JPH10293398A - 放射線感応性混合物およびそこから製造したオフセット印刷板用の記録材料 - Google Patents
放射線感応性混合物およびそこから製造したオフセット印刷板用の記録材料Info
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Abstract
(57)【要約】
本発明は、ポジ型またはネガ型放射線感応性混合物、お
よび基材および該混合物を有する記録材料に関する。該
混合物は、IR吸収成分として、一次粒子径が80nm
未満であるカーボンブラック顔料を含んでなり、該カー
ボンブラック顔料が、pKa が13未満である酸性単位
を含む重合体中に予め分散していることを特徴とする。
好ましくは、放射線感応性成分は、1,2−ナフトキノ
ン−2−ジアジド−4−スルホン酸または1,2−ナフ
トキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸および少なく
とも1個、好ましくは3〜6個のフェノール性水酸基を
有する化合物のエステルである。放射線で像様露光した
後、記録材料は、アルカリ性水溶液で、可溶性になった
区域または可溶性のままである区域に残留被覆を残さず
に、まったく困難なく現像することができる。
よび基材および該混合物を有する記録材料に関する。該
混合物は、IR吸収成分として、一次粒子径が80nm
未満であるカーボンブラック顔料を含んでなり、該カー
ボンブラック顔料が、pKa が13未満である酸性単位
を含む重合体中に予め分散していることを特徴とする。
好ましくは、放射線感応性成分は、1,2−ナフトキノ
ン−2−ジアジド−4−スルホン酸または1,2−ナフ
トキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸および少なく
とも1個、好ましくは3〜6個のフェノール性水酸基を
有する化合物のエステルである。放射線で像様露光した
後、記録材料は、アルカリ性水溶液で、可溶性になった
区域または可溶性のままである区域に残留被覆を残さず
に、まったく困難なく現像することができる。
Description
【0001】本発明は、ポジ型またはネガ型放射線感応
性混合物、および基材および該混合物を含んでなる塗料
を有する記録材料に関するものである。特に、その記録
材料はオフセット印刷板の製造に適している。
性混合物、および基材および該混合物を含んでなる塗料
を有する記録材料に関するものである。特に、その記録
材料はオフセット印刷板の製造に適している。
【0002】ナフトキノン−2−ジアジド化合物を基剤
とする放射線感応性または感光性混合物、ならびにそれ
らの、記録材料、例えばフォトレジストまたは予備増感
オフセット印刷板、における使用は頻繁に開示されてい
る。その様な材料の(像様)露光は、キノンジアジドの
吸収領域、すなわち約350〜450nm、で放射線を
放出する放射線源で行なう。通常、像様露光の後に処理
工程が続く。アルカリケイ酸塩を基剤とするアルカリ性
水溶液が印刷板の製造で現像剤として広く使用されてい
る。処理した印刷板は適当な修正溶液で処理し、直ちに
印刷機にかけて使用するのでない場合、親水性剤で保存
するのが有利である。
とする放射線感応性または感光性混合物、ならびにそれ
らの、記録材料、例えばフォトレジストまたは予備増感
オフセット印刷板、における使用は頻繁に開示されてい
る。その様な材料の(像様)露光は、キノンジアジドの
吸収領域、すなわち約350〜450nm、で放射線を
放出する放射線源で行なう。通常、像様露光の後に処理
工程が続く。アルカリケイ酸塩を基剤とするアルカリ性
水溶液が印刷板の製造で現像剤として広く使用されてい
る。処理した印刷板は適当な修正溶液で処理し、直ちに
印刷機にかけて使用するのでない場合、親水性剤で保存
するのが有利である。
【0003】この分野ではさらに、記録材料の直接画像
形成に適した高出力、低コストの赤外光源が開発されて
いる。特に、約800nmの波長で放射線を放射するレ
ーザーダイオード、および約1064nmの波長で放射
線を放射するNd:YAGレーザーを挙げるべきであ
る。さらに、IR吸収成分として炭素の使用が開示され
ている(例えばWO96/20,429号明細書)。炭
素はIR放射線を広い波長範囲で吸収する。これまで、
記録材料の放射線感応性被覆中に炭素または炭素顔料を
上記の様に使用する方法は、像様IR露光後の記録材料
が水性アルカリ現像剤で常に処理できる訳ではないの
で、失敗に終わっている。処理が不完全である、すなわ
ち残留放射線感応性被覆が放射線露光した区域、または
放射線露光していない区域に残ることが多い。
形成に適した高出力、低コストの赤外光源が開発されて
いる。特に、約800nmの波長で放射線を放射するレ
ーザーダイオード、および約1064nmの波長で放射
線を放射するNd:YAGレーザーを挙げるべきであ
る。さらに、IR吸収成分として炭素の使用が開示され
ている(例えばWO96/20,429号明細書)。炭
素はIR放射線を広い波長範囲で吸収する。これまで、
記録材料の放射線感応性被覆中に炭素または炭素顔料を
上記の様に使用する方法は、像様IR露光後の記録材料
が水性アルカリ現像剤で常に処理できる訳ではないの
で、失敗に終わっている。処理が不完全である、すなわ
ち残留放射線感応性被覆が放射線露光した区域、または
放射線露光していない区域に残ることが多い。
【0004】そこで本発明の目的は、従来の画像形成
(すなわち可視光線およびUV放射線を使用する)およ
び赤外放射線画像形成の両方に適した、いわゆる2モー
ド記録可能な材料である上記の種類の記録材料を提供す
ることである。画像形成は、様々なIR放射線源を使用
して実行できる必要がある。さらに、像様に放射線露光
した材料を通常のアルカリ性水溶液で困難なく処理でき
る必要もある。
(すなわち可視光線およびUV放射線を使用する)およ
び赤外放射線画像形成の両方に適した、いわゆる2モー
ド記録可能な材料である上記の種類の記録材料を提供す
ることである。画像形成は、様々なIR放射線源を使用
して実行できる必要がある。さらに、像様に放射線露光
した材料を通常のアルカリ性水溶液で困難なく処理でき
る必要もある。
【0005】本発明により、IR吸収成分として、一次
粒子径が80nm未満であるカーボンブラック顔料を含
んでなり、該カーボンブラック顔料が、pKa が13未
満である酸性単位を含む重合体中に予め分散しているこ
とを特徴とする、ポジ型またはネガ型放射線感応性混合
物が開示される。
粒子径が80nm未満であるカーボンブラック顔料を含
んでなり、該カーボンブラック顔料が、pKa が13未
満である酸性単位を含む重合体中に予め分散しているこ
とを特徴とする、ポジ型またはネガ型放射線感応性混合
物が開示される。
【0006】pKa が13未満である好ましい酸性単位
は、酸性プロトンが異原子に付加している単位である。
特に効果的な酸性基としては、式−NH2 および−NH
−に対応する基、およびフェノール性水酸基およびカル
ボキシル基がある。特に適当な−NH2 および−NH−
基は、−SO2 −または−CO−基に直接付加した基で
ある。特にスルホンアミド基を挙げることができる。好
ましくは、酸性基は重合体中に少なくとも1mmol/
g、より好ましくは少なくとも1.5mmol/g、の
濃度で存在する。好ましい実施態様では、分散した製品
中で、酸性基を有する重合体のカーボンブラック顔料に
対する重量比は少なくとも1である。
は、酸性プロトンが異原子に付加している単位である。
特に効果的な酸性基としては、式−NH2 および−NH
−に対応する基、およびフェノール性水酸基およびカル
ボキシル基がある。特に適当な−NH2 および−NH−
基は、−SO2 −または−CO−基に直接付加した基で
ある。特にスルホンアミド基を挙げることができる。好
ましくは、酸性基は重合体中に少なくとも1mmol/
g、より好ましくは少なくとも1.5mmol/g、の
濃度で存在する。好ましい実施態様では、分散した製品
中で、酸性基を有する重合体のカーボンブラック顔料に
対する重量比は少なくとも1である。
【0007】特に良好な結果は、いわゆるB.E.T.
表面積が少なくとも30m2 /gであるカーボンブラッ
クで得られる。B.E.T.表面積の表現は、本明細書
では、Brunauer、EmmettおよびTellerにより開発された
方法で測定した表面積を意味する。平均一次粒子径は好
ましくは60nm未満である。一次粒子径は、例えば製
造時に得られる(すなわち分散前の)顔料のサイズを示
す。
表面積が少なくとも30m2 /gであるカーボンブラッ
クで得られる。B.E.T.表面積の表現は、本明細書
では、Brunauer、EmmettおよびTellerにより開発された
方法で測定した表面積を意味する。平均一次粒子径は好
ましくは60nm未満である。一次粒子径は、例えば製
造時に得られる(すなわち分散前の)顔料のサイズを示
す。
【0008】混合物中の放射線感応性成分は、例えば、
ジアゾニウム塩、光重合開始剤および重合性モノマー
(特に重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマ
ー)の組合せ、ならびに照射により酸を形成する化合物
および光化学的に形成された酸により開裂し得る化合物
の組合せである。しかし、放射線感応性成分は、好まし
くは1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホ
ン酸または1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−
スルホン酸および少なくとも1個のフェノール性水酸基
を有する化合物のエステルである。後者の化合物は、少
なくとも3個のフェノール性水酸基を有することが好ま
しい。エステル化に特に好ましい化合物は、3〜6個の
フェノール性水酸基を有する。その代表例としては、
2,3,4−トリヒドロキシ−ベンゾフェノン、2,
3,4−トリヒドロキシ−3’−メチル−ベンゾフェノ
ン、2,3,4−トリヒドロキシ−3’−プロピル−ベ
ンゾフェノンまたは2,3,4−トリヒドロキシ−3’
−イソプロピル−ベンゾフェノン、2,3,4,4’−
テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン、2,3,4,
2’,4’−ペンタヒドロキシ−ベンゾフェノン、2,
3,4,2’,3’,4’−ヘキサヒドロキシ−ベンゾ
フェノンおよび5,5’−ジアシル−2,3,4,
2’,3’,4’−ヘキサヒドロキシ−ジフェニルメタ
ンがある。1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−
スルホン酸または1,2−ナフトキノン−2−ジアジド
−5−スルホン酸のアミドも適当である。その他の有用
なエステル化成分は、ピロガロールとアルデヒドまたは
ケトンの縮合物、ならびにアルキル化フェノールとホル
ムアルデヒドの縮合物である。放射線感応性化合物の量
は、混合物の不揮発成分の総重量に対して約1〜50重
量%である。
ジアゾニウム塩、光重合開始剤および重合性モノマー
(特に重合可能なエチレン性不飽和基を有するモノマ
ー)の組合せ、ならびに照射により酸を形成する化合物
および光化学的に形成された酸により開裂し得る化合物
の組合せである。しかし、放射線感応性成分は、好まし
くは1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホ
ン酸または1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−
スルホン酸および少なくとも1個のフェノール性水酸基
を有する化合物のエステルである。後者の化合物は、少
なくとも3個のフェノール性水酸基を有することが好ま
しい。エステル化に特に好ましい化合物は、3〜6個の
フェノール性水酸基を有する。その代表例としては、
2,3,4−トリヒドロキシ−ベンゾフェノン、2,
3,4−トリヒドロキシ−3’−メチル−ベンゾフェノ
ン、2,3,4−トリヒドロキシ−3’−プロピル−ベ
ンゾフェノンまたは2,3,4−トリヒドロキシ−3’
−イソプロピル−ベンゾフェノン、2,3,4,4’−
テトラヒドロキシ−ベンゾフェノン、2,3,4,
2’,4’−ペンタヒドロキシ−ベンゾフェノン、2,
3,4,2’,3’,4’−ヘキサヒドロキシ−ベンゾ
フェノンおよび5,5’−ジアシル−2,3,4,
2’,3’,4’−ヘキサヒドロキシ−ジフェニルメタ
ンがある。1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−
スルホン酸または1,2−ナフトキノン−2−ジアジド
−5−スルホン酸のアミドも適当である。その他の有用
なエステル化成分は、ピロガロールとアルデヒドまたは
ケトンの縮合物、ならびにアルキル化フェノールとホル
ムアルデヒドの縮合物である。放射線感応性化合物の量
は、混合物の不揮発成分の総重量に対して約1〜50重
量%である。
【0009】pKa が13未満である酸性基を含む重合
体の例としては、フェノール類(例えばフェノール、レ
ゾルシノール、クレゾール、キシレノール、トリメチル
フェノール)またはスルファモイル置換された、または
カルバモイル置換されたアロメート(aromates)と、アル
デヒド(例えばホルムアルデヒド)またはケトンとの、
さらにはビス(メチロール)置換された尿素との、重縮
合物がある。上記の型の酸性単位を含む、ジイソシアネ
ートとジオールまたはジアミンの反応生成物も有用であ
る。
体の例としては、フェノール類(例えばフェノール、レ
ゾルシノール、クレゾール、キシレノール、トリメチル
フェノール)またはスルファモイル置換された、または
カルバモイル置換されたアロメート(aromates)と、アル
デヒド(例えばホルムアルデヒド)またはケトンとの、
さらにはビス(メチロール)置換された尿素との、重縮
合物がある。上記の型の酸性単位を含む、ジイソシアネ
ートとジオールまたはジアミンの反応生成物も有用であ
る。
【0010】その他の例としては、N−アリール(メ
タ)アクリルアミドまたはアリール(メタ)アクリル酸
エステルから誘導されるビニル芳香族化合物の単位を有
し、これらの単位が1個またはそれより多いカルボキシ
ル基、フェノール性水酸基、スルファモイル基またはカ
ルバモイル基をさらに含んでなる重合体がある。代表的
な例としては、2−ヒドロキシフェニルアクリレートま
たは2−ヒドロキシフェニルメタクリレート、N−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミドまたはN−(4
−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(4−
スルファモイルフェニル)アクリルアミドまたはN−
(4−スルファモイルフェニル)メタクリルアミド、N
−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジル)アク
リルアミドまたはN−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメ
チルベンジル)メタクリルアミド、4−ヒドロキシスチ
レンまたはヒドロキシフェニルマレイミドの単位を有す
る重合体がある。さらに、重合体は、酸性単位を含まな
い他のモノマーの単位、例えばオレフィン単位、ビニル
アロメート単位、メチル(メタ)アクリレート単位、フ
ェニル(メタ)アクリレート単位、ベンジル(メタ)ア
クリレート単位、メタクリルアミド単位またはアクリロ
ニトリル単位、も含むことができる。本明細書では、
(メタ)アクリレートの表現は、アクリレートおよび/
またはメタクリレートを意味する。
タ)アクリルアミドまたはアリール(メタ)アクリル酸
エステルから誘導されるビニル芳香族化合物の単位を有
し、これらの単位が1個またはそれより多いカルボキシ
ル基、フェノール性水酸基、スルファモイル基またはカ
ルバモイル基をさらに含んでなる重合体がある。代表的
な例としては、2−ヒドロキシフェニルアクリレートま
たは2−ヒドロキシフェニルメタクリレート、N−(4
−ヒドロキシフェニル)アクリルアミドまたはN−(4
−ヒドロキシフェニル)メタクリルアミド、N−(4−
スルファモイルフェニル)アクリルアミドまたはN−
(4−スルファモイルフェニル)メタクリルアミド、N
−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジル)アク
リルアミドまたはN−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメ
チルベンジル)メタクリルアミド、4−ヒドロキシスチ
レンまたはヒドロキシフェニルマレイミドの単位を有す
る重合体がある。さらに、重合体は、酸性単位を含まな
い他のモノマーの単位、例えばオレフィン単位、ビニル
アロメート単位、メチル(メタ)アクリレート単位、フ
ェニル(メタ)アクリレート単位、ベンジル(メタ)ア
クリレート単位、メタクリルアミド単位またはアクリロ
ニトリル単位、も含むことができる。本明細書では、
(メタ)アクリレートの表現は、アクリレートおよび/
またはメタクリレートを意味する。
【0011】さらに、放射線感応性混合物は重合体状バ
インダーを含有する。好ましい重合体状バインダーは、
カーボンブラックの予備分散工程で使用するものと同じ
バインダーである。バインダー画分の量は、放射線感応
性混合物の不揮発成分の総重量に対して一般的に2〜9
0重量%、好ましくは50〜85重量%、である。この
画分は、予備分散工程で使用したバインダーならびにそ
の後に加えたバインダーを含む。
インダーを含有する。好ましい重合体状バインダーは、
カーボンブラックの予備分散工程で使用するものと同じ
バインダーである。バインダー画分の量は、放射線感応
性混合物の不揮発成分の総重量に対して一般的に2〜9
0重量%、好ましくは50〜85重量%、である。この
画分は、予備分散工程で使用したバインダーならびにそ
の後に加えたバインダーを含む。
【0012】放射線感応性混合物中に存在する好ましい
カーボンブラックは、平均一次粒子径が80nm以下の
フレーム、ファーネスまたはチャンネルブラックであ
る。好ましくは、一次粒子径が60nm未満、より好ま
しくは30nm未満、である。カーボンブラックのB.
E.T.表面積は、少なくとも30m2 /gである。好
ましい実施態様では、カーボンブラックを酸化または再
酸化し、カーボンブラックの表面に酸性単位を形成させ
て、これらのカーボンブラックの水性分散液のpHを7
未満にする。
カーボンブラックは、平均一次粒子径が80nm以下の
フレーム、ファーネスまたはチャンネルブラックであ
る。好ましくは、一次粒子径が60nm未満、より好ま
しくは30nm未満、である。カーボンブラックのB.
E.T.表面積は、少なくとも30m2 /gである。好
ましい実施態様では、カーボンブラックを酸化または再
酸化し、カーボンブラックの表面に酸性単位を形成させ
て、これらのカーボンブラックの水性分散液のpHを7
未満にする。
【0013】驚くべきことに、上記の様に予備分散させ
たカーボンブラックは、放射線感応性混合物中に容易に
分散させることができる。その上、分散液の安定性が強
化される。カーボンブラックは、混合物の不揮発成分の
総重量に対して一般的に0.5〜30重量%、好ましく
は2〜15重量%、の量で存在する。
たカーボンブラックは、放射線感応性混合物中に容易に
分散させることができる。その上、分散液の安定性が強
化される。カーボンブラックは、混合物の不揮発成分の
総重量に対して一般的に0.5〜30重量%、好ましく
は2〜15重量%、の量で存在する。
【0014】カーボンブラック分散液は、カーボンブラ
ックおよび酸性基を有するバインダーから、良く知られ
ている装置を使用して製造することができる。溶解装置
中で予備分散させた後、混合物を例えばボールミル中で
細かく分散させる。その際に使用する溶剤は、塗装目的
に使用する溶剤と同じ溶剤(例えばプロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、ブタノンまたはγ−ブチロラク
トン)でよい。分散液の総固体含有量は一般的に5〜5
0重量%であり、カーボンブラックの比率は、バインダ
ーの量よりも少ないのが好ましい。多くの場合、分散液
の安定性を改良するために、界面活性剤または増粘剤を
加えるのが有利である。この目的には、水性アルカリ現
像剤に可溶な界面活性剤または増粘剤を選択するのが好
ましい。
ックおよび酸性基を有するバインダーから、良く知られ
ている装置を使用して製造することができる。溶解装置
中で予備分散させた後、混合物を例えばボールミル中で
細かく分散させる。その際に使用する溶剤は、塗装目的
に使用する溶剤と同じ溶剤(例えばプロピレングリコー
ルモノメチルエーテル、ブタノンまたはγ−ブチロラク
トン)でよい。分散液の総固体含有量は一般的に5〜5
0重量%であり、カーボンブラックの比率は、バインダ
ーの量よりも少ないのが好ましい。多くの場合、分散液
の安定性を改良するために、界面活性剤または増粘剤を
加えるのが有利である。この目的には、水性アルカリ現
像剤に可溶な界面活性剤または増粘剤を選択するのが好
ましい。
【0015】上記の成分に加えて、混合物は、印刷板製
造用の記録材料に一般的に使用する他の添加剤を含有す
ることができる。これらの添加剤には、特に、指示剤染
料(例えばジアルキルアミノベンゼン)、光化学的酸形
成剤(例えばジアゾジフェニルアミンのトリフルオロメ
タンスルホン酸塩またはヘキサフルオロリン酸塩)、界
面活性剤(好ましくはフッ素含有界面活性剤またはシリ
コーン系界面活性剤)、酸性単位の酸性度を調節するた
めのポリ(アルキレンオキシド)、および処理速度を増
加させるための、酸性単位を有する低分子量化合物があ
る。
造用の記録材料に一般的に使用する他の添加剤を含有す
ることができる。これらの添加剤には、特に、指示剤染
料(例えばジアルキルアミノベンゼン)、光化学的酸形
成剤(例えばジアゾジフェニルアミンのトリフルオロメ
タンスルホン酸塩またはヘキサフルオロリン酸塩)、界
面活性剤(好ましくはフッ素含有界面活性剤またはシリ
コーン系界面活性剤)、酸性単位の酸性度を調節するた
めのポリ(アルキレンオキシド)、および処理速度を増
加させるための、酸性単位を有する低分子量化合物があ
る。
【0016】本発明の別の目的は、基材および放射線感
応性被覆を有し、該被覆が本発明の混合物を含んでなる
記録材料を提供することである。しかし、この放射線感
応性混合物は他の目的、例えばフォトレジスト、にも使
用できる。
応性被覆を有し、該被覆が本発明の混合物を含んでなる
記録材料を提供することである。しかし、この放射線感
応性混合物は他の目的、例えばフォトレジスト、にも使
用できる。
【0017】本発明の記録材料における基材としては、
アルミニウムホイルまたはアルミニウムにポリエステル
をラミネート加工した複合材料ホイルが好ましい。好ま
しくは、アルミニウム表面を粗面化し、陽極酸化し、少
なくとも1個のホスホン酸単位またはホスホン酸塩単位
を含んでなる化合物により親水性を付与する。粗面化工
程の前に、アルカリ溶液を使用して脱脂およびピクリン
グを行ない、機械的および/または化学的な予備粗面化
を行なうことができる。次に、上記の放射線感応性混合
物を(有機)溶剤または溶剤混合物中に入れた溶液で基
材を被覆し、続いて乾燥させる。
アルミニウムホイルまたはアルミニウムにポリエステル
をラミネート加工した複合材料ホイルが好ましい。好ま
しくは、アルミニウム表面を粗面化し、陽極酸化し、少
なくとも1個のホスホン酸単位またはホスホン酸塩単位
を含んでなる化合物により親水性を付与する。粗面化工
程の前に、アルカリ溶液を使用して脱脂およびピクリン
グを行ない、機械的および/または化学的な予備粗面化
を行なうことができる。次に、上記の放射線感応性混合
物を(有機)溶剤または溶剤混合物中に入れた溶液で基
材を被覆し、続いて乾燥させる。
【0018】最後に、本発明は、本発明の記録材料を赤
外放射線に像様露光し、続いて温度20〜40℃で水性
アルカリ現像剤で処理する、平版印刷板の製造方法に関
するものである。
外放射線に像様露光し、続いて温度20〜40℃で水性
アルカリ現像剤で処理する、平版印刷板の製造方法に関
するものである。
【0019】好ましくは、現像剤は二酸化ケイ素のアル
カリ酸化物に対する比が1またはそれより大きく、それ
によって処理操作の際に酸化アルミニウム層の損傷が阻
止される。好ましいアルカリ酸化物としては、Na2 O
およびK2 Oおよびそれらの混合物がある。アルカリケ
イ酸塩に加えて、現像剤は、他の成分(例えば緩衝剤、
錯化剤、消泡剤、溶剤、腐食防止剤、染料、界面活性
剤、および/またはヒドロトロピー剤)を含むことがで
きる。好ましくは、処理操作は温度20〜40℃で機械
処理装置中で行なう。補給は、アルカリ含有量が0.6
〜2.0mol/lのアルカリケイ酸塩溶液を使用して
行なう。これらの二酸化ケイ素対アルカリ酸化物の比は
現像剤のそれと等しくてもよく(しかし、一般的にはそ
れより小さい)、これらの溶液は他の添加剤も含有する
ことができる。必要な補給速度は、使用する処理装置、
1日の板処理量、画像含有量、およびその他により調節
されるが、通常は記録材料1平方メートルあたり1〜5
0mlである。計量は、例えば(EP−A 556,6
90号明細書のように)導電性の測定により制御するこ
とができる。
カリ酸化物に対する比が1またはそれより大きく、それ
によって処理操作の際に酸化アルミニウム層の損傷が阻
止される。好ましいアルカリ酸化物としては、Na2 O
およびK2 Oおよびそれらの混合物がある。アルカリケ
イ酸塩に加えて、現像剤は、他の成分(例えば緩衝剤、
錯化剤、消泡剤、溶剤、腐食防止剤、染料、界面活性
剤、および/またはヒドロトロピー剤)を含むことがで
きる。好ましくは、処理操作は温度20〜40℃で機械
処理装置中で行なう。補給は、アルカリ含有量が0.6
〜2.0mol/lのアルカリケイ酸塩溶液を使用して
行なう。これらの二酸化ケイ素対アルカリ酸化物の比は
現像剤のそれと等しくてもよく(しかし、一般的にはそ
れより小さい)、これらの溶液は他の添加剤も含有する
ことができる。必要な補給速度は、使用する処理装置、
1日の板処理量、画像含有量、およびその他により調節
されるが、通常は記録材料1平方メートルあたり1〜5
0mlである。計量は、例えば(EP−A 556,6
90号明細書のように)導電性の測定により制御するこ
とができる。
【0020】処理された板の印刷耐久性、ならびに洗出
し溶液、修正溶液、およびUV硬化性印刷インクに対す
る耐性を改良するために、ジアゾ被覆に関するGB1,
154,749号明細書に記載されている様に、板を短
時間高温に加熱することができる。
し溶液、修正溶液、およびUV硬化性印刷インクに対す
る耐性を改良するために、ジアゾ被覆に関するGB1,
154,749号明細書に記載されている様に、板を短
時間高温に加熱することができる。
【0021】
【実施例】下記の諸例、星印が付いている比較例および
比較物質により本発明をより詳細に説明する。他に指示
がない限り、部数および百分率はすべて重量で表示す
る。
比較物質により本発明をより詳細に説明する。他に指示
がない限り、部数および百分率はすべて重量で表示す
る。
【0022】例1 平均一次粒子径20nm、B.E.T.表面積300m
2 /gを有する再酸化カーボンブラック(水性分散液の
pHは3)を下記の樹脂と混合して、分散液を形成させ
た。 1.1 m−またはp−クレゾール−ホルムアルデヒド
ノボラック(フェノール性水酸基含有量8.3mmol
/g) 1.2 ポリ[(メタクリル酸)−コ−(メタクリル酸2
−ヒドロキシエチル)](カルボキシル基含有量1.6m
mol/g) 1.3 4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメ
タクリルアミド単独重合体(フェノール性水酸基含有量
4.5mmol/g) 1.4 ポリ[(メタクリル酸2−ヒドロキシフェニ
ル)−コ−(メタクリル酸メチル)] (フェノール性
水酸基含有量4.7mmol/g) 1.5 4−スルファモイルフェニルメタクリルアミド
単独重合体(スルファモイル基含有量4.1mmol/
g) 1.6 4−ヒドロキシアクリルアミド単独重合体(フ
ェノール性水酸基含有量6.1mmol/g) 1.7 (ピロガロール−コ−アセトン)縮合物(フェ
ノール性水酸基含有量18.1mmol/g) 1.8 ポリ(4−ヒドロキシスチレン)(フェノール
性水酸基含有量8.3mmol/g) 1.9* ポリ(ビニルブチラール)(pKa が13未満
である酸性基を含まない)
2 /gを有する再酸化カーボンブラック(水性分散液の
pHは3)を下記の樹脂と混合して、分散液を形成させ
た。 1.1 m−またはp−クレゾール−ホルムアルデヒド
ノボラック(フェノール性水酸基含有量8.3mmol
/g) 1.2 ポリ[(メタクリル酸)−コ−(メタクリル酸2
−ヒドロキシエチル)](カルボキシル基含有量1.6m
mol/g) 1.3 4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルベンジルメ
タクリルアミド単独重合体(フェノール性水酸基含有量
4.5mmol/g) 1.4 ポリ[(メタクリル酸2−ヒドロキシフェニ
ル)−コ−(メタクリル酸メチル)] (フェノール性
水酸基含有量4.7mmol/g) 1.5 4−スルファモイルフェニルメタクリルアミド
単独重合体(スルファモイル基含有量4.1mmol/
g) 1.6 4−ヒドロキシアクリルアミド単独重合体(フ
ェノール性水酸基含有量6.1mmol/g) 1.7 (ピロガロール−コ−アセトン)縮合物(フェ
ノール性水酸基含有量18.1mmol/g) 1.8 ポリ(4−ヒドロキシスチレン)(フェノール
性水酸基含有量8.3mmol/g) 1.9* ポリ(ビニルブチラール)(pKa が13未満
である酸性基を含まない)
【0023】分散液の総固体含有量は30%であり、カ
ーボンブラック対樹脂の比は1:2であった。プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル(PGME)を溶剤と
して加えた。予備分散は溶解装置中で、細かい分散はボ
ールミル中で行なった。
ーボンブラック対樹脂の比は1:2であった。プロピレ
ングリコールモノメチルエーテル(PGME)を溶剤と
して加えた。予備分散は溶解装置中で、細かい分散はボ
ールミル中で行なった。
【0024】下記のものをプロピレングリコールモノメ
チルエーテルおよびテトラヒドロフラン(1:1)に総
固体含有量が11重量%になる様に加えて被覆溶液を製
造した。20重量%の、2,3,4−トリヒドロキシ−
ベンゾフェノン1モルおよび塩化1,2−ナフトキノン
−2−ジアジド−5−スルホニル1.5モルのエステル
化生成物、20重量%(固体に対して計算して)の、各
カーボンブラック分散液(1.1〜1.9* )、3重量
%の2,4−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、および1
00重量%になるのに十分な量の分散液1.1のノボラ
ック
チルエーテルおよびテトラヒドロフラン(1:1)に総
固体含有量が11重量%になる様に加えて被覆溶液を製
造した。20重量%の、2,3,4−トリヒドロキシ−
ベンゾフェノン1モルおよび塩化1,2−ナフトキノン
−2−ジアジド−5−スルホニル1.5モルのエステル
化生成物、20重量%(固体に対して計算して)の、各
カーボンブラック分散液(1.1〜1.9* )、3重量
%の2,4−ジヒドロキシ−ベンゾフェノン、および1
00重量%になるのに十分な量の分散液1.1のノボラ
ック
【0025】上記の溶液を、塩酸中で粗面化し、硫酸中
で陽極酸化し、ポリ(ビニルホスホン酸)で親水性付与
したアルミニウムホイルに塗布した。100℃で2分間
乾燥させた後、厚さ2μmの被覆が得られた。
で陽極酸化し、ポリ(ビニルホスホン酸)で親水性付与
したアルミニウムホイルに塗布した。100℃で2分間
乾燥させた後、厚さ2μmの被覆が得られた。
【0026】こうして得た記録材料を、内部ドラム記録
装置中、出力8.0WのNd:YAGレーザーを使用し
て、記録速度367m/s、レーザースポットサイズ1
0μmで赤外放射線に露出した。
装置中、出力8.0WのNd:YAGレーザーを使用し
て、記録速度367m/s、レーザースポットサイズ1
0μmで赤外放射線に露出した。
【0027】処理は通常の処理装置中、処理速度0.4
m/分、温度28℃で、K2 SiO3 (規定度水中0.
8モル/l)、ポリグリコール−1000−ジカルボン
酸0.2重量%およびペラルゴン酸0.4重量%を含む
ケイ酸カリウム現像剤を使用して行なった。
m/分、温度28℃で、K2 SiO3 (規定度水中0.
8モル/l)、ポリグリコール−1000−ジカルボン
酸0.2重量%およびペラルゴン酸0.4重量%を含む
ケイ酸カリウム現像剤を使用して行なった。
【0028】予備分散させたカーボンブラック1.1〜
1.8から製造した記録材料は、被覆残留物を残さずに
処理することができた。カーボンブラック1.9* から
製造した記録材料は、残留被覆のために曇りを示し、印
刷機械に汚れを生じた。
1.8から製造した記録材料は、被覆残留物を残さずに
処理することができた。カーボンブラック1.9* から
製造した記録材料は、残留被覆のために曇りを示し、印
刷機械に汚れを生じた。
【0029】例2 例1を繰り返したが、赤外線露光は、830nmに放射
ピークを有する直線レーザーダイオード列を取り付けた
外部ドラム記録装置で行なった(各ダイオードの出力4
0mW、記録速度1m/s、レーザースポットサイズ1
0μm)。処理は例1と同様に行なったが、残留被覆に
よる曇りは同じであった。
ピークを有する直線レーザーダイオード列を取り付けた
外部ドラム記録装置で行なった(各ダイオードの出力4
0mW、記録速度1m/s、レーザースポットサイズ1
0μm)。処理は例1と同様に行なったが、残留被覆に
よる曇りは同じであった。
【0030】例3 下記の種類のカーボンブラックを使用し、例1に記載す
る様にしてカーボンブラック分散液を製造した。 番号 種類 粒子径( nm) pH B.E.T(m2 /g) 3.1 HCC 13 2.5 460 3.2 HCC 17 2.5 300 3.3 MCC 20 2.7 240 3.4 RCC 25 4 100 3.5 LCF 56 3 45 3.6* フレーム 95 7 20 カーボン ブラック 分散樹脂:例1のm−クレゾールノボラック 分散液の総固体含有量:30% カーボンブラック対樹脂比:1:3 溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテル/ブチ
ロラクトン(95:5) 予備分散:溶解装置 細かい分散:ボールミル
る様にしてカーボンブラック分散液を製造した。 番号 種類 粒子径( nm) pH B.E.T(m2 /g) 3.1 HCC 13 2.5 460 3.2 HCC 17 2.5 300 3.3 MCC 20 2.7 240 3.4 RCC 25 4 100 3.5 LCF 56 3 45 3.6* フレーム 95 7 20 カーボン ブラック 分散樹脂:例1のm−クレゾールノボラック 分散液の総固体含有量:30% カーボンブラック対樹脂比:1:3 溶剤:プロピレングリコールモノメチルエーテル/ブチ
ロラクトン(95:5) 予備分散:溶解装置 細かい分散:ボールミル
【0031】5日間の貯蔵寿命試験を行ない、分散液の
安定性を確認した。下記の結果が記録された。 3.1〜3.4:安定性良好 3.5:安定性はなお許容できる 3.6* :沈降が確認される
安定性を確認した。下記の結果が記録された。 3.1〜3.4:安定性良好 3.5:安定性はなお許容できる 3.6* :沈降が確認される
【0032】下記のものをプロピレングリコールモノメ
チルエーテルおよびメチルエチルケトン(2:1)に総
固体含有量が11重量%になる様に加えて被覆溶液を製
造した。13重量%の、2,3,4−トリヒドロキシ−
ベンゾフェノン1モルおよび塩化1,2−ナフトキノン
−2−ジアジド−5−スルホニル1.5モルのエステ
ル、2重量%の、p−クメニルフェノール1モルおよび
塩化1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホ
ニル1モルのエステル、30重量%(固体に対して計算
して)の、各カーボンブラック分散液(3.1〜3.6
* )、0.5重量%のジメチルアミノアゾベンゼン、1
5重量%のポリ(4−ヒドロキシスチレン)、および1
00重量%になるのに十分な量の分散液1.1のノボラ
ック
チルエーテルおよびメチルエチルケトン(2:1)に総
固体含有量が11重量%になる様に加えて被覆溶液を製
造した。13重量%の、2,3,4−トリヒドロキシ−
ベンゾフェノン1モルおよび塩化1,2−ナフトキノン
−2−ジアジド−5−スルホニル1.5モルのエステ
ル、2重量%の、p−クメニルフェノール1モルおよび
塩化1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホ
ニル1モルのエステル、30重量%(固体に対して計算
して)の、各カーボンブラック分散液(3.1〜3.6
* )、0.5重量%のジメチルアミノアゾベンゼン、1
5重量%のポリ(4−ヒドロキシスチレン)、および1
00重量%になるのに十分な量の分散液1.1のノボラ
ック
【0033】上記の溶液を、硝酸中で粗面化し、硫酸中
で陽極酸化し、ポリ(ビニルホスホン酸)で親水性付与
したアルミニウムホイルに塗布した。100℃で2分間
乾燥させた後、厚さ1.5μmの被覆が得られた。
で陽極酸化し、ポリ(ビニルホスホン酸)で親水性付与
したアルミニウムホイルに塗布した。100℃で2分間
乾燥させた後、厚さ1.5μmの被覆が得られた。
【0034】予備分散したカーボンブラック3.1〜
3.5では完璧な被覆が得られたが、カーボンブラック
3.6* では被覆に欠陥が生じた。
3.5では完璧な被覆が得られたが、カーボンブラック
3.6* では被覆に欠陥が生じた。
【0035】印刷板を、内部ドラム記録装置中、出力
6.5WのNd:YAGレーザーを使用し、記録速度3
67m/s、レーザースポットサイズ10μmで赤外放
射線に露出した。
6.5WのNd:YAGレーザーを使用し、記録速度3
67m/s、レーザースポットサイズ10μmで赤外放
射線に露出した。
【0036】処理は通常の処理装置中、0.8m/分、
現像剤温度25℃で、Na2 SiO3 (規定度水中0.
8モル/l)、ポリグリコール−2000−ジカルボン
酸0.1重量%およびカプリル酸0.4重量%を含む現
像剤を使用して行なった。すべての場合で、残留被覆を
残さずに処理することができた。
現像剤温度25℃で、Na2 SiO3 (規定度水中0.
8モル/l)、ポリグリコール−2000−ジカルボン
酸0.1重量%およびカプリル酸0.4重量%を含む現
像剤を使用して行なった。すべての場合で、残留被覆を
残さずに処理することができた。
【0037】例4 例3を繰り返したが、赤外線露光は、830nmに放射
ピークを有する直線レーザーダイオード列を取り付けた
外部ドラム記録装置で行なった(各ダイオードの出力4
0mW、記録速度1.1m/s、レーザースポットサイ
ズ10μm)。処理は例1と同様に行なったが、残留被
覆による曇りは同じであった。
ピークを有する直線レーザーダイオード列を取り付けた
外部ドラム記録装置で行なった(各ダイオードの出力4
0mW、記録速度1.1m/s、レーザースポットサイ
ズ10μm)。処理は例1と同様に行なったが、残留被
覆による曇りは同じであった。
【0038】例5 例3を繰り返したが、露光は、通常の複写フレーム中、
350〜450nm、視感エネルギー線量700mJ/
cm2 で放射する5kWの、ハロゲン化金属をドーピン
グした水銀蒸気ランプで行なった。処理は例3と同様に
行なったが、残留被覆による曇りは同じであった。
350〜450nm、視感エネルギー線量700mJ/
cm2 で放射する5kWの、ハロゲン化金属をドーピン
グした水銀蒸気ランプで行なった。処理は例3と同様に
行なったが、残留被覆による曇りは同じであった。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 FI G03F 7/32 G03F 7/32 (72)発明者 ヘルムート、ハーベルハウエル ドイツ連邦共和国タウヌスシュタイン、ル ードウィヒ‐シャウス‐シュトラーセ、1 (72)発明者 マシアス、アイヒホルン 大韓民国キョンギドー、アンサン、シティ ー、スンゴクドン、641−4アグファ、イ ンダストリアルズ、コーリア、リミテッド 内 (72)発明者 フリッツ‐フェオ、グラブレイ ドイツ連邦共和国ケーニッヒシュタイン、 ヘールデルリンシュトラーセ、7 (72)発明者 トーマス、ライヒゼンリング ドイツ連邦共和国マインツ、グロスゲバ ン、24 (72)発明者 ゲイバー、アイ.コリーター アメリカ合衆国ニュージャージー州、バー クレイ、ハイツ、ドッグウッド、レイン、 212 (72)発明者 ダグラス、エイ.シーレイ アメリカ合衆国ニュージャージー州、ハ イ、ブリッジ、チャーチ、ストリート、63
Claims (11)
- 【請求項1】IR吸収成分として、一次粒子径が80n
m未満であるカーボンブラック顔料を含んでなり、前記
カーボンブラック顔料が、pKa が13未満である酸性
単位を含有する重合体中に予め分散していることを特徴
とする、ポジ型またはネガ型放射線感応性混合物。 - 【請求項2】前記酸性単位中で酸性プロトンが異原子に
付加しており、好ましい単位が、式−NH2 および−N
H−に対応する基、フェノール性水酸基またはカルボキ
シル基を有する基である、請求項1に記載の混合物。 - 【請求項3】前記重合体が、少なくとも1mmol/
g、好ましくは少なくとも1.5mmol/g、の酸性
基を含む、請求項1または2に記載の混合物。 - 【請求項4】前記カーボンブラック顔料が少なくとも3
0m2 /gのB.E.T.表面積を有する、請求項1〜
3のいずれか1項に記載の混合物。 - 【請求項5】前記カーボンブラック顔料の水中分散液が
7未満のpHを有する、請求項1〜4のいずれか1項に
記載の混合物。 - 【請求項6】前記カーボンブラック顔料の平均一次粒子
径が60nm未満、好ましくは30nm未満、である、
請求項1〜5のいずれか1項に記載の混合物。 - 【請求項7】被覆中の放射線感応性成分が、ジアゾニウ
ム塩、光重合開始剤および重合性モノマーの組合せ、照
射により酸を形成する化合物および光化学的に形成され
た酸により開裂し得る化合物の組合せ、または1,2−
ナフトキノン−2−ジアジド−4−スルホン酸または
1,2−ナフトキノン−2−ジアジド−5−スルホン酸
および少なくとも1個のフェノール性水酸基を有する化
合物のエステルである、請求項1〜6のいずれか1項に
記載の混合物。 - 【請求項8】前記フェノール性水酸基を含む化合物が少
なくとも3個の、好ましくは3〜6個の、フェノール性
水酸基を有する、請求項7に記載の混合物。 - 【請求項9】アルミニウム基材および放射線感応性被覆
を含んでなる記録材料であって、前記被覆が請求項1〜
8のいずれか1項に記載の混合物を含んでなることを特
徴とする記録材料。 - 【請求項10】前記基材がアルミニウムホイルからな
る、請求項9に記載の記録材料。 - 【請求項11】印刷板の前駆材料を製造する方法であっ
て、請求項9または10に記載の放射線感応性記録材料
を赤外放射線に像様露光し、続いてアルカリ性水溶液
中、温度20〜40℃で現像することを特徴とする方
法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19712323A DE19712323A1 (de) | 1997-03-24 | 1997-03-24 | Strahlungsempfindliches Gemisch und damit hergestelltes Aufzeichnungsmaterial für Offsetdruckplatten |
DE19712323.6 | 1997-03-24 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH10293398A true JPH10293398A (ja) | 1998-11-04 |
Family
ID=7824448
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP10066828A Withdrawn JPH10293398A (ja) | 1997-03-24 | 1998-03-17 | 放射線感応性混合物およびそこから製造したオフセット印刷板用の記録材料 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6100004A (ja) |
EP (1) | EP0867278B1 (ja) |
JP (1) | JPH10293398A (ja) |
DE (2) | DE19712323A1 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007033517A (ja) * | 2005-07-22 | 2007-02-08 | Showa Highpolymer Co Ltd | 感光性の樹脂組成物 |
WO2009113490A1 (ja) * | 2008-03-14 | 2009-09-17 | ナガセケムテックス株式会社 | 感放射線性樹脂組成物 |
JP2010085764A (ja) * | 2008-09-30 | 2010-04-15 | Fujifilm Corp | 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 |
KR101222947B1 (ko) | 2005-06-30 | 2013-01-17 | 엘지디스플레이 주식회사 | 인쇄용 용제, 및 그를 이용한 인쇄용 패턴 조성물 및 패턴 형성방법 |
JP2015081264A (ja) * | 2013-10-21 | 2015-04-27 | サカタインクス株式会社 | 活性エネルギー線硬化型オフセット印刷用インキ組成物及び当該組成物を用いた印刷の方法 |
Families Citing this family (17)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
RU2153986C2 (ru) | 1996-04-23 | 2000-08-10 | Хорселл Грэфик Индастриз Лимитед | Термочувствительная композиция и способ ее применения для изготовления литографической печатной формы |
US6117610A (en) | 1997-08-08 | 2000-09-12 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use |
US6090532A (en) * | 1997-03-21 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method |
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