JP2002090983A - 感光性平版印刷版 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 膜抜けや汚れを生じず、かつかぶりが発生し
ない光重合系感光性平版印刷版を提供すること。 【解決手段】 支持体上に光重合性感光層を有する感光
性平版印刷版であって、該感光層塗布面とは反対側の支
持体裏面に導電性を有する被覆層を有することを特徴と
する上記感光性平版印刷版。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、感光性平版印刷版
に関し、特に高感度な光重合系感光性平版印刷版に関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、レーザーを利用した画像形成技術
が多く報告されており、例えば、可視光レーザーにより
硬化する光重合性組成物を利用したものや、レーザー光
照射に伴って発生する熱等により書込みを行うことが可
能な画像形成材料等が知られている。これらの画像形成
材料を用いることによって、コンピュータ等のデジタル
データから直接製版することが可能となり、非常に有用
である。しかしこれらの画像形成材料を用いた平版印刷
版のうち、例えば、可視光レーザー等によりラジカル重
合が開始する光重合層の上に酸素遮断性の保護層を設け
たタイプの平版印刷版や、レーザー光照射に伴って発生
する熱によって書き込みを行うことが可能なポジ型サー
マル画像形成材料を用いたタイプの平版印刷版は、特に
表面が弱く傷つきやすいものが多い。感光層部分に傷が
つくと、画像部では膜抜けと称される画像部の抜けが生
じ、非画像部では傷部分が汚れとなり問題となる。この
ような問題を解決する手段として、例えばアルミニウム
板のような支持体上にジアゾ化合物やフォトポリマーな
どの感光物を塗布した面の反対側に、有機金属化合物あ
るいは金属酸化物と有機高分子化合物及び可塑剤を含む
被覆層を設ける方法がある。例えば、特開平９−２６５
１７６号公報には、アルミニウム支持体裏面に特定の有
機高分子化合物を設けた光重合性平版印刷版が記載され
ている。しかしこれらの裏面に被覆層を設けた光重合性
平版印刷版では、特にかぶりが発生しやすいという問題
がある。これは金属ウェブの連続走行、及び切断された
シートの集積時に、静電気等により火花が発生してスパ
ーク露光するためであると考えられる。すなわち、特に
高感度な光重合系感光性平版印刷版では従来問題となら
なかった微少なスパークの発生でも露光してしまうた
め、刷版品質に致命的なダメージを与える場合がある。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、膜抜けや汚
れを生じず、かつかぶりが発生しない光重合系感光性平
版印刷版を提供することを目的とする。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、支持体上
に光重合性感光層を有する感光性平版印刷版であって、
該感光層塗布面とは反対側の支持体裏面に導電性を有す
る被覆層を有することを特徴とする上記感光性平版印刷
版により上記問題が解決されることを見いだし、本発明
を完成した。

【０００５】光重合系感光性平版印刷版において膜抜け
や汚れを防止するために裏面に特定の被覆層を設けたも
のにかぶりが発生しやすいが、本発明者らはこの原因
が、平版印刷版の製造工程において、光重合性平版印刷
版の金属ウェブの連続走行時や切断されたシートの集積
時に、静電気等により火花が発生してスパーク露光され
るためであることを見いだした。すなわち、光重合系感
光性平版印刷版は特に高感度であるため、従来問題とな
らなかった微少なスパークの発生でも露光し問題とな
る。本発明者らは、アルミニウム支持体の裏面に一定の
導電性を有する被覆層を設けることにより、このような
静電気によるスパーク露光を防止することができること
を見いだし、本発明を完成した。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明を以下に詳述する。本発明
の光重合系感光性平版印刷版は、支持体上に光重合性感
光層を有し、該感光層塗布面とは反対側の支持体裏面に
導電性を有する被覆層を有する。このような感光性平版
印刷版は、例えば、アルミニウム板などの支持体の一面
に光重合性感光性組成物溶液を塗布、乾燥して設けた
後、該感光層塗布面とは反対側の面に導電性物質を含む
溶液等を塗布して被覆層を設けることによって得ること
ができる。光重合性感光層と導電性被覆層はどちらを先
に塗設してもよい。

【０００７】［導電性被覆層］本発明の感光性平版印刷
版は、後述する支持体裏面に導電性被覆層を設けること
を特徴とする。本発明における導電性被覆層とは、平版
印刷版の製造工程において、光重合性平版印刷版の金属
ウェブの連続走行時や切断されたシートの集積時に、静
電気によるスパーク露光を防止できる導電性の被覆層で
ある。本発明の導電性被覆層は、好ましくは１０⁸Ω・
ｍ以下の体積抵抗率を有する被覆層であり、より好まし
くは体積抵抗率が１０³Ω・ｍ以下の被覆層である。

【０００８】体積抵抗率（ρ）とは、物質の内部を電流
が流れるとき表面電極面積に流れる単位厚さ当りの抵抗
であり、本明細書では導電性の指標として用いられる。 ρ：体積抵抗率（Ω・ｍ）、Ｓ：電流に垂直な面積（ｍ
²）、Ｌ：厚さ（ｍ）、Ｖ：電圧（Ｖ）、Ｉ：電流
（Ａ）、Ｒ：抵抗(Ω)とすると、次式で定義される。 Ｒ＝Ｖ／Ｉ ρ＝Ｒ・Ｓ／Ｌ

【０００９】本発明において、具体的に体積抵抗率の測
定はＪＩＳ Ｋ７１９４に従って行った。すなわち、絶
縁材料（ゴム）に本発明の被覆層を塗布し、膜厚、電
流、電圧を測定して抵抗を求め、体積抵抗率を算出し
た。

【００１０】導電性被覆層に含まれる導電性物質として
は、銀、銅等の金属微粒子及びカーボンブラック等を混
入した塗料及びビニル樹脂系、フェノール樹脂系、フタ
ル酸樹脂系、ポリウレタン樹脂系、ポリエステル樹脂
系、無機系、ユリア樹脂系、木船船底塗料等の導電性塗
料；シロキサン系帯電防止剤、界面活性剤系帯電防止剤
（アニオン系、カチオン系、ノニオン系）、導電性酸化
物薄膜（ＳｎＯ₂薄膜等）、有機金属化合物、或いは無
機金属化合物等が挙げられる。

【００１１】また、本発明の導電性被覆層には導電性物
質の他にバインダーを添加してもよい。バインダーとし
ては例えば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、メラミン
樹脂、ウレタン樹脂、アクリル樹脂、飽和ポリエステ
ル、またポリビニルアルコール（ＰＶＡ）、ポリビニル
ピロリドン（ＰＶＰ）、ポリエチレンオキサイド（ＰＥ
Ｏ）等が挙げられる。

【００１２】導電性被覆層をアルミニウム支持体の裏面
に設ける方法には種々の方法が適用できる。例えば適当
な溶媒中に導電性物質及び任意成分であるバインダーを
分散または溶解して、または乳化分散液にして塗布、乾
燥する方法、例えば予めフィルム状に成形したものを接
着剤や熱でアルミニウム支持体に貼り合わせる方法、及
び溶融押し出し機で溶融被膜を形成し、支持体に貼り合
わせる方法等が挙げられるが、目的の塗布量を確保する
上で最も好ましいのは溶媒分散液または溶液にして塗
布、乾燥する方法である。このような溶媒分散液または
溶液を塗布する方法には、バーコーター、ロールコータ
ー、グラビアコーターあるいはカーテンコーター、エク
ストルーダ等の塗布装置を用いることができる。

【００１３】溶媒分散液または溶液として塗布する場合
に使用する溶剤としては、特に限定されないが、上述し
たバインダーを溶解するものが好ましい。このような溶
剤の例としてはＭＥＫ（メチルエチルケトン）、ＭＦ
Ｇ、ＭＡ(メチルアルコール)、水またはこれらの混合物
等が挙げられる。

【００１４】塗布液中の導電性物質の濃度は、塗布量を
確保でき、かつ塗布し易い濃度であれば特に制限されな
いが、例えば０.１質量％〜４０質量％の範囲である事
が好ましい。

【００１５】上記被覆層は通常厚さ０.１μｍ以上の厚
さに設けることが好ましく、より好ましくは０.１〜８.
０μｍの厚さに設けることが好ましい。０.１μｍより
薄い場合、基板への傷つきを抑制しきれないため好まし
くない。また、分散液の場合、粒子が塗膜より剥がれや
すくなり、ライン内のロールをはじめ、工程を汚し品質
故障が発生する可能性が有る。

【００１６】［支持体］本発明の支持体としては、寸法
安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板が特に
好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム板
およびアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む
合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタン等がある。合金中の異元素の含有量は高々１
０質量％以下である。本発明において特に好適なアルミ
ニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なアル
ミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに異
元素を含有するものでもよい。このように本発明に適用
されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもので
はなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を適
宜に利用することができる。本発明で用いられるアルミ
ニウム板の厚みはおよそ０.１ｍｍ〜０.６ｍｍ程度、好
ましくは０.１５ｍｍ〜０.４ｍｍ、特に好ましくは０.
２ｍｍ〜０.３ｍｍである。

【００１７】アルミニウム板は、表面、特に感光層塗布
面にあらかじめ粗面化処理を行うことが望ましい。また
アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所望により、表
面の圧延油を除去するための例えば界面活性剤、有機溶
剤またはアルカリ性水溶液等による脱脂処理がおこなわ
れる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、種々の方
法によりおこなわれるが、例えば、機械的に粗面化する
方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法および化
学的に表面を選択溶解させる方法によりおこなわれる。
機械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブ
ラスト研磨法、バフ研磨法等の公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸ま
たは硝酸電解液中で交流または直流によりおこなう方法
がある。また、特開昭５４−６３９０２号に開示されて
いるように両者を組み合わせた方法も利用することがで
きる。

【００１８】通常、この様に任意に粗面化されたアルミ
ニウム板は、必要に応じてアルカリエッチング処理およ
び中和処理された後、以下のように感光層塗布面または
裏面へ陽極酸化処理が施されることが好ましい。陽極酸
化処理を行う事により、アルミニウム板の表面強さが向
上し、傷つきにくくなる。また塗布膜との密着力が向上
するためである。陽極酸化皮膜量は以下に限定されない
が、例えば、１.０ｇ／ｍ²〜５.０ｇ／ｍ²の範囲であ
る。

【００１９】上記陽極酸化において使用される電解液と
しては、硫酸、リン酸、クロム酸、しゅう酸、スルファ
ミン酸、ベンゼンスルホン酸等あるいは、これら２種類
以上組み合わせた水溶液又は非水溶液中で、アルミニウ
ムを陽極として電流を流すと、アルミニウム表面に、陽
極酸化被膜を形成させることができる。陽極酸化の処理
条件は、使用される電解液によって種々変化するので、
一概にいえないが一般的には、電解液の濃度が、１〜８
０質量％、液温５〜７０℃、電流密度０.５〜６０Ａ／
ｃｍ²、電圧１〜１００Ｖ、電解時間１５秒〜５０分が
適当である。電解装置としては、特開昭４８−２６６３
８、特開昭４７−１８７３９、特公昭５８−２４５１７
号各公報等に紹介されている。また、特開昭５４−８１
１３３、特開昭５７−４７８９４、特開昭５７−５１２
８９、特開昭５７−５１２９０、特開昭５７−５４３０
０、特開昭５７−１３６５９６、特開昭５８−１０７４
９８、特開昭６０−２００２５６、特開昭６２−１３６
５９６、特開昭６３−１７６４９４、特開平４−１７６
８９７、特開平４−２８０９９７、特開平６−２０７２
９９、特開平５−３２０８３、特開平５−１２５５９
７、特開平５−１９５２９１号各公報に記載されている
方法ももちろん使用できる。処理液としては、特開平３
−２５３５９６、特開昭６２−８２０８９、特開平１−
１３３７９４、特開昭５４−３２４２４、特開平５−４
２７８３号各公報等の液ももちろん使用できる。

【００２０】陽極酸化処理を施された後、アルミニウム
表面（感光面）は必要により親水化処理が施される。本
発明に使用される親水化処理としては、米国特許第２,
７１４,０６６号、同第３,１８１,４６１号、第３,２８
０,７３４号および第３,９０２,７３４号に開示されて
いるようなアルカリ金属シリケート（例えばケイ酸ナト
リウム水溶液）法がある。この方法においては、支持体
がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるかまたは電
解処理される。他に特公昭３６−２２０６３号公報に開
示されているフッ化ジルコン酸カリウムおよび米国特許
第３,２７６,８６８号、同第４,１５３,４６１号、同第
４,６８９,２７２号に開示されているようなポリビニル
ホスホン酸で処理する方法等が用いられる。

【００２１】［感光層］本発明において使用される感光
層としてはいずれの光重合性感光層でもよいが、例とし
て以下の感光材料（１）又は（２）を用いるものを挙げ
ることができる。 （１）Ａ.フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性
高分子化合物、 Ｂ.上記フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高
分子化合物に対するアルカリ溶解抑制作用を有し、かつ
光または熱により分解して前記アルカリ溶解抑制作用を
失う化合物、とを含有するポジ型感光材料、又は （２）Ｃ.エチレン性不飽和二重結合を少なくとも１個
有する付加重合可能な化合物、光重合開始剤及び高分子
バインダーを含有する光重合層、並びに Ｄ.上記重合層の上に水溶性ビニル重合体を含有する保
護層、を有することを特徴とするネガ型感光材料。

【００２２】（１）ポジ型感光材料において、Ａ.フェ
ノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高分子化合物は
レーザー照射部では以下で述べるＢ.成分が分解してア
ルカリ溶解抑制作用を失うためアルカリ現像液に可溶性
となって印刷版上から除去され、一方レーザー非照射部
はＢ.成分との相互作用に基づきアルカリ現像液に溶解
しないため残存し、その結果画像を形成する。

【００２３】Ａ.フェノール性水酸基を有するアルカリ
可溶性高分子化合物 フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性高分子化合
物としては、フェノールホルムアルデヒド樹脂、ｍ−ク
レゾールホルムアルデヒド樹脂、ｐ−クレゾールホルム
アルデヒド樹脂、ｍ−／ｐ−混合クレゾールホルムアル
デヒド樹脂、等のノボラック樹脂、ポリヒドロキシスチ
レン類、ヒドロキシスチレン−Ｎ−置換マレイミド共重
合体、ヒドロキシスチレン−無水マレイン酸共重合体等
が耐刷性、基板との密着性の点で好ましく使用される。

【００２４】フェノール性水酸基を有するアルカリ可溶
性高分子化合物としては、重量平均分子量が１,０００
〜１,０００,０００が好ましく、２,０００〜３００,０
００のものがさらに好ましい。重量平均分子量が１,０
００未満では、耐刷性が低下するという不都合を生じ、
また、１,０００,０００を越えると現像性の点で好まし
くない。

【００２５】本発明において、アルカリ可溶性高分子化
合物はポジ型感光材料の全固形分中、１０〜９０質量
％、好ましくは２０〜８５質量％、特に好ましくは３０
〜８０質量％の添加量で用いられる。アルカリ可溶性の
高分子化合物の添加量が１０質量％未満であると記録層
の耐久性が悪化し、また、９０質量％を越えると感度、
耐久性の両面で好ましくない。また、これらのアルカリ
可溶性樹脂は、１種類のみで使用しても良いし、あるい
は２種類以上を組み合わせて使用してもよい。

【００２６】Ｂ.フェノール性水酸基を有するアルカリ
可溶性高分子化合物のアルカリ溶解抑制作用を有し、光
または熱により分解し前記アルカリ溶解抑制作用を失う
物質。次に、本発明に使用するフェノール性水酸基を有
するアルカリ可溶性高分子化合物のアルカリ溶解抑制作
用を有し、光または熱により分解し前記アルカリ溶解抑
制作用を失う化合物（以下、「光熱分解物質」とい
う。）について説明する。この物質は、光もしくは熱で
分解することによりアルカリ可溶性高分子化合物のアル
カリ溶解性を抑制する機能を失うので、ポジ型感光層の
レーザー照射部はアルカリ現像液に可溶性となるが、一
方非照射部ではこの物質が依然としてアルカリ可溶性高
分子化合物のアルカリ可溶性を抑制しているため、この
両者のアルカリ可溶性の差に起因して、現像により印刷
版上に画像が形成される。

【００２７】光熱分解物質としてはまた、光または熱に
より分解して酸を発生するものを好適に用いることがで
きる。この場合、ポジ型感光層のレーザー照射部におい
ては光熱分解化合物が分解してアルカリ溶解抑制作用が
消失すると共に酸を発生するので、その部分のアルカリ
可溶性が一層増大する。

【００２８】光熱により分解して酸を発生させるものと
しては、例えば、以下のものを挙げることができる。
Ｓ.Ｉ．Ｓｃｈｌｅｓｉｎｇｅｒ，Ｐｈｏｔｏｇｒ．Ｓ
ｃｉ．Ｅｎｇ．,１８，３８７（１９７４）、Ｔ．Ｓ．
Ｂａｌ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ，２１，４２３
（１９８０）に記載のジアゾニウム塩、米国特許第４,
０６９,０５５号、同４,０６９,０５６号、同Ｒｅ２７,
９９２号、特開平４−３６５０４９号の明細書に記載の
アンモニウム塩、Ｄ．Ｃ．Ｎｅｃｋｅｒ ｅｔａｌ，Ｍ
ａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１７，２４６８（１９８
４）、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏ
ｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ，Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ，ｐ４
７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）、米国特許第
４,０６９,０５５号、同４,０６９,０５６号に記載のホ
スホニウム塩、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３
０７（１９７７）、Ｃｈｅｍ．＆ Ｅｎｇ．Ｎｅｗｓ，
Ｎｏｖ．２８，ｐ３１（１９８８）、欧州特許第１０
４，１４３号、米国特許第３３９，０４９号、同第４１
０，２０１号、特開平２−１５０８４８号、特開平２−
２９６５１４号に記載のヨードニウム塩。

【００２９】Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，
Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｊ．１７，７３（１９８５）、Ｊ．
Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ．Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈ
ｅｍ．，４３，３０５５（１９７８）、Ｗ．Ｒ．Ｗａｔ
ｔ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏ
ｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，２２，１７８９（１９
８４）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｐｏ
ｌｙｍｅｒ Ｂｕｌｌ．，１４，２７９（１９８５）、
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍ
ｏｌｅｃｕｌｅｓ，１４（５），１１４１（１９８
１）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐ
ｏｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．
Ｅｄ．，１７，２８７７（１９７９）、欧州特許第３７
０,６９３号、同３９０,２１４号、同２３３,５６７
号、同２９７,４４３号、同２９７,４４２号、米国特許
第４,９３３,３７７号、同１６１,８１１号、同４１０,
２０１号、同３３９,０４９号、同４,７６０,０１３
号、同４,７３４,４４４号、同２,８３３,８２７号、独
国特許第２,９０４,６２６号、同３,６０４,５８０号、
同３,６０４,５８１号に記載のスルホニウム塩、Ｊ．
Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌ
ｅｃｕｌｅｓ，１０（６），１３０７（１９７７）、
Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙ
ｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅ
ｄ．，１７，１０４７（１９７９）に記載のセレノニウ
ム塩、Ｃ．Ｓ．Ｗｅｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｈ，Ｐｒｏ
ｃ．Ｃｏｎｆ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ ＡＳＩＡ，ｐ４
７８ Ｔｏｋｙｏ，Ｏｃｔ（１９８８）に記載のアルソ
ニウム塩等のオニウム塩。

【００３０】米国特許第３,９０５,８１５号、特公昭４
６−４６０５号、特開昭４８−３６２８１号、特開昭５
５−３２０７０号、特開昭６０−２３９７３６号、特開
昭６１−１６９８３５号、特開昭６１−１６９８３７
号、特開昭６２−５８２４１号、特開昭６２−２１２４
０１号、特開昭６３−７０２４３号、特開昭６３−２９
８３３９号に記載の有機ハロゲン化合物、Ｋ．Ｍｅｉｅ
ｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｒａｄ．Ｃｕｒｉｎｇ，１３
（４），２６（１９８６），Ｔ．Ｐ．Ｇｉｌｌ ｅｔａ
ｌ， Ｉｎｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．，１９，３００７（１９
８０）、Ｄ．Ａｓｔｒｕｃ，Ａｃｃ．Ｃｈｅｍ．Ｒｅ
ｓ．，１９（１２），３７７（１８９６）、特開平２−
１６１４４５号に記載の有機金属／有機ハロゲン化物。

【００３１】Ｓ．Ｈａｙａｓｅ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏ
ｌｙｍｅｒ Ｓｃｉ．，２５，７５３（１９８７）、
Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍａｎｉｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｐｏｌｙ
ｍｅｒＳｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，
２３，１（１９８５）、Ｑ．Ｑ．Ｚｈｕ ｅｔ ａｌ，
Ｊ．Ｐｈｏｔｏｃｈｅｍ．，３６，８５，３９，３１７
（１９８７）、Ｂ．Ａｍｉｔ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｔｒａ
ｈｅｄｒｏｎ Ｌｅｔｔ．，（２４）２２０５（１９７
３），Ｄ．Ｈ．Ｒ．Ｂａｒｔｏｎ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃ
ｈｅｍ．Ｓｏｃ．３５７１（１９６５）、Ｐ．Ｍ．Ｃｏ
ｌｌｉｎｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，Ｐ
ｅｒｋｉｎ Ｉ，１６９５（１９７５）、Ｍ．Ｒｕｄｉ
ｎｓｔｅｉｎ ｅｔ ａｌ，Ｔｅｔｒａｈｅｄｒｏｎ
Ｌｅｔｔ．，（１７），１４４５（１９７５）、Ｊ．
Ｗ．Ｗａｌｋｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ．，１１０，７１７０（１９８８）、Ｓ．Ｃ．Ｂ
ｕｓｍａｎ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｉｍａｇｉｎｇ Ｔｅｃ
ｈｎｏｌ．，１１（４），１９１（１９８５）、Ｈ．
Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌ
ｅｃｕｌｅｓ，２１，２００１（１９８８）、Ｐ．Ｍ．
Ｃｏｌｌｉｎｓ ｅｔａｌ，Ｊ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，
Ｃｈｅｍ．Ｃｏｍｍｕｎ．，５３２（１９７２）、Ｓ．
Ｈａｙａｓｅ ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌ
ｅｓ，１８，１７９９（１９８５）、Ｅ．Ｒｅｉｃｈｍ
ａｎｉｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｅｌｅｃｔｒｏｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ．，Ｓｏｌｉｄ Ｓｔａｔｅ Ｓｃｉ．Ｔｅｃｈ
ｎｏｌ．，１３０（６）、Ｆ．Ｍ．Ｈｏｕｌｉｈａｎ
ｅｔ ａｌ，Ｍａｃｒｏｍｏｌｅｃｕｌｅｓ，２１，２
００１（１９８８）、欧州特許第０２９０,７５０号、
同０４６,０８３号、同１５６,５３５号、同２７１,８
５１号、同０,３８８,３４３号、米国特許第３,９０１,
７１０号、同４,１８１,５３１号、特開昭６０−１９８
５３８号、特開昭５３−１３３０２２号に記載のｏ−ニ
トロベンジル型保護基を有する光熱分解物質。

【００３２】Ｍ．ＴＵＮＯＯＫＡ ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌ
ｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ Ｊａｐａｎ，３８
（８）、Ｇ．Ｂｅｒｎｅｒ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｒａｄ．
Ｃｕｒｉｎｇ，１３（４）、Ｗ．Ｊ．Ｍｉｊｓ ｅｔ
ａｌ，Ｃｏａｔｉｎｇ Ｔｅｃｈｎｏｌ．，５５（６９
７），４５（１９８３）、Ａｋｚｏ，Ｈ．Ａｄａｃｈｉ
ｅｔ ａｌ，Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｐｒｅｐｒｉｎｔｓ，Ｊ
ａｐａｎ，３７（３）、欧州特許第０１９９,６７２
号、同８４５１５号、同１９９,６７２号、同０４４,１
１５号、同０１０１,１２２号、米国特許第４,６１８,
５６４号、同４,３７１,６０５号、同４,４３１,７７４
号、特開昭６４−１８１４３号、特開平２−２４５７５
６号、特願平３−１４０１０９号に記載のイミノスルフ
ォネート等に代表される、光分解してスルホン酸を発生
する化合物。

【００３３】特開昭６１−１６６５４４号に記載のジス
ルホン化合物、特公昭４３−２８４０３号に記載の１,
２−ナフトキノンジアジドスルホン酸エステル類に代表
される１,２−キノンジアジド化合物等である。

【００３４】また、これらの酸を発生する基、あるいは
化合物をポリマーの主鎖または側鎖に導入した化合物、
例えば、Ｍ．Ｅ．Ｗｏｏｄｈｏｕｓｅ ｅｔ ａｌ，
Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．，１０４，５５８６（１
９８２）、Ｓ．Ｐ．Ｐａｐｐａｓ ｅｔ ａｌ，Ｊ．Ｉ
ｍａｇｉｎｇ Ｓｃｉ．，３０（５），２１８（１９８
６）、Ｓ．Ｋｏｎｄｏ ｅｔ ａｌ． Ｍａｋｒｏｍｏ
ｌ．Ｃｈｅｍ．，Ｒａｐｉｄ Ｃｏｍｍｕｎ．，９，６
２５（１９８８）、Ｙ．Ｙａｍａｄａ ｅｔ ａｌ，Ｍ
ａｋｒｏｍｏｌ．Ｃｈｅｍ．，１５２，１５３，１６３
（１９７２）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ ｅｔ ａ
ｌ．Ｊ．Ｐｏｙｌｍｅｒ Ｓｃｉ．，Ｐｏｌｙｍｅｒ
Ｃｈｅｍ．Ｅｄ．，１７，３８４５（１９７９）、米国
特許第３,８４９,１３７号、独国特許第３,９１４,４０
７、特開昭６３−２６６５３号、特開昭５５−１６４８
２４号、特開昭６２−６９２６３号、特開昭６３−１４
６０３７、特開昭６３−１６３４５２号、特開昭６２−
１５３８５３号、特開昭６３−１４６０２９号に記載の
化合物を用いることができる。

【００３５】更に、V. N. R. Pillai, Synthesis,
(１),１(１９８０) 、A. Abad et al, Tetrahedron Let
t., (４７) ４５５５ (１９７１) 、D. H. R. Barton e
t al, J.Chem, Soc., (C),３２９ (１９７０)、米国特
許第３,７７９,７７８号、欧州特許第１２６,７１２号
等に記載の光により酸を発生する化合物も使用すること
ができる。

【００３６】上記酸を発生する光熱分解化合物として
は、以下の一般式（１）〜（７）の化合物が好ましく、
また、その中でも、ジアゾニウム塩およびキノンジアジ
ド化合物が特に好ましい。 ［１］下記一般式（１）で示されるジスルホン誘導体ま
たは下記一般式（２）で表されるイミノスルホネート誘
導体。 一般式（１） Ａｒ₁−ＳＯ₂−ＳＯ₂−Ａｒ₂

【００３７】

【化１】

【００３８】式中、Ａｒ₁およびＡｒ₂は各々独立に置換
もしくは未置換のアリール基を示す。Ｒ¹は置換もしく
は未置換のアルキル基またはアリール基を表す。Ａは置
換もしくは未置換のアルキレン基、アルケニレン基また
はアリーレン基を示す。

【００３９】［２］下記一般式（３）、（４）および
（５）で表されるオニウム塩誘導体。 一般式（３） Ａｒ₃−Ｉ⁺−Ａｒ₄ Ｒ₂−ＳＯ^3-

【００４０】

【化２】

【００４１】一般式（５） Ａｒ₅−Ｎ²⁺ Ｒ₂−Ｓ
Ｏ^3- 上記一般式において、Ｒ²は置換基を有していても良い
炭素数２０以下の炭化水素基を示す。炭化水素基の具体
例としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ
−プロピル基、アリル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチ
ル基、ｔ−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、
オクチル基、２−エチルヘキシル基、ドデシル基等のア
ルキル基、ビニル基、１−メチルビニル基、２−フェニ
ルビニル基等のアルケニル基、ベンジル基、フェネチル
基等のアラルキル基、フェニル基、トリル基、キシリル
基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フ
ェニルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基等の
アリール基が挙げられる。

【００４２】これらの炭化水素基は、例えばハロゲン原
子、ヒドロキシ基、アルコキシ基、アリルオキシ基、ニ
トロ基、シアノ基、カルボニル基、カルボキシル基、ア
ルコキシカルボニル基、アニリノ基、アセトアミド基、
等の置換基を有していても良い。置換基を有する炭化水
素基の具体例としては、トリフルオロメチル基、２−メ
トキシエチル基、１０−カンファーニル基、フルオロフ
ェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル基、ヨー
ドフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキシフェニ
ル基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル基、シア
ノフェニル基、カルボキシフェニル基、メトキシナフチ
ル基、ジメトキシアントラセニル基、ジエトキシアント
ラセニル基、アントラキノニル基、等が挙げられる。

【００４３】Ａｒ³、Ａｒ⁴およびＡｒ⁵はそれぞれ、置
換基を有していても良い炭素数２０以下のアリール基を
示す。具体的には、フェニル基、トリル基、キシリル
基、クメニル基、メシチル基、ドデシルフェニル基、フ
ェニルフェニル基、ナフチル基、アントラセニル基、フ
ルオロフェニル基、クロロフェニル基、ブロモフェニル
基、ヨードフェニル基、メトキシフェニル基、ヒドロキ
シフェニル基、フェノキシフェニル基、ニトロフェニル
基、シアノフェニル基、カルボキシフェニル基、アニリ
ノフェニル基、アニリノカルボニルフェニル基、モルホ
リノフェニル基、フェニルアゾフェニル基、メトキシナ
フチル基、ヒドロキシナフチル基、ニトロナフチル基、
アントラキノニル基、等が挙げられる。

【００４４】Ｒ³、Ｒ⁴およびＲ⁵は置換基を有していて
も良い炭素数１８以下の炭化水素基を示す。具体的に
は、メチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、ｉ−プロピ
ル基、アリル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチル基、ｔ
−ブチル基、ヘキシル基、シクロヘキシル基、ベンジル
基、フェニル基、トリル基、ｔ−ブチルフェニル基、ナ
フチル基、アントラセニル基、等の炭化水素基、２−メ
トキシエチル基、フルオロフェニル基、クロロフェニル
基、ブロモフェニル基、ヨードフェニル基、メトキシフ
ェニル基、ヒドロキシフェニル基、フェニルチオフェニ
ル基、ヒドロキシナフチル基、メトキシナフチル基、ベ
ンゾイルメチル基、ナフトイルメチル基、等置換基を有
する炭化水素基が挙げられる。また、Ｒ³およびＲ⁴で互
いに結合し縮環していてもよい。

【００４５】一般式（３）〜（５）で表されるオニウム
塩のカチオン部としては、具体的には下記構造で示され
るヨードニウムイオン、スルホニウムイオン、ジアゾニ
ウムイオンがあげられる。

【００４６】

【化３】

【００４７】

【化４】

【００４８】

【化５】

【００４９】

【化６】

【００５０】

【化７】

【００５１】一方、これらのオニウム塩のカウンターア
ニオンとして良好に用いられるスルホネートイオンとし
ては、 １）メタンスルホネート、 ２）エタンスルホネート、 ３）１−プロパンスルホネート、 ４）２−プロパンスルホネート、 ５）ｎ−ブタンスルホネート、 ６）アリルスルホネート、 ７）１０−カンファースルホネート、 ８）トリフルオロメタンスルホネート、 ９）ペンタフルオロエタンスルホネート、 １０）ベンゼンスルホネート、 １１）ｐ−トルエンスルホネート、 １２）３−メトキシベンゼンスルホネート、 １３）４−メトキシベンゼンスルホネート、 １４）４−ヒドロキシベンゼンスルホネート、 １５）４−クロロベンゼンスルホネート、 １６）３−ニトロベンゼンスルホネート、 １７）４−ニトロベンゼンスルホネート、 １８）４−アセチルベンゼンスルホネート、 １９）ペンタフルオロベンゼンスルホネート、 ２０）４−ドデシルベンゼンスルホネート、 ２１）メシチレンスルホネート、 ２２）２,４,６−トリイソプロピルベンゼンスルホネー
ト、 ２３）２−ヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン−
５−スルホネート、 ２４）イソフタル酸ジメチル−５−スルホネート、 ２５）ジフェニルアミン−４−スルホネート、 ２６）１−ナフタレンスルホネート、 ２７）２−ナフタレンスルホネート、 ２８）２−ナフトール−６−スルホネート、 ２９）２−ナフトール−７−スルホネート、 ３０）アントラキノン−１−スルホネート、 ３１）アントラキノン−２−スルホネート、 ３２）９,１０−ジメトキシアントラセン−２−スルホ
ネート、 ３３）９,１０−ジエトキシアントラセン−２−スルホ
ネート、 ３４）キノリン−８−スルホネート、 ３５）８−ヒドロキシキノリン−５−スルホネート、 ３６）８−アニリノ−ナフタレン−１−スルホネート

【００５２】また、 ４１）ｍ−ベンゼンジスルホネート、 ４２）ベンズアルデヒド−２、４−ジスルホネート、 ４３）１,５−ナフタレンジスルホネート、 ４４）２,６−ナフタレンジスルホネート、 ４５）２,７−ナフタレンジスルホネート、 ４６）アントラキノン−１,５−ジスルホネート、 ４７）アントラキノン−１,８−ジスルホネート、 ４８）アントラキノン−２,６−ジスルホネート、 ４９）９、１０−ジメトキシアントラセン−２、６−ジ
スルホネート、 ５０）９、１０−ジエトキシアントラセン−２、６−ジ
スルホネート、等のジスルホネート類とオニウム塩カチ
オン２当量との塩も用いることができる。

【００５３】本発明で良好に用いられるオニウム塩スル
ホネートは、対応するクロル塩等を、スルホン酸または
スルホン酸ナトリウムまたはカリウム塩と水中、あるい
はアルコール等の親水性溶媒と水との混合溶媒中でまぜ
あわせて塩交換を行うことにより、得ることができる。
オニウム化合物の合成は既知の方法で行うことができ、
たとえば丸善・新実験化学講座１４−Ｉ巻の２・３章
（ｐ．４４８）、１４−III巻の８・１６章（ｐ．１８
３８）、同７・１４章（ｐ．１５６４）、Ｊ．Ｗ．Ｋｎ
ａｐｃｚｙｋ他、Ｊ．Ａｍ．Ｃｈｅｍ．Ｓｏｃ．、９１
巻、１４５（１９６９）、Ａ．Ｌ．Ｍａｙｃｏｋ他、
Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、３５巻、２５３２（１９７
０）、Ｊ．Ｖ．Ｃｒｉｖｅｌｌｏ他、Ｐｏｌｙｍ．Ｃｈ
ｅｍ．Ｅｄ．、１８巻、２６７７（１９８０）、米国特
許第２８０７６４８号、同４２４７４７３号、特開昭５
３−１０１３３１号、特公平５−５３１６６号公報等に
記載の方法で合成することができる。

【００５４】［３］下記一般式（６）および（７）で表
される１,２−ナフトキノンジアジドスルホン酸誘導体
等のジアゾ化合物。

【００５５】

【化８】

【００５６】

【化９】

【００５７】式中、Ｒ⁶、Ｒ⁷は置換基を有してもよい１
価以上の有機基でありスルホニルとの連結部位はエステ
ルまたはアミド結合である。ｎは１以上の整数を示す。
以下の化合物種のジアゾ化合物を用いた場合に有用なポ
ジ型感光材料である。

【００５８】次に前記一般式（１）で示されるジスルホ
ン誘導体または一般式（２）で表されるイミノスルホネ
ート誘導体の具体例を挙げるが、これに限定されるもの
ではない。

【００５９】

【化１０】

【００６０】

【化１１】

【００６１】

【化１２】

【００６２】

【化１３】

【００６３】次に、前記一般式（３）ないし（５）で示
されるオニウム塩中で特に好ましい具体的化合物例を挙
げるが、これらに限定されるものではない。

【００６４】

【化１４】

【００６５】

【化１５】

【００６６】

【化１６】

【００６７】

【化１７】

【００６８】

【化１８】

【００６９】

【化１９】

【００７０】

【化２０】

【００７１】

【化２１】

【００７２】

【化２２】

【００７３】

【化２３】

【００７４】

【化２４】

【００７５】

【化２５】

【００７６】次に一般式（６）および（７）で表される
１,２−ナフトキノンジアジドスルホン酸誘導体の具体
例としては、ノボラック樹脂の１,２−ナフトキノンジ
アジド−５−スルホン酸エステル、ノボラック樹脂の
１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステ
ル、ピロガロールとアセトンの重縮合樹脂の１,２−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ピロガ
ロールとアセトンの重縮合樹脂の１,２−ナフトキノン
ジアジド−４−スルホン酸エステル、ピロガロールおよ
びレゾルシンの混合物とアセトンの重縮合樹脂の１,２
−ナフトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、ピ
ロガロールおよびレゾルシンの混合物とアセトンの重縮
合樹脂の１,２−ナフトキノンジアジド−４−スルホン
酸エステル、多価フェノールとベンズアルデヒド、アセ
トアルデヒドの重縮合樹脂の１,２−ナフトキノンジア
ジド−５−スルホン酸エステル、多価フェノールとベン
ズアルデヒド、アセトアルデヒドの重縮合樹脂の１,２
−ナフトキノンジアジド−４−スルホン酸エステル、
２,３,４−トリヒドロキシベンゾフェノンの１,２−ナ
フトキノンジアジド−５−スルホン酸エステル、２,３,
４−トリヒドロキシベンゾフェノンの１,２−ナフトキ
ノンジアジド−４−スルホン酸エステル、２,４,４’−
トリヒドロキシベンゾフェノンの１,２−ナフトキノン
ジアジド−５−スルホン酸エステル、２,４,４’−トリ
ヒドロキシベンゾフェノンの１,２−ナフトキノンジア
ジド−４−スルホン酸エステル、ビス（２,４−ジヒド
ロキシフェニル）メタンの１,２−ナフトキノンジアジ
ド−５−スルホン酸エステル、ビス（２,４−ジヒドロ
キシフェニル）メタンの１,２−ナフトキノンジアジド
−４−スルホン酸エステル等を挙げることができるが、
これに限定されるものではない。

【００７７】上述した光熱分解物質は、上記ポジ型感光
材料の全固形分に対し０．０１〜５０質量％、好ましく
は０.１〜２５質量％、より好ましくは０.５〜２０質量
％の割合で感光材料中に添加される。添加量が０.０１
質量％以下の場合は、画像が得られない。また添加量が
５０質量％以上の場合は、印刷時非画像部に汚れを発生
する。

【００７８】上記ポジ型感光材料中にはさらに赤外線吸
収剤を含ませることが望ましい。赤外線吸収剤とは、赤
外線レーザー光を吸収して熱を発生する物質である。か
かる赤外線吸収剤を添加することにより、レーザー照射
部を発熱させ、光熱分解物質の分解を促進し、感光材料
の感度を向上させることができる。このような物質とし
ては、種々の顔料もしくは染料が用いられる。

【００７９】顔料としては、市販の顔料およびカラーイ
ンデックス（Ｃ.Ｉ.）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔
料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」
（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」
（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が
利用できる。顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、その他、ポリマー結合
色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾ
レーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロ
シアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレンおよ
びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン
系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔
料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔
料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、
無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。

【００８０】これらの顔料は表面処理をせずに用いても
よく、表面処理をほどこして用いてもよい。表面処理の
方法には樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活
性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカ
ップリング剤やエポキシ化合物、ポリイソシアネート
等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記
の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書
房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年
刊）および「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８
６年刊）に記載されている。顔料の粒径は、０.０１μ
ｍ〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０.０５μ
ｍ〜１μｍの範囲にあることがさらに好ましい。顔料を
分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用
いられている公知の分散技術が使用できる。分散機とし
ては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パー
ルミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デス
パーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３
本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、
「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に
記載がある。

【００８１】また、染料としては、市販の染料および文
献（例えば「染料便覧」有機合成化学協会編集、昭和４
５年刊）に記載されている公知のものが利用できる。具
体的には、アゾ染料、金属鎖塩アゾ染料、ピラゾロンア
ゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、カ
ルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シア
ニン染料、アミニウム染料、ジイモニウム染料、スクア
リリウム染料等の染料が挙げられる。

【００８２】これらの顔料、もしくは染料のうち赤外
光、もしくは近赤外光を吸収するものが特に好ましく、
顔料としてはカーボンブラックが好適に用いられ、染料
としては例えば特開昭５８−１２５２４６号、同５９−
８４３５６号、同５９−２０２８２９号、同６０−７８
７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８
−１７３６９６号、同５８−１８１６９０号、同５８−
１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭
５８−１１２７９３号、同５８−２２４７９３号、同５
９−４８１８７号、同５９−７３９９６号、同６０−５
２４９０号、同６０−６３７４４号等に記載されている
ナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記
載されているスクワリリウム色素、英国特許４３４,８
７５号記載のシアニン染料、米国特許３,５５７,０１２
号、特開平４−３４９４６２号記載のジイモニウム染
料、米国特許３,６３１,１４７号記載のアミニウム染料
等が好適に用いられる。また、米国特許第５,１５６,９
３８号記載の近赤外吸収剤も好適に用いられる。

【００８３】更に、米国特許第３,８８１,９２４号記載
の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特
開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４,３２７,１６
９号）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８
−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−
４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２
４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６
１号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９
−２１６１４６号記載のシアニン色素、米国特許第４,
２８３,４７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム
塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号公
報に開示されているピリリウム化合物は特に好ましく用
いられる。また、特に好ましい別の例として米国特許第
４,７５６,９９３号明細書中に式（Ｉ）、（II）として
記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。

【００８４】本発明においては、これらの顔料もしくは
染料は、上記ポジ型感光材料の全固形分に対し０.０１
〜５０質量％、好ましくは０.１〜２０質量％、より好
ましくは０.５〜１５質量％の割合で感光材料中に添加
することができる。添加量が０.０１質量％より少ない
と画像が得られず、また、５０質量％より多いと印刷時
非画像部に汚れを発生する。本発明においては、これら
の染料もしくは顔料は他の成分と同一の層に添加しても
よいし、別の層を設けそこへ添加してもよい。

【００８５】また、画像形成後、画像部と非画像部の区
別がつきやすくなるので、可視光域に大きな吸収を持つ
染料を画像の着色剤として添加する方が好ましい。具体
的にはオイルイエロー＃１０１、オイルイエロー＃１０
３、オイルピンク＃３１２、オイルグリーンＢＧ、オイ
ルブルーＢＯＳ、オイルブルー＃６０３、オイルブラッ
クＢＹ、オイルブラックＢＳ、オイルブラックＴ−５０
５（以上オリエント化学工業（株）製）、ビクトリアピ
ュアブルー、クリスタルバイオレット（Ｃ.Ｉ.４２５５
５）、メチルバイオレット（Ｃ.Ｉ.４２５３５）、エチ
ルバイオレット、ローダミンＢ（Ｃ.Ｉ.１４５１７０
Ｂ）、マラカイトグリーン（Ｃ.Ｉ.４２０００）、メチ
レンブルー（Ｃ.Ｉ.５２０１５）等、あるいは特開昭６
２−２９３２４７号公報に記載されている染料を挙げる
ことができる。尚、添加量は、上ポジ型記感光材料の全
固形分に対し、０.０１〜１０質量％の割合である。

【００８６】さらに、本発明におけるポジ型感光材料に
は必要に応じて種々の化合物を添加しても良い。たとえ
ば、本発明におけるポジ型感光材料中には、露光現像後
にバーニング処理を行ってより一層の高耐刷性を得るた
めに、Ｄ．Ｈ．ＳＯＬＯＭＯＮの著書「THE CHEMISTRY
OF ORGANIC FILM FORMERS 」、特公平１−４９９３２号
公報、特開平７−５３４２６号公報、特開平７−６１９
４６号公報等に記載されているようなアクコキシメチル
基、アシルオキシメチル基を含有するフェノール化合
物、等の架橋剤を添加することができる。これらの架橋
剤は、単独で用いてもよく、二種以上混合して用いても
よいが、その際の使用量は、感光性組成物中、０.２〜
６０質量％、好ましくは０.５〜２０質量％である。

【００８７】また、本発明におけるポジ型感光材料中に
は、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開
昭６２−２５１７４０号公報や特開平３−２０８５１４
号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特
開昭５９−１２１０４４号公報、特開平４−１３１４９
号公報に記載されているような両性界面活性剤を添加す
ることができる。

【００８８】非イオン界面活性剤としては、ソルビタン
トリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、ソル
ビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリド、ポ
リオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙げられ
る。両面活性剤としては、アルキルジ（アミノエチル）
グリシン、アルキルポリアミノエチルグリシン塩酸塩、
２−アルキル−Ｎ−カルボキシエチル−Ｎ−ヒドロキシ
エチルイミダゾリニウムベタインやＮ−テトラデシル−
Ｎ,Ｎ−ベタイン型等が挙げられる。例えば、アモーゲ
ンＫ（商品名：第一工業（株）製）等を好適に使用する
ことができる。上記非イオン界面活性剤および両性界面
活性剤の上記ポジ型感光材料中に占める割合は、０.０
５〜１５質量％が好ましく、より好ましくは０.１〜５
質量％である。

【００８９】また、本発明におけるポジ型感光材料中に
は必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤
が加えられる。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレン
グリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、
フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオ
クチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン
酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、
アクリル酸またはメタアクリル酸のオリゴマーおよびポ
リマー等が用いられる。

【００９０】また、本発明におけるポジ型感光材料のア
ルカリ水溶液への溶解性を調整する化合物としては、環
状酸無水物、その他のフィラー等を加えることができ
る。環状酸無水物としては米国特許第４,１１５,１２８
号明細書に記載されているような無水フタル酸、テトラ
ヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、３,
６−エンドオキシ−テトラヒドロ無水フタル酸、テトラ
クロロ無水フタル酸、無水マレイン酸、クロロ無水マレ
イン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水コハク酸、
ピロメリット酸等がある。これらの環状酸無水物の添加
量は感光材料の全固形分に対し１〜１５質量％、好まし
くは２〜１５質量％、より好ましくは３〜１０質量％で
ある。

【００９１】また、塗布性を改良するためのアルキルエ
ーテル類（例えばエチルセルロース、メチルセルロー
ス）、界面活性剤類（例えばフッ素系界面活性剤）、膜
の柔軟性、耐摩耗性を付与するための可塑剤（例えばト
リクレジルホスフェート、ジメチルフタレート、ジブチ
ルフタレート、リン酸トリオクチル、リン酸トリブチ
ル、クエン酸トリブチル、ポリエチレングリコール、ポ
リプロピレングリコール等）を添加することができる。
これらの添加剤の添加量はその使用目的によって異なる
が、一般には感光材料の全固形分に対して０.５〜３０
質量％である。さらに、これら以外にも、前述のオニウ
ム塩やハロアルキル置換されたｓ−トリアジン、および
エポキシ化合物、ビニルエーテル類、さらには特願平７
−１８１２０号明細書に記載のヒドロキシメチル基を持
つフェノール化合物、アルコキシメチル基を有するフェ
ノール化合物等を添加しても良い。

【００９２】本発明におけるポジ型感光材料は、通常上
記各成分を溶媒に溶解または分散して用い、適当な支持
体上に塗布することにより感光性平版印刷版を製造する
ことができる。ここで使用する溶媒としては、エチレン
ジクロライド、シクロヘキサノン、メチルエチルケト
ン、メタノール、エタノール、プロパノール、エチレン
グリコールモノメチルエーテル、１−メトキシ−２−プ
ロパノール、２−メトキシエチルアセテート、１−メト
キシ−２−プロピルアセテート、ジメトキシエタン、乳
酸メチル、乳酸エチル、Ｎ,Ｎ−ジメチルアセトアミ
ド、Ｎ,Ｎ−ジメチルホルムアミド、テトラメチルウレ
ア、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ス
ルホラン、γ−ブチルラクトン、トルエン、水等をあげ
ることができるがこれに限定されるものではない。これ
らの溶媒は単独あるいは混合して使用される。

【００９３】溶媒中の上記成分（添加物を含む全固形
分）の濃度は、好ましくは１〜５０質量％、好ましくは
３〜３０質量％、より好ましくは５〜２０質量％であ
る。また、塗布して使用する場合、塗布量は用途により
異なるが、例えば感光性平版印刷版材についていえば一
般的に固形分として０.５〜３.０ｇ／ｍ²、好ましくは
０.８〜２.５ｇ／ｍ²、より好ましくは１.０〜２.０ｇ
／ｍ²であり、またフォトレジストについていえば一般
的に固形分として０.１〜３.０ｇ／ｍ²が好ましく、よ
り好ましくは０.２〜２.０ｇ／ｍ²、更に好ましくは０.
３〜１.５ｇ／ｍ²である。塗布量が少なくなるにつれ
て、感光性は大きくなるが、感光膜の皮膜特性は低下す
る。

【００９４】本発明におけるポジ型感光材料は公知の塗
布技術により上述した支持体感光面上に塗布される。塗
布技術の例としては、回転塗布法、ワイヤーバー塗布
法、ディップ塗布後、エアーナイフ塗布法、ロール塗布
法、ブレード塗布法、カーテン塗布法およびスプレー塗
布法等を挙げることができる。上記のようにして塗布さ
れた感光材料の層は、４０〜１５０℃で３０秒〜１０分
間、熱風乾燥機、赤外線乾燥機等を用いて乾燥される。

【００９５】（２）次に、Ｃ.エチレン性不飽和二重結
合を少なくとも１個有する付加重合可能な化合物、光重
合開始剤及び高分子バインダーを含有する光重合層、並
びにＤ.上記重合層の上に水溶性ビニル重合体を含有す
る保護層からなるネガ型感光材料について説明する。

【００９６】Ｃ.エチレン性不飽和二重結合を少なくと
も１個有する付加重合可能な化合物、光重合開始剤及び
高分子バインダーを含有する光重合層。光重合層の主な
成分は、エチレン性不飽和二重結合を少なくとも１個有
する付加重合可能な化合物、光重合開始剤及び高分子バ
インダーであり、必要に応じ、熱重合禁止剤、着色剤、
可塑剤等の種々の化合物を含有することができる。

【００９７】エチレン性不飽和二重結合を含む付加重合
可能な化合物としては、末端エチレン性不飽和結合を少
なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物の中か
ら任意に選択することができる。これらの化合物には、
例えばモノマー、２量体もしくは３量体などのプレポリ
マー、およびオリゴマー、またはそれらの混合物などの
化学的形態をもつものが包含される。これらの例として
は、不飽和カルボン酸（例えば、アクリル酸、メタクリ
ル酸、イタコン酸、クロトン酸、イソクロトン酸、マレ
イン酸など）と脂肪族多価アルコール化合物とのエステ
ル、これらの不飽和カルボン酸と脂肪族多価アミン化合
物とのアミド等などがあげられる。

【００９８】脂肪族多価アルコール化合物と不飽和カル
ボン酸とのエステルのモノマーの具体例としては、アク
リル酸エステルとして、エチレングリコールジアクリレ
ート、トリエチレングリコールジアクリレート、１,３
−ブタンジオールジアクリレート、テトラメチレングリ
コールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリ
レート、ネオペンチルグリコールジアクリレート、トリ
メチロールプロパントリアクリレート、トリメチロール
プロパントリ（アクリロイルオキシプロピル）エーテ
ル、トリメチロールエタントリアクリレート、ヘキサン
ジオールジアクリレート、１,４−シクロヘキサンジオ
ールジアクリレート、テトラエチレングリコールジアク
リレート、ペンタエリスリトールジアクリレート、ペン
タエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールジア
クリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレー
ト、ソルビトールトリアクリレート、ソルビトールテト
ラアクリレート、ソルビトールペンタアクリレート、ソ
ルビトールヘキサアクリレート、トリ（アクリロイルオ
キシエチル）イソシアヌレート、ポリエステルアクリレ
ートオリゴマー等があげられる。

【００９９】メタクリル酸エステルとしては、テトラメ
チレングリコールジメタクリレート、トリエチレングリ
コールジメタクリレート、ネオペンチルグリコールジメ
タクリレート、トリメチロールプロパントリメタクリレ
ート、トリメチロールエタントリメタクリレート、エチ
レングリコールジメタクリレート、１,３−ブタンジオ
ールジメタクリレート、ヘキサンジオールジメタクリレ
ート、ペンタエリスリトールジメタクリレート、ペンタ
エリスリトールトリメタクリレート、ペンタエリスリト
ールテトラメタクリレート、ジペンタエリスリトールジ
メタクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサメタク
リレート、ソルビトールトリメタクリレート、ソルビト
ールテトラメタクリレート、ビス〔ｐ−（３−メタクリ
ルオキシ−２−ヒドロキシプロポキシ）フェニル〕ジメ
チルメタン、ビス−〔ｐ−（メタクリルオキシエトキ
シ）フェニル〕ジメチルメタン等があげられる。

【０１００】イタコン酸エステルとしては、エチレング
リコールジイタコネート、プロピレングリコールジイタ
コネート、１,３−ブタンジオールジイタコネート、１,
４−ブタンジオールジイタコネート、テトラメチレング
リコールジイタコネート、ペンタエリスリトールジイタ
コネート、ソルビトールテトライタコネート等があげら
れる。クロトン酸エステルとしては、エチレングリコー
ルジクロトネート、テトラメチレングリコールジクロト
ネート、ペンタエリスリトールジクロトネート、ソルビ
トールテトラジクロトネート等がある。イソクロトン酸
エステルとしては、エチレングリコールジイソクロトネ
ート、ペンタエリスリトールジイソクロトネート、ソル
ビトールテトライソクロトネート等があげられる。

【０１０１】マレイン酸エステルとしては、エチレング
リコールジマレート、トリエチレングリコールジマレー
ト、ペンタエリスリトールジマレート、ソルビトールテ
トラマレート等があげられる。さらに、前述のエステル
モノマーの混合物もあげることができる。また、脂肪族
多価アミン化合物と不飽和カルボン酸とのアミドのモノ
マーの具体例としては、メチレンビス−アクリルアミ
ド、メチレンビス−メタクリルアミド、１,６−ヘキサ
メチレンビス−アクリルアミド、１,６−ヘキサメチレ
ンビス−メタクリルアミド、ジエチレントリアミントリ
スアクリルアミド、キシリレンビスアクリルアミド、キ
シリレンビスメタクリルアミド等があげられる。その他
の例としては、特公昭４８−４１７０８号公報中に記載
されている１分子中に２個以上のイソシアネート基を有
するポリイソシアネート化合物に、下記の一般式（Ａ）
で示される水酸基を含有するビニルモノマーを付加せし
めた１分子中に２個以上の重合性ビニル基を含有するビ
ニルウレタン化合物等があげられる。 一般式 CH₂=C(R)COOCH₂CH(R′)OH （Ａ） （ただし、ＲおよびＲ′はＨ又はＣＨ₃を示す。）

【０１０２】また、特開昭５１−３７１９３号に記載さ
れているようなウレタンアクリレート類、特開昭４８−
６４１８３号、特公昭４９−４３１９１号、特公昭５２
−３０４９０号各公報に記載されているようなポリエス
テルアクリレート類、エポキシ樹脂と（メタ）アクリル
酸を反応させたエポキシアクリレート類等の多官能のア
クリレートやメタクリレートをあげることができる。さ
らに日本接着協会誌 vol. ２０、No. ７、３００〜３０
８ページ（１９８４年）に光硬化性モノマーおよびオリ
ゴマーとして紹介されているものも使用することができ
る。なお、これらの使用量は、光重合層の全固形分に対
して５〜７０質量％、好ましくは１０〜５０質量％であ
る。

【０１０３】光重合開始剤としては、使用する光源の波
長により、特許、文献等で公知である種々の光開始剤、
あるいは２種以上の光開始剤の併用系（光開始系）を適
宜選択して使用することができる。例えば４００nm以下
の紫外光を光源として用いる場合、ベンジル、ベンゾイ
ンエーテル、ミヒラーズケトン、アントラキノン、アク
リジン、フェナジン、ベンゾフェノン等が広く使用され
ている。

【０１０４】また、４００nm以下の可視光線、アルゴン
レーザー、ＹＡＧ−ＳＨＧレーザーを光源とする場合に
も、種々の光開始系が提案されており、例えば、米国特
許第２,８５０,４４５号に記載のある種の感光性染料、
染料とアミンの複合開始系（特公昭４４−２０１８９
号）、ヘキサアリールビイミダゾールとラジカル発生剤
と染料との併用系（特公昭４５−３７３７７号）、ヘキ
サアリールビイミダゾールとｐ−ジアルキルアミノベン
ジリデンケトンの系（特公昭４７−２５２８号、特開昭
５４−１５５２９２号）、環状シス−α−ジカルボニル
化合物と染料の系（特開昭４８−８４１８３号）、環状
トリアジンとメロシアニン色素の系（特開昭５４−１５
１０２４号）、３−ケトクマリンと活性剤の系（特開昭
５２−１１２６８１号、特開昭５８−１５５０３号）、
ビイミダゾール、スチレン誘導体、チオールの系（特開
昭５９−１４０２０３号）、有機過酸化物と色素の系
（特開昭５９−１４０２０３号、特開昭５９−１８９３
４０号）、ローダニン骨格の色素とラジカル発生剤の系
（特開平２−２４４０５０号）、チタノセンと３−ケト
クマリン色素の系（特開昭６３−２２１１１０号）、チ
タノセンとキサンテン色素さらにアミノ基あるいはウレ
タン基を含む付加重合可能なエチレン性不飽和化合物を
組み合わせた系（特開平４−２２１９５８号、特開平４
−２１９７５６号）、チタノセンと特定のメロシアニン
色素の系（特開平６−２９５０６１号）等を挙げること
ができる。これらの光重合開始剤の使用量は、エチレン
性不飽和化合物１００質量部に対し、０.０５〜１００
質量部、好ましくは０.１〜７０質量部、更に好ましく
は０.２〜５０質量部の範囲で用いることができる。

【０１０５】上述した光重合層は、通常、バインダーと
して線状有機高分子重合体を含有するが、このような線
状有機高分子重合体としては、光重合可能なエチレン性
不飽和化合物と相溶性を有している線状有機高分子重合
体である限り、どれを使用してもかまわない。好ましく
は水現像或いは弱アルカリ水現像を可能とする水あるい
は弱アルカリ水可溶性又は膨潤性である線状有機高分子
重合体が選択される。線状有機高分子重合体は、該組成
物の皮膜形成剤としてだけでなく、水、弱アルカリ水或
は有機溶剤現像剤としての用途に応じて選択使用され
る。例えば、水可溶性有機高分子重合体を用いると水現
像が可能になる。この様な線状有機高分子重合体として
は、側鎖にカルボン酸基を有する付加重合体、例えば特
開昭５９−４４６１５号、特公昭５４−３４３２７号、
特公昭５８−１２５７７号、特公昭５４−２５９５７
号、特開昭５４−９２７２３号、特開昭５９−５３８３
６号、特開昭５９−７１０４８号に記載されているも
の、すなわち、メタクリル酸共重合体、アクリル酸共重
合体、イタコン酸共重合体、クロトン酸共重合体、マレ
イン酸共重合体、部分エステル化マレイン酸共重合体等
がある。

【０１０６】また同様に側鎖にカルボン酸基を有する酸
性セルロース誘導体がある。この外に水酸基を有する付
加重合体に環状酸無水物を付加させたものなどが有用で
ある。特にこれらの中で〔ベンジル（メタ）アクリレー
ト／（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の付加重
合性ビニルモノマー〕共重合体及び〔アリル（メタ）ア
クリレート（メタ）アクリル酸／必要に応じてその他の
付加重合性ビニルモノマー〕共重合体が好適である。こ
の他に水溶性線状有機高分子として、ポリビニルピロリ
ドンやポリエチレンオキサイド等が有用である。また硬
化皮膜の強度を上げるためにアルコール可溶性ポリアミ
ドや２,２−ビス−（４−ヒドロキシフェニル）−プロ
パンとエピクロロヒドリンのポリエーテル等も有用であ
る。これらの線状有機高分子重合体は光重合層の全固形
分に任意な量を混和させることができる。しかし９０質
量％を超える場合には形成される画像強度等の点で好ま
しい結果を与えない。好ましくは３０〜８５質量％であ
る。また光重合可能なエチレン性不飽和化合物と線状有
機高分子重合体は、重量比で１／９〜７／３の範囲とす
るのが好ましい。より好ましい範囲は２／８〜６／４で
ある。

【０１０７】また、光重合層は以上の基本成分の他に感
光材料の製造中あるいは保存中において重合可能なエチ
レン性不飽和化合物の不要な熱重合を阻止するために少
量の熱重合防止剤を添加することが望ましい。適当な熱
重合防止剤としてはハイドロキノン、ｐ−メトキシフェ
ノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロー
ル、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４,４′−
チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
２,２′−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、Ｎ−ニトロソフェニルヒドロキシルアミ
ン第一セリウム塩等があげられる。熱重合防止剤の添加
量は、光重合層の全固形分の重量に対して約０.０１質
量％〜約５質量％が好ましい。また必要に応じて、酸素
による重合阻害を防止するためにベヘン酸やベヘン酸ア
ミドのような高級脂肪酸誘導体等を添加して、塗布後の
乾燥の過程で光重合層の表面に偏在させてもよい。高級
脂肪酸誘導体の添加量は、全組成物の約０.５質量％〜
約１０質量％が好ましい。

【０１０８】更に光重合層の着色を目的として、着色剤
を添加してもよい。着色剤としては、例えば、フタロシ
アニン系顔料、アゾ系顔料、カーボンブラック、酸化チ
タンなどの顔料、エチルバイオレット、クリスタルバイ
オレット、アゾ染料、アントラキノン系染料、シアニン
系染料がある。染料および顔料の添加量は全固形分の約
０.５質量％〜約５質量％が好ましい。加えて、硬化皮
膜の物性を改良するために、無機充填剤やジオクチルフ
タレート、ジメチルフタレート、トリクレジルホスフェ
ート等の可塑剤等の添加剤を加えてもよい。これらの添
加量は光重合層の全固形分の１０質量％以下が好まし
い。

【０１０９】上記光重合層は、通常支持体上に塗布して
使用される。支持体上に塗布する際には種々の有機溶剤
を使用することができる。ここで使用する有機溶剤とし
ては、アセトン、メチルエチルケトン、シクロヘキサ
ン、酢酸エチル、エチレンジクロライド、テトラヒドロ
フラン、トルエン、エチレングリコールモノメチルエー
テル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレ
ングリコールジメチルエーテル、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、プロピレングリコールモノエチル
エーテル、アセチルアセトン、シクロヘキサノン、ジア
セトンアルコール、エチレングリコールモノメチルエー
テルアセテート、エチレングリコールエチルエーテルア
セテート、エチレングリコールモノイソプロピルエーテ
ル、エチレングリコールモノブチルエーテルアセテー
ト、３−メトキシプロパノール、メトキシメトキシエタ
ノール、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジ
エチレングリコールモノエチルエーテル、ジエチレング
リコールジメチルエーテル、ジエチレングリコールジエ
チルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテ
ルアセテート、プロピレングリコールモノエチルエーテ
ルアセテート、３−メトキシプロピルアセテート、Ｎ,
Ｎ−ジメチルホルムアミド,ジメチルスルホキシド、γ
−ブチロラクトン、乳酸メチル、乳酸エチルなどがあ
る。これらの溶剤は、単独あるいは混合して使用するこ
とができる。そして、塗布溶液中の固形分の濃度は、２
〜５０質量％が好ましい。

【０１１０】本発明における光重合層には、塗布面質を
向上するために界面活性剤を添加することができる。そ
の被覆量は乾燥後の重量で約０.１ｇ／ｍ²〜約１０ｇ／
ｍ²の範囲が好ましく、０.５〜５ｇ／ｍ²がより好まし
い。

【０１１１】Ｄ.溶性ビニル重合体を含有する保護層 次に上記光重合層上に塗布する水溶性ビニル重合体を含
有する保護層について説明する。保護層に含まれる水溶
性ビニル重合体としては、ポリビニルアルコール、その
部分エステルもしくはエーテル、およびポリビニルアセ
タールなどがあげられる。また、その他有用な重合体と
してポリビニルピロリドン、ゼラチンおよびアラビアゴ
ムなどがあげられ、これらは単独または併用して用いて
も良い。更にまた、水溶性を付与するのに実質的に必要
な量の未置換ビニルアルコール単位を含有する上記重合
体の共重合体があげられる。

【０１１２】ポリビニルアルコールとしては、７１〜１
００％加水分解され、重合度が３００〜２４００の範囲
のものが好ましい。具体的には株式会社クラレ製PVA-１
０５, PVA-１１０, PVA-１１７, PVA-１１７H, PVA-１
２０, PVA-１２４, PVA-１２４H, PVA-CS, PVA-CST, PV
A-HC, PVA-２０３, PVA-２０４, PVA-２０５, PVA-２１
０, PVA-２１７, PVA-２２０, PVA-２２４, PVA-２１７
EE, PVA-２２０, PVA-２２４, PVA-２１７EE, PVA-２１
７E, PVA-２２０E, PVA-２２４E, PVA-４０５,PVA-４２
０, PVA-６１３, L-８等があげられる。

【０１１３】上記の共重合体としては、８８〜１００％
加水分解されたポリビニルアセテートクロロアセテート
またはプロピオネート、ポリビニルホルマールおよびポ
リビニルアセタールおよびそれらの共重合体があげられ
る。本発明の感光材料においては、その保護層中、これ
らの水溶性ビニル重合体を保護層の全固形分に対して、
３０〜９９質量％の割合、好ましくは５０〜９９質量％
の割合で含有する。

【０１１４】保護層の乾燥塗布重量としては、通常０.
５〜１０ｇ／ｍ²であり、好ましくは１.０〜５.０ｇ／
ｍ²である。保護層の塗布方法は、特に制限されるもの
ではなく、米国特許第３４５８３１１号又は特開昭５５
−４９７２９号に記載されている方法を適用することが
できる。また、塗布する際の溶剤としては、水が使用さ
れる。

【０１１５】保護層にはさらに塗布性を向上させるため
の界面活性剤、皮膜の物性を改良するための水溶性の可
塑剤等の公知の添加剤を加えても良い。水溶性の可塑剤
としてはたとえばプロピオンアミド、シクロヘキサンジ
オール、グリセリン、ソルビトール等がある。また、水
溶性の（メタ）アクリル系ポリマーなどを添加しても良
い。保護層は光重合層と良好な接着性を有し、かつ水溶
性で酸素遮断性を有するものである。また、活性光線に
対して透明である。

【０１１６】以上のように、支持体裏面に導電性被覆層
が形成され、支持体感光面に感光層が塗布形成された感
光性平版印刷版は、通常巻取り工程を経た後、画像露光
され、現像を含む処理が行われ画像が形成される。

【０１１７】［露光］像露光に用いられる活性光線の光
源としては、例えば、水銀灯、メタルハライドランプ、
キセノンランプ、ケミカルランプ、カーボンアーク灯等
がある。放射線としては、電子線、Ｘ線、イオンビー
ム、遠赤外線等がある。またｇ線、ｉ線、Deep−ＵＶ
光、高密度エネルギービーム（レーザービーム）も使用
される。レーザービームとしてはヘリウム・ネオンレー
ザー、アルゴンレーザー、クリプトンレーザー、ヘリウ
ム・カドミウムレーザー、ＫｒＦエキシマレーザー等が
挙げられる。本発明においては、近赤外から赤外領域に
発光波長を持つ光源が好ましく、固体レーザ、半導体レ
ーザが特に好ましい。

【０１１８】［現像］上記ポジ型画像形成材料を用いた
平版印刷版の現像液および補充液としては従来より知ら
れているアルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸
ナトリウム、同カリウム、第三リン酸ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、第２リン酸ナトリウム、同カ
リウム、同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウ
ム、同アンモニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、
同カリウムおよび同リチウム等の無機アルカリ塩が挙げ
られる。また、モノメチルアミン、ジメチルアミン、ト
リメチルアミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、
トリエチルアミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプ
ロピルアミン、トリイソプロピルアミン、ｎ−ブチルア
ミン、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン、モノイソプロパノールアミン、ジ
イソプロパノールアミン、エチレンイミン、エチレンジ
アミン、ピリジン等の有機アルカリ剤も用いられる。こ
れらのアルカリ剤は単独もしくは２種以上を組み合わせ
て用いられる。

【０１１９】これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現
像液は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸
塩水溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化
珪素SiO₂とアルカリ金属酸化物M₂Oとの比率と濃度によ
って現像性の調節が可能となるためであり、例えば、特
開昭５４−６２００４号公報、特公昭５７−７４２７号
公報に記載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が有
効に用いられる。

【０１２０】上記ネガ型感光材料を用いた平版印刷版の
現像液としては従来より知られているアルカリ水溶液が
使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウム、同カリウム、
第３リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、
第二リン酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、
炭酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、炭酸水
素ナトリウム、同カリウム、同アンモニウム、ほう酸ナ
トリウム、同カリウム、同アンモニウム、水酸化ナトリ
ウム、同アンモニウム、同カリウムおよび同リチウムな
どの無機アルカリ剤が挙げられる。また、モノメチルア
ミン、ジメチルアミン、トリメチルアミン、モノエチル
アミン、ジエチルアミン、トリエチルアミン、モノイソ
プロピルアミン、ジイソプロピルアミン、トリイソプロ
ピルアミン、ｎ−ブチルアミン、モノエタノールアミ
ン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、モノ
イソプロパノールアミン、ジイソプロパノールアミン、
エチレンアミン、エチレンジアミン、ピリジンなどの有
機アルカリ剤も用いられる。

【０１２１】これらのアルカリ剤は単独もしくは二種以
上を組み合わせて用いられる。上記のアルカリ水溶液の
内、本発明による効果が一段と発揮される現像液はアル
カリ金属ケイ酸塩を含有するpH１２以上の水溶液であ
る。アルカリ金属ケイ酸塩の水溶液はケイ酸塩の成分で
ある酸化ケイ素SiO₂とアルカリ金属酸化物M₂Oの比率
（一般に〔SiO₂〕／〔M₂O〕のモル比で表す）と濃度に
よって現像性の調節が可能であり、例えば、特開昭５４
−６２００４号公報に開示されているような、SiO₂/Na₂
Oのモル比が1.０〜1.５（即ち〔SiO₂〕／〔Na₂O〕が1.
０〜1.５であって、SiO₂の含有量が１〜４質量％のケイ
酸ナトリウムの水溶液や、特公昭５７−７４２７号公報
に記載されているような、〔SiO₂〕／〔Ｍ〕が0.５〜0.
７５（即ち〔SiO₂〕／〔M₂O〕が1.０〜1.５）であっ
て、SiO₂の濃度が１〜４質量％であり、かつ該現像液が
その中に存在する全アルカリ金属のグラム原子を基準に
して少なくとも２０％のカリウムを含有していることか
らなるアルカリ金属ケイ酸塩が好適に用いられる。

【０１２２】上記現像液および補充液を用いて現像処理
された印刷版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス
液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で任意
に後処理される。この様な処理によって得られた平版印
刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に
用いられる。

【０１２３】

【実施例】以下実施例をもって本発明を説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 実施例１ ［基板の作製］厚さ０.３０ｍｍのアルミニウム板をナ
イロンブラシと４００メッシュのパミストンの水懸濁液
を用いてその表面を砂目立てした後、よく水で洗浄し
た。１０％水酸化ナトリウムに７０℃で６０秒間浸漬し
てエッチングした後、流水で水洗後２０％硝酸で中和洗
浄、水洗した。これをＶＡ＝１２.７Ｖの条件下で正弦
波の交番波形電流を用いて１％硝酸水溶液中で１６０ク
ーロン／ｄｍ²の陽極時電気量で電解粗面化処理をおこ
なった。その表面粗さを測定したところ、０.６μ（Ｒ
ａ表示）であった。ひきつづいて３０％の硫酸水溶液中
に浸漬し５５℃で２分間デスマットした。

【０１２４】その後、２０％硫酸水溶液中、電流密度３
０Ａ／ｄｍ²において陽極酸化を１２秒間行った。この
とき感光面の陽極酸化皮膜の厚さは３.０ｇ／ｍ²であっ
た。作製された基板の感光面に下記組成の下塗り液１を
塗布し８０℃、３０秒間乾燥した。乾燥後の被覆量は３
０ｍｇ／ｍ²であった。

【０１２５】 下塗り液１ フェニルホスホン酸 ０.１５ｇ メタノール ９０ｇ 純水 １０ｇ さらに下記感光液（Ｐ−１）を塗布し、１００℃で１分
間乾燥してポジ型感光性平版印刷版ＰＡを得た。乾燥後
の重量は１.５ｇ／ｍ²であった。

【０１２６】 感光液（Ｐ−１） 光熱分解物質（Ａ−１）（下記化学式参照） ０.１５ｇ 赤外線吸収剤ＮＫ−２０１４（日本感光色素研究所（株）製） ０.１０ｇ フェノールノボラック（重量平均分子量１０,０００） １.６ｇ 架橋性化合物（Ｉ−２）（下記化学式参照） ０.４０ｇ メガファックＦ−１７７ ０.０６ｇ （大日本インキ化学工業（株）製、フッ素系界面活性剤） メチルエチルケトン １５ｇ １−メトキシ−２−プロパノール ５ｇ メタノール ７ｇ

【０１２７】

【化２６】

【０１２８】

【化２７】

【０１２９】得られたポジ型平版印刷版をそれぞれ一度
巻取りを行って保管した。その後裁断を行い、シート状
に裁断した。裁断した平版印刷版の支持体裏面に、体積
抵抗率２×１０^-2Ω・ｍのカーボン（粒径５０nm、球
状、０.５２１ｇ）及びバインダー（ケミットＫ１２９
４（東レ(株)製飽和ポリエステル樹脂、０.７７９ｇ）
の溶剤（ＭＥＫ、１４.２８０ｇ）分散塗布液（液濃度
８.３４質量％、カーボン濃度３.３４質量％）を、乾燥
後に厚さ０.２μｍとなるように塗布し、８０℃で２分
間乾燥して、導電性被覆層を設け、これを実施例１の平
版印刷版とした。上記処方の導電性被覆層については、
ＪＩＳ Ｋ７１９４に従い、絶縁材料（ゴム）に同様に
塗布して体積抵抗率を求めた。体積抵抗率は５×１０^-2
Ω・ｍであった。

【０１３０】実施例１の平版印刷版においてカーボンを
添加しなかった他は同様にして作成した溶剤分散塗布液
を塗布したものを作成し、これを比較例１とした。ま
た、裏面塗布を全く行わなかった他は実施例１の平版印
刷版と同様に作成したものを比較例２とした。

【０１３１】得られた各版を波長８３０ｎｍの赤外線を
発する半導体レーザで露光し、露光後、富士写真フイル
ム（株）製現像液、ＤＰ−４（１：８）で現像し、水洗
した。製版時のスパークの有無、かぶりによるＮＧ発生
率について、それぞれ３０枚ずつ目視で評価した。結果
を表１に示す。かぶりによるＮＧ発生率は目視で５個以
上／１枚あるものをＮＧ発生と評価して計算した。ま
た、集積時に傷がつかない場合には合紙の必要性の評価
において“不要”とし、集積時に傷つきが発生する場合
には“必要”とした。

【０１３２】

【０１３３】

【発明の効果】本発明の感光性平版印刷版は、支持体走
行中、切断されたシートの集積時等に合紙を用いずとも
膜抜けや汚れが生じず、かつ発生する静電気スパークに
よるかぶりの発生を生じない。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H025 AA00 AA01 AB03 AC08 AD01 AD03 BC31 BC51 CB52 CC20 DA40 2H096 AA07 BA01 BA05 BA09 BA20 CA20 EA04 LA16

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に光重合性感光層を有する感
   光性平版印刷版であって、該感光層塗布面とは反対側の
   支持体裏面に導電性を有する被覆層を有することを特徴
   とする上記感光性平版印刷版。
2. 【請求項２】 該被覆層の体積抵抗率が１０⁸Ω・ｍ
   以下であることを特徴とする請求項１記載の感光性平版
   印刷版。