JP2002046363A - 顔料着色された背面コーテイングを有するプリセンシタイズ印刷版 - Google Patents
顔料着色された背面コーテイングを有するプリセンシタイズ印刷版Info
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Abstract
フィー印刷板の製造用の感放射線記録材料を提供するこ
と。 【解決手段】 本発明は、寸法安定性支持体、支持体の
前面に位置する感放射線層、および35℃もしくはそれ
以上のガラス転移温度を有する有機重合体物質を含んで
なり且つ顔料粒子が埋め込まれており且つ処理用化学物
質に対して耐性であり且つ支持体の背面に位置する層を
有するオフセット印刷版の製造のための感放射線記録材
料に関する。顔料粒子は好ましくは0.1〜50μmの
平均粒子寸法を有するシリカゲル粒子または3〜10μ
mの平均直径を有する有機粒子である。前面上の層は艶
消しされていてもよくまたは顔料着色されていてもよ
い。背面コーテイングは記録材料を分離紙なしに重ねる
ことを可能にする。前面に位置する像層は貯蔵および輸
送中に並びに積層からの取り出し中に顔料着色された背
面コーテイングにより引っ掻き傷を受けない。
Description
体、支持体の前面に位置する感放射線層(radiation-sen
sitive layer)、および有機重合体物質を含んでなり且
つ支持体の背面に位置する処理用化学物質に耐性である
層を有するオフセット印刷版の製造のための記録材料に
関する。
シタイズ印刷版」としても知られる)の製造用の記録材
料は一般的には20単位またはそれ以上積み重ねて供給
される。長い貯蔵時間、圧力および/または高い周囲温
度の作用がしばしば互いに付着した版を生ずる。積重ね
から個々の版を取り出す際に、引っ掻き傷が前面および
/または背面に生ずる可能性がある。望ましくない付着
問題は分離紙により実質的に排除することができる。紙
はコーテイングされていない背面のあるアルミニウム支
持体を有する記録材料の場合に特に必要である。しかし
ながら、分離紙は新たな問題を生ずる。記録材料はしば
しばインライン仕上げプラント中で製造され、そこでは
版は自動的に所望する寸法に切断されそして包装され
る。分離紙も同様に自動的に挿入される。しかしなが
ら、この段階は比較的時間がかかり且つ傷を受け易い。
さらに、一部の場合には紙は感放射線層に影響を与えそ
してその性質を逆に変化させる。これは、pHにおける
変化、その感光性における低下または急速劣化のため
に、層の変色を生ずるかもしれない。表面−封印紙で
は、紙と感放射線層との間の相互作用を減ずることがで
きるが、そのような紙はかなり高価である。比較的大き
い印刷所では、分離紙が付与された版の積重ねは一般的
には自動プラントの中で処理され、紙は一般的には吹き
飛ばされる。この操作も比較的時間がかかりそして傷を
受け易い。さらに、紙をリサイクルすることはできずそ
して廃棄しなければならない。
記録材料は分離紙なしに操作される。光重合可能材料か
ら製造された紫外線で硬化した層をそのアルミニウム支
持体の背面に置く。単量体の他に、背面コーテイングの
製造用に使用される組成物は感光剤、結合剤、充填剤、
単量体の熱誘導重合を防止するための抑制剤および他の
添加剤を含んでなっていてもよい。
ウム支持体も同様に背面で有機重合体、例えばポリエチ
レン、ポリプロピレン、ポリブタジエン、ポリエステ
ル、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール、ポリ塩
化ビニル、ポリスチレンまたはメタクリル酸エステル樹
脂でコーテイングされたオフセット印刷板の製造用の記
録材料を開示している。背面コーテイングはアルミニウ
ム支持体上の水性−アルカリ性現像剤による腐食作用を
減ずる。この記録材料中の感光層は現像剤中に不溶性で
ある化合物1〜10重量%を含んでなる。
酸化により製造される酸化アルミニウム層上の光重合可
能層、および0.1〜8.0μmの厚さを有する背面コー
テイングを有する記録材料がJP−A09/26517
6が開示されている。このコーテイングは飽和した共重
合されたポリエステル樹脂、フェノキシ樹脂、ポリビニ
ルアセタールまたは塩化ビニリデン共重合体よりなり、
それらの各々は20℃もしくはそれ以上のガラス転移温
度Tgを有する。これは輸送中の積重ね内での版の引っ
掻き傷および重なっている版の背面に対する過度の付着
による感放射線層の剥離を防止するためである。
の製造用の記録材料はEP−A 528 395にも記載
されている。それは支持体(アルミニウム製)、支持体
の背面上の20℃より低くないガラス転移温度を有する
0.01〜8.0μmの厚さを有する有機重合体物質の
層、および支持体の前面上の感光層を含んでなる。10
0μmより大きくない平均直径および10μmより大き
くない平均高さを有する粒子よりなる不連続的艶消し層
も感光層の上に置かれる。艶消し層の重量は1平方メー
トル当たり5〜200mgである。艶消し層は真空接触
複写フレーム中でマスターおよび感光層の間での空気を
より急速にポンプ除去可能にする。艶消し層は、例え
ば、メタクリル酸メチル−アクリル酸エチル−アクリル
酸三元共重合体の溶液の噴霧により、静電場において毎
分約25,000回転で回転するスプレーベルによりそ
のカルボキシル基の一部は塩形態となる。一般的には、
艶消し層は水または水性アルカリ中に可溶性である。し
かしながら、艶消し層、特に低いガラス転移温度を有す
る材料を含んでなるものは積層内の重なっている版の背
面に付着する傾向がある。これは比較的大面積の感放射
線層を剥離させるかもしれず、記録材料をもはやそれ以
上使用できないことを意味する。
後にアルカリ金属珪酸塩水溶液を用いて現像されるプリ
センシタイズ印刷板に関する。現像剤が版の背面からア
ルミニウムを溶解させることを防止するためには、現像
剤に不溶性である有機重合体コーテイングがこれに付与
される。
ン、ポリプロピレン、ポリブテン、ポリブタジエン、ポ
リアミド、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド、ポ
リシロキサン、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、ポリ
塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデンまたはポリスチレンを
含んでなる。それは熱的にまたは光化学的に硬化する成
分を含んでなっていてもよい。
529は、45℃もしくはそれ以上のガラス転移温度を
有する有機重合体物質を含んでなる層を背面に有する支
持体、および支持体の前面に位置する顔料着色された感
光層を有する記録材料を提供する。低いTgの重合体が
背面コーテイング中で使用される場合には、下にある記
録材料の感放射線層に対する付着が起きるかもしれな
い。
るプラノグラフィー印刷板の製造のための感放射線記録
材料を提供することである。この材料中の感放射線層の
タイプは特別な役割を有してはならない。それはポジ−
またはネガ−作用性であってよい。長期貯蔵後でも、高
温においても、そして長期輸送後にも、損傷なしに版を
積重ねから取り出せなければならない。版の相互付着は
確実に防止されなければならない。アルミニウム支持体
を有する材料の現像時に、水性−アルカリ性現像剤を追
加して水酸化アルミニウムと共に少しだけ充填すべきで
ある。これは強アルカリ性現像剤(pH>12)が使用
される場合には特に重要である。
5℃のTgを有する有機重合体物質を含んでなる顔料着
色された背面コーテイングを有する記録材料により達成
できることが今回見いだされた。
持体の前面に位置する感放射線層、および有機重合体物
質を含んでなり且つ支持体の背面に位置する処理用化学
物質に耐性である層を有するオフセット印刷版の製造の
ための記録材料であって、有機重合体物質のガラス転移
温度が35℃もしくはそれ以上であることおよび背面に
位置する層が顔料着色されていることを特徴とする記録
材料に関する。
連続層を形成する。内部に加えられる顔料粒子は一般的
には0.1〜50.0μm、好ましくは0.5〜30.0μ
mの平均粒子寸法を有する。粒子自体は充分に硬い無機
および/または有機物質よりなる。無機粒子または少な
くとも有機芯よりなる粒子の使用において好ましい顔料
着色剤は0.5〜20μmの平均粒子寸法および50μ
mの排除限界(exclusion limit)を有する珪酸生成物で
ある。特に好ましい態様では、珪酸生成物は界面活性
剤、特にシロキサン単位を含有する界面活性剤と組み合
わされる。各場合とも層の非−揮発性成分の合計重量を
基準として、顔料着色粒子の割合は一般的には0.5〜
50重量%、好ましくは2〜30重量%であるが、界面
活性剤の割合は一般的には0.01〜2.0重量%であ
る。さらに(例えばワックスにより)疎水化されたかま
たは(例えばシランにより)化学的に改質された珪酸生
成物も好ましい。珪酸生成物という用語はここでは合成
珪酸および珪酸塩を意味する(DIN 55 921)。
従って、純粋な珪酸(SiO2)および酸化金属−含有
珪酸類、例えば珪酸アルミニウム類の両者を使用するこ
とができる。
1に従う合成珪酸類および珪酸塩類である。従って、純
粋なSiO2および酸化金属−含有珪酸類の両者が、こ
れらの二種間の細かい区別は可能ではないが、使用され
る。用語「珪酸生成物」は従って慣用語「シリカ」に近
く、それは珪酸類および珪酸塩類を区別していないかま
たは必ずしも常に区別していない。使用できる珪酸生成
物は、例えば、グレース(Grace)からの(R)サイロイド(S
yloid)等級、ランコ(Lanco)からの(R)シルクロン(Silcr
on)、クロスフィールド(Crosfield)からの(R)ガシル(Ga
sil)、デグッサ(Degussa)からのOK/HK等級および
エンゲルハード−ヘミイ(Engelhard-Chemie)からの(R)
サチントン(Satintone)である。
れた重合体、例えば架橋結合されたポリスチレン、PM
MA、ポリブタジエン、ポリエチレンまたはポリプロピ
レンの市販の塗料またはラテックス中のように、例えば
ポリエチレンまたはカルナウバ蝋を含んでなるワックス
分散液の使用が好ましい。芯−殻ラテックスを使用する
ことも同様に可能である。平均粒子寸法は一般的には1
〜15μmの間、好ましくは3〜10μmの間である。
仕様66 141で定義されている通りの累加重量また
は容量分布曲線の50%値を意味する。排除限界は10
0%値を示す。この仕様は粒子寸法分布の表示の基準を
与える。それらは、測定される微細特徴のタイプとは無
関係に、全ての粒状物質に適用される。
伝導度測定および光拡散の如きパラメーターを測定する
ためには種々の方法を利用することができる。
のベック平滑度(Bekk smoothness)値を設定するために
必要な珪酸生成物中の充填剤の量は大きく変動し、そし
て、平均粒子寸法に加えて、層重量および層支持体表面
の粗さにも依存する。
材料の前面を引っ掻くと考えられたため、背面コーテイ
ングは顔料着色されなかった。
自体顔料着色されてもよく、背面コーテイング中と同一
もしくは相異なる物質を含んでなる顔料着色粒子を使用
することができる。このタイプの態様では、前面に位置
する像層中の顔料着色粒子は好ましくは背面コーテイン
グ中のものと同一またはそれより大きい硬度を有する。
には、水および水性−アルカリ性現像剤中に事実上不溶
性であり、物理的に乾燥性でありそして架橋結合しない
有機重合体物質の中に埋められる。特に適する物質はポ
リオレフィン類(例えばポリエチレン、ポリプロピレ
ン、ポリブチレン、ポリブタジエンもしくはポリイソプ
レン)、ポリエステル類、ポリカーボネート類、ポリア
ミド類、ポリシロキサン類、ポリスチレン、アクリル酸
アルキルまたはメタクリル酸アルキルのホモ重合体また
は共重合体(例えばポリメタクリル酸メチル(PMM
A)またはスチレン−メタクリル酸メチル共重合体)、
ポリビニルアセタール、フェノキシ樹脂(例えばビスフ
ェノールAおよびエピクロロヒドリンから製造される樹
脂)、ポリ塩化ビニル(PVC)またはポリ塩化ビニリ
デン(PVDC)である。必要に応じて、層はその他に
添加剤を補助的な量で含んでなっていてもよい。これら
は、例えば、可塑剤、染料、シリコーン化合物または界
面活性剤を包含する。物理的に乾燥性の非−架橋結合性
の背面コーテイングの場合には、有機重合体物質は好ま
しくは50℃もしくはそれ以上のガラス転移温度を有す
る。背面コーテイングは自己−硬化性であってもよい。
この場合には、有機重合体物質に加えて、それは放射
線、熱および/または酸化剤に対する露出時に重合、縮
合または架橋結合しそしてそのようにして層を硬化させ
る単量体またはオリゴマー化合物も含んでなる。付加−
重合可能なアクリル酸エステル類またはメタクリル酸エ
ステル類、例えば(メタ)アクリル酸エチル、(メタ)
アクリル酸プロピル、(メタ)アクリル酸ブチル、(メ
タ)アクリル酸2−ヒドロキシエチル、モノ−、ジ−も
しくはトリ(メタ)アクリル酸トリメチロールプロパン
またはトリ(メタ)アクリル酸ペンタエリトリットがこ
の目的に特に適する。(メタ)アクリルアミド類、例え
ばN−メチル−、N−エチル−、N−プロピル−、N−
ブチル−またはN−イソブチル(メタ)アクリルアミ
ド、並びにアリルエステル類、例えば酢酸アリル、ビニ
ルエーテル類、例えばブチルビニルエーテル、オクチル
ビニルエーテル、デシルビニルエーテル、2−エトキシ
エチルビニルエーテル、ジエチレングリコールビニルエ
ーテルまたはベンジルビニルエーテル、紫外線照射への
露出時に硬化する多官能性アクリル酸ウレタン類、およ
び熱への露出時に硬化するポリウレタン類も適する。一
般的な実施法によると、本願における「(メタ)アクリ
ル酸エステル」は「アクリル酸エステルおよび/または
メタクリル酸エステル」を示す。対応する意味は「(メ
タ)アクリルアミド」およびアクリルまたはメタクリル
酸の他の誘導体に適用される。記載されているように、
背面コーテイングは感光性であってもよい。それからの
区別に関しては、支持体の前面上の過感放射線層はそれ
だけが像通りに露光されそして現像されるため「像層」
と称される。
20g/m2、好ましくは2〜10g/m2である。
業者に既知である。ある種の環境下で有機溶媒中に溶解
または分散された有機重合体を含んでなる液体上への注
ぎとその後の適用された層の乾燥、場合によりその後の
架橋結合による製造が特に有利である。しかしながら、
コーテイング液をナイフコーター、フローコーターまた
は他の装置を用いて同じに良く回転または適用させるこ
とができる。背面コーテイングを最初に製造しそして次
に前面側に像層を製造することが有利であると証明され
た。
ら製造することができる。例えば、プラスチックフィル
ム(特にポリエステルフィルム、特にポリエチレンテレ
フタレートフィルム)から製造される支持体が適する
が、好ましくは金属または金属合金から製造される支持
体が適する。これらの中では、アルミニウムまたはアル
ミニウム合金から製造される支持体が好ましい。アルミ
ニウム支持体の前面は有利には機械的におよび/または
電気化学的に粗面化されおよび/または陽極酸化されそ
して、必要に応じて、さらに(例えばポリビニルホスホ
ン酸を用いる処理により)親水化される。陽極酸化の場
合には、アルミニウム支持体の背面を部分的にまたは完
全に酸化アルミニウム層でコーテイングしてもよい。酸
化アルミニウムの連続層は電気的に非伝導性でありそし
てその結果として局部的な元素の生成を防止する。例え
ば、像層がハロゲン化銀を含有する場合には、これは重
要である。しかしながら、支持体および感放射線層の間
の層、例えば親水化層またはプライミング層も同様に可
能である。支持体にはセラミック物質(追加研磨)の層
が付与されてもよい。支持体の厚さは一般的には0.1
〜1.0mm、好ましくは0.2〜0.6mmである。
び巻き上げることも可能である(「コイル−ツー−コイ
ル」(“coil-to-coil")法)。背面層は特に安定である
ため、それらは工程中に、最大力が作用するロールの内
部でも、事実上損傷を受けない。
外線照射、可視光線および/または赤外線照射または熱
に対して感度があってもよい。
ニウム塩、光重合抑制剤と重合可能な単量体(特に重合
可能なエチレン系不飽和基を含有する単量体)の組み合
わせ、照射時に酸を生成する化合物と光化学的に発生す
る酸により分解されうる化合物の組み合わせであってよ
い。
キノン−2−ジアジド−4−もしくは−5−スルホン酸
と少なくとも1個のフェノール系ヒドロキシル基を含有
する化合物のエステル類が特にしばしば使用される。最
後に挙げられた化合物は好ましくは少なくとも3個のフ
ェノール系ヒドロキシル基を有する。3〜6個のフェノ
ール系ヒドロキシル基を含有する化合物のエステル化が
非常に特に好ましい。それらの例は2,3,4−トリヒド
ロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキシ−
3′−メチル−、−プロピル−もしくは−イソプロピル
ベンゾフェノン、2,3,4,4′−テトラヒドロキシベ
ンゾフェノン、2,3,4,2′,4′−ペンタヒドロキシ
ベンゾフェノン、2,3,4,2′,3′,4′−ヘキサヒ
ドロキシベンゾフェノンおよび5,5′−ジアシル−2,
3,4,2′,3′,4′−ヘキサヒドロキシジフェニル−
メタンである。一般的には、それらの中の必ずしも全て
のフェノール系ヒドロキシル基はエステル化されていな
い。エステル化度は、全てのヒドロキシル基を基準とし
て、典型的には60〜95%である。1,2−ナフトキ
ノン−2−ジアジド−4−または−5−スルホン酸のア
ミド類も同様に適する。使用できるエステル化成分はピ
ロガロールおよびアルデヒドまたはケトンの縮合生成物
並びにアルキル化されたフェノールおよびホルムアルキ
ルの縮合生成物でもある。感放射線化合物の含有量は、
混合物の非−揮発性成分の合計重量を基準として、約1
〜50重量%である。ナフトキノンジアジドスルホン酸
エステル類または−スルホンアミド類を感放射線成分と
して含んでなる像層は紫外線および可視光線に対して特
に感度がある。
が赤外線または熱線により像形成されうるポジ−作用性
像層は同様に既知である(EP−A 900 653)。
層は、過感放射線成分として、紫外線領域で感度がある
分散形態のカーボンブラック粒子または染料を含んでな
る。赤外線、特に赤外レーザー線が層中の像通りの分化
を行って、照射された領域を現像剤により除去可能にす
る。
−O−C結合を含有する化合物と活性線に対する露出時
に強酸を生成する化合物の組み合わせを含んでなる。ポ
ジ−作用性像層を有する記録材料を使用することも可能
である。このタイプの層は当業者に既知でありそして多
数、例えばEP−A717 317に記載されている。
は一般的にはフリーラジカル−重合可能成分(単量体)
および活性線への露出時に単量体の重合を開始させうる
開始剤を含んでなる。開始剤は、例えば、光還元性染料
とメタロセン、特にチタロセンの組み合わせである。単
量体はしばしばフリーラジカル重合可能なアクリル酸ま
たはメタクリル酸エステル基を含有する。そのような層
の感光度を、少なくとも1個の光酸化可能基を含有する
単量体またはさらにオニウム化合物、特にヨードニウム
またはスルホニウム塩を使用することにより、さらに増
加させることができる。光重合可能層は大気酸素により
損傷を受ける。それらは従って、酸素に対しては比較的
不透過性であるが水性現像剤により再び完全に除去でき
る被覆層によりしばしば保護される。
含んでなる。それはハロゲン化銀乳剤層を包含する。銀
錯体拡散転写反転法(DTR法と略される)により作用
する像層が好ましい。EP−A 410 500、423
399または883 027により詳細に記載されてい
るように、それは2つもしくはそれ以上の層よりなる。
最も下の、すなわち支持体に最も近い層は一般的には銀
核を含んでなる受容層である。核は拡散した銀錯体の現
像を開始させて、適当な現像剤がその上で作用する時に
銀像を与える。現像核は好ましくはコロイド状銀、金、
白金、パラジウムまたは他の金属の適用により製造され
る。それらはさらに、重金属硫化物またはセレニド類、
例えばアンチモン、ビスマス、カドミウム、コバルト、
鉛、ニッケル、パラジウム、白金、銀または亜鉛の硫化
物よりなっていてもよい。硫化パラジウムおよびUS−
A4,563,410に記載されている硫化ニッケル/銀
NiS・Ag2Sが特に適する。重金属のポリセレニド
類またはポリ硫化物も適する。さらに、染料または顔料
が抗ハロ剤として、核層の成分としてまたは別個の層中
のいずれかに存在していてもよい。染料または顔料のタ
イプは、ハロゲン化銀乳剤層が感度があるスペクトル領
域に依存する。核層は非常に薄く(一般的には0.5μ
m未満)、それは通常は結合剤を含有しない。上記のよ
うに、核層は絶対に必要ではない。そのような層が存在
する場合には、金属支持体の成分は現像核の役割を演ず
る。最後に、像受容層または核層を別の支持体上に配置
することも可能である。二種の元素よりなるこのタイプ
のDTR材料は原則的に既知である。
び親水性フィルム生成層、例えばポリビニルアルコール
またはプルラン(pullulane)、は受容層の上に置かれ
る。次はハロゲン化銀乳剤層である。ハロゲン化銀は、
例えば、銀クロリド、ブロミド、ブロモヨージド、クロ
ロブロモヨージドまたはそれらの混合物である。ハロゲ
ン化銀は有利には、ハロゲン化銀の合計重量を基準とし
て、90重量%より多い塩化銀を含んでなる。さらに、
少量のクロロヨウ化銀および/または臭化銀もしばしば
存在する。乳剤層中のハロゲン化銀粒子は通常は0.0
5〜1.0μm、好ましくは0.25〜0.45μmの平
均寸法を有する。それらは殻と異なる組成を有する粒子
の芯により製造することもできる。臭化銀はしばしば芯
の中だけに置かれる。この層のために使用される結合剤
は一般的には親水性コロイド、好ましくはゼラチンであ
る。ゼラチンは有利には硬化されない。ゼラチンの代わ
りにまたはそれに加えて、他の重合体、例えばポリビニ
ルアルコール、ポリビニルピロリドン、ポリビニルイミ
ダゾール、ポリ(メタ)アクリルアミド、ポリアクリル
酸、セルロースまたはセルロース誘導体(特にセルロー
スエーテル類、例えばヒドロキシアルキル−もしくはカ
ルボキシメチルセルロース)、澱粉またはアルギネート
類を使用することも可能である。最後に、乳剤層はハロ
ゲン化銀層の分光感度を調節するためにおよび/または
望ましくない光拡散を防止するために染料を含んでなっ
ていてもよい。これらは、例えば、メチン、シアニンま
たはヘミシアニン染料である。最後に、ハロゲン化銀層
は従来の乳剤安定剤、例えばアザインデン類、特にテト
ラ−またはペンタアザインデン類を含んでなっていても
よい。アザインデン類は好ましくはアミノまたはヒドロ
キシル基により置換される。このタイプの置換されたア
ザインデンの例は4−ヒドロキシ−6−メチル−1,3,
3a,7−テトラアザインデンである。他の適する安定
剤は第四級化されたベンゾチアゾール類、ベンゾトリア
ゾール類および複素環式メルカプト化合物、例えばメル
カプト−置換されたテトラアゾール類およびピリミジン
類である。このタイプのテトラアゾールの例は1−[3
−(2−スルホベンゾイルアミノ)フェニル]−5−メル
カプトテトラアゾールである。
乳剤層上に設置してもよい。それは一般的には0.50
〜1.75g/m2、好ましくは0.60〜1.20g/m
2の重量を有しそして有利には未硬化ゼラチンよりなる
(ゼラチンの10重量%濃度水溶液は好ましくは40℃
およびpH6において20mPa・sより低い粘度を有
する)。被覆層は染料および/または着色された顔料お
よび/または艶消し剤を含んでなっていてよい。艶消し
剤はここでは一般的には0.2〜10μm、好ましくは
0.5〜6.0μmの平均直径を有する粒子よりなる。
与されるネガ−作用層は多くの場合ジアゾニウム塩重縮
合生成物を含んでなる。これらは、特に、芳香族ジアゾ
ニウム塩の縮合生成物である。このタイプの縮合生成物
は、とりわけ、DE−A 12 14 086(US−A
3,235,384)から既知である。それらは一般的に
は、強酸性媒体、好ましくは濃燐酸中での多環式芳香族
ジアゾニウム化合物、好ましくは置換されたまたは未置
換のジフェニルアミン−4−ジアゾニウム塩と活性カル
ボニル化合物、好ましくはホルムアルデヒドの縮合によ
り製造される。
い。この場合には、それは一般的には電気伝導性支持体
上に有機光伝導体を含んでなる光伝導層を含んでなる。
重合体状有機結合剤も含んでなる。フェノールホルムア
ルデヒド縮合物が好ましく、ここで用語「フェノール」
はここでは置換されたフェノール類、例えばレソルシノ
ール、クレゾール、キシレノールなどを意味する。ホル
ムアルデヒドに加えてまたはさらに、他のアルデヒド類
またはケトン類を縮合相手として使用することも可能で
ある。ジイソシアナート類とジオール類またはジアミン
類の反応の生成物、特に基を含有するものも適する。ビ
ニル芳香族化合物、N−アリール(メタ)アクリルアミ
ド類または(メタ)アクリル酸アリール類の単位を含有
する重合体を挙げるべきであり、ここでこれらの単位は
各場合とも1個もしくはそれ以上のカルボキシル基、フ
ェノール系ヒドロキシル基、スルファモイルまたはカル
バモイル基も含有する。
よび/または艶消しされる場合には、この側面の表面の
ベック平滑度は一般的には600sより低く、好ましく
は40〜150sである。
りの露光または照射、現像、など)は背面コーテイング
なしの記録材料用と同じ方法で行われる。背面コーテイ
ングは処理用化学物質に対して耐性であるため、それは
支持体上での現像剤による腐食作用も防止する。これは
特にアルミニウム支持体の場合に重要である。これらは
アルカリ性現像剤により、特に強アルカリ性現像剤によ
り腐食され、それは現像剤充填量を増加させそしてその
結果としてその使用寿命を短縮させる。
のである。ここでpbwは重量部を示す。断らない限
り、百分率は重量百分率である。
(DIN4768に従う粗さ値、5.0μm)、硫酸中
で暫定的な酸浸漬を受けそして陽極酸化された(酸化物
重量4.0g/m2)300μmの厚さを有するアルミニ
ウム箔に適用しそしてポリビニルホスホン酸を用いて親
水化した。比較例: 背面コーテイング(R): R1 ブタン−2−オール(=メチルエチルケトン)
100pbwに対して54℃のTgを有するスチレン−
メタクリル酸メチル共重合体10pbw。 R2 ブタン−2−オン100pbwに対して35℃
のTgを有するポリ−メタクリル酸n−プロピル10p
bw。 R3 6官能性アクリル酸ウレタン(サルトマー(Sar
tomer)からのCN−975)90pbw、α−ヒドロキ
シケトン(サルトマーからの(R)エサキュア(Esacure)K
IP100F)5pbw、メチルジエタノールアミン2
pbw、ベンゾフェノン3pbwよりなる紫外線コーテ
イング10pbw。
を用いる254nmの波長における1分間にわたる露光
により硬化させる。 R4 熱的架橋結合性ポリウレタン(バイエル(Baye
r)AGからの(R)デスモサーム(Desmotherm)2170)
10pbw コーテイングを30秒間にわたり230℃のピーク金属
温度で熱的に架橋結合しそしてそれにより硬化させる。実施例: 顔料(P)として、シリカゲル充填剤を背面コ
ーテイングR1〜R4に下記の量で且つ種々の平均粒子
寸法で加えた: R1P=4μmの平均粒子寸法を有するシリカゲル充填
剤0.5pbw、 R2P=3μmの平均粒子寸法を有するシリカゲル充填
剤2.0pbw、 R2Pb=R2P+10μmの平均粒子寸法および15
μmの排除寸法を有するエタノール中40%濃度ポリエ
チレンワックス分散液2.0pbw、 R3P=1μmの平均粒子寸法を有するシリカゲル充填
剤0.5pbw、 R4P=10μmの平均粒子寸法を有するシリカゲル充
填剤5.0pbw、 前面コーテイング(F): (P=ポジ−作用性コーテイング、N=ネガ−作用性、
T=熱的に像形成可能、A=ハロゲン化銀(AgX)含
有およびE=電子写真) P1 テトラヒドロフランおよび1−メトキシプロパ
ン−2−オールの(50:50)混合物100pbwに
対するDIN53783/53240に従う420のヒ
ドロキシル数および6000のGPCによる平均分子量
(ポリスチレン標準)を有するクレゾール−ホルムアル
デヒドノボラック7.8pbw、1.5モルの1,2−ナ
フトキノン−2−ジアジド−5−スルホニルクロリドお
よび1モルの2,3,4−トリヒドロキシベンゾフェノン
のエステル化生成物3.2pbw、1,2−ナフトキノン
−2−ジアジド−5−スルホニルクロリド0.4pb
w、ビクトリア・ピュア・ブルー(Victoria Pure Blue)
(C.I.44045)0.2pbw P2 P1に対応するが、4μmの平均粒子寸法を有
するシリカゲル充填剤0.1pbwが加えられたことが
異なる。 P3 1,2−ジアゾ−ナフトキノン−5−スルホニ
ルクロリドおよびピロガロール−アセトン樹脂のエステ
ル化生成物(US−A3,636,709の実施例1参
照)4.5pbw、クレゾール−ホルムアルデヒドノボ
ラック11pbw、2−(p−メトキシフェニル)−4,
6−ビス(トリクロロメチル)−s−トリアジン0.2p
bw、オイル・ブルー(Oil Blue)#603(オリエント
・ケミカル・インダストリーズ・カンパニー・リミテッ
ド(Orient Chemical Industries Co. Ltd.))0.1pb
w、界面活性剤(大日本インキ化学からの(R)メガファ
ック(Megafac)F−177)0.04pbw、ブタン−2
−オン100pbw、プロピレングリコールモノメチル
エーテル100pbw。
燥した。層重量は各場合とも2.0g/m2であった。
の結果としてナトリウム、カリウムまたはアンモニウム
塩の形態であるMMA−アクリル酸エチル−アクリル酸
共重合体(単量体単位の重量比65:20:15)を水
中に溶解させて12%濃度溶液を与えた。この溶液を静
電噴霧装置(毎分25,000回転の噴霧ヘッド)を用
いて適用した。40ml/分を噴霧した。噴霧ヘッドに
おける静電位は−90kVであり、そして噴霧工程は2
5℃および50%大気湿度で行われた。共重合体溶液の
噴霧から2.5秒間後に、複写層に水蒸気を噴霧しそし
て引き続き熱風(60℃、10%相対湿度)を用いて5
秒間にわたり乾燥した。これが、6μmの平均高さおよ
び30μmの平均直径の隆起を有する艶消し層を与え
た。艶消し層の平均重量は0.15g/m2であった。 P4 最初に、ポジ−作用性の感放射線層を製造し
た。このためには、P1にも適用されたコーテイング溶
液が使用された。乾燥後の層重量は1.9g/m2であっ
た。艶消し層を次にこの層に下記の通りにして適用し
た。
ボラックのエチレングリコールエチルエーテルアセテー
ト(=2−エトキシエタノールアセテート)中35%濃
度溶液を製造した。溶液は1.2×107pSm-1の伝導
度を有していた。溶液を毛管を装備した静電噴霧装置中
に入れた。毛管は−30kVの静電位を有していた。そ
れはコーテイングしようとする表面の30cm上に置か
れた。静電噴霧コーテイングは30℃の温度および0.
70cm3/分の噴霧速度で行われた。この方法で、個
々の粒子が約30〜40μmの直径を有し且つ感放射線
層中を透過しない不連続的艶消し層が得られた。 P5 ブタン−2−オンおよびエチレングリコールモ
ノメチルエーテルの(90:10)混合物100pbw
に対してDIN53783/53240に従う420の
ヒドロキシル数および6000のGPCによる平均分子
量(ポリススチレン標準)を有するクレゾール−ホルム
アルデヒドノボラック4.70pbw、2−エチルブチ
ルアルデヒドおよびトリメチレングリコールから製造さ
れるポリアセタール1.90pbw、2−(4−スチリル
フェニル)−4,6−ビストリクロロメチル−s−トリア
ジン0.23pbw、クリスタル・バイオレット0.02
pbw、4μmの平均粒子寸法を有するシリカゲル充填
剤0.10pbw。
た。 N1 71%のビニルブチラール、2%の酢酸ビニル
および27%のビニルアルコール単位を含有する分子量
Mw=約80,000を有する無水マレイン酸で官能化さ
れたポリビニルブチラール62.00pbw、1モルの
硫酸3−メトキシジフェニルアミン−4−ジアゾニウム
および4,4′−ビスメトキシメチルジフェニルエーテ
ルから85%強度燐酸中で製造され、スルホン酸メシチ
レンとして単離されたジアゾニウム塩重縮合生成物2
1.00pbw、燐酸2.50pbw、ビクトリア・ピュ
ア・ブルー(Victoria Pure Blue)FGA(C.I.Basic
Blue81)3.00pbw、フェニルアゾジフェニルア
ミン0.70pbw、エチレングリコールモノメチルエ
ーテル2570pbwおよびブタン−2−オン780p
bw。 N2 N1の通りであるが、さらに3μmの平均粒子
寸法を有するシリカゲル充填剤0.10pbwを有す
る。 N3 N1の通りであるが、さらに艶消し層が適用さ
れ、ここで艶消し層は層P3に適用されたものに相当し
た。
/m2であった(層N3の場合には、艶消し層の適用
前)。 N4 プロピレングリコールモノメチルエーテル(
(R)ダワノール(Dowanol))およびブタン−2−オンの
(70:30)混合物100.00pbwに対して10
0〜120の酸価および平均分子量Mw=100,000
を有する無水マレイン酸およびメタクリル酸メチルの共
重合体4.50pbw、アクリル酸ウレタン(ローム(Ro
ehm)AGからの(R)プレックス(Plex)6661)2.00
pbw、1モルのヘキサメチレンジアミンと2モルのメ
タクリル酸ヒドロキシエチルの反応の生成物3.00p
bw、フェニルアクリジン0.35pbw、ロイコ・ク
リスタル・バイオレット0.10pbw、クリスタル・
バイオレット0.05pbw。
た。水溶性被覆層をこの感放射線層に適用した。このた
めには、下記のコーテイング溶液を使用した:水10
0.00pbwに対して12%のアセテート基を含有す
るポリビニルアルコール7.00pbw、8個のエチレ
ンオキシド単位を有する脂肪アルコールエトキシレート
0.01pbw。
った。 T1 DIN53783/53240に従う420の
ヒドロキシ数および6000のGPCによる平均分子量
(ポリススチレン標準)を有するクレゾール−ホルムア
ルデヒドノボラック9.70pbw、4000〜600
0のMwおよび2100〜3100のMnを有するポリ
(4−ヒドロキシスチレン)((R)マルカ・リンクル(Maru
ka Lyncur)M、マツルゼン・ペトロケミカル・カンパニ
ー・リミテッド(Matruzen Petrochemical Co., Ltd.)か
らの等級S2)0.80pbw、カーボンブラック分散
液8.00pbw、プロピレングリコールモノメチルエ
ーテル40.00pbw、アセトン31.00pbwおよ
びγ−ブチロラクトン10.50pbw。
ク(デグッサ(Degussa)AGからの特殊ブラック)5.0
0pbw、上記のノボラック(γ−ブチロラクトン中3
0%濃度)66.00pbw、γ−ブチロラクトン28.
99pbwおよびシリコーン発泡防止剤(アグファ−ゲ
ヴェルト(Agfa-Gevaert)AGからのRC31)0.01
pbwを含んでなっていた。 A1 最初に、2.3mgの銀核(コロイド状銀から
製造される)を含んでなる核層を製造した。
((R)レバニル・レッド(Levanyl Red)分散液)を含んで
なる中間層をこの核層に適用した。中間層は0.1g/
m2のプルランおよび0.2g/m2のレバニル・レッド
分散液を含んでなっていた。
ミウムを含まないゼラチン/クロロヨウ化銀乳剤(重量
比99.75:0.25)を次に中間層に適用した。この
層は1モルのAgX当たり1ミリモルの4−ヒドロキシ
−6−メチル−1,3,3a,7−テトラアザインデンお
よび2.2ミリモルの1−[3−(2−スルホベンゾイル
アミノ)フェニル]−5−メルカプトテトラゾールをさら
に含んでなっていた。ハロゲン化銀は2.4g/m2の硝
酸銀に相当する量で適用された。ゼラチンは1.6g/
m2の量で適用された。ゼラチンは二種のタイプを含ん
でなり、これらの一方は21mPa・s(0.7g/
m2)の粘度を有しそして他方は14mPa・s(0.9
g/m2)の粘度を有していた。
・sの間の粘度を有するゼラチン、0.1g/m2のレバ
ニル・レッド分散液および0.12g/m2の7.5μm
の粒子直径を有する艶消し剤を含んでなる被覆層をハロ
ゲン化銀乳剤層に適用した。 E1 アセトン45.00pbwおよびγ−ブチロラ
クトン45.00pbw中の100,000の平均分子量
Mwを有するスチレン/MA共重合体(スチレン/MA
=1.4)6.50pbw、2,5−ビス(4−ジエチルア
ミノフェニル)−1,3,4−オキサジアゾール4.00p
bw、ローダミン(Rhodamine)FB(C.I.4517
0)0.02pbwおよびアクリフラビン(acriflavin)
0.02pbw。
グなしの対応する版のものより悪い版の複写性質はなか
った。 試験1:背面コーテイングが20〜800s、好ましく
は20〜80sのべック平滑度を有するように顔料着色
剤の割合を選択した。ベック平滑度はDIN5310
7、方法Aに従い測定され、そこでは真空容器中の圧力
が吸引された空気の量の結果として測定サンプルに関し
て−507ミリバールから−489ミリバールへ増加し
た時間が測定された。 n.a.=適用不能である(過度の層剥離のために非真空
または測定不能) −=>30%の貯蔵による変化 0=20−30%の貯蔵による変化 +=10−20%の貯蔵による変化 ++=0−10%の貯蔵による変化 試験2:比較的大きい重量の影響下での貯蔵後の外観
(条件:50℃および50%相対大気湿度における2週
間にわたる50kgの追加重量を有する100個の60
0×800mm版を有する積層) −−=付着による大面積の層剥離 −=部分的な層剥離 0=>10%における拡散工程による視覚的外観におけ
る開始する付着または変化によるピンホール +=実質的な層保有 ++=層剥離が事実上ない−傷割合<3%。 試験3:貯蔵後の市販の自動処理プラントのグリッパー
を用いる積層の持ち上げ。500個の積層の持ち上げ時
の傷の百分率による評価 −−=>10% −=10%まで 0=5%まで +=2%まで ++=傷なし 種々の前面および背面コーテイングに関する試験結果を
以下の表に示す。比較目的のために、顔料着色されてい
ない背面を有する記録材料の試験結果もその中に含まれ
ている。
Claims (16)
- 【請求項1】 寸法安定性支持体、支持体の前面に位置
する感放射線層、および有機重合体物質を含んでなり且
つ支持体の背面に位置する処理用化学物質に耐性である
層を有するオフセット印刷版の製造のための記録材料で
あって、有機重合体物質のガラス転移温度が35℃もし
くはそれ以上であることおよび背面に位置する層が顔料
着色されていることを特徴とする記録材料。 - 【請求項2】 支持体の背面に位置する層が連続層であ
ることを特徴とする請求項1に記載の記録材料。 - 【請求項3】 有機重合体物質が物理的に乾燥するが同
時に架橋結合しない物質であることを特徴とする請求項
1または2に記載の記録材料。 - 【請求項4】 有機重合体物質が少なくとも50℃のガ
ラス転移温度を有することを特徴とする請求項3に記載
の記録材料。 - 【請求項5】 有機重合体物質が熱または光化学誘導で
架橋結合することを特徴とする請求項1または2に記載
の記録材料。 - 【請求項6】 顔料着色を行う粒子が0.1〜50.0μ
m、好ましくは0.5〜20.0μmの平均粒子寸法を有
することを特徴とする請求項1または2に記載の記録材
料。 - 【請求項7】 粒子が無機物質よりなるかまたは無機物
質の芯を少なくとも有することを特徴とする請求項1〜
6の1項もしくはそれ以上に記載の記録材料。 - 【請求項8】 粒子が、好ましくは界面活性剤と組み合
わされている、珪酸生成物よりなることを特徴とする請
求項7に記載の記録材料。 - 【請求項9】 粒子が有機物質よりなることを特徴とす
る請求項1〜6の1項もしくはそれ以上に記載の記録材
料。 - 【請求項10】 粒子がワックスよりなることを特徴と
する請求項9に記載の記録材料。 - 【請求項11】 粒子が架橋結合された重合体ラテック
スよりなることを特徴とする請求項9に記載の記録材
料。 - 【請求項12】 支持体の背面に位置する層が別の添加
剤、好ましくは可塑剤および/または染料を含んでなる
ことを特徴とする請求項1〜11の1項もしくはそれ以
上に記載の記録材料。 - 【請求項13】 背面コーテイングが20〜800s、
好ましくは20〜80sのベック平滑度(Bekk smoothne
ss)を有することを特徴とする請求項1〜12の1項も
しくはそれ以上に記載の記録材料。 - 【請求項14】 背面に位置する層が1〜20g/
m2、好ましくは2〜10g/m2の重量を有することを
特徴とする請求項1〜13の1項もしくはそれ以上に記
載の記録材料。 - 【請求項15】 支持体の前面に位置する感放射線層が
顔料着色されるかまたは艶消しにされることを特徴とす
る請求項1〜14の1項もしくはそれ以上に記載の記録
材料。 - 【請求項16】 前面上の表面が600sより低い、好
ましくは40〜150sのベック平滑度を有することを
特徴とする請求項15に記載の記録材料。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE10029157A DE10029157A1 (de) | 2000-06-19 | 2000-06-19 | Vorsensibilisierte Druckplatte mit Rückseitenbeschichtung |
DE10029157.0 | 2000-06-19 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2002046363A true JP2002046363A (ja) | 2002-02-12 |
JP2002046363A5 JP2002046363A5 (ja) | 2008-08-14 |
Family
ID=7645607
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001184877A Pending JP2002046363A (ja) | 2000-06-19 | 2001-06-19 | 顔料着色された背面コーテイングを有するプリセンシタイズ印刷版 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6670097B2 (ja) |
EP (1) | EP1167063B1 (ja) |
JP (1) | JP2002046363A (ja) |
DE (2) | DE10029157A1 (ja) |
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- 2001-05-28 DE DE60128862T patent/DE60128862T2/de not_active Expired - Lifetime
- 2001-06-19 US US09/884,708 patent/US6670097B2/en not_active Expired - Lifetime
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EP1167063A2 (en) | 2002-01-02 |
US6670097B2 (en) | 2003-12-30 |
DE60128862T2 (de) | 2008-02-14 |
DE60128862D1 (de) | 2007-07-26 |
EP1167063B1 (en) | 2007-06-13 |
US20020012877A1 (en) | 2002-01-31 |
EP1167063A3 (en) | 2004-04-07 |
DE10029157A1 (de) | 2001-12-20 |
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