(C1−C10)アルキルアンモ
ニウムである。好適な炭酸塩はナトリウム、カリウムお
よびアンモニウムの炭酸塩または重炭酸塩である。アル
カリ性化合物全部の中でアルカノールアミン類およびア
ルカリ金属の水酸化物が最も適切である。
【0042】このようなアルカリ性化合物(類)の量を
記録材料の種類に合わせるべきである。この量は各場合
とも直ぐに使える現像液の全重量を基準にして一般に
0.1から20重量%、特に0.5から10重量%、好
適には1.0から5.0重量%である。液状濃縮物の場
合には前記量を相応に高くなる。本発明の直ぐに使える
現像液のpHは一般に8.0から13.0、好適には
8.5から11.5である。
【0043】本発明の文脈において、本現像液を通常に
貯蔵または使用する温度(約0から60℃)で使用量
(20重量%以下)において水と共に均一な溶液を生成
する有機溶媒を「水に混和し得る」と定義する。下記の
有機溶媒の1種以上を添加すると特に短い現像時間が達
成される:アルコール類、特にベンジルアルコール、エ
チレングリコールのモノフェニルエーテル、1−フェニ
ルエタノール、2−フェニルエタノール、プロピレング
リコールのモノメチルおよび−フェニルエーテル、そし
てグリセロールおよびグリセリルの酢酸エステル。直ぐ
に使える現像液中の有機溶媒の量は、各場合とも本現像
液の全重量を基準にして好ましくは0.5から15.0
重量%、特に1.0から10.0重量%、好適には2.
0から6.0重量%である。本現像液に存在させる有機
溶媒の量は比較的少量にすぎないので、その組成は使用
している間実質的に変化しない。従って、これは現像装
置内で比較的長い寿命を有する。
【0044】本発明に従う現像液に入れるに適した界面
活性剤は多種の無機表面活性組成物である。加うるに、
アニオン表面活性物質とノニオンおよび/または双性イ
オン表面活性物質の混合物も成功裏に使用可能である。
アニオン界面活性剤、例えばアルカリ金属、好適にはナ
トリウムのオクチル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン
酸塩、アルキルフェノールエーテル硫酸塩、ナフタレン
スルホン酸塩、スルホこはく酸塩およびアルキルエーテ
ル燐酸塩などが特に有用であることを確認した。適切な
ノニオン界面活性剤は、(C10−C18)脂肪アルコール
のエトキシレート類、ポリエチレングリコール類、エチ
レンオキサイド/プロピレンオキサイドの(ブロック)
共重合体およびアルキルフェノールのエトキシレート類
を包含する種類の物質およびベタインまたはスルホベタ
イン型の双性イオン界面活性剤を源とし、そしてこれが
占める割合は界面活性剤全量の0から80重量%であっ
てもよい。本現像液中の表面活性物質(類)の量は各場
合とも本現像液の全重量を基準にして一般に0.2から
12.0重量%、好適には0.5から8.0重量%、特
に好適には1.0から6.0重量%である。
【0045】加工すべき記録材料の種類に応じて、本発
明に従う現像液にはさらなる添加剤、特に緩衝剤物質、
錯化剤(特にカルシウムに結合する錯化剤)、消泡剤ま
たは金属イオン封鎖剤を含み得る。
【0046】本発明に従う現像液中の緩衝剤物質として
炭素原子数が6から12のn−アルカン酸および/また
はその塩、特にカプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸
およびラウリン酸が有用であることを確認した。直ぐに
使える現像液にそのような酸を本現像液の全重量を基準
にして0.5から8.0重量%、特に1.0から6.5
重量%の量で存在させてもよい。
【0047】適切な緩衝物質は、原則として、好適には
8から13のpH範囲で効果を示す緩衝物質全部であ
る。上述したn−アルカン酸およびその塩に加えて、特
に炭酸塩、燐酸塩、ホウ酸塩、グリシンおよびアミンの
アルカリ金属塩から成る群に属する一般に入手可能な緩
衝剤物質を用いる。極めて通常の緩衝剤系は、例えば炭
酸塩/重炭酸塩の混合物または燐酸塩/水素燐酸塩の混
合物などである。
【0048】低分子量の燐酸塩、即ち燐単位の数が2か
ら10、好適には2から6、特に2から4のいわゆるオ
リゴ燐酸塩を錯化剤として用いることができる。特にア
ルカリ金属塩、特にナトリウム塩およびカリウム塩が好
適であり、それには例えば二燐酸四ナトリウム、三燐酸
五ナトリウム、三燐酸五カリウムおよび四燐酸六ナトリ
ウムが含まれる。
【0049】また、ニトリロトリ酢酸およびエチレンジ
アミンテトラ酢酸のアルカリ金属塩、好適にはナトリウ
ム塩、そしてトリスヒドロキシメチルアミノメタンも良
好な結果を与える。直ぐに使える現像液に含有させる錯
化剤の量は好ましくは0.1から5.0重量%、特に
0.5から4.0重量%、好適には1.0から3.0重
量%である。
【0050】本現像液中の水に好適には脱イオン水を含
め、直ぐに使える形態では水の量を70から95重量
%、好適には75から90重量%である。
【0051】更に、また、本発明に従う現像液を濃縮液
として調合することも可能である。この中の非水性成分
の量は規定量の3倍にまで増やされる。また、このよう
な濃縮液は不快な臭いも持たず、かつ凝固点に近い温度
で貯蔵した後でも沈澱物を生成しない。
【0052】記録材料の現像で用いられる装置では、通
常、現像液地点、洗浄地点およびゴム引き地点が直列に
連結している。この現像液が層成分で汚染される度合が
高くなると結果として現像が遅くなりかつもはや完了し
なくなってしまう。洗浄中、有効な現像液成分が選択的
に除去されないようにするのはほとんど不可能であり、
その結果、記録材料の表面が、前記成分を同伴する現像
液からそれを凝集形態で吸収することで、望まれない不
純物として現れる可能性がある。そのような吸収された
層成分はゴム引き用溶液に溶解することもそれによって
洗い流されこともなく、基質表面から皮として隆起
(「ケーキ形成」)するのみである。本発明に従う現象
液を用いると、そのような現象を有効に遅らせることが
でき、それと同時に、層成分による汚染が増加するに伴
って生じる相当の現像液粘度上昇が起こりずらくなり、
これは、同伴する現像液の量を少なく保持するに役立
つ。
【0053】本発明に従う現像液は、原則として、複数
種のポジ型機能およびネガ型機能記録材料の加工で用い
るに適する。ネガ型機能材料は、放射線感受性層の種類
に応じて下記に分類分け可能である: 1. ジアゾニウム塩重縮合化合物を基とするネガ型機
能層を有する材料、 2. ラジカル重合し得るオレフィン系不飽和化合物と
光重合開始剤を含有するネガ型機能層を有する材料、お
よび 3. 1および2で述べた原理の組み合わせを基とする
材料。
【0054】ジアゾニウム塩重縮合化合物を基とするネ
ガ型機能層は、例えばジフェニルアミン−4−ジアゾニ
ウム塩とアルデヒド、好適にはホルムアルデヒドとの縮
合物を含有する。ジアゾニウム塩単位に加えてまた他の
非感光性単位(これは縮合し得る化合物、特に芳香族ア
ミン類、フェノール類、フェノールエーテル類、芳香族
チオエーテル類、芳香族炭化水素、芳香族複素環および
有機酸アミド類から誘導される)も含有する共縮合物の
使用が特に有利である。この種類の適切なジアゾニウム
塩縮合物がドイツ特許出願公開第20 24 244号
および27 39 774号に記述されている。
【0055】感光性混合物の安定化では、酸の性質を有
する化合物を前記混合物に添加するのが有利である。鉱
酸および強有機酸が適切であり、とりわけ燐酸、硫酸、
過塩素酸、ホウ酸およびパラ−トルエンスルホン酸が好
適である。特に適切な酸はオルト燐酸である。
【0056】タイプ1のネガ型機能層のさらなる主成分
は、ペンダント型のカルボキシル基を有していてアルカ
リ水溶液に溶解し得るか或は少なくともアルカリ水溶液
中で膨潤し得る少なくとも1種の非感光性高分子結合剤
(binder)である。このような結合剤は、例え
ば、有機ポリカルボン酸の分子内無水物とヒドロキシル
基含有合成重合体の反応生成物であってもよく、これは
酸無水物と反応し得るさらなる官能基を含まないもので
ある。この種類の官能化(functionalize
d)結合剤がドイツ特許出願公開第34 04 366
号に詳述されている。
【0057】前記感光性混合物に更に可塑剤、接着促進
剤、染料、顔料および光化学色形成剤(photoch
emical color formers)を添加し
てもよい。
【0058】タイプ2のネガ型機能層は、好適には、ラ
ジカル重合し得るエチレン系不飽和モノマー、特に多価
アルコールのアクリル酸エステルまたはメタアクリル酸
エステルと光開始剤の組み合わせを含有する。この層に
おいてアルカリ可溶結合剤として好適にはペンダント型
カルボキシル基を有する重縮合物または重合体が用いら
れる。
【0059】好適には、ネガ型機能層はオーバーコート
(overcoat)で特に大気の酸素が入り込まない
ように保護する。この目的で用いるオーバーコートに、
通常は、酸素透過率の低下をもたらす重合体を含有させ
る。ポリビニルアルコール、ポリビニルピロリドンまた
はゼラチンが前記目的で用いるに特に適する。
【0060】本発明に従う現像液は、また、ポジ型に機
能する放射線感受性層を有する記録材料で用いるにも適
する。しかしながら、この場合、画像部分が過剰な攻撃
を受けないように有機溶媒の量を比較的少量にすべきで
ある。
【0061】層の厚みを約10μm未満にする場合に
は、一般に、金属を基質材料として用いる。オフセット
印刷版では、通常、ブライトロール処理(bright
−rolled)、機械的粗面化処理および/または電
気化学的粗面化処理そして必要ならば陽極酸化処理を行
ったアルミニウム[これにまた化学的前処理(例えばポ
リビニルホスホン酸、ケイ酸塩、燐酸塩またはヘキサフ
ルオロジルコン酸塩などを用いた前処理)を行っておい
てもよい]を用いる。
【0062】前記基質材料への塗布は、スピン塗布(s
pin−coating)、スプレー塗布、浸漬塗布ま
たはローラー塗布、スロットダイスまたはドクターブレ
ードによる塗布、または流し込み(casting)に
よる公知の方法で行う。
【0063】前記層の塗布を行った後、前記記録材料に
照射を画像様および必要ならば(層の種類に応じて)均
一に受けさせる。通常の放射線源は、前記塗布に応じ
て、例えば管状ランプ、パルスキセノンランプ、金属の
ハロゲン化物がドーパントとして添加されている(do
ped)高圧水銀蒸気ランプ、およびカーボンアークラ
ンプなどである。自動加工装置では、レーザー、例えば
アルゴンまたはクリプトンイオンレーザーなどが好適で
ある。また、電子放射線またはX線を画像形成で用いる
ことも可能である。
【0064】その後に行う前記現像液による現像を、一
般的には、スプレー、バックアップ(back−up)
またはディップバス(dip−bath)現像装置にお
いて15から50℃、好適には18から40℃の温度で
行う。現像時間は一般に5秒から1分、好適には10か
ら40秒である。
【0065】この現像に続いてさらなる加工段階を設け
ることも可能である。例えば、印刷版を(酸性)親水化
溶液(hydrophilizing solutio
n)で処理してもよく、或は保護層を設けてもよい。印
刷中の安定性を高め、かつ洗い流し(washout)
用組成物、修正(correction)用組成物およ
びUV硬化性印刷用インクに対する耐性を高める目的
で、その現像を行った版を短期間加熱することも可能で
ある。また、この加熱を行う前に、いわゆるベーキング
ゴム(baking gums)を適用することも可能
である。
【0066】以下に示す態様は本発明を説明することを
意図したものである。pbwは重量部を表す。パーセン
トは特に明記しない限り重量パーセントである。 A)ネガ型機能記録材料(ジアゾ):ポリビニルブチラ
ール(ビニルブチラール単位を71重量%と酢酸ビニル
単位を3重量%とビニルアルコール単位を26重量%含
有していて分子量Mwが70,000から80,00
0)溶液を、無水マレイン酸とトリエチルアミンがメチ
ルエチルケトンに入っている溶液と共に還流下で加熱す
ることにより得られた重合体が1.50pbw、1モル
の硫酸3−メトキシジフェニルアミン−4−ジアゾニウ
ムと1モルの4,4’−ビスメトキシメチルジフェニル
エーテルのジアゾニウム重縮合物(メシチレンスルホン
酸塩として沈澱させた)が1.00pbw、Victo
ria Sky Blue FGA(Basic Bl
ue 81)が0.09pbw、ベンゼンホスホン酸が
0.07pbw、平均粒子サイズが3μmのシリカゲル
充填材が0.10pbw、およびテトラヒドロフランと
エチレングリコールモノメチルエーテルの混合物(TH
F:EGMEの混合比=40:60)が97.24pb
w、を含有するコーティング溶液を、アルミニウム箔
(粗面化処理を塩酸中で行い、陽極酸化処理を硫酸中で
行い、そしてポリビニルホスホン酸水溶液を用いた後処
理を行った)に、100℃で2分間乾燥させた後の層重
量が1.0g/m2になるように供給した。
【0067】前記コーティング溶液を用いて生成させた
ネガ型機能記録材料に密着印刷用フレーム(conta
ct printing frame)内で5kWの金
属ハロゲン化物ランプ下で写真ネガ(photogra
phic negative)を通して110cmの距
離で30秒間露光した後、スプレー現像装置を用いて、
現像を24℃において1.4m/分の処理速度(=20
秒の現像時間)で行った。ゴム引き地点を市販ゴム(A
GFA商標Ozasol RC 795)で満たした。 B)現像液:表IIIaにいろいろな現像液の比較を示
す。現像液A、BおよびGには本発明に従う現像液とは
異なる高分子乳化剤を含んでいるので、それらを比較の
目的で示す。
【0068】表IIIbに試験結果を比較の目的で含め
る。本発明に従う現像液を用いて現像した版は全てのケ
ースで汚染を含まず、層の除去が原因で起こる部分損失
も他の損傷も起こすことなく、一様なカラー領域(so
lid color areas)が再現され、60ラ
インのスクリーン(60−line screen)は
2から98%の被写域(coverage)を有してい
た。現像を各場合とも最終ローディング(loadin
g)が20m2/lになるまで実施した。
【0069】加うるに、下記の測定量も評価した: − 泡が発生した後にそれが再び崩壊する速度(10秒
後の泡値と60秒後の泡値を基準に測定) − 再付着が起こる前に問題なく現像された版面積(現
像液1リットル当たりの平方メートル数)。
【0070】
【表3】
【0071】
【表4】
【0072】密封可能な100mlのメスシリンダーに
現像液を正確に50ml入れ、このメスシリンダーを密
封した後、渦巻きによる激しい振とうを5回行うことに
より、泡値を測定する。その直後(即ちt=0秒)、前
記メスシリンダーは全容積が液体と泡で満たされ、これ
は泡値が0%であることに相当する。10秒後および6
0秒後に液体と泡の全容積を測定する。開始時の容積で
ある50mlに再び到達して泡が全部崩壊した場合、こ
の場合の泡値は100%である。
【0073】本発明に従う現像液の方が泡が発生する傾
向が実質的に低く、従って実際上実質的に取り扱いがよ
り容易であることが、表IIIbに明らかに示されてい
る。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) C08F 222/00 C08F 222/00 C08K 3/22 C08K 3/22 5/00 5/00 C08L 57/00 C08L 57/00 (72)発明者 クラウス−ペーター・コンラート ドイツ・デー−55457ゲンジンゲン・アン デアアイヒミユーレ9 (72)発明者 アンドレアス・エルセツサー ドイツ・デー−65510イドスタイン・アド ルフ−コルピング−ベーク13 (72)発明者 ポール・エクラー アメリカ合衆国ニユージヤージイ州08550 −1936プリンストンジヤンクシヨン・ウイ ートストンコート

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 照射された放射線感受性記録材料用の現
    像液であって、水と水溶液中でアルカリ性を示す少なく
    とも1種の化合物を含有しかつ(I)場合により置換さ
    れていてもよい単環状もしくは二環状(C6−C14)ア
    リール基を少なくとも1つ有する少なくとも1種の疎水
    性ビニル化合物からなる単位、および(II)少なくと
    も1種の親水性エチレン系不飽和カルボン酸からなる単
    位、を含んで成っていて前記単位中のカルボキシル基の
    いくらかが(A)(C1−C30)アルカノール、(C8
    25)アルカン酸、(C1−C12)アルキルフェノール
    またはジ(C1−C20)アルキルアミンと(B)(C2
    4)アルキレンオキサイドまたはテトラヒドロフラン
    を1:2から1:50の範囲の(A):(B)のモル比
    で反応させて得られた反応生成物によりエステル化され
    ている乳化剤として働く少なくとも1種の共重合体を含
    有する現像液。
  2. 【請求項2】 前記エチレン系不飽和カルボン酸(I
    I)が有するカルボキシル基の5から50%がエステル
    化されている請求項1記載の現像液。
  3. 【請求項3】 前記単位(I)と(II)が一緒になっ
    て前記共重合体中の全モノマー単位の少なくとも50モ
    ル%を占め、前記単位(II)が少なくとも5モル%の
    量を占める請求項1記載の現像液。
  4. 【請求項4】 前記乳化剤として働く共重合体が、
    (I)場合により置換されていてもよいフェニル基もし
    くはナフチル基を有する少なくとも1種の化合物を(I
    Ia)炭素原子を4から8個有する少なくとも1種のエ
    チレン系不飽和ジカルボン酸無水物と一緒に7:3から
    3:7の範囲の(I):(IIa)のモル比で共重合さ
    せるか、或は(IIb)炭素原子を3から8個有する少
    なくとも1種のエチレン系不飽和モノカルボン酸と一緒
    に1:1から1:5の範囲の(I):(IIb)のモル
    比で共重合させた後、この共重合体に、(A)(C1
    30)アルカノール、(C8−C22)脂肪酸、(C1−C
    12)アルキルフェノールまたは第二級(C2−C30)ア
    ミンと(B)少なくとも1種の(C2−C4)アルキレン
    オキサイドまたはテトラヒドロフランを1:2から1:
    50の範囲の(A):(B)のモル比で反応させて得ら
    れた反応生成物により部分エステル化させ、前記共重合
    体の部分エステル化を前記共重合体が有するカルボキシ
    ル基の5から50%がエステル化されるまで継続し、そ
    して前記共重合体が有する無水物基を加水分解してカル
    ボキシル基またはそれの塩にすることにより得られる請
    求項1記載の現像液。
  5. 【請求項5】 前記(A):(B)のモル比が1:4か
    ら1:10の範囲である請求項1から4記載の現像液。
  6. 【請求項6】 前記乳化剤として働く共重合体が、追加
    的に、式 −CO−NR12 [式中、R1は、(C8−C28)アルキル基、または式R
    O−[CHR3−CHR4−O]n-1−CHR3−CHR4
    で表される基であり、そしてR2は、水素原子または基
    1の1つであり、R3およびR4は、同一もしくは異な
    り、水素原子、メチル基またはエチル基であり、Rは、
    (C1−C28)アルキル基であり、そしてnは、2から
    100の整数である]に相当するアミド基を有するモノ
    エチレン系不飽和(C3−C8)カルボン酸アミドから得
    られた単位も50モル%以下の量で含有する請求項1記
    載の現像液。
  7. 【請求項7】 前記共重合体が500から500,00
    0の平均分子量Mwを有する請求項1記載の現像液。
  8. 【請求項8】 前記共重合体の量が前記現像液の全重量
    を基準にして0.1から10.0重量%である請求項1
    記載の現像液。
  9. 【請求項9】 追加的に水混和性有機溶媒および少なく
    とも1種の表面活性化合物、また場合により緩衝剤物
    質、錯化剤および/または消泡剤も含有する請求項1記
    載の現像液。
  10. 【請求項10】 前記アルカリ剤の量が前記現像液の全
    重量を基準にして0.1から20重量%である請求項1
    記載の現像液。
  11. 【請求項11】 前記アルカリ剤がアルカノールアミ
    ン、水酸化物または炭酸塩、特に好適にはエタノールア
    ミン、ジ−もしくはトリエタノールアミン、イソプロパ
    ノールアミン、ジイソプロパノールアミン、またはアル
    カリ金属もしくはアルカリ土類金属の水酸化物である請
    求項10記載の現像液。
  12. 【請求項12】 pHが8.0から13.0である請求
    項1記載の現像液。
  13. 【請求項13】 前記水混和性有機溶媒の量が前記現像
    液の全重量を基準にして0.5から15.0重量%であ
    る請求項9記載の現像液。
  14. 【請求項14】 前記水混和性有機溶媒がベンジルアル
    コール、エチレングリコールのモノフェニルエーテル、
    1−フェニルエタノール、2−フェニルエタノール、ま
    たはプロピレングリコールのモノメチルもしくはフェニ
    ルエーテルである請求項13記載の現像液。
  15. 【請求項15】 前記表面活性化合物(類)の量が前記
    現像液の全重量を基準にして0.2から12.0重量%
    である請求項9記載の現像液。
  16. 【請求項16】 前記表面活性化合物がアニオン界面活
    性剤、特に好適にはアルカリ金属、好適にはナトリウム
    のオクチル硫酸塩、ドデシルベンゼンスルホン酸塩、ア
    ルキルフェノールエーテル硫酸塩、ナフタレンスルホン
    酸塩、スルホこはく酸塩および/またはアルキルエーテ
    ル燐酸塩である請求項15記載の現像液。
  17. 【請求項17】 請求項1記載現像液の使用であって、
    照射された放射線感受性ネガ型機能層を有する記録材料
    を現像するための使用。
  18. 【請求項18】 前記ネガ型機能層が(a)ジアゾニウ
    ム塩重縮合化合物、(b)フリーラジカル重合し得るエ
    チレン系不飽和化合物と光開始剤の組み合わせまたは
    (c)(a)と(b)の混合物を放射線感受性成分とし
    て含有する請求項17記載の使用。
  19. 【請求項19】 前記ネガ型機能層が結合剤を含有する
    請求項17記載の使用。
  20. 【請求項20】 前記結合剤が有機ポリカルボン酸の分
    子内無水物とヒドロキシル基含有合成重合体の反応生成
    物であり、これが酸無水物と反応し得るさらなる官能基
    を含まない請求項19記載の使用。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010504543A (ja) * 2006-09-20 2010-02-12 イーストマン コダック カンパニー 平版印刷版を現像し、シーリングする方法
CN103838090A (zh) * 2014-03-31 2014-06-04 刘国政 一种聚合物薄膜溶解液

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6686126B2 (en) * 2000-07-14 2004-02-03 Fuji Photo Film Co., Ltd. Developing solution for photosensitive lithographic printing plate, plate-making method of lithographic printing plate, and photosensitive lithographic printing plate
US6649324B1 (en) * 2000-08-14 2003-11-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Aqueous developer for lithographic printing plates
JP2002351094A (ja) * 2001-05-22 2002-12-04 Fuji Photo Film Co Ltd 現像液組成物及び画像形成方法
US7078162B2 (en) * 2003-10-08 2006-07-18 Eastman Kodak Company Developer regenerators
JP4166167B2 (ja) 2004-02-05 2008-10-15 富士フイルム株式会社 感光性平版印刷版用現像液及び平版印刷版の製版方法
US7157213B2 (en) * 2004-03-01 2007-01-02 Think Laboratory Co., Ltd. Developer agent for positive type photosensitive compound
JP5422146B2 (ja) * 2008-03-25 2014-02-19 富士フイルム株式会社 平版印刷版作成用処理液および平版印刷版原版の処理方法
US20110236832A1 (en) * 2010-03-26 2011-09-29 Celin Savariar-Hauck Lithographic processing solutions and methods of use
US8846299B2 (en) 2010-03-26 2014-09-30 Eastman Kodak Company Methods for preparing lithograhic printing plates

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3439597A1 (de) * 1984-10-30 1986-04-30 Hoechst Ag, 6230 Frankfurt Entwickler fuer belichtete negativ arbeitende reproduktionsschichten sowie verfahren zur herstellung von druckformen und verwendung des entwicklers
JPH01177541A (ja) * 1988-01-07 1989-07-13 Fuji Photo Film Co Ltd 平版印刷版の製造方法
DE3837013A1 (de) * 1988-10-31 1990-05-03 Basf Ag Verwendung von partiell veresterten copolymerisaten in fluessigwaschmitteln
DE3838093A1 (de) * 1988-11-10 1990-05-17 Basf Ag Verwendung von copolymerisaten als zusatz zu fluessigwaschmitteln
DE19755295A1 (de) * 1997-12-12 1999-06-17 Agfa Gevaert Ag Entwickler für bestrahlte, strahlungsempfindliche Aufzeichnungsmaterialien

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010504543A (ja) * 2006-09-20 2010-02-12 イーストマン コダック カンパニー 平版印刷版を現像し、シーリングする方法
CN103838090A (zh) * 2014-03-31 2014-06-04 刘国政 一种聚合物薄膜溶解液

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