JP2000250203A - オフセット印刷板製造用の、裏被覆を有する顔料配合記録材料 - Google Patents
オフセット印刷板製造用の、裏被覆を有する顔料配合記録材料Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 挿入紙を使用せずに積み重ねることができ
る、平版印刷板製造用の放射線感応性記録材料の提供。 【解決手段】 基材を有し、その基材の前面に感光性画
像形成層が存在し、基材の背面に、ガラス転移温度Ｔ
ｇ が４５℃以上である有機重合体状物質の層が存在す
る、オフセット印刷板製造用の記録材料。感光性画像形
成層またはその上に存在する最上層に顔料が配合されて
いる。
る、平版印刷板製造用の放射線感応性記録材料の提供。 【解決手段】 基材を有し、その基材の前面に感光性画
像形成層が存在し、基材の背面に、ガラス転移温度Ｔ
ｇ が４５℃以上である有機重合体状物質の層が存在す
る、オフセット印刷板製造用の記録材料。感光性画像形
成層またはその上に存在する最上層に顔料が配合されて
いる。
Description
【０００１】本発明は、金属基材を含んでなり、該基材
の前面に感光層があり、該基材の背面に、ガラス転移温
度Ｔｇが４５℃以上である有機重合体状物質が存在す
る、オフセット印刷板製造用の記録材料に関するもので
ある。
の前面に感光層があり、該基材の背面に、ガラス転移温
度Ｔｇが４５℃以上である有機重合体状物質が存在す
る、オフセット印刷板製造用の記録材料に関するもので
ある。
【０００２】オフセット印刷板製造用の記録材料は、通
常、２０枚以上を積み重ねて納入される。高圧および／
または高温で比較的長い時間貯蔵した後、個々の板が互
いに粘着することが多く、輸送の際、または積み重ねた
板を外す時に、感光層または基材の背面に傷が生じるこ
とがある。これを防ぐために、通常、板と板の間に紙の
シートを挟む。イン−ライン包装方式では、原則的に、
間に挟む紙が自動的に挿入される。この工程は比較的遅
く、誤作動も起こし易い。
常、２０枚以上を積み重ねて納入される。高圧および／
または高温で比較的長い時間貯蔵した後、個々の板が互
いに粘着することが多く、輸送の際、または積み重ねた
板を外す時に、感光層または基材の背面に傷が生じるこ
とがある。これを防ぐために、通常、板と板の間に紙の
シートを挟む。イン−ライン包装方式では、原則的に、
間に挟む紙が自動的に挿入される。この工程は比較的遅
く、誤作動も起こし易い。
【０００３】その様な挿入紙は、裏被覆していないアル
ミニウム基材を有する記録材料の場合に特に必要であ
る。しかし、紙は、感光層に作用し、それを変化させる
ことがある。紙の成分がｐＨおよび感光性を変化させ
る、および／または感光層のエージングを促進すること
があるが、これは非常に好ましくないことである。この
問題は、表面シールされた紙で軽減することができる。
しかし、その様な紙はかなり高価である。
ミニウム基材を有する記録材料の場合に特に必要であ
る。しかし、紙は、感光層に作用し、それを変化させる
ことがある。紙の成分がｐＨおよび感光性を変化させ
る、および／または感光層のエージングを促進すること
があるが、これは非常に好ましくないことである。この
問題は、表面シールされた紙で軽減することができる。
しかし、その様な紙はかなり高価である。
【０００４】印刷工場では、積み重ねた板を自動ライン
で処理する。挿入紙は原則的に吹き飛ばして除去する。
この工程も比較的遅く、誤作動を起こし易い。その上、
挿入紙は再使用することができず、屑として廃棄しなけ
ればならない。特開平０２−０４０６５７号公報によれ
ば、片側に感光層を、反対側に光重合性材料のＵＶ硬化
層を含んでなるアルミニウム基材を有する記録材料の場
合、この問題は最早起こらないとされている。背面に塗
布される層は、モノマーに加えて、光増感剤、熱重合防
止剤、バインダー、充填材、および他の添加剤も含むこ
とができる。該層はつや消し層として作用する。
で処理する。挿入紙は原則的に吹き飛ばして除去する。
この工程も比較的遅く、誤作動を起こし易い。その上、
挿入紙は再使用することができず、屑として廃棄しなけ
ればならない。特開平０２−０４０６５７号公報によれ
ば、片側に感光層を、反対側に光重合性材料のＵＶ硬化
層を含んでなるアルミニウム基材を有する記録材料の場
合、この問題は最早起こらないとされている。背面に塗
布される層は、モノマーに加えて、光増感剤、熱重合防
止剤、バインダー、充填材、および他の添加剤も含むこ
とができる。該層はつや消し層として作用する。
【０００５】特開平０６−２０２３１２号公報には、オ
フセット印刷板製造用の記録材料が開示されているが、
そのアルミニウム基材も同様に背面に、有機重合体、例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブタジエン、
ポリエステル、ポリカーボネート、ポリビニルアセター
ル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレンまたはメタクリレー
ト樹脂、で被覆されている。裏被覆の結果、アルミニウ
ム基材に対する水性アルカリ現像剤の攻撃が緩和され
る。この記録材料における感光層は、１〜１０重量％
の、現像剤に不溶の化合物を含む。
フセット印刷板製造用の記録材料が開示されているが、
そのアルミニウム基材も同様に背面に、有機重合体、例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブタジエン、
ポリエステル、ポリカーボネート、ポリビニルアセター
ル、ポリ塩化ビニル、ポリスチレンまたはメタクリレー
ト樹脂、で被覆されている。裏被覆の結果、アルミニウ
ム基材に対する水性アルカリ現像剤の攻撃が緩和され
る。この記録材料における感光層は、１〜１０重量％
の、現像剤に不溶の化合物を含む。
【０００６】陽極酸化した基材、陽極酸化により形成さ
れた酸化アルミニウム層の上の光重合し得る層、および
０．１〜８．０μm厚の裏被覆を有する記録材料が特開
平０９−２６５１７６号公報に記載されている。この被
覆は、それぞれが２０℃以上のガラス転移温度Ｔｇを有
する、飽和共重合ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、
ポリビニルアセタールまたは塩化ビニリデン共重合体を
含んでなる。それによって、上にある板の背面に対する
密着性が過度に強力であるために生じる、積み重ねた板
の輸送中の傷、並びに放射線感応性層の剥離が防止され
ると言われている。
れた酸化アルミニウム層の上の光重合し得る層、および
０．１〜８．０μm厚の裏被覆を有する記録材料が特開
平０９−２６５１７６号公報に記載されている。この被
覆は、それぞれが２０℃以上のガラス転移温度Ｔｇを有
する、飽和共重合ポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、
ポリビニルアセタールまたは塩化ビニリデン共重合体を
含んでなる。それによって、上にある板の背面に対する
密着性が過度に強力であるために生じる、積み重ねた板
の輸送中の傷、並びに放射線感応性層の剥離が防止され
ると言われている。
【０００７】挿入紙無しに積み重ねることができるオフ
セット印刷板製造用の記録材料は、ＥＰ−Ａ ５２８３
９５明細書にも開示されている。この材料は、（アルミ
ニウム）基材、基材の背面上にある厚さ０．０１〜８．
０μmの、ガラス転移温度が２０℃以上の有機重合体状
物質の層、および基材の前面上にある感光層を含んでな
る。感光層の上には、平均直径が１００μm以下で、平
均高さが１０μm以下である粒子を含んでなる不連続の
つや消し層がある。つや消し層の重量は、１平方メート
ルあたり５〜２００mgである。このつや消し層により、
真空焼枠中で、写真陰画と感光層の間の空気がより迅速
にポンプ吸引できる。つや消し層は、例えばメタクリル
酸メチル／アクリル酸エチル／アクリル酸ターポリマー
（そのカルボキシル基の一部は塩の形態で存在する）の
溶液を、静電界中で、毎分約２５，０００回転で回転し
ているスプレーベルを使用してスプレーすることによ
り、製造できる。一般的に、つや消し層は、水または水
性アルカリ中に可溶である。しかし、つや消し層、特に
ガラス転移温度が低い材料を含んでなるつや消し層は、
積み重ねた時に、上にある板の背面に粘着する傾向があ
る。こうして、放射線感応性層の比較的大きな部分が剥
離し、その記録材料は最早使用できなくなる。
セット印刷板製造用の記録材料は、ＥＰ−Ａ ５２８３
９５明細書にも開示されている。この材料は、（アルミ
ニウム）基材、基材の背面上にある厚さ０．０１〜８．
０μmの、ガラス転移温度が２０℃以上の有機重合体状
物質の層、および基材の前面上にある感光層を含んでな
る。感光層の上には、平均直径が１００μm以下で、平
均高さが１０μm以下である粒子を含んでなる不連続の
つや消し層がある。つや消し層の重量は、１平方メート
ルあたり５〜２００mgである。このつや消し層により、
真空焼枠中で、写真陰画と感光層の間の空気がより迅速
にポンプ吸引できる。つや消し層は、例えばメタクリル
酸メチル／アクリル酸エチル／アクリル酸ターポリマー
（そのカルボキシル基の一部は塩の形態で存在する）の
溶液を、静電界中で、毎分約２５，０００回転で回転し
ているスプレーベルを使用してスプレーすることによ
り、製造できる。一般的に、つや消し層は、水または水
性アルカリ中に可溶である。しかし、つや消し層、特に
ガラス転移温度が低い材料を含んでなるつや消し層は、
積み重ねた時に、上にある板の背面に粘着する傾向があ
る。こうして、放射線感応性層の比較的大きな部分が剥
離し、その記録材料は最早使用できなくなる。
【０００８】ＥＰ−Ａ ４９０５１５明細書は、像様露
光後にアルカリ金属水溶液で現像する、予備増感させた
印刷板に関するものである。現像剤が板の背面からアル
ミニウムを溶解させるのを阻止するために、現像剤に不
溶の有機重合体状被覆を板に施す。被覆は、重合体、例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリ
ブタジエン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ尿素、ポ
リイミド、ポリシロキサン、ポリカーボネート、エポキ
シ樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンまたはポ
リスチレン、を含む。被覆は、熱硬化性または光化学硬
化性成分も含んでなる。
光後にアルカリ金属水溶液で現像する、予備増感させた
印刷板に関するものである。現像剤が板の背面からアル
ミニウムを溶解させるのを阻止するために、現像剤に不
溶の有機重合体状被覆を板に施す。被覆は、重合体、例
えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリ
ブタジエン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリ尿素、ポ
リイミド、ポリシロキサン、ポリカーボネート、エポキ
シ樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンまたはポ
リスチレン、を含む。被覆は、熱硬化性または光化学硬
化性成分も含んでなる。
【０００９】従って、挿入紙を使用せずに積み重ねるこ
とができる、平版印刷板製造用の放射線感応性記録材料
が依然として必要とされている。長期間の貯蔵後および
／または高温が作用した後および比較的長い時間輸送し
た後でも、積み重ねた板を損傷なく引き離して取り出せ
るべきである。さらに、板は、真空焼枠中で短時間で排
気できる必要がある。現像の際、水性アルカリ現像剤が
水酸化アルミニウムでほとんど汚染されないことも必要
である。
とができる、平版印刷板製造用の放射線感応性記録材料
が依然として必要とされている。長期間の貯蔵後および
／または高温が作用した後および比較的長い時間輸送し
た後でも、積み重ねた板を損傷なく引き離して取り出せ
るべきである。さらに、板は、真空焼枠中で短時間で排
気できる必要がある。現像の際、水性アルカリ現像剤が
水酸化アルミニウムでほとんど汚染されないことも必要
である。
【００１０】この目的は、板の前面をつや消しせず、顔
料配合することにより、達成される。板の上にある放射
線感応性層または最上層中にスペーサーを埋め込むので
ある。
料配合することにより、達成される。板の上にある放射
線感応性層または最上層中にスペーサーを埋め込むので
ある。
【００１１】そこで本発明は、基材を有し、その基材の
前面に感光性画像形成層が存在し、基材の背面に、ガラ
ス転移温度Ｔｇが４５℃以上である有機重合体状物質の
層が存在し、感光層またはその上に存在する最上層に顔
料が配合されている、オフセット印刷板製造用の記録材
料に関するものである。
前面に感光性画像形成層が存在し、基材の背面に、ガラ
ス転移温度Ｔｇが４５℃以上である有機重合体状物質の
層が存在し、感光層またはその上に存在する最上層に顔
料が配合されている、オフセット印刷板製造用の記録材
料に関するものである。
【００１２】顔料配合を達成する材料は、一般的に、無
機性で、事実上水に不溶である。顔料粒子の平均粒子径
は、一般的に０．１〜２０．０μm、好ましくは１．０
〜１５．０μm、特に好ましくは３〜５μm、である。顔
料配合組成物の量は、記録材料の表面が、Bekk平滑度＜
１０００秒、好ましくは２０〜２５０秒、（DIN 5310
7、方法Ａにより測定）を有する様に選択する。
機性で、事実上水に不溶である。顔料粒子の平均粒子径
は、一般的に０．１〜２０．０μm、好ましくは１．０
〜１５．０μm、特に好ましくは３〜５μm、である。顔
料配合組成物の量は、記録材料の表面が、Bekk平滑度＜
１０００秒、好ましくは２０〜２５０秒、（DIN 5310
7、方法Ａにより測定）を有する様に選択する。
【００１３】好ましい顔料配合組成物は、平均粒子径が
３〜５μmで、カットオフが１５μmであるケイ酸製品で
ある。好ましい実施態様では、ケイ酸製品は、界面活性
剤、特にシロキサン単位を有する界面活性剤、と組み合
わせる。界面活性剤の量は、放射線感応性層の乾燥重量
に対して一般的に０．０１〜２重量％である。はっ水性
を付与した（特にワックスで）、または化学的に変性し
た（特にシランで）ケイ酸製品がさらに好ましい。
３〜５μmで、カットオフが１５μmであるケイ酸製品で
ある。好ましい実施態様では、ケイ酸製品は、界面活性
剤、特にシロキサン単位を有する界面活性剤、と組み合
わせる。界面活性剤の量は、放射線感応性層の乾燥重量
に対して一般的に０．０１〜２重量％である。はっ水性
を付与した（特にワックスで）、または化学的に変性し
た（特にシランで）ケイ酸製品がさらに好ましい。
【００１４】ここで、ケイ酸製品とは、DIN 55921によ
り、合成のケイ酸またはケイ酸塩として定義される。従
って、純粋なSiO2、および金属酸化物を含むケイ酸（例
えばケイ酸アルミニウム）の両方を使用できる（両者を
正確に区別できなくても）。従って、用語「ケイ酸製
品」は、ケイ酸とケイ酸塩を区別しない、または常に区
別している訳ではない、通常の表現「シリカ」と類似し
ている。使用するケイ酸製品は、例えばGrace から供給
されるRSyloid型、Lanco から供給されるRSilcron 、Cr
osfield から供給されるRGasil 、Degussa から供給さ
れるOK/HK 型、およびEngelhard-Chemieから供給される
RSatintone でよい。
り、合成のケイ酸またはケイ酸塩として定義される。従
って、純粋なSiO2、および金属酸化物を含むケイ酸（例
えばケイ酸アルミニウム）の両方を使用できる（両者を
正確に区別できなくても）。従って、用語「ケイ酸製
品」は、ケイ酸とケイ酸塩を区別しない、または常に区
別している訳ではない、通常の表現「シリカ」と類似し
ている。使用するケイ酸製品は、例えばGrace から供給
されるRSyloid型、Lanco から供給されるRSilcron 、Cr
osfield から供給されるRGasil 、Degussa から供給さ
れるOK/HK 型、およびEngelhard-Chemieから供給される
RSatintone でよい。
【００１５】「平均粒子径」とは、対応するDINの方法6
6141に規定されている様に、累積質量または体積分布曲
線の５０％値を意味するものとする。カットオフは１０
０％値を表す。この方法は、粒子径分布をプロットする
原理を説明している。この原理は、測定する細かさの種
類に関係無く、すべての粒子状物質に適用される。特徴
的な値を決定するための様々な方法、例えば沈降測定、
電子顕微鏡写真の画像解析評価、電導度測定および光散
乱、がある。
6141に規定されている様に、累積質量または体積分布曲
線の５０％値を意味するものとする。カットオフは１０
０％値を表す。この方法は、粒子径分布をプロットする
原理を説明している。この原理は、測定する細かさの種
類に関係無く、すべての粒子状物質に適用される。特徴
的な値を決定するための様々な方法、例えば沈降測定、
電子顕微鏡写真の画像解析評価、電導度測定および光散
乱、がある。
【００１６】Bekk平滑度＜１０００秒、好ましくは２０
〜２５０秒、の達成に必要なケイ酸製品の量は著しく変
動する。その量は、つや消し粒子の平均粒子径、並びに
放射線感応性層または最上層の層重量、および基材表面
の粗さにより異なる。しかし、いずれの場合も、望まし
い効果が比較的硬い無機つや消し剤で達成されたこと、
および板を積み重ね、加圧下で、長期間貯蔵または輸送
した後も、傷がまったく観察されなかったことは驚くべ
きことである。
〜２５０秒、の達成に必要なケイ酸製品の量は著しく変
動する。その量は、つや消し粒子の平均粒子径、並びに
放射線感応性層または最上層の層重量、および基材表面
の粗さにより異なる。しかし、いずれの場合も、望まし
い効果が比較的硬い無機つや消し剤で達成されたこと、
および板を積み重ね、加圧下で、長期間貯蔵または輸送
した後も、傷がまったく観察されなかったことは驚くべ
きことである。
【００１７】すでに説明した様に、ケイ酸充填材は、感
光層またはその上にある最上層の中に含むことができ
る。顔料配合していない、透明な最上層が、顔料配合し
た放射線感応性層の上に存在することもできる。しか
し、この層は厚過ぎてはならない、すなわちつや消し粒
子の平均粒子径は、感光層および最上層を一緒にした総
厚よりも大きくなければならない。
光層またはその上にある最上層の中に含むことができ
る。顔料配合していない、透明な最上層が、顔料配合し
た放射線感応性層の上に存在することもできる。しか
し、この層は厚過ぎてはならない、すなわちつや消し粒
子の平均粒子径は、感光層および最上層を一緒にした総
厚よりも大きくなければならない。
【００１８】Bekk平滑度は、DIN 53107、方法Ａにより
測定し、測定試料の真空容器中の圧力が、空気が吸引さ
れる結果、−５０７mbarから−４８９mbarに増加する時
間を測定する。
測定し、測定試料の真空容器中の圧力が、空気が吸引さ
れる結果、−５０７mbarから−４８９mbarに増加する時
間を測定する。
【００１９】顔料配合組成物は、好ましくは層の乾燥重
量に対して０．０１〜１０重量％、特に０．１〜５重量
％、の量で存在する。顔料配合に使用されるケイ酸製品
は、例えばワックスで被覆することにより、あるいは例
えばシランと反応させることにより変性させて、分散し
易くすることができる。
量に対して０．０１〜１０重量％、特に０．１〜５重量
％、の量で存在する。顔料配合に使用されるケイ酸製品
は、例えばワックスで被覆することにより、あるいは例
えばシランと反応させることにより変性させて、分散し
易くすることができる。
【００２０】使用する界面活性剤は、好ましくはジアル
キルシロキサンであり、これをアルキレンオキシド単位
または酸単位でさらに変性することができる。ハレーシ
ョンを起こさない十分な被覆に必要な量は、充填材の量
に応じて異なる。原則的に、層の乾燥重量に対して０．
０１〜２重量％、特に０．０５〜１重量％、で十分であ
る。
キルシロキサンであり、これをアルキレンオキシド単位
または酸単位でさらに変性することができる。ハレーシ
ョンを起こさない十分な被覆に必要な量は、充填材の量
に応じて異なる。原則的に、層の乾燥重量に対して０．
０１〜２重量％、特に０．０５〜１重量％、で十分であ
る。
【００２１】使用する界面活性剤の例としては、RTegog
lide 、RTegopren（Goldschmidt AG）、REdaplan （Mue
nzing）、RByk （Byk-Chemie）、RBaysilon（Bayer A
G）またはWacker-Chemie GmbHから供給される各種シリ
コーン油を挙げることができる。
lide 、RTegopren（Goldschmidt AG）、REdaplan （Mue
nzing）、RByk （Byk-Chemie）、RBaysilon（Bayer A
G）またはWacker-Chemie GmbHから供給される各種シリ
コーン油を挙げることができる。
【００２２】放射線感応性層自体はポジ型でもネガ型で
もよい。放射線感応性層は、層重量が一般的に０．１〜
６ g/m2、好ましくは０．５〜４．０ g/m2、である。
もよい。放射線感応性層は、層重量が一般的に０．１〜
６ g/m2、好ましくは０．５〜４．０ g/m2、である。
【００２３】ポジ型混合物用（特に３５０〜４５０nmの
波長領域で露光することを意図する混合物用）の放射線
感応性化合物としては、キノンジアジド化合物、特にナ
フトキノンジアジド化合物を挙げることができる。さら
に、放射線で露光することにより強酸を形成する化合物
と、酸により開裂し得る少なくとも１個のＣ−Ｏ−Ｃ結
合を含む化合物の組合せがこの目的に適当である。７５
０〜１１００nmの領域にあるＩＲ放射線で露光する混合
物は、例えば、広帯域増感の場合における熱増感剤とし
てカーボンブラック、またはスペクトル増感剤としてメ
チン染料を含む。
波長領域で露光することを意図する混合物用）の放射線
感応性化合物としては、キノンジアジド化合物、特にナ
フトキノンジアジド化合物を挙げることができる。さら
に、放射線で露光することにより強酸を形成する化合物
と、酸により開裂し得る少なくとも１個のＣ−Ｏ−Ｃ結
合を含む化合物の組合せがこの目的に適当である。７５
０〜１１００nmの領域にあるＩＲ放射線で露光する混合
物は、例えば、広帯域増感の場合における熱増感剤とし
てカーボンブラック、またはスペクトル増感剤としてメ
チン染料を含む。
【００２４】ネガ型混合物に関しては、放射線感応性成
分として、ジアゾニウム塩基を有する化合物、またはフ
リーラジカル重合可能で、光反応開始剤およびフリーラ
ジカル重合し得るエチレン性不飽和化合物を含んでなる
系、またはこれらの成分の組合せを使用することができ
る。
分として、ジアゾニウム塩基を有する化合物、またはフ
リーラジカル重合可能で、光反応開始剤およびフリーラ
ジカル重合し得るエチレン性不飽和化合物を含んでなる
系、またはこれらの成分の組合せを使用することができ
る。
【００２５】他の適当な放射線感応性成分は、ポジ型光
導電性物質または光導電性物質と増感剤の組合せであ
る。
導電性物質または光導電性物質と増感剤の組合せであ
る。
【００２６】１，２−キノンジアジドは、好ましくは
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−または−５
−スルホン酸のエステルまたはスルホンアミドである。
これらの物質の中で、１，２−ナフトキノン−２−ジア
ジド−４−または−５−スルホン酸と、２，５−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシ−４’−メ
チルベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシ−
４’−メトキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−ト
リヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’，４’
−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、５，５’−ジアル
カノイル−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサヒド
ロキシジフェニルメタン（特に５，５’−ジアセチル−
２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサヒドロキシジフ
ェニルメタン）または５，５’−ジベンゾイル−２，
３，４，２’，３’，４’−ヘキサヒドロキシジフェニ
ルメタンのエステルが好ましい。関与するポリヒドロキ
シ化合物は、原則的に、部分的にエステル化されてい
る。１，２−キノンジアジド化合物の量は、放射線感応
性層の不揮発成分の総重量に対して一般的に３〜５０重
量％、好ましくは７〜３５重量％、である。
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−４−または−５
−スルホン酸のエステルまたはスルホンアミドである。
これらの物質の中で、１，２−ナフトキノン−２−ジア
ジド−４−または−５−スルホン酸と、２，５−ジヒド
ロキシベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシベ
ンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシ−４’−メ
チルベンゾフェノン、２，３，４−トリヒドロキシ−
４’−メトキシベンゾフェノン、２，３，４，４’−ト
リヒドロキシベンゾフェノン、２，３，４，２’，４’
−ペンタヒドロキシベンゾフェノン、５，５’−ジアル
カノイル−２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサヒド
ロキシジフェニルメタン（特に５，５’−ジアセチル−
２，３，４，２’，３’，４’−ヘキサヒドロキシジフ
ェニルメタン）または５，５’−ジベンゾイル−２，
３，４，２’，３’，４’−ヘキサヒドロキシジフェニ
ルメタンのエステルが好ましい。関与するポリヒドロキ
シ化合物は、原則的に、部分的にエステル化されてい
る。１，２−キノンジアジド化合物の量は、放射線感応
性層の不揮発成分の総重量に対して一般的に３〜５０重
量％、好ましくは７〜３５重量％、である。
【００２７】１，２−キノンジアジド化合物は、それら
の、本発明の重合体（これらの重合体が反応性水酸基ま
たはアミノ基を含んでいれば）とのエステルまたはアミ
ドの形態で使用することも可能である。対応する１，２
−キノンジアジドスルホン酸または１，２−キノンジア
ジドカルボン酸と、親重合体の水酸基および／またはア
ミノ基とのエステル化／アミド化は、当業者には公知の
方法により行なわれる。
の、本発明の重合体（これらの重合体が反応性水酸基ま
たはアミノ基を含んでいれば）とのエステルまたはアミ
ドの形態で使用することも可能である。対応する１，２
−キノンジアジドスルホン酸または１，２−キノンジア
ジドカルボン酸と、親重合体の水酸基および／またはア
ミノ基とのエステル化／アミド化は、当業者には公知の
方法により行なわれる。
【００２８】特に適当な酸開裂し得る化合物は、下記の
ものである。 Ａ）少なくとも１個のオルトカルボン酸エステルおよび
／またはカルボキサミドアセタール基を有する化合物
（これらの化合物は、重合体的な性格を有し、該基が、
主鎖中の結合要素として、またはペンダント置換基とし
て存在することもできる）、 Ｂ）主鎖中に反復するアセチルおよび／またはケタール
基を有するオリゴマーおよび重合体化合物、および Ｃ）少なくとも１個のエノールエーテルまたはＮ−アシ
ルイミノカーボネート基を有する化合物。
ものである。 Ａ）少なくとも１個のオルトカルボン酸エステルおよび
／またはカルボキサミドアセタール基を有する化合物
（これらの化合物は、重合体的な性格を有し、該基が、
主鎖中の結合要素として、またはペンダント置換基とし
て存在することもできる）、 Ｂ）主鎖中に反復するアセチルおよび／またはケタール
基を有するオリゴマーおよび重合体化合物、および Ｃ）少なくとも１個のエノールエーテルまたはＮ−アシ
ルイミノカーボネート基を有する化合物。
【００２９】放射線感応性混合物の成分としての、タイ
プＡ）の、酸により開裂し得る化合物は、ＥＰ−Ａ ０
０２２５７１明細書に詳細に記載されている。タイプ
Ｂ）の化合物を含む混合物は、ＤＥ−Ｃ ２３０６２４
８およびＤＥ−Ｃ ２７１８２５４各明細書に記載され
ている。タイプＣ）の化合物は、ＥＰ−Ａ ０００６６
２６およびＥＰ−Ａ ０００６６２７各明細書に記載さ
れている。開裂し得る化合物の量は、放射線感応性層の
不揮発成分の総重量に対して一般的に５〜７０重量％、
好ましくは５〜４０重量％、である。
プＡ）の、酸により開裂し得る化合物は、ＥＰ−Ａ ０
０２２５７１明細書に詳細に記載されている。タイプ
Ｂ）の化合物を含む混合物は、ＤＥ−Ｃ ２３０６２４
８およびＤＥ−Ｃ ２７１８２５４各明細書に記載され
ている。タイプＣ）の化合物は、ＥＰ−Ａ ０００６６
２６およびＥＰ−Ａ ０００６６２７各明細書に記載さ
れている。開裂し得る化合物の量は、放射線感応性層の
不揮発成分の総重量に対して一般的に５〜７０重量％、
好ましくは５〜４０重量％、である。
【００３０】好ましくは放射線で露光した時に強酸を形
成または放出する放射線感応性成分としては、数多くの
公知の化合物および混合物、例えばホスホニウム塩、ス
ルホニウム塩、およびヨードニウム塩、ハロゲン化合物
および有機金属−有機ハロゲンの組合せが適当である。
該ホスホニウム、スルホニウムおよびヨードニウム化合
物は、原則的に、それらの、有機溶剤に可溶な塩の形態
で、一般的に複雑な酸、例えばテトラフルオロホウ酸、
ヘキサフルオロリン酸、ヘキサフルオロアンチモン酸お
よびヘキサフルオロヒ酸、との沈殿生成物として使用さ
れる。
成または放出する放射線感応性成分としては、数多くの
公知の化合物および混合物、例えばホスホニウム塩、ス
ルホニウム塩、およびヨードニウム塩、ハロゲン化合物
および有機金属−有機ハロゲンの組合せが適当である。
該ホスホニウム、スルホニウムおよびヨードニウム化合
物は、原則的に、それらの、有機溶剤に可溶な塩の形態
で、一般的に複雑な酸、例えばテトラフルオロホウ酸、
ヘキサフルオロリン酸、ヘキサフルオロアンチモン酸お
よびヘキサフルオロヒ酸、との沈殿生成物として使用さ
れる。
【００３１】原則的に、光化学的フリーラジカル開始剤
とも呼ばれるすべての有機ハロゲン化合物、例えば炭素
原子または芳香族環の上に少なくとも１個のハロゲン原
子を有する化合物、を、ハロゲン化水素酸を形成するハ
ロゲン含有放射線感応性化合物として使用できる。これ
らの化合物の中で、ＤＥ−Ｃ ２７１８２５９（＝ＵＳ
−Ａ ４１８９３２３）明細書による、トリアジン核の
中に、ハロメチル基、特にトリクロロメチル基、および
芳香族または不飽和置換基を有するｓ−トリアジン誘導
体が好ましい。２−トリハロメチル−［１，３，４］オ
キサジアゾールも適当である。これらのハロゲン含有化
合物の効果は、公知の増感剤により、スペクトル的な影
響を及ぼし、増大させることもできる。
とも呼ばれるすべての有機ハロゲン化合物、例えば炭素
原子または芳香族環の上に少なくとも１個のハロゲン原
子を有する化合物、を、ハロゲン化水素酸を形成するハ
ロゲン含有放射線感応性化合物として使用できる。これ
らの化合物の中で、ＤＥ−Ｃ ２７１８２５９（＝ＵＳ
−Ａ ４１８９３２３）明細書による、トリアジン核の
中に、ハロメチル基、特にトリクロロメチル基、および
芳香族または不飽和置換基を有するｓ−トリアジン誘導
体が好ましい。２−トリハロメチル−［１，３，４］オ
キサジアゾールも適当である。これらのハロゲン含有化
合物の効果は、公知の増感剤により、スペクトル的な影
響を及ぼし、増大させることもできる。
【００３２】開始剤の量も、その化学的性質および層の
組成に応じて非常に大きく異なる。開始剤の量が、それ
ぞれの場合に、層の不揮発成分の総重量に対して約０．
１〜１０重量％、好ましくは０．２〜５重量％、である
場合に、有利な結果が得られる。特に厚さが０．０１mm
を超える複写層に関しては、比較的少量の酸供与体を使
用するのが好ましい。
組成に応じて非常に大きく異なる。開始剤の量が、それ
ぞれの場合に、層の不揮発成分の総重量に対して約０．
１〜１０重量％、好ましくは０．２〜５重量％、である
場合に、有利な結果が得られる。特に厚さが０．０１mm
を超える複写層に関しては、比較的少量の酸供与体を使
用するのが好ましい。
【００３３】感光性画像形成層は、ポジ型の熱機構によ
ることもできる。特に、カーボンブラック粒子またはＩ
Ｒ吸収染料が、ＩＲまたは熱放射線に対する増感を達成
するのに適している。ここでは、一般的な慣習により、
ＩＲに敏感である、とはその混合物またはその混合物か
ら形成された層が、７００〜１１００nmの波長を有する
放射線に敏感であることを意味する。従って、カーボン
ブラック顔料は、広いＩＲ波長領域にわたって吸収する
ので、ＩＲ吸収成分として特に適当である。しかし、Ｉ
Ｒ領域で吸収する他の化合物、例えば適当に置換された
フタロシアニン（例えばZeneca Specialist Colours か
ら供給されるRRO-JET 830 またはRRO-JET 950NP ）また
はメチン染料、もＩＲ増感に使用できる。ＩＲ放射線に
敏感な混合物は、ＤＥ−Ａ １９７１２３２３、ＤＥ−
Ａ １９７３９３０２、ＥＰ−Ａ０６２５７２８および
ＥＰ−Ａ ０７８０２３９各明細書に記載されている。
ることもできる。特に、カーボンブラック粒子またはＩ
Ｒ吸収染料が、ＩＲまたは熱放射線に対する増感を達成
するのに適している。ここでは、一般的な慣習により、
ＩＲに敏感である、とはその混合物またはその混合物か
ら形成された層が、７００〜１１００nmの波長を有する
放射線に敏感であることを意味する。従って、カーボン
ブラック顔料は、広いＩＲ波長領域にわたって吸収する
ので、ＩＲ吸収成分として特に適当である。しかし、Ｉ
Ｒ領域で吸収する他の化合物、例えば適当に置換された
フタロシアニン（例えばZeneca Specialist Colours か
ら供給されるRRO-JET 830 またはRRO-JET 950NP ）また
はメチン染料、もＩＲ増感に使用できる。ＩＲ放射線に
敏感な混合物は、ＤＥ−Ａ １９７１２３２３、ＤＥ−
Ａ １９７３９３０２、ＥＰ−Ａ０６２５７２８および
ＥＰ−Ａ ０７８０２３９各明細書に記載されている。
【００３４】放射線感応性層は、電子写真層でもよい。
この場合、層は有機光導電体、増感剤および有機重合体
状バインダーを含むのが有利である。
この場合、層は有機光導電体、増感剤および有機重合体
状バインダーを含むのが有利である。
【００３５】ネガ型層に適当で、ジアゾニウム塩基を有
するオリゴマー状または重合体状化合物は当業者には公
知である。これらの化合物は、通常の様式で、ジアゾモ
ノマー（ＥＰ−Ａ ０１５２８１９明細書）と縮合剤、
例えばホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオ
ンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒ
ドまたはベンズアルデヒドまたは酸性単位を有するアル
デヒド、例えばパラ−ホルミル安息香酸、との縮合によ
り製造することができる。ジアゾニウム化合物に加え
て、他の、縮合可能な化合物、特に芳香族アミン、フェ
ノール、フェノールエーテル、芳香族チオエーテル、芳
香族炭化水素、芳香族複素環式化合物または有機酸アミ
ド（こりらの材料は、酸性単位で置換されていてもよ
い）、から誘導される非感光性単位も含む縮合物も使用
できる。特に好ましいジアゾニウム重縮合物は、ジアゾ
基を有するフェニル基にメトキシ基を含むことができる
ジフェニルアミン−４−ジアゾニウム塩と、ホルムアル
デヒドまたは４，４’−ビス−メトキシメチルジフェニ
ルエーテルの反応生成物である。これらのジアゾ樹脂の
適当な陰イオンは、特に芳香族スルホネート、例えばト
ルエン−４−スルホネートまたはメチレンスルホネー
ト、である。ジアゾニウム塩基を有する化合物は、ＥＰ
−Ａ ０３０８６２明細書にも記載されている。そこに
記載されている化合物は、式 -X'-C(=Y)-X-R-Ar-N2 +A- の基を有する化合物であり、式中、Ａ−は陰イオンであ
り、Ａｒは芳香族または複素芳香族基であり、Ｒは単結
合または置換された、または置換されていない脂肪族お
よび／または芳香族基であり、Ｙは酸素または硫黄原子
であり、ＸおよびＸ’は、互いに独立して、酸素原子、
硫黄原子、または置換された、または置換されていない
イミノ基であり、基ＸおよびＸ’の少なくとも一方は置
換された、または置換されていないイミノ基である。
するオリゴマー状または重合体状化合物は当業者には公
知である。これらの化合物は、通常の様式で、ジアゾモ
ノマー（ＥＰ−Ａ ０１５２８１９明細書）と縮合剤、
例えばホルムアルデヒド、アセトアルデヒド、プロピオ
ンアルデヒド、ブチルアルデヒド、イソブチルアルデヒ
ドまたはベンズアルデヒドまたは酸性単位を有するアル
デヒド、例えばパラ−ホルミル安息香酸、との縮合によ
り製造することができる。ジアゾニウム化合物に加え
て、他の、縮合可能な化合物、特に芳香族アミン、フェ
ノール、フェノールエーテル、芳香族チオエーテル、芳
香族炭化水素、芳香族複素環式化合物または有機酸アミ
ド（こりらの材料は、酸性単位で置換されていてもよ
い）、から誘導される非感光性単位も含む縮合物も使用
できる。特に好ましいジアゾニウム重縮合物は、ジアゾ
基を有するフェニル基にメトキシ基を含むことができる
ジフェニルアミン−４−ジアゾニウム塩と、ホルムアル
デヒドまたは４，４’−ビス−メトキシメチルジフェニ
ルエーテルの反応生成物である。これらのジアゾ樹脂の
適当な陰イオンは、特に芳香族スルホネート、例えばト
ルエン−４−スルホネートまたはメチレンスルホネー
ト、である。ジアゾニウム塩基を有する化合物は、ＥＰ
−Ａ ０３０８６２明細書にも記載されている。そこに
記載されている化合物は、式 -X'-C(=Y)-X-R-Ar-N2 +A- の基を有する化合物であり、式中、Ａ−は陰イオンであ
り、Ａｒは芳香族または複素芳香族基であり、Ｒは単結
合または置換された、または置換されていない脂肪族お
よび／または芳香族基であり、Ｙは酸素または硫黄原子
であり、ＸおよびＸ’は、互いに独立して、酸素原子、
硫黄原子、または置換された、または置換されていない
イミノ基であり、基ＸおよびＸ’の少なくとも一方は置
換された、または置換されていないイミノ基である。
【００３６】ジアゾニウム塩基を有するオリゴマー状ま
たは重合体状化合物の量は、感光性混合物の不揮発成分
の総重量に対して、好ましくは３〜６０重量％である。
たは重合体状化合物の量は、感光性混合物の不揮発成分
の総重量に対して、好ましくは３〜６０重量％である。
【００３７】ネガ型感光性成分は光重合し得る系でもよ
い。これは、３００〜１１００nmの領域で吸収する光反
応開始剤、および（フリーラジカル）重合し得るエチレ
ン性不飽和成分で構成される。適当な光反応開始剤は、
例えばアセトフェノン、ベンゾフェノン、トリクロロメ
チル−（１，３，５）トリアジン、ベンゾイン、ベンゾ
インエーテル、ベンゾインケタール、キサントン、チオ
キサントン、アクリジン、ポルフィリンまたはヘキサア
リールビスイミダゾールの親物質または誘導体である。
これらの物質は、置換されていてよいメタロセンとの組
合せで使用することができる（ＥＰ−Ａ ０３６４７３
５明細書）。フリーラジカル重合し得る成分は、好まし
くは１個またはそれより多い不飽和基を有するアクリル
酸またはメタクリル酸の誘導体、好ましくは（メタ）ア
クリル酸のエステルである。この成分はモノマー、オリ
ゴマーまたはプレポリマーでよい。この成分は、固体ま
たは液体の形態で存在することができ、固体または粘性
の形態が好ましい。モノマーとして適当な化合物には、
例えばトリ（メタ）アクリル酸トリメチロールプロパ
ン、ヘキサ（メタ）アクリル酸ペンタエリトリチル、ペ
ンタ（メタ）アクリル酸ジペンタエリトリチル、ヘキサ
（メタ）アクリル酸ジペンタエリトリチル、テトラ（メ
タ）アクリル酸ペンタエリトリチル、テトラ（メタ）ア
クリル酸１，１，１，３，３，３−ヘキサメチロールプ
ロパン（「テトラ（メタ）アクリル酸ジトリメチロール
プロパン」とも呼ばれる）、ジ（メタ）アクリル酸ジエ
チレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸トリエチレン
グリコールまたはジ（メタ）アクリル酸テトラエチレン
グリコールがある。フリーラジカル重合し得る特に好ま
しいエチレン性不飽和化合物は、開始剤の存在下で露光
された時に光酸化し得る少なくとも１個の基、特にアミ
ノ、尿素、チオまたはエノール基、を有するアクリル酸
エステルまたはアルキルアクリル酸エステル、およびト
リエタノールアミンまたはＮ，Ｎ’−（２−ヒドロキシ
エチル）ピペリジンとメタクリル酸イソシアナートエチ
ルとの反応生成物、またはトリエタノールアミンおよび
２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
トとアクリル酸グリシジルとの反応生成物である。最後
に、使用可能な他のモノマーまたはコモノマーは、マレ
イミド、ジメチルマレイミドおよびマレイミドの他の誘
導体である。適当なオリゴマーまたはプレポリマーは、
例えばポリウレタン、エポキシ樹脂またはポリエステル
または重合可能なエチレン性不飽和基を含む不飽和ポリ
エステル樹脂である。これらの基は、特に（メタ）アク
リレート、ビニルまたはマレエート基である。
い。これは、３００〜１１００nmの領域で吸収する光反
応開始剤、および（フリーラジカル）重合し得るエチレ
ン性不飽和成分で構成される。適当な光反応開始剤は、
例えばアセトフェノン、ベンゾフェノン、トリクロロメ
チル−（１，３，５）トリアジン、ベンゾイン、ベンゾ
インエーテル、ベンゾインケタール、キサントン、チオ
キサントン、アクリジン、ポルフィリンまたはヘキサア
リールビスイミダゾールの親物質または誘導体である。
これらの物質は、置換されていてよいメタロセンとの組
合せで使用することができる（ＥＰ−Ａ ０３６４７３
５明細書）。フリーラジカル重合し得る成分は、好まし
くは１個またはそれより多い不飽和基を有するアクリル
酸またはメタクリル酸の誘導体、好ましくは（メタ）ア
クリル酸のエステルである。この成分はモノマー、オリ
ゴマーまたはプレポリマーでよい。この成分は、固体ま
たは液体の形態で存在することができ、固体または粘性
の形態が好ましい。モノマーとして適当な化合物には、
例えばトリ（メタ）アクリル酸トリメチロールプロパ
ン、ヘキサ（メタ）アクリル酸ペンタエリトリチル、ペ
ンタ（メタ）アクリル酸ジペンタエリトリチル、ヘキサ
（メタ）アクリル酸ジペンタエリトリチル、テトラ（メ
タ）アクリル酸ペンタエリトリチル、テトラ（メタ）ア
クリル酸１，１，１，３，３，３−ヘキサメチロールプ
ロパン（「テトラ（メタ）アクリル酸ジトリメチロール
プロパン」とも呼ばれる）、ジ（メタ）アクリル酸ジエ
チレングリコール、ジ（メタ）アクリル酸トリエチレン
グリコールまたはジ（メタ）アクリル酸テトラエチレン
グリコールがある。フリーラジカル重合し得る特に好ま
しいエチレン性不飽和化合物は、開始剤の存在下で露光
された時に光酸化し得る少なくとも１個の基、特にアミ
ノ、尿素、チオまたはエノール基、を有するアクリル酸
エステルまたはアルキルアクリル酸エステル、およびト
リエタノールアミンまたはＮ，Ｎ’−（２−ヒドロキシ
エチル）ピペリジンとメタクリル酸イソシアナートエチ
ルとの反応生成物、またはトリエタノールアミンおよび
２，２，４−トリメチルヘキサメチレンジイソシアネー
トとアクリル酸グリシジルとの反応生成物である。最後
に、使用可能な他のモノマーまたはコモノマーは、マレ
イミド、ジメチルマレイミドおよびマレイミドの他の誘
導体である。適当なオリゴマーまたはプレポリマーは、
例えばポリウレタン、エポキシ樹脂またはポリエステル
または重合可能なエチレン性不飽和基を含む不飽和ポリ
エステル樹脂である。これらの基は、特に（メタ）アク
リレート、ビニルまたはマレエート基である。
【００３８】それぞれの場合に、感光性混合物の不揮発
成分の総重量に対して、光反応開始剤の量は好ましくは
０．５〜２０重量％であり、フリーラジカル重合可能な
化合物の量は５〜８０重量％である。
成分の総重量に対して、光反応開始剤の量は好ましくは
０．５〜２０重量％であり、フリーラジカル重合可能な
化合物の量は５〜８０重量％である。
【００３９】ジアゾニウム重縮合物と、光反応開始剤お
よびフリーラジカル重合可能なエチレン性不飽和化合物
を含んでなるフリーラジカル重合可能な系との組合せ
は、特定の用途に有利な場合がある。その様なハイブリ
ッド系は、好ましくは、１〜５０重量％のジアゾニウム
重縮合物、０．５〜２０重量％の光反応開始剤、および
５〜８０重量％のフリーラジカル重合可能な化合物を含
む。
よびフリーラジカル重合可能なエチレン性不飽和化合物
を含んでなるフリーラジカル重合可能な系との組合せ
は、特定の用途に有利な場合がある。その様なハイブリ
ッド系は、好ましくは、１〜５０重量％のジアゾニウム
重縮合物、０．５〜２０重量％の光反応開始剤、および
５〜８０重量％のフリーラジカル重合可能な化合物を含
む。
【００４０】さらに、他の多くのオリゴマーおよび重合
体、例えば、必要であればそれ自体をコモノマーで変性
した、ノボラック樹脂型のフェノール樹脂またはビニル
重合体、例えばポリビニルアセタール、ポリ（メタ）ア
クリレート、ポリビニルエーテルおよびポリビニルピロ
リドン、を同時に使用することができる。
体、例えば、必要であればそれ自体をコモノマーで変性
した、ノボラック樹脂型のフェノール樹脂またはビニル
重合体、例えばポリビニルアセタール、ポリ（メタ）ア
クリレート、ポリビニルエーテルおよびポリビニルピロ
リドン、を同時に使用することができる。
【００４１】露光直後にカラーコントラストを像様に施
すには、それらの層は指示薬染料および上記の、露光に
より強酸を形成する放射線感応性成分をさらに含む。
すには、それらの層は指示薬染料および上記の、露光に
より強酸を形成する放射線感応性成分をさらに含む。
【００４２】光化学的酸供与体の量も、その化学的性質
および層の組成に応じて非常に大きく変動し得る。層の
不揮発成分の総重量に対して約０．１〜１０重量％で、
有利な結果が得られる。
および層の組成に応じて非常に大きく変動し得る。層の
不揮発成分の総重量に対して約０．１〜１０重量％で、
有利な結果が得られる。
【００４３】陽イオン系染料、例えばトリフェニルメタ
ン染料、特にそれらのカルビノール塩基の形態、および
メチン染料が指示薬染料として特に有用であることが立
証されている。
ン染料、特にそれらのカルビノール塩基の形態、および
メチン染料が指示薬染料として特に有用であることが立
証されている。
【００４４】可溶性の、または細かく分割した分散性の
染料およびＵＶ吸収剤、界面活性剤、ポリグリコール誘
導体および顔料も放射線感応性混合物に添加することが
できる。
染料およびＵＶ吸収剤、界面活性剤、ポリグリコール誘
導体および顔料も放射線感応性混合物に添加することが
できる。
【００４５】基材は、好ましくは寸法が安定した、シー
ト状またはホイル状の、特に金属の材料を含んでなり、
アルミニウムまたはアルミニウム合金が特に好ましい。
アルミニウム基材は、光沢圧延された形態で、または機
械的および／または化学的に粗面化され、必要に応じて
陽極酸化も行なわれた形態で使用することができる。基
材は、例えばホスホン酸、カルボン酸またはスルホン酸
基を有する単位を含み、必要に応じて塩基性基（特にア
ミノ基）も含むことができる重合体または重縮合物で化
学的に前処理しておくことができる。ケイ酸塩、リン酸
塩、フッ化物またはフルオロ錯塩も前処理に適当であ
る。これらの前処理を複数組み合わせることもできる。
最後に、金属／プラスチックラミネート、例えばアルミ
ニウム／ポリエステルラミネートも基材として適当であ
る。
ト状またはホイル状の、特に金属の材料を含んでなり、
アルミニウムまたはアルミニウム合金が特に好ましい。
アルミニウム基材は、光沢圧延された形態で、または機
械的および／または化学的に粗面化され、必要に応じて
陽極酸化も行なわれた形態で使用することができる。基
材は、例えばホスホン酸、カルボン酸またはスルホン酸
基を有する単位を含み、必要に応じて塩基性基（特にア
ミノ基）も含むことができる重合体または重縮合物で化
学的に前処理しておくことができる。ケイ酸塩、リン酸
塩、フッ化物またはフルオロ錯塩も前処理に適当であ
る。これらの前処理を複数組み合わせることもできる。
最後に、金属／プラスチックラミネート、例えばアルミ
ニウム／ポリエステルラミネートも基材として適当であ
る。
【００４６】裏被覆は、ガラス転移温度Ｔｇが４５℃以
上である有機重合体状物質を一般的に含んでなる。その
厚さは、一般的に０．１〜２０．０μm、好ましくは
０．５〜１０μm、特に好ましくは１〜８μm、である。
裏被覆は水および水性アルカリ現像剤に事実上不溶であ
る。重合体状物質は、例えばポリオレフィン（例えばポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリブタ
ジエンまたはポリイソプレン）、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリアミド、ポリシロキサン、ポリスチレ
ン、それぞれアクリル酸アルキルまたはメタクリル酸ア
ルキル単位（例えばポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭ
Ａ）またはスチレン／メタクリル酸メチル共重合体）の
単独重合体またはそれらの単位との共重合体、ポリビニ
ルアセタール、フェノキシ樹脂（例えばビスフェノール
Ａおよびエピクロロヒドリンの樹脂）、ポリ塩化ビニル
またはポリ塩化ビニリデンを含んでなる。裏被覆は、少
量の添加剤、例えば可塑剤、染料、顔料、シリコーン化
合物、界面活性剤または他の、所望の表面特性を確立す
るための組成物をさらに含むことができる。
上である有機重合体状物質を一般的に含んでなる。その
厚さは、一般的に０．１〜２０．０μm、好ましくは
０．５〜１０μm、特に好ましくは１〜８μm、である。
裏被覆は水および水性アルカリ現像剤に事実上不溶であ
る。重合体状物質は、例えばポリオレフィン（例えばポ
リエチレン、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリブタ
ジエンまたはポリイソプレン）、ポリエステル、ポリカ
ーボネート、ポリアミド、ポリシロキサン、ポリスチレ
ン、それぞれアクリル酸アルキルまたはメタクリル酸ア
ルキル単位（例えばポリメタクリル酸メチル（ＰＭＭ
Ａ）またはスチレン／メタクリル酸メチル共重合体）の
単独重合体またはそれらの単位との共重合体、ポリビニ
ルアセタール、フェノキシ樹脂（例えばビスフェノール
Ａおよびエピクロロヒドリンの樹脂）、ポリ塩化ビニル
またはポリ塩化ビニリデンを含んでなる。裏被覆は、少
量の添加剤、例えば可塑剤、染料、顔料、シリコーン化
合物、界面活性剤または他の、所望の表面特性を確立す
るための組成物をさらに含むことができる。
【００４７】裏被覆は、該重合体状物質に加えて、熱お
よび／または放射線の作用により、重合、縮合または架
橋する化合物も含むことができる。例えば、付加重合し
得るアクリレートまたはメタクリレート、例えば（メ
タ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、
（メタ）アクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキ
シエチル、モノ−、ジ−またはトリ（メタ）アクリル酸
トリメチロールプロパンまたはトリ（メタ）アクリル酸
ペンタエリトリチル、さらに（メタ）アクリルアミド、
例えばＮ−メチル−、Ｎ−エチル−、Ｎ−プロピル−、
Ｎ−ブチル−またはＮ−イソブチル（メタ）アクリルア
ミド、アリルエステル、例えば酢酸アリル、ビニルエー
テル、例えばブチルビニルエーテル、オクチルビニルエ
ーテル、デシルビニルエーテル、２−メトキシエチルビ
ニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテルま
たはベンジルビニルエーテル、ＵＶ放射線の作用により
硬化する多官能性ウレタンアクリレートおよび熱の作用
により硬化するポリウレタンを挙げることができる。本
願では、「（メタ）アクリレート」は「アクリレートお
よび／またはメタクリレート」を表す。同じことが、
（メタ）アクリルアミドおよびアクリル酸またはメタク
リル酸の他の誘導体にも適用される。裏被覆は、感光性
でもよい。区別するために、基材前面の感光層は、これ
だけが像様露光され、現像されるので、「感光性画像形
成層」と呼ぶ。
よび／または放射線の作用により、重合、縮合または架
橋する化合物も含むことができる。例えば、付加重合し
得るアクリレートまたはメタクリレート、例えば（メ
タ）アクリル酸エチル、（メタ）アクリル酸プロピル、
（メタ）アクリル酸ブチル、メタクリル酸２−ヒドロキ
シエチル、モノ−、ジ−またはトリ（メタ）アクリル酸
トリメチロールプロパンまたはトリ（メタ）アクリル酸
ペンタエリトリチル、さらに（メタ）アクリルアミド、
例えばＮ−メチル−、Ｎ−エチル−、Ｎ−プロピル−、
Ｎ−ブチル−またはＮ−イソブチル（メタ）アクリルア
ミド、アリルエステル、例えば酢酸アリル、ビニルエー
テル、例えばブチルビニルエーテル、オクチルビニルエ
ーテル、デシルビニルエーテル、２−メトキシエチルビ
ニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエーテルま
たはベンジルビニルエーテル、ＵＶ放射線の作用により
硬化する多官能性ウレタンアクリレートおよび熱の作用
により硬化するポリウレタンを挙げることができる。本
願では、「（メタ）アクリレート」は「アクリレートお
よび／またはメタクリレート」を表す。同じことが、
（メタ）アクリルアミドおよびアクリル酸またはメタク
リル酸の他の誘導体にも適用される。裏被覆は、感光性
でもよい。区別するために、基材前面の感光層は、これ
だけが像様露光され、現像されるので、「感光性画像形
成層」と呼ぶ。
【００４８】裏被覆の製造では、該成分を適当な、一般
的に有機の溶剤に溶解または分散させ、基材に塗布す
る。次いで、加熱により、および／または減圧下で溶剤
を除去する。機械的、化学的および／または電気化学的
に処理したアルミニウムを使用する場合、その処理の前
または後に被覆を施すことができる。被覆は、スピンコ
ーティングまたは注ぎ込みにより、またはドクターブレ
ード、フロワーまたは他の装置を使用して塗布すること
ができる。
的に有機の溶剤に溶解または分散させ、基材に塗布す
る。次いで、加熱により、および／または減圧下で溶剤
を除去する。機械的、化学的および／または電気化学的
に処理したアルミニウムを使用する場合、その処理の前
または後に被覆を施すことができる。被覆は、スピンコ
ーティングまたは注ぎ込みにより、またはドクターブレ
ード、フロワーまたは他の装置を使用して塗布すること
ができる。
【００４９】本発明の記録材料は、像様露光し、当業者
には公知の通常の方法により現像する。原則的に、記録
材料を先ず真空焼枠中で、写真陰画または陽画を通して
像様露光する。露光には、カーボンアークランプ、水銀
蒸気ランプ、キセノンランプまたは類似の光源を使用す
ることが多い。写真フィルムを使用しない直接画像形成
（コンピュータ製版）も可能である。次いで、像様露光
した、または照射した記録材料を、通常はアルカリ性水
溶液で現像する。この溶液は、一般的にアルカリ金属ケ
イ酸塩およびアルカリ金属水酸化物または水酸化アンモ
ニウムを含み、必要に応じて炭酸塩、リン酸塩、ホウ酸
塩、アルキル−、ジアルキル−またはトリアルキルアミ
ン、アルカン酸、少量の少なくとも部分的に水と混和し
得る有機溶剤および／または界面活性剤を含む。
には公知の通常の方法により現像する。原則的に、記録
材料を先ず真空焼枠中で、写真陰画または陽画を通して
像様露光する。露光には、カーボンアークランプ、水銀
蒸気ランプ、キセノンランプまたは類似の光源を使用す
ることが多い。写真フィルムを使用しない直接画像形成
（コンピュータ製版）も可能である。次いで、像様露光
した、または照射した記録材料を、通常はアルカリ性水
溶液で現像する。この溶液は、一般的にアルカリ金属ケ
イ酸塩およびアルカリ金属水酸化物または水酸化アンモ
ニウムを含み、必要に応じて炭酸塩、リン酸塩、ホウ酸
塩、アルキル−、ジアルキル−またはトリアルキルアミ
ン、アルカン酸、少量の少なくとも部分的に水と混和し
得る有機溶剤および／または界面活性剤を含む。
【００５０】下記の例により本発明を説明する。「pbw」
の略号は「重量部」を表す。他に指示がない限り、百分
率は重量による百分率である。比較例および比較材料は
星印(＊) により示す。
の略号は「重量部」を表す。他に指示がない限り、百分
率は重量による百分率である。比較例および比較材料は
星印(＊) により示す。
【００５１】(I) 厚さ３００μmの、希塩酸中で粗面化
（DIN 4768によるＲｚ値５．０μm）し、中間酸洗し、
水性希硫酸中で陽極酸化（陽極酸化により形成された酸
化アルミニウム層の重量３．５ g/m2）し、ホスホノメ
チル化ポリエチレンイミンおよびポリビニルホスホン酸
で親水性付与したアルミニウムホイル（ＤＥ−Ａ ４４
２３１４０明細書に対応）、(II)厚さ４００μmの、希
塩酸中で粗面化（DIN 4768によるＲｚ値５．０μm）さ
れ、中間酸洗され、希硫酸中で陽極酸化（酸化物重量
４．０ g/m2）され、ポリビニルホスホン酸で親水性付
与されたアルミニウムホイル、および(III) 厚さ３００
μmの、希硝酸中で粗面化（DIN 4768によるＲｚ値６．
０μm）され、中間酸洗され、希硫酸中で陽極酸化（酸
化物重量２．０ g/m2）され、ポリビニルホスホン酸で
親水性付与されたアルミニウムホイルを基材として用意
し、背面に、表１に示す被覆（ａ）〜（ｄ）を施し、前
面には、下記の放射線感応性層（Ａ）〜（Ｈ）または
（Ｊ）を施した。層Ａ、Ｃ、Ｄ、ＥおよびＨはポジ型で
あり、他の層はネガ型である。
（DIN 4768によるＲｚ値５．０μm）し、中間酸洗し、
水性希硫酸中で陽極酸化（陽極酸化により形成された酸
化アルミニウム層の重量３．５ g/m2）し、ホスホノメ
チル化ポリエチレンイミンおよびポリビニルホスホン酸
で親水性付与したアルミニウムホイル（ＤＥ−Ａ ４４
２３１４０明細書に対応）、(II)厚さ４００μmの、希
塩酸中で粗面化（DIN 4768によるＲｚ値５．０μm）さ
れ、中間酸洗され、希硫酸中で陽極酸化（酸化物重量
４．０ g/m2）され、ポリビニルホスホン酸で親水性付
与されたアルミニウムホイル、および(III) 厚さ３００
μmの、希硝酸中で粗面化（DIN 4768によるＲｚ値６．
０μm）され、中間酸洗され、希硫酸中で陽極酸化（酸
化物重量２．０ g/m2）され、ポリビニルホスホン酸で
親水性付与されたアルミニウムホイルを基材として用意
し、背面に、表１に示す被覆（ａ）〜（ｄ）を施し、前
面には、下記の放射線感応性層（Ａ）〜（Ｈ）または
（Ｊ）を施した。層Ａ、Ｃ、Ｄ、ＥおよびＨはポジ型で
あり、他の層はネガ型である。
【００５２】裏被覆は、ドクターブレードで塗布し、強
制通気加熱炉中、１２０℃で２分間乾燥させ、前面上の
被覆はスピンコーティングし、強制通気加熱炉中、１２
５℃で１分間乾燥させた。
制通気加熱炉中、１２０℃で２分間乾燥させ、前面上の
被覆はスピンコーティングし、強制通気加熱炉中、１２
５℃で１分間乾燥させた。
【００５３】表１ 層 層成分 乾燥後の 層厚(μm) ａ 10 pbwのスチレン／メタクリル酸メチル共重合体、 3μm Ｔｇ54℃、および90 pbwのブタン-2- オン （＝メチルエチルケトン） ｂ 10 pbwのＵＶ硬化性塗料［90 pbwの六官能性ウレタン 10μm アクリレート（Sartomerから市販のRSartomer CN-975）、 5 pbwのα−ヒドロキシケトン（Sartomerから市販の REsacure KIP 100F ）、2 pbw のメチルジエタノール アミン（Elf Atochem から供給）、および3 pbw の ベンゾフェノンを含んでなる］、および 90 pbwのブタン-2- オン（硬化は、IST から供給される UVランプ(80W) で、ランプからの距離30cmで、 １分間露光により行なった）。 ｃ 10 pbwの熱架橋性ポリウレタン（Bayer AGから市販の 11μm R Desmotherm 2170）および90 pbwのブタン-2- オン ｄ 10 pbwのポリメタクリル酸メチル、Ｔｇ49℃、および 5μm 90 pbwの、ブタン-2- オン(90%) およびキシレン(10%) の混合物
【００５４】Ａ ７．８ pbwのクレゾール／ホルムアルデヒドノボラッ
ク、ヒドロキシル価４２０（DIN 53783/DIN 53240によ
る）、ポリスチレン標準を使用するゲル透過クロマトグ
ラフィー（ＧＰＣ）により測定した平均分子量Ｍｗ６，
０００、３．２ pbwの、塩化１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−５−スルホニル１．５モルと２，３，４−
トリヒドロキシベンゾフェノン１モルのエステル化生成
物、０．４ pbwの塩化１，２−ナフトキノン−２−ジア
ジド−５−スルホニル、０．２ pbwのVictoria Pure Bl
ue（カラーインデックスNo. ４４０４５）、０．１ pbw
のシリカゲル充填材、平均粒子径４μm、および１００
pbwになる量の、テトラヒドロフラン５０％および１−
メトキシプロパン−２−オール５０％の混合物。
ク、ヒドロキシル価４２０（DIN 53783/DIN 53240によ
る）、ポリスチレン標準を使用するゲル透過クロマトグ
ラフィー（ＧＰＣ）により測定した平均分子量Ｍｗ６，
０００、３．２ pbwの、塩化１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−５−スルホニル１．５モルと２，３，４−
トリヒドロキシベンゾフェノン１モルのエステル化生成
物、０．４ pbwの塩化１，２−ナフトキノン−２−ジア
ジド−５−スルホニル、０．２ pbwのVictoria Pure Bl
ue（カラーインデックスNo. ４４０４５）、０．１ pbw
のシリカゲル充填材、平均粒子径４μm、および１００
pbwになる量の、テトラヒドロフラン５０％および１−
メトキシプロパン−２−オール５０％の混合物。
【００５５】乾燥後、層重量は２ g/m2であった。
【００５６】Ｂ ６２ pbwのポリビニルブチラール、無水マレイン酸で官
能化、平均分子量Ｍｗ約８０，０００、ビニルブチラー
ル単位７１％、酢酸ビニル単位２％、およびビニルアル
コール単位２７％を含む、２１ pbwの、８５％濃度のリ
ン酸中、硫酸３−メトキシジフェニルアミン−４−ジア
ゾニウム１モルおよび４，４’−ビス−メトキシメチル
−ジフェニルエーテル１モルから製造され、メシチレン
スルホネートとして単離されたジアゾニウム塩重縮合
物、２．５ pbwのリン酸、３．０ pbwのVictoria Pure
Blue FGA(Basic Blue 81) 、０．７ pbwのフェニルアゾ
ジフェニルアミン、および０．１ pbwのシリカゲル充填
材、平均粒子径３μmを、２５７０ pbwのエチレングリ
コールモノメチルエーテルおよび７８０ pbwのブタン−
２−オン中に含む。
能化、平均分子量Ｍｗ約８０，０００、ビニルブチラー
ル単位７１％、酢酸ビニル単位２％、およびビニルアル
コール単位２７％を含む、２１ pbwの、８５％濃度のリ
ン酸中、硫酸３−メトキシジフェニルアミン−４−ジア
ゾニウム１モルおよび４，４’−ビス−メトキシメチル
−ジフェニルエーテル１モルから製造され、メシチレン
スルホネートとして単離されたジアゾニウム塩重縮合
物、２．５ pbwのリン酸、３．０ pbwのVictoria Pure
Blue FGA(Basic Blue 81) 、０．７ pbwのフェニルアゾ
ジフェニルアミン、および０．１ pbwのシリカゲル充填
材、平均粒子径３μmを、２５７０ pbwのエチレングリ
コールモノメチルエーテルおよび７８０ pbwのブタン−
２−オン中に含む。
【００５７】乾燥後、層重量は０．９ g/m2であった。
【００５８】Ｃ ４．７ pbwのクレゾール／ホルムアルデヒドノボラッ
ク、ヒドロキシル価４２０（DIN 53783/DIN 53240によ
り測定）、ポリスチレン標準を使用するＧＰＣにより測
定した平均分子量Ｍｗ６，０００、３．２ pbwの、エチ
ルブチルアルデヒドおよびトリエチレングリコールから
得たポリアセタール、０．２３ pbwの２−（４−スチリ
ルフェニル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−
トリアジン、０．０２ pbwのCrystal Violet、０．１ p
bwのシリカゲル充填材、平均粒子径４μm、および１０
０ pbwになる量の、ブタン−２−オン９０％およびエチ
レングリコールモノメチルエーテル１０％の混合物。
ク、ヒドロキシル価４２０（DIN 53783/DIN 53240によ
り測定）、ポリスチレン標準を使用するＧＰＣにより測
定した平均分子量Ｍｗ６，０００、３．２ pbwの、エチ
ルブチルアルデヒドおよびトリエチレングリコールから
得たポリアセタール、０．２３ pbwの２−（４−スチリ
ルフェニル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ−
トリアジン、０．０２ pbwのCrystal Violet、０．１ p
bwのシリカゲル充填材、平均粒子径４μm、および１０
０ pbwになる量の、ブタン−２−オン９０％およびエチ
レングリコールモノメチルエーテル１０％の混合物。
【００５９】乾燥後、層重量は１．９ g/m2であった。
【００６０】Ｄ＊ ＥＰ−Ａ ５２８３９５明細書の例
１による４．５ pbwの、塩化１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−５−スルホニルとピロガロール／アセトン
樹脂のエステル化生成物、１１ pbwのクレゾール／ホル
ムアルデヒドノボラック、０．２ pbwの２−（４−メト
キシフェニル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ
−トリアジン、０．１ pbwのオイルブルー＃６０３（Or
ient Chemical Industies Co. Ltd.から入手）、および
０．０４ pbwのフッ素界面活性剤（Dainippon Ink and
Chemicals Inc.から供給されるRMegafac F 177 ）を、
１００ pbwのブタン−２−オン９０％および１００ pbw
のプロピレングリコールモノメチルエーテル中に含む。
１による４．５ pbwの、塩化１，２−ナフトキノン−２
−ジアジド−５−スルホニルとピロガロール／アセトン
樹脂のエステル化生成物、１１ pbwのクレゾール／ホル
ムアルデヒドノボラック、０．２ pbwの２−（４−メト
キシフェニル）−４，６−ビス−トリクロロメチル−ｓ
−トリアジン、０．１ pbwのオイルブルー＃６０３（Or
ient Chemical Industies Co. Ltd.から入手）、および
０．０４ pbwのフッ素界面活性剤（Dainippon Ink and
Chemicals Inc.から供給されるRMegafac F 177 ）を、
１００ pbwのブタン−２−オン９０％および１００ pbw
のプロピレングリコールモノメチルエーテル中に含む。
【００６１】乾燥後、層重量は２．０ g/m2であった。
【００６２】この層に、つや消し層を静電スプレーコー
ティングにより塗布した。このために、メタクリル酸メ
チル／アクリル酸エチル／アクリル酸（重量比６５：２
０：１５）の共重合体（その際、カルボキシル基の一部
を中和した）の１２％濃度溶液を製造し、感光層上に２
５℃、５０％相対湿度で、スプレーベル（毎分２５，０
００回転）を使用して噴霧した。スプレーベルは、つや
消しすべき基材に対して−９０kVの電圧を有していた。
スプレーでつや消しした基材に、２．５ｓ後に蒸気をス
プレーし、次いで６０℃の熱風（１０％湿度）を５ｓ吹
き付けて乾燥させた。平均高さ６μmおよび平均寸法３
０μmを有するつや消し粒子が感光層上に形成された。
つや消し材料は重量が約０．１５ g/m2であった。
ティングにより塗布した。このために、メタクリル酸メ
チル／アクリル酸エチル／アクリル酸（重量比６５：２
０：１５）の共重合体（その際、カルボキシル基の一部
を中和した）の１２％濃度溶液を製造し、感光層上に２
５℃、５０％相対湿度で、スプレーベル（毎分２５，０
００回転）を使用して噴霧した。スプレーベルは、つや
消しすべき基材に対して−９０kVの電圧を有していた。
スプレーでつや消しした基材に、２．５ｓ後に蒸気をス
プレーし、次いで６０℃の熱風（１０％湿度）を５ｓ吹
き付けて乾燥させた。平均高さ６μmおよび平均寸法３
０μmを有するつや消し粒子が感光層上に形成された。
つや消し材料は重量が約０．１５ g/m2であった。
【００６３】Ｅ＊ ７．８ pbwのクレゾール／ホルムアルデヒドノボラッ
ク、ヒドロキシル価４２０（DIN 53783/DIN 53240によ
り測定）、ポリスチレン標準を使用するＧＰＣにより測
定した平均分子量Ｍｗ６，０００、３．２ pbwの、塩化
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニル
１．５モルと２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン１モルのエステル化生成物、０．４ pbwの塩化１，２
−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニル、０．
２ pbwのVictoria Pure Blue（Ｃ．Ｉ．４４０４５）、
および１００ pbwになる量の、ＴＨＦ５０％および１−
メトキシプロパン−２−オール５０％の混合物。
ク、ヒドロキシル価４２０（DIN 53783/DIN 53240によ
り測定）、ポリスチレン標準を使用するＧＰＣにより測
定した平均分子量Ｍｗ６，０００、３．２ pbwの、塩化
１，２−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニル
１．５モルと２，３，４−トリヒドロキシベンゾフェノ
ン１モルのエステル化生成物、０．４ pbwの塩化１，２
−ナフトキノン−２−ジアジド−５−スルホニル、０．
２ pbwのVictoria Pure Blue（Ｃ．Ｉ．４４０４５）、
および１００ pbwになる量の、ＴＨＦ５０％および１−
メトキシプロパン−２−オール５０％の混合物。
【００６４】乾燥後、層重量は１．９ g/m2であった。
【００６５】この様にして製造した感光性層に、不連続
のつや消し剤を静電気を利用して塗布した。このため
に、クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック３５％お
よびエチレングリコールエチルエーテルアセテート６５
％の溶液（溶液の電導度１．２・１０7pSi m-1）を、毛
細管を備えた静電気装置を使用し、３０℃でスプレーし
た。毛細管の先端を感光層から３０cmの距離に置き、基
材に対する毛細管の電圧は−３０kVであった。スプレー
速度は０．７０ cm3／分であった。この様式で形成され
たつや消し粒子は、乾燥後の直径が３０〜４０μmであ
った。これらの粒子は放射線感応性を貫通していない。
のつや消し剤を静電気を利用して塗布した。このため
に、クレゾール／ホルムアルデヒドノボラック３５％お
よびエチレングリコールエチルエーテルアセテート６５
％の溶液（溶液の電導度１．２・１０7pSi m-1）を、毛
細管を備えた静電気装置を使用し、３０℃でスプレーし
た。毛細管の先端を感光層から３０cmの距離に置き、基
材に対する毛細管の電圧は−３０kVであった。スプレー
速度は０．７０ cm3／分であった。この様式で形成され
たつや消し粒子は、乾燥後の直径が３０〜４０μmであ
った。これらの粒子は放射線感応性を貫通していない。
【００６６】Ｆ ４．５ pbwの無水マレイン酸／メタクリル酸メチル共重
合体、酸価１００〜１２０、平均分子量Ｍｗ１００，０
００、２．０ pbwのウレタンアクリレート（Roehm AGか
ら市販のRPlex 6661）、３．０ pbwの、ヘキサメチレン
ジアミン１モルとメタクリル酸２−ヒドロキシエチル２
モルの反応生成物、０．３５ pbwのフェニルアクリジ
ン、０．１０ pbwのLeuco Crystal Violet、０．０５ p
bwのCrystal Violet、０．１ pbwのシリカゲル充填材、
平均粒子径４μm、および１００ pbwになる量の、グリ
コールエーテル７０％（RDowanol）およびブタン−２−
オン３０％。
合体、酸価１００〜１２０、平均分子量Ｍｗ１００，０
００、２．０ pbwのウレタンアクリレート（Roehm AGか
ら市販のRPlex 6661）、３．０ pbwの、ヘキサメチレン
ジアミン１モルとメタクリル酸２−ヒドロキシエチル２
モルの反応生成物、０．３５ pbwのフェニルアクリジ
ン、０．１０ pbwのLeuco Crystal Violet、０．０５ p
bwのCrystal Violet、０．１ pbwのシリカゲル充填材、
平均粒子径４μm、および１００ pbwになる量の、グリ
コールエーテル７０％（RDowanol）およびブタン−２−
オン３０％。
【００６７】乾燥後、層重量は１．０ g/m2であった。
この層に、７ pbwの、ポリビニルアルコール（１２％の
アセテート基を有する）、０．０１ pbwの脂肪アルコー
ルエトキシレート（平均８エチレンオキシド単位を有す
る）、および１００ pbwになる量の水から製造した別の
層を塗布し、乾燥させた。この最上層の重量は２．０ g
/m2であった。
この層に、７ pbwの、ポリビニルアルコール（１２％の
アセテート基を有する）、０．０１ pbwの脂肪アルコー
ルエトキシレート（平均８エチレンオキシド単位を有す
る）、および１００ pbwになる量の水から製造した別の
層を塗布し、乾燥させた。この最上層の重量は２．０ g
/m2であった。
【００６８】Ｇ ４．５ pbwの無水マレイン酸／メタクリル酸メチル共重
合体、酸価１００〜１２０、平均分子量Ｍｗ１００，０
００、２．０ pbwのウレタンアクリレート（Roehm AGか
ら市販のRPlex 6661）、３．０ pbwの、ヘキサメチレン
ジアミン１モルとメタクリル酸２−ヒドロキシエチル２
モルの反応生成物、０．３５ pbwのフェニルアクリジ
ン、０．１０ pbwのLeuco Crystal Violet、０．０５ p
bwのCrystal Violet、１００ pbwになる量の、グリコー
ルエーテル７０％（RDowanol）およびブタン−２−オン
３０％。
合体、酸価１００〜１２０、平均分子量Ｍｗ１００，０
００、２．０ pbwのウレタンアクリレート（Roehm AGか
ら市販のRPlex 6661）、３．０ pbwの、ヘキサメチレン
ジアミン１モルとメタクリル酸２−ヒドロキシエチル２
モルの反応生成物、０．３５ pbwのフェニルアクリジ
ン、０．１０ pbwのLeuco Crystal Violet、０．０５ p
bwのCrystal Violet、１００ pbwになる量の、グリコー
ルエーテル７０％（RDowanol）およびブタン−２−オン
３０％。
【００６９】乾燥後、層重量は０．９ g/m2であった。
この層に、７ pbwの、ポリビニルアルコール（１２％の
アセテート基を有する）、０．１ pbwのシリカゲル充填
材、平均粒子径４μm、０．０１ pbwの脂肪アルコール
エトキシレート（平均８エチレンオキシド単位を有す
る）、および１００ pbwになる量の水から製造した別の
層を塗布し、乾燥させた。この最上層の重量は１．８ g
/m2であった。
この層に、７ pbwの、ポリビニルアルコール（１２％の
アセテート基を有する）、０．１ pbwのシリカゲル充填
材、平均粒子径４μm、０．０１ pbwの脂肪アルコール
エトキシレート（平均８エチレンオキシド単位を有す
る）、および１００ pbwになる量の水から製造した別の
層を塗布し、乾燥させた。この最上層の重量は１．８ g
/m2であった。
【００７０】Ｈ ９．７ pbwのクレゾール／ホルムアルデヒドノボラッ
ク、ヒドロキシル価４２０（DIN 53783/DIN 53240によ
り測定）、ポリスチレン標準を使用するＧＰＣにより測
定した平均分子量Ｍｗ６，０００、０．８ pbwのポリ
（４−ヒドロキシスチレン）、Ｍｗ４，０００〜６，０
００およびＭｗ２，１００〜３，１００（Maruzen Petr
ochemical Co. Ltd.から市販の RMaruka Lyncur M、タイ
プS-2 ）、０．１ pbwのシリカゲル充填材、平均粒子径
３μm、８．０ pbwの、５．００ pbwのカーボンブラッ
ク（Degussa AGから市販のスペシャルブラック250 ）、
６６．００ pbwの上記のノボラック樹脂バインダー（ガ
ンマ−ブチロラクトン中３０％濃度）、２８．９９ pbw
のγ−ブチロラクトンおよび０．０１ pbwのシリコーン
消泡剤（Agfa-Gevaert AG から市販のRC 31 ）を含んで
なるカーボンブラック分散液、４０ pbwのプロピレング
リコールモノメチルエーテル、３１ pbwのアセトン、お
よび１０．５ pbwのγ−ブチロラクトン。
ク、ヒドロキシル価４２０（DIN 53783/DIN 53240によ
り測定）、ポリスチレン標準を使用するＧＰＣにより測
定した平均分子量Ｍｗ６，０００、０．８ pbwのポリ
（４−ヒドロキシスチレン）、Ｍｗ４，０００〜６，０
００およびＭｗ２，１００〜３，１００（Maruzen Petr
ochemical Co. Ltd.から市販の RMaruka Lyncur M、タイ
プS-2 ）、０．１ pbwのシリカゲル充填材、平均粒子径
３μm、８．０ pbwの、５．００ pbwのカーボンブラッ
ク（Degussa AGから市販のスペシャルブラック250 ）、
６６．００ pbwの上記のノボラック樹脂バインダー（ガ
ンマ−ブチロラクトン中３０％濃度）、２８．９９ pbw
のγ−ブチロラクトンおよび０．０１ pbwのシリコーン
消泡剤（Agfa-Gevaert AG から市販のRC 31 ）を含んで
なるカーボンブラック分散液、４０ pbwのプロピレング
リコールモノメチルエーテル、３１ pbwのアセトン、お
よび１０．５ pbwのγ−ブチロラクトン。
【００７１】乾燥後、層重量は２ g/m2であった。
【００７２】Ｊ ６２ pbwのポリビニルブチラール、無水マレイン酸で官
能化、平均分子量Ｍｗ約８０，０００、ビニルブチラー
ル単位７１％、酢酸ビニル単位２％、およびビニルアル
コール単位２７％を含む、２１ pbwの、８５％濃度のリ
ン酸中、硫酸３−メトキシジフェニルアミン−４−ジア
ゾニウム１モルおよび４，４’−ビス−メトキシメチル
−ジフェニルエーテル１モルから製造され、メシチレン
スルホネートとして単離されたジアゾニウム塩重縮合
物、２．５ pbwのリン酸、３．０ pbwのVictoria Pure
Blue FGA(Basic Blue 81) 、０．７ pbwのフェニルアゾ
ジフェニルアミン、および０．１ pbwのシリカゲル充填
材、平均粒子径０．５μm、２５７０ pbwのエチレング
リコールモノメチルエーテルおよび７８０ pbwのブタン
−２−オン中に含む。
能化、平均分子量Ｍｗ約８０，０００、ビニルブチラー
ル単位７１％、酢酸ビニル単位２％、およびビニルアル
コール単位２７％を含む、２１ pbwの、８５％濃度のリ
ン酸中、硫酸３−メトキシジフェニルアミン−４−ジア
ゾニウム１モルおよび４，４’−ビス−メトキシメチル
−ジフェニルエーテル１モルから製造され、メシチレン
スルホネートとして単離されたジアゾニウム塩重縮合
物、２．５ pbwのリン酸、３．０ pbwのVictoria Pure
Blue FGA(Basic Blue 81) 、０．７ pbwのフェニルアゾ
ジフェニルアミン、および０．１ pbwのシリカゲル充填
材、平均粒子径０．５μm、２５７０ pbwのエチレング
リコールモノメチルエーテルおよび７８０ pbwのブタン
−２−オン中に含む。
【００７３】乾燥後、層重量は０．３５ g/m2であっ
た。
た。
【００７４】記録材料の、積み重ねて貯蔵した時および
処理中の挙動を試験した。
処理中の挙動を試験した。
【００７５】放射線感応性記録材料の、現像中および印
刷中に使用されることが多い各種処理薬品に対する耐性
を試験した。このために、記録材料を ａ）０．１２モルのNa2Si3O7、０．４８モルの水酸化カ
リウム、５．０ｇのペラルゴン酸ナトリウム、１．０ｇ
のノニルフェノールポリエチレングリコールエーテル
（平均１０エチレンオキシド単位を有する）、および
０．１ｇのシリコーン消泡剤（Agfa-Gevaert AG から市
販ののRC 31 ）を含んでなり、脱イオン水で１リットル
にした水性アルカリ現像剤で４．５分間、 ｂ）純粋イソプロパノールで１分間、または ｃ）４０％濃度のジアセトンアルコール水溶液で１分間
処理した。
刷中に使用されることが多い各種処理薬品に対する耐性
を試験した。このために、記録材料を ａ）０．１２モルのNa2Si3O7、０．４８モルの水酸化カ
リウム、５．０ｇのペラルゴン酸ナトリウム、１．０ｇ
のノニルフェノールポリエチレングリコールエーテル
（平均１０エチレンオキシド単位を有する）、および
０．１ｇのシリコーン消泡剤（Agfa-Gevaert AG から市
販ののRC 31 ）を含んでなり、脱イオン水で１リットル
にした水性アルカリ現像剤で４．５分間、 ｂ）純粋イソプロパノールで１分間、または ｃ）４０％濃度のジアセトンアルコール水溶液で１分間
処理した。
【００７６】本発明の材料の場合、ａ）で除去された裏
被覆は３０％未満であり、ｂ）およびｃ）では１０％よ
りかなり少なかった。
被覆は３０％未満であり、ｂ）およびｃ）では１０％よ
りかなり少なかった。
【００７７】貯蔵寿命は下記の様に試験した。２０枚の
板を積み重ね、５kgの荷重を７０℃で４８時間かけ、層
に対する損傷を下記の様に評価した。 ＋＝損傷まったく無し ０＝僅かに損傷 −＝甚だしい損傷
板を積み重ね、５kgの荷重を７０℃で４８時間かけ、層
に対する損傷を下記の様に評価した。 ＋＝損傷まったく無し ０＝僅かに損傷 −＝甚だしい損傷
【００７８】結果は下記の表に示す通りである。 例 基材 背面 複写層 貯蔵寿命 １ Ｉ ａ Ａ ＋ ２ II ａ Ａ ＋ ３ III ｂ Ｂ ＋ ４ II ｃ Ｃ ＋ ５ II ｂ Ａ ＋ ６ Ｉ ａ Ｂ ＋ ７ II ｃ Ｂ ＋ ８ III ａ Ｂ ＋ ９ III ｃ Ｂ ＋ １０ II ｂ Ｃ ＋ １１ II ｃ Ａ ＋ １２ III ａ Ｃ ＋ １３ Ｉ ｄ Ａ ＋ １４ II ｄ Ｂ ＋ １５ III ｄ Ｃ ＋ １６ II ｄ Ａ ＋ １７＊ III ａ Ｄ＊ − １８＊ II ａ Ｅ＊ − １９＊ III ｃ Ｄ＊ − ２０＊ Ｉ ｂ Ｅ＊ − ２１＊ II ｄ Ｄ＊ − ２２＊ II ｄ Ｅ＊ − ２３ Ｉ ａ Ｆ ＋ ２４ II ｄ Ｇ ＋ ２５ Ｉ ｃ Ｈ ＋ ２６ II ｂ Ｊ ＋ ２７ II ｄ Ｆ ＋ ２８ II ｂ Ｇ ＋ ２９ III ａ Ｈ ＋ ３０ II ｄ Ｊ ＋ ＊ 比較例または比較材料
【図１】例１６から得た、本発明の記録材料の前面の、
貯蔵後の走査電子顕微鏡写真。
貯蔵後の走査電子顕微鏡写真。
【図２】図１と同様の、ただし高倍率の走査電子顕微鏡
写真。
写真。
【図３】例１６から得た記録材料の貯蔵後の背面の走査
電子顕微鏡写真。接着または粘着は見られない。
電子顕微鏡写真。接着または粘着は見られない。
【図４】比較例１７から得た記録材料の貯蔵後の背面走
査電子顕微鏡写真。接着が明らかに見える。
査電子顕微鏡写真。接着が明らかに見える。
【図５】比較例２２から得た記録材料の貯蔵前の前面の
走査電子顕微鏡写真。
走査電子顕微鏡写真。
【図６】前と同様の、貯蔵後の表面の走査電子顕微鏡写
真。
真。
【図７】比較例２２の貯蔵した記録材料から製造した印
刷板で達成した結果。
刷板で達成した結果。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ０３Ｆ 7/11 ５０１ Ｇ０３Ｆ 7/11 ５０１ (72)発明者 ミヒャエル、デール ドイツ連邦共和国マインツ、イン、デル、 クラウアー、５ (72)発明者 アンドレアス、エルゼッサー ドイツ連邦共和国イトシュタイン、アドル フ‐コルピング‐ベーク、13 (72)発明者 ギュンター、フルツシュ ドイツ連邦共和国ビースバーデン、フォル カーシュトラーセ、42 (72)発明者 アレン、ピー．ゲイツ イギリス国ノース、ヨークシャー、クナレ スボーロウ、ファウンテインズ、ウェイ、 13 (72)発明者 ローランド、ロビンソン イギリス国リーズ、リュルワース、クレッ セント、26
Claims (14)
- 【請求項１】基材を有し、前記基材の前面に感光性画像
形成層が存在し、前記基材の背面に、ガラス転移温度Ｔ
ｇが４５℃以上である有機重合体状物質の層が存在し、
前記感光性画像形成層または前記感光性画像形成層の上
に存在する最上層に顔料が配合されていることを特徴と
する、オフセット印刷板製造用の記録材料。 - 【請求項２】顔料が、無機性で、事実上水に不溶である
材料を含んでなる、請求項１に記載の記録材料。 - 【請求項３】顔料粒子の平均粒子径が、０．１〜１５．
０μmである、請求項１または２に記載の記録材料。 - 【請求項４】顔料配合組成物がケイ酸製品である、請求
項２または３に記載の記録材料。 - 【請求項５】ケイ酸製品が、界面活性剤と組み合わされ
る、請求項４に記載の記録材料。 - 【請求項６】界面活性剤の量が、層の乾燥重量に対して
０．０１〜２重量％である、請求項５に記載の記録材
料。 - 【請求項７】顔料配合組成物の量が、それぞれの場合
に、層の乾燥重量に対して０．０１〜１０重量％であ
る、請求項１〜６のいずれか１項に記載の記録材料。 - 【請求項８】感光性画像形成層が、ナフトキノンジアジ
ド、放射線で露光することにより強酸を形成する化合物
と、酸により開裂し得る少なくとも１個のC-O-C結合を
含む化合物との組合せ、を基剤とするか、または熱機構
によるポジ型層である、請求項１〜７のいずれか１項に
記載の記録材料。 - 【請求項９】感光性画像形成層が電子写真層である、請
求項１〜７のいずれか１項に記載の記録材料。 - 【請求項１０】感光性画像形成層が、ジアゾニウム塩基
を有する化合物および／または光重合体系を基剤とする
ネガ型層である、請求項１〜８のいずれか１項に記載の
記録材料。 - 【請求項１１】放射線感応性画像形成層の層重量が０．
１〜６ g/m2である、請求項１〜１０のいずれか１項に
記載の記録材料。 - 【請求項１２】裏被覆の厚さが０．１〜２０．０μmで
ある、請求項１〜１１のいずれか１項に記載の記録材
料。 - 【請求項１３】基材の裏被覆が、熱および／または放射
線の作用により、重合、縮合または架橋されている化合
物を含む、請求項１〜１２のいずれか１項に記載の記録
材料。 - 【請求項１４】裏被覆が、添加剤、例えば可塑剤、染
料、顔料、シリコーン化合物、界面活性剤または他の、
所望の表面特性を確立するための組成物を含む、請求項
１〜１３のいずれか１項に記載の記録材料。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE19908529.3 | 1999-02-26 | ||
| DE19908529A DE19908529A1 (de) | 1999-02-26 | 1999-02-26 | Pigmentiertes und rückseitenbeschichtetes Aufzeichnungsmaterial zur Herstellung von Offsetdruckplatten |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2000250203A true JP2000250203A (ja) | 2000-09-14 |
| JP2000250203A5 JP2000250203A5 (ja) | 2007-03-08 |
Family
ID=7899075
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2000052336A Pending JP2000250203A (ja) | 1999-02-26 | 2000-02-28 | オフセット印刷板製造用の、裏被覆を有する顔料配合記録材料 |
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|---|---|
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| EP (1) | EP1031881B1 (ja) |
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| DE (2) | DE19908529A1 (ja) |
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| JP2007093814A (ja) * | 2005-09-27 | 2007-04-12 | Fujifilm Corp | 赤外線感光性平版印刷版原版 |
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| DE10064889A1 (de) | 2000-12-23 | 2002-07-18 | Agfa Gevaert Nv | Aufzeichnungsmaterial mit negativ arbeitender, strahlungsempfindlicher Schicht, die Zusätze zur Förderung der Entwickelbarkeit enthält |
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| CN101010633A (zh) * | 2004-09-01 | 2007-08-01 | 柯达彩色绘图有限责任公司 | 平版印刷板的夹层 |
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| US20100151385A1 (en) * | 2008-12-17 | 2010-06-17 | Ray Kevin B | Stack of negative-working imageable elements |
| JP2010197305A (ja) | 2009-02-26 | 2010-09-09 | Fujifilm Corp | ナフタロシアニン化合物を用いた製品の真偽を証明する方法、シグナル変換方法及び印刷用インク又はトナー、及びナフタロシアニン化合物の製造方法 |
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| WO2017014873A1 (en) | 2015-07-23 | 2017-01-26 | Caron Products And Services, Inc. | Insulated chamber with phase change material and door with controllable transparency |
| EP3831614B1 (en) | 2018-07-31 | 2023-09-06 | FUJIFILM Corporation | Planographic printing plate original plate, planographic printing plate original plate laminate body, platemaking method for planographic printing plate, and planographic printing method |
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|---|---|---|---|---|
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-
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- 1999-02-26 DE DE19908529A patent/DE19908529A1/de not_active Withdrawn
-
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- 2000-02-16 US US09/504,951 patent/US6294298B1/en not_active Expired - Lifetime
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- 2000-02-22 DE DE50001195T patent/DE50001195D1/de not_active Expired - Lifetime
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