JP2007245478A - 赤外線感光性平版印刷版 - Google Patents
赤外線感光性平版印刷版 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2007245478A JP2007245478A JP2006070931A JP2006070931A JP2007245478A JP 2007245478 A JP2007245478 A JP 2007245478A JP 2006070931 A JP2006070931 A JP 2006070931A JP 2006070931 A JP2006070931 A JP 2006070931A JP 2007245478 A JP2007245478 A JP 2007245478A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- acid
- weight
- layer
- infrared
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Abandoned
Links
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/04—Printing plates or foils; Materials therefor metallic
- B41N1/08—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/04—Printing plates or foils; Materials therefor metallic
- B41N1/08—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing
- B41N1/083—Printing plates or foils; Materials therefor metallic for lithographic printing made of aluminium or aluminium alloys or having such surface layers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
- B41N1/00—Printing plates or foils; Materials therefor
- B41N1/12—Printing plates or foils; Materials therefor non-metallic other than stone, e.g. printing plates or foils comprising inorganic materials in an organic matrix
- B41N1/14—Lithographic printing foils
Landscapes
- Materials For Photolithography (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
Abstract
【解決手段】支持体の片面に、赤外線の照射により画像を形成し得る記録層を有し、該支持体の記録層を有する面とは反対側の面に、ビッカーズ硬度0.2以下のバックコート層を有することを特徴とする赤外線感光性平版印刷版である。また、前記記録層が赤外線吸収剤を含有する前記赤外線感光性平版印刷版であることが好ましい。
Description
そのような赤外線レーザを用いたダイレクト製版用のポジ型平版印刷版は、アルカリ可溶性樹脂と、光を吸収し熱を発生する赤外線吸収剤を必須成分とし、この赤外線吸収剤が、未露光部(画像部)ではアルカリ可溶性樹脂との相互作用により、アルカリ可溶性樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働き、露光部(非画像部)では、発生した熱により該赤外線吸収とアルカリ可溶性樹脂との相互作用が弱まりアルカリ現像液に溶解して画像を形成する。しかしながら、このポジ型平版印刷版は、記録層の機械的強度が十分でなく、製造加工、輸送及び刷版取り扱い時に版面と種々部材が強く接触すると、版面に欠陥が生じ、現像後の画像部に抜けが起こってしまう問題があった。
例えば、感放射線層と有機ポリマー含有バックコート層を有するオフセット印刷用記録材料であって、少なくとも35℃のガラス転移温度を有する有機ポリマーにシリカゲルなどの顔料を含有させたバックコートを設けることによって、合紙なしに積み重ねることが可能になることが記載されている(例えば、特許文献1参照)。しかしながら、シリカゲルなどの無機顔料をバックコート層に含有させた場合には、合紙を用いないで積み重ね包装した製品を輸送した際に、無機顔料の硬度が高いため、感光層に擦れによる傷がつき易いという問題がある。
また、本発明の平版印刷版の一実施態様は、前記記録層が赤外線吸収剤を含有する前記赤外線感光性平版印刷版である。
以下、本発明について詳述する。
本発明の赤外線感光性平版印刷版は、後述する記録層を設ける面とは反対の面に、ビッカーズ硬度が0.2以下のバックコート層を有することが必須である。
本発明の赤外線感光性平版印刷版におけるバックコート層のビッカーズ硬度(Hv)は、0.2以下であり、0.15以下であることが好ましく、0.1以下であることがより好ましく、0〜0.03であることが特に好ましい。上記範囲であると、十分な耐傷性を備えた赤外線感光性平版印刷版を得ることができるため好ましい。
本発明によれば、合紙を用いずに積層した場合であっても、輸送時における記録層の擦り傷が効果的に抑制され、且つ、自動給版装置(オートローダー)を備えた露光装置にも好適に用いられる赤外線感光性平版印刷版を提供することができる。
<トライボスコープ測定条件>
測定装置:MultimodeAFM(ビーコ社製)+Triboscope(Hysitron社製)
圧子 :Berkovich型(S/N:TI-064)
設定荷重:100μN
印加速度:20μN/s
最大荷重保持時間:2s
<AMF測定条件>
測定装置:AFM(ビーコ社製 D3100/NanoscopeIIIa型)
カンチレバー:オリンパス社製 AC160TS
この中で、感光性組成物溶液を塗布して形成する方法が薄層を効率よく設ける上で好ましい。
また、本発明におけるビッカーズ硬度が0.2以下のバックコート層の材料としては、ウレタンオリゴマー及び(又は)アクリルオリゴマー又はエチレン・プロピレンゴムを用いることが好ましく、ウレタンオリゴマー及び(又は)アクリルオリゴマーを用いることがより好ましい。
疎水性高分子化合物としては、例えば、ポリブテン、ポリブタジエン、ポリアミド、不飽和共重合ポリエステル樹脂、ポリウレタン、ポリウレア、ポリイミド、ポリシロキサン、ポリカーボネート、エポキシ樹脂、塩素化ポリエチレン、アルキルフェノールのアルデヒド縮合樹脂、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、アクリル系樹脂およびこれらの共重合樹脂、ヒドロキシセルロース、ポリビニルアルコール、セルロースアセテート、カルボキシメチルセルロース等が適している。
(2)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類およびメタクリル酸エステル類、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレートまたは2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
(3)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸シクロヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸フェニル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、アクリル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジルアクリレート、N−ジメチルアミノエチルアクリレートなどの(置換)アクリル酸エステル、
(4)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸オクチル、メタクリル酸フェニル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、メタクリル酸4−ヒドロキシブチル、グリシジルメタクリレート、N−ジメチルアミノエチルメタクリレートなどの(置換)メタクリル酸エステル、
(5)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−メチロールメタクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−エチルメタクリルアミド、N−ヘキシルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−シクロヘキシルメタクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−フェニルメタクリルアミド、N−ベンジルアクリルアミド、N−ベンジルメタクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルメタクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミドおよびN−エチル−N−フェニルメタクリルアミドなどのアクリルアミドもしくはメタクリルアミド、
(6)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテルなどのビニルエーテル類、
(7)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニルなどのビニルエステル類、
(8)スチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類、
(9)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン類、
(10)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレンなどのオレフィン類、
(11)N−ビニルピロリドン、N−ビニルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリルなど、
(12)N−(o−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホニル)ナフチル〕アクリルアミド、N−(2−アミノスルホニルエチル)アクリルアミドなどのアクリルアミド類、N−(o−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(m−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−〔1−(3−アミノスルホニル)ナフチル〕メタクリルアミド、N−(2−アミノスルホニルエチル)メタクリルアミドなどのメタクリルアミド類、また、o−アミノスルホニルフェニルアクリレート、m−アミノスルホニルフェニルアクリレート、p−アミノスルホニルフェニルアクリレート、1−(3−アミノスルホニルフェニルナフチル)アクリレートなどのアクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド、o−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、p−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、1−(3−アミノスルホニルフェニルナフチル)メタクリレートなどのメタクリル酸エステル類などの不飽和スルホンアミド。
ポリオキシエチレンアルキルスルホフェニルエーテル塩類、N−メチル−N−オレイルタウリンナトリウム塩、N−アルキルスルホ琥珀酸モノアミド二ナトリウム塩、石油スルホン酸塩類、硫酸化牛脂油、脂肪酸アルキルエステルの硫酸エステル塩類、アルキル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテル硫酸エステル塩類、脂肪酸モノグリセリド硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、ポリオキシエチレンスチリルフェニルエーテル硫酸エステル塩類、アルキルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルエーテルリン酸エステル塩類、ポリオキシエチレンアルキルフェニルエーテルリン酸エステル塩類、スチレン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、オレフィン/無水マレイン酸共重合物の部分鹸化物類、ナフタレンスルホン酸塩ホルマリン縮合物類などのアニオン界面活性剤、アルキルアミン塩類、第四級アンモニウム塩類、ポリオキシエチレンアルキルアミン塩類、ポリエチレンポリアミン誘導体などのカチオン性界面活性剤、カルボキシベタイン類、アミノカルボン酸類、スルホベタイン類、アミノ硫酸エステル類、イミタゾリン類などの両性界面活性剤が挙げられる。以上挙げた界面活性剤の中でポリオキシエチレンとあるものは、ポリオキシメチレン、ポリオキシプロピレン、ポリオキシブチレンなどのポリオキシアルキレンに読み替えることもでき、それらの界面活性剤もまた包含される。
本発明の赤外線感光性平版印刷版は、バックコート層形成面とは反対の面に、赤外線の照射により、画像を形成し得る記録層(以下、単に「記録層」又は「感光層」ともいう。)を有する。
本発明の赤外線感光性平版印刷版における記録層は、2層以上の多層構成であり、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂を含有する記録層下層(以下、単に下層と称する場合がある)と、水不溶性且つアルカリ可溶性のアルカリ可溶性樹脂を含有する記録層最上層(以下、単に最上層と称する場合がある)とをこの順に有し、該記録層下層及び最上層の少なくとも一方に光熱変換剤を含有することが好ましい。
本発明の赤外線感光性平版印刷版における記録層に用いることができる水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂(以下、適宜、「アルカリ可溶性樹脂」ともいう。)とは、高分子中の主鎖および/または側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体またはこれらの混合物を包含する。従って、本発明の平版印刷版における記録層は、アルカリ性現像液に接触すると溶解する特性を有するものである。本発明に使用されるアルカリ可溶性樹脂は、従来公知のものであれば特に制限はないが、(1)フェノール性水酸基、(2)スルホンアミド基、(3)活性イミド基、および(4)カルボン酸基から選ばれる少なくとも一つの酸性基を分子内に有する高分子化合物であることが好ましい。例えば以下のものが例示されるが、これらに限定されるものではない。
(m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
(m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレート、等のアルキルアクリレート。
(m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキルメタクリレート。
(m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。
(m5)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
(m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
(m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
(m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
(m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
(m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
(m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニルメタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタクリルアミド等の不飽和イミド。
2,4−トリレンジイソシアネート、2,4−トリレンジイソシアネートの二量体、2,6−トリレンジイソシアネート、p−キシリレンジイソシアネート、メタキシリレンジイソシアネート、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、1,5−ナフチレンジイソシアネート、3,3’−ジメチルビフェニル−4,4’−ジイソシアネート等の如き芳香族ジイソシアネート化合物;ヘキサメチレンジイソシアネート、トリメチルヘキサメチレンジイソシアネート、リジンジイソシアネート、ダイマー酸ジイソシアネート等の如き脂肪族ジイソシアネート化合物;イソホロンジイソシアネート、4,4’−メチレンビス(シクロヘキシルイソシアネート)、メチルシクロヘキサン−2,4(又は2,6)ジイソシアネート、1,3−(イソシアネートメチル)シクロヘキサン等の如き脂環族ジイソシアネート化合物;1,3−ブチレングリコール1モルとトリレンジイソシアネート2モルとの付加体等の如きジオールとジイソシアネートとの反応物であるジイソシアネート化合物等が挙げられる。
中でも、4,4’−ジフェニルメタンジイソシアネート、キシリレンジイソシアネート、トリレンジイソシアネートのような芳香族環を有するものが耐傷性の観点より好ましい。
本発明の平版印刷版における感光層には、そのインヒビション(溶解抑制能)を高める目的で、現像抑制剤を含有させることができる。特に感光層最上層に現像抑制剤を含有させることが好ましい。
上記式(VI)中、R61は多価アルコール残基又は多価フェノール残基を表し、R62は水素原子、置換基を有していても良い炭素原子数1〜25のアルキル基、アルケニル基、アルキニル基、アルキロイル基、アリール基又はアリーロイル基を表す。R63は置換基を有しても良いアルキレン残基を表し、mは平均で10以上、nは1以上4以下の整数を表す。
J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、Chem.&Eng.News,Nov.28,p31(1988)、欧州特許第104,143号、米国特許第5,041,358号、同第4,491,628号各明細書、特開平2−150848号、特開平2−296514号各公報に記載のヨードニウム塩、J.V.Crivello et al,Polymer J.17,73(1985)、J.V.Crivelloet al.J.Org.Chem.,43,3055(1978)、W.R.Watt et al,J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed.,22,1789(1984)、J.V.Crivello et al,Polymer Bull.,14,279(1985)、
J.V.Crivello et al,Macromorecules,14(5),1141(1981)、J.V.Crivello et al,J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed.,17,2877(1979)、欧州特許第370,693号、同233,567号、同297,443号、同297,442号、米国特許第4,933,377号、同3,902,114号、同4,491,628号、同4,760,013号、同4,734,444号、同2,833,827号、独国特許第2,904,626号、同3,604,580号、同3,604,581号の各明細書に記載のスルホニウム塩、
J.V.Crivello et al,Macromorecules,10(6),1307(1977)、J.V.Crivello et al,J.PolymerSci.,Polymer Chem.Ed.,17,1047(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen et al,Teh,Proc.Conf.Rad.Curing ASIA,p478 Tokyo,Oct(1988)に記載のアルソニウム塩等が挙げられる。
その他の有用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許に報告され知られている。例えば特開昭47−5303号、特開昭48−63802号、特開昭48−63803号、特開昭48−96575号、特開昭49−38701号、特開昭48−13354号、特公昭41−11222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17481号などの各公報、および米国特許第2,797,213号、同第3,454,400号、同第3,544,323号、同第3,573,917号、同第3,674,495号、同第3,785,825号、英国特許第1,227,602号、同第1,251,345号、同第1,267,005号、同第1,329,888号、同第1,330,932号、ドイツ特許第854,890号などの各明細書中に記載されているものを挙げることができる。
前記重合体の添加量としては、最上層全固形分に対し、0.1〜10重量%が好ましく、より好ましくは0.5〜5重量%である。
本発明の赤外線感光性平版印刷版は、記録層に光熱変換剤を含有することが好ましく、記録層下層および最上層の少なくとも一方に光熱変換剤を含有することがより好ましく、下層および最上層の両層に添加するのがさらに好ましい。
本発明の赤外線感光性平版印刷版における記録層は、長鎖アルキル基含有ポリマーを含むことが好ましい。
本発明に用いることができる長鎖アルキル基含有ポリマーは、カルボキシ基を有するビニルモノマーを45〜99モル%の組成比範囲で含んでなることが好ましい。また、長鎖アルキル基含有ポリマーにおける長鎖アルキル基とは、炭素数6以上であり、好ましくは炭素数12以上のものを指す。より具体的には、長鎖アルキル基含有ポリマーは、長鎖アルキル基を有するモノマーと、カルボキシ基を有するビニルモノマーとの共重合体であることが好ましく、該カルボキシ基を有するビニルモノマーを45〜99モル%の組成比範囲で含んでなるポリマーである。
上記の連結基は、ここで挙げた連結基を2種類以上組み合わせて連結基を形成していてもよい。
更に、本発明に用いることができる長鎖アルキル基含有ポリマーは、耐傷性及びアルカリ可溶性のバランスから、式(XI)で表されるアクリル系の共重合体であることが最も好ましい。
前記記録層を形成するにあたっては、上記成分の他、本発明の効果を損なわない限りにおいて、更に必要に応じて、種々の添加剤を添加することができる。なお、以下に挙げる添加剤は記録層下層のみに添加してもよいし、最上層のみに添加してもよいし、両方の層に添加してもよい。
本発明における記録層には、感度を向上させる目的で、酸無水物類、フェノール類、有機酸類を添加してもよい。
本発明における記録層には、塗布性を良化するため、また、現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭62−251740号公報や特開平3−208514号公報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭59−121044号公報、特開平4−13149号公報に記載されているような両性界面活性剤、欧州特許第950517号明細書に記載されているようなシロキサン系化合物、特開昭62−170950号公報、特開平11−288093号公報、特開2003−057820号公報に記載されているようなフッ素含有モノマーの共重合体を添加することができる。
本発明における記録層には、露光による加熱後直ちに可視像を得るための焼出し剤や、画像着色剤としての染料や顔料を加えることができる。
本発明における記録層には、塗膜の柔軟性等を付与するために可塑剤を添加しても良い。例えば、ブチルフタリル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキシル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリゴマー及びポリマー等が用いられる。
本発明における単層記録層又は重層の最上層には、キズに対する抵抗性を付与する目的で、表面の静摩擦係数を低下させる化合物を添加することもできる。具体的には、米国特許第6,117,913号明細書、或いは本願出願人が先に提案した特願2001−261627、特願2002−032904、特願2002−165584の各明細書に記載されているような、長鎖アルキルカルボン酸のエステルを有する化合物などを挙げることが出来る。添加量としては、感光層最上層中に占める割合が0.1〜10重量%であることが好ましく、より好ましくは0.5〜5重量%である。
本発明の赤外線感光性平版印刷版における記録層は、通常上記各成分を溶剤に溶かして、塗布することにより形成することができる。
本発明の赤外線感光性平版印刷版に使用される支持体としては、必要な強度と耐久性を備えた寸度的に安定な板状物であれば特に制限はなく、例えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラスチックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール等)、上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着された紙、もしくはプラスチックフィルム等が挙げられる。
本発明の赤外線感光性平版印刷版は、必要に応じて支持体と記録層との間に下塗層(以下、「有機下塗層」ともいう。)を設けることができる。
R1で表される炭化水素基としては、炭素原子数が1から30までの炭化水素基が好ましい。これらの炭化水素基の中でも、アルキル基又はアリール基であることがより好ましい。
R1で表される炭化水素基は、後述する置換基をさらに有していてもよく、該置換基としては、カルボキシル基及びその塩からなる基であることが特に好ましい。
R1で表される炭化水素基として、最も好ましい態様は、カルボキシル基又はその塩からなる基を有する、アルキル基及びアリール基である。
R1で表されるアルキル基の具体例としては、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、ヘプチル基、オクチル基、ノニル基、デシル基、ウンデシル基、ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシル基、エイコシル基、イソプロピル基、イソブチル基、sec−ブチル基、tert−ブチル基、イソペンチル基、ネオペンチル基、1−メチルブチル基、イソヘキシル基、2−エチルヘキシル基、2−メチルヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘキシル基、1−アダマンチル基、2−ノルボルニル基、等の炭素原子数が1から30であり、直鎖状、分枝状又は環状のアルキル基が挙げられる。
R1で表されるアリール基の具体例としては、フェニル基、ナフチル基、アントリル基、フェナントリル基、インデニル基、アセナブテニル基、フルオレニル基、ピレニル基等の、炭素原子数が6から30までのアリール基が挙げられる。
特定ポリマーの合成は、例えば、ジ−t−ブチルパーオキシド、ベンゾイルパーオキシドなどのパーオキシド類、過硫酸アンモニウムなどの過硫酸塩類、アゾビスイソブチロニトリルなどのアゾ化合物などの重合開始剤を用いたラジカル重合により行うことができる。重合開始剤は、適用される重合方式によって適宜選択される。重合方式としては、溶液重合、乳化重合、又は、懸濁重合などが適用される。
Jが−COO−又は−CONH−を表し、Kがフェニレン基又は置換フェニレン基を表す。Kが置換フェニレン基である場合に導入される置換基としては、水酸基、ハロゲン原子、又はアルキル基が好ましい。
Mは、アルキレン基、分子式がCnH2nO、CnH2nS、又はCnH2n+1Nで表される2価の連結基である。但し、ここで、nは1〜12の整数を表す。
Y1は、窒素原子又はリン原子を表し、Y2は、イオウ原子を表す。
Z-は、ハロゲンイオン、PF6 -、BF4 -、又はR8SO3 -を表す。
R2は、水素原子又はアルキル基を表す。
R3、R4、R5、及びR7は、それぞれ独立して、水素原子、或いは、置換基が結合してもよい、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10の芳香族基、又は炭素数7〜10アラルキル基を表す。
R6は、炭素数1〜10のアルキリジン基又は置換アルキリジンであることが好ましい。R3とR4、R6とR7は、それぞれ結合して環を形成してもよい。
j、k、及びmは、それぞれ独立して、0又は1を表すが、jとkは同時に0ではないことが好ましい。
R8は、置換基が結合してもよい、炭素数1〜10のアルキル基、炭素数6〜10の芳香族基、炭素数7〜10のアラルキル基を表す。
Kは、フェニレン基又は置換フェニレン基を表し、置換フェニレン基である場合その置換基は水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を表す。
Mは、炭素数1〜2のアルキレン基、又は酸素原子で連結した炭素数1〜2のアルキレン基を表す。
Z-は、塩素イオン又はR8SO3 -を表す。R2は、水素原子又はメチル基を表す。jは0であり、kは1である。R8は炭素数1〜3のアルキル基を表す。
酸基を有するモノマーに含まれる酸基としては、カルボン酸基、スルホン酸基、又はホスホン酸基が特に好ましいが、これらに限定されるものではない。
カルボン酸基を有するモノマーとしては、カルボン酸基及び重合性二重結合をその構造中に有する重合性化合物であれば特に限定されるものではない。
上記カルボン酸基を有するモノマーの好ましい例としては、下記式(2)で表される化合物を挙げることができる。
ここで、特定ポリマーを製造する際の共重合性や原料入手性の観点からは、R1〜R4中に、下記式(3)で表される有機基を1〜2個有することが好ましく、1個有することが特に好ましい。重合の結果として得られる特定ポリマーの柔軟性の観点からは、R1〜R4のうち、下記式(3)で表される有機基の他は、アルキル基又は水素原子であることが好ましく、水素原子であることが特に好ましい。
また、同様の理由から、R1〜R4がアルキル基である場合は、炭素数1〜4のアルキル基であることが好ましく、メチル基であることが特に好ましい。
このような2価の連結基のうち、特に好ましい具体例を以下に挙げる。
スルホン酸基を有するモノマーとしては、スルホン酸基及び重合性二重結合をその構造中に有する重合性化合物であれば特に限定されるものではない。
上記スルホン酸基を有するモノマーの好ましい具体例としては、3−スルホプロピルアクリレート、3−スルホプロピルメタクリレート、及び4−スチレンスルホン酸、等が挙げられる。
ホスホン酸基を有するモノマーとしては、ホスホン酸基及び重合性二重結合をその構造中に有する重合性化合物であれば特に限定されるものではない。
ホスホン酸基を有するモノマーの好ましい具体例としては、アシッドホスホキシエチルメタクリレート、3−クロロ−2−アシッドホスホキシプロピルメタクリレート、アシッドホスホキシポリオキシエチレングリコールモノメタクリレート、等が挙げられる。
(4) 脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類、例えば、2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート;
(10) スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレンなどのスチレン類;
(11) メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトンなどのビニルケトン類;
(12) エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレンなどのオレフィン類;
(14) パントイルラクトン(メタ)アクリレート、α−(メタ)アクリロイル−γ−ブチロラトン、β−(メタ)アクリロイル−γ−ブチロラクトンなどのラクトン基含有モノマー;
(15) ポリエチレングリコールモノ(メタ)アタリレート、ポリプロピレングリコールモノ(メタ)アクリレート、メトキシポリエチレングリコールモノ(メタ)アクリレートなどのエチレンオキシド基含有モノマーなど。
上記その他のモノマーの中でも、(4)脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類及びメタクリル酸エステル類、(5)アクリル酸エステル類、(6)メタクリル酸エステル類、を共重合させることがより好ましい。
本発明における下塗層は、上述した下塗層の各成分を溶解した塗布液(下塗層形成用塗布液)を、後述する支持体上に種々の方法により塗布することにより設けることができる。下塗層を塗布する方法には、特に制限はないが、代表的なものとしては次の方法が挙げられる。
即ち、(1)メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはこれらの混合溶剤、又は、これらの有機溶剤と水との混合溶剤に、前記特定ポリマーを溶解させた溶液を、支持体上に塗布、乾燥して設ける塗布方法。或いは、(2)メタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤若しくはそれらの混合溶剤、又はこれらの有機溶剤と水との混合溶剤に、前記特定ポリマーを溶解させた溶液に、支持体を浸漬し、しかる後、水洗又は空気などによって洗浄、乾燥して下塗層を設ける塗布方法を挙げることができる。
また、下塗層形成用塗布液には、平版印刷版の調子再現性改良のために、紫外光や可視光、赤外光などを吸収する物質を添加することもできる。
本発明の赤外線感光性平版印刷版は、赤外線の照射により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが用いられるが、波長700〜1,200nmの赤外線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。
<アルミニウム板>
Si:0.06重量%、Fe:0.30重量%、Cu:0.026重量%、Mn:0.001重量%、Mg:0.001重量%、Zn:0.001重量%、Ti:0.02重量%を含有し、残部はAlと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理およびろ過を行った上で、厚さ500mm、幅1,200mmの鋳塊をDC鋳造法で作製した。表面を平均10mmの厚さで面削機により削り取った後、550℃で、約5時間均熱保持し、温度400℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ2.7mmの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を500℃で行った後、冷間圧延で、厚さ0.24mmに仕上げ、JIS 1050材のアルミニウム板を得た。このアルミニウム板を幅1,030mmにした後、以下に示す表面処理に供した。
上記で得られたアルミニウム板に温度70℃のNaOH水溶液(濃度26重量%、アルミニウムイオン濃度6.5重量%)をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板をg/m2溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
温度30℃の硝酸濃度1重量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5重量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル、アンモニウムイオンを0.007重量%含む)、温度50℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、DUTY比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26重量%、アルミニウムイオン濃度6.5重量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.50g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
温度30℃の硝酸濃度15重量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5重量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩酸5.0g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル含む。)、温度35℃であった。電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、DUTY比1:1、交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で50C/dm2であった。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26重量%、アルミニウムイオン濃度6.5重量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
温度60℃の硫酸濃度25重量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5重量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5重量%含む。)、温度は38℃であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
電流密度はともに約30A/dm2であった。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度30℃の3号ケイ酸ソーダの1重量%水溶液の処理層中へ、10秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行った。その際のシリケート付着量は3.5mg/m2であった。
上記(a)〜(j)の各工程を順に行い支持体Aを作製した。
上記支持体Aの作製工程のうち(c)、(d)及び(e)の工程を省略した以外は各工程を順に行い、(f)工程における電気量の総和が450C/dm2となるようにして支持体Bを作製した。
上記によって得られた支持体Aの表面処理した裏面に、下記の<バックコート層1:実施例1>〜<バックコート層3:実施例3>、<バックコート層4:比較例1>及び<バックコート層5:比較例2>のバックコート層を設けた。また、バックコートを設けないものを比較例3とした。
下記のバックコート液をバーコーターで塗布し、100℃4分間乾燥し、乾燥後の塗布量が3g/m2のバックコートを設けた。その後、ウシオユーテック(株)製焼付け用光源装置 ユニレックURM−600Rを用い光源からの距離を1mに調整し、800カウント露光した。
・UV−2010B(日本合成化学社製 紫光シリーズのウレタンオリゴマー)
2.25重量部
・イルガキュア184(CIBA GEIGY社製) 0.15重量部
・A−TMMT(新中村化学工業(株)製 ペンタエリスリトールテトラアクリレート) 1.65重量部
・メチルエチルケトン(MEK) 10.0重量部
下記のバックコート液をバーコーターで塗布し、100℃4分間乾燥し、乾燥後の塗布量が3g/m2のバックコートを設けた。その後、ウシオユーテック(株)製焼付け用光源装置 ユニレックURM−600Rを用い光源からの距離を1mに調整し、800カウント露光した。
・UV−3000B(日本合成化学社製 紫光シリーズのウレタンオリゴマー)
2.25重量部
・イルガキュア184(CIBA GEIGY社製) 0.15重量部
・A−TMMT(新中村化学工業(株)製 ペンタエリスリトールテトラアクリレート) 1.65重量部
・MEK 10.0重量部
厚さ20μmのエチレン・プロピレンゴム(EPDM)シートを接着剤で接着し、バックコートを設けた。
下記のゾル−ゲル液をバーコーターで塗布し、100℃30秒間乾燥し、乾燥後の塗布量が120mg/m2のバックコート層を設けた。
[ゾル−ゲル反応液]
・テトラエチルシリケート 50重量部
・水 90重量部
・メタノール 10重量部
・リン酸 0.1重量部
上記成分を混合、撹拌すると約30分で発熱した。60分撹拌して反応させた後、以下に示す液を加えることによってバックコート液を調整した。
・ピロガロールホルムアルデヒド縮重合樹脂(Mw:2,200、有機高分子化合物)
5重量部
・マレイン酸ジブチル 5重量部
・メタノールシリカゾル(コロイダルシリカゾル、日産化学工業(株)製、メタノール30%) 50重量部
・メガファックF780(F系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製、メチルエチルケトン30%) 0.5重量部
・メタノール 800重量部
・1−メトキシ−2−プロパノール 270重量部
下記のバックコート液をバーコーターで塗布し、100℃で60秒間乾燥し、乾燥後の塗布量が200mg/m2のバックコート層を設けた。
・飽和共重合ポリエステス樹脂(ケミットK−1294 東レ(株)製) 3重量部
・メガファックF780(F系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製、メチルエチルケトン30%) 0.2重量部
・メチルエチルケトン 100重量部
上述のようにバックコート層まで設けた実施例1〜実施例3及び比較例1〜比較例3の支持体の表面処理した面に、下記の有機下塗液をバーコーターで塗布し、80℃15秒間乾燥し、乾燥後の被覆量が18mg/m2の有機下塗層を設けた。
・下記高分子化合物 0.3重量部
・メタノール 100重量部
上述のように設けた有機下塗層の表面に、以下の記録層形成用塗布液1をバーコーターで塗布し、TABAI社製PERFECT OVEN PH200にて130℃50秒間乾燥し、乾燥後の塗布量が1.3g/m2の記録層を設けた。その後、以下の記録層形成用塗布液2をバーコーターで塗布し、TABAI社製PERFECT OVEN PH200にて130℃60秒間乾燥し、乾燥後の塗布量が0.26g/m2の記録層を設け、実施例1〜実施例3、及び比較例1〜比較例3の赤外線感光性平版印刷版を得た。
・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/アクリロニトリル/メタクリル酸メチル共重合体(36/34/30重量%:重量平均分子量50,000、酸価2.65) 1.9重量部
・m/pクレゾールノボラック 0.3重量部
(m/p=6/4、重量平均分子量4,500、未反応クレゾール0.8重量%含有)
・シアニン染料A(下記構造) 0.13重量部
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.13重量部
・無水テトラヒドロフタル酸 0.19重量部
・p−トルエンスルホン酸 0.008重量部
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン ヘキサフルオロホスフェート
0.032重量部
・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシ−2−ナフタレンスルホン酸イオンに変えたもの 0.078重量部
・メガファックF780(F系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製、メチルエチルケトン30%) 0.2重量部
・メチルエチルケトン 16.0重量部
・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0重量部
・γ−ブチロラクトン 8.0重量部
・フェノール/m/p クレゾールノボラック(フェノール/m/p=5/3/2、重量平均分子量5,000、未反応クレゾール0.8重量%含有) 0.27重量部
・アクリル樹脂B(下記構造) 0.042重量部
・前記シアニン染料A 0.019重量部
・長鎖アルキル基含有ポリマーC(下記構造) 0.042重量部
・スルホニウム塩化合物D(下記構造) 0.065重量部
・化合物Y 0.004重量部
・メガファックF780(F系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製、メチルエチルケトン30%) 0.02重量部
・F系界面界面活性剤E(メチルエチルケトン60%) 0.032重量部
・メチルエチルケトン 13.0重量部
・1−メトキシ−2−プロパノール 7.0重量部
支持体として先に作製した支持体Bを用いた以外は、実施例1〜3と同様のバックコート層、有機下塗層、画像形成層1及び画像形成層2を設け、実施例4〜6の赤外線感光性平版印刷版を得た。
支持体として先に作製した支持体Bを用いた以外は、比較例1〜3と同様のバックコート層、有機下塗層、画像形成層1及び画像形成層2を設け、比較例4〜6の赤外線感光性平版印刷版を得た。
得られた実施例及び比較例の各赤外線感光性平版印刷版について、「1.バックコート層の硬度」を測定し、また、「2.輸送による擦れ傷の発生」、「3.オートローダーでの擦れ傷の発生」を評価した。
得られた各赤外線感光性平版印刷版について、下記の測定条件によりバックコート層の硬度を測定した。結果を表1に示す。
<トライボスコープ測定条件>
測定装置:MultimodeAFM(ビーコ社製)+Triboscope(Hysitron社製)
圧子 :Berkovich型(S/N:TI-064)
設定荷重:100μN
印加速度:20μN/s
最大荷重保持時間:2s
<AMF測定条件>
測定装置:AFM(ビーコ社製 D3100/NanoscopeIIIa型)
カンチレバー:オリンパス社製 AC160TS
得られた各赤外線感光性平版印刷版を、1,030mm×800mmに裁断し各々30枚準備した。この30枚を合紙を入れずに重ねて、上下に厚さ0.5mmのボール紙を各1枚置いて、4隅をテープ止めした後、アルミクラフト紙で包装した。これを更に段ボールケースで外装しテープ止めし、合紙レス包装形態とした。これをパレットに載せ、トラックで2,000kmの輸送を行った後、開封した。開封後の赤外線感光性平版印刷版を、富士写真フイルム(株)製自動現像機LP−940HIIに、富士写真フイルム(株)製現像液DT−2を1:8で仕込み、現像温度32℃、現像時間12秒で現像処理した。このときの現像液の電導度は43mS/cmであった。現像後の平版印刷版について、輸送に起因して生じた画像部の抜けの有無を目視により観察し、評価した。
画像部の抜けが無いものを「○」、画像部の抜けが有ったものを「×」とした。結果を表1に示す。
上記と同一サイズの平版印刷版を、富士写真フイルム(株)製LuxelT−9800CTPシングルオートローダーのカセットに合紙を入れずに10枚セットし、自動給版させてドラム装着した後、露光しないで搬出させ、富士写真フイルム(株)製の自動現像機LP−940HIIに、富士写真フイルム(株)製現像液DT−2(1:8で希釈したもの)及び富士写真フイルム(株)製フィニッシャーFG−1(1:1で希釈したもの)を仕込み、現像温度32℃、現像時間12秒で現像処理した。このときの現像液の電動度は43mS/cmであった。現像後の平版印刷版を目視し、ロード、アンロードによる擦れ傷の発生を評価した。
擦れ傷の発生が無かったものを「○」、擦れ傷の発生が有ったものを「×」とした。結果を表1に示す。
更に支持体の表面処理条件を変えても良好な結果を示すことが分かる。
<支持体の作製>
[アルミニウム板]
Si:0.06重量%、Fe:0.30重量%、Cu:0.026重量%、Mn:0.001重量%、Mg:0.001重量%、Zn:0.001重量%、Ti:0.02重量%を含有し、残部はAlと不可避不純物のアルミニウム合金を用いて溶湯を調製し、溶湯処理およびろ過を行った上で、厚さ500mm、幅1,200mmの鋳塊をDC鋳造法で作製した。表面を平均10mmの厚さで面削機により削り取った後、550℃で、約5時間均熱保持し、温度400℃に下がったところで、熱間圧延機を用いて厚さ2.7mmの圧延板とした。更に、連続焼鈍機を用いて熱処理を500℃で行った後、冷間圧延で、厚さ0.24mmに仕上げ、JIS 1050材のアルミニウム板を得た。このアルミニウム板を幅1,030mmにした後、以下に示す表面処理に供した。
比重1.12の研磨剤(パミス)と水との懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に供給しながら、回転するローラ状ナイロンブラシにより機械的粗面化処理を行った。研磨剤の平均粒径は8μm、最大粒径は50μmであった。ナイロンブラシの材質は6・10ナイロン、毛長は50mm、毛の直径は0.3mmであった。ナイロンブラシはφ300mmのステンレス製の筒に穴をあけて密になるように植毛した。回転ブラシは3本使用した。ブラシ下部の2本の支持ローラ(φ200mm)の距離は300mmであった。ブラシローラはブラシを回転させる駆動モータの負荷が、ブラシローラをアルミニウム板に押さえつける前の負荷に対して7kWプラスになるまで押さえつけた。ブラシの回転方向はアルミニウム板の移動方向と同じであった。ブラシの回転数は200rpmであった。
上記で得られたアルミニウム板に温度70℃のNaOH水溶液(濃度26重量%、アルミニウムイオン濃度6.5重量%)をスプレーしてエッチング処理を行い、アルミニウム板をg/m2溶解した。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
温度30℃の硝酸濃度1重量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5重量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、スプレーで水洗した。デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝酸10.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル、アンモニウムイオンを0.007重量%含む)、温度50℃であった。交流電源波形は電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、DUTY比1:1、台形の矩形波交流を用いて、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助陽極にはフェライトを用いた。使用した電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で30A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で220C/dm2であった。補助陽極には電源から流れる電流の5%を分流させた。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26重量%、アルミニウムイオン濃度6.5重量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.50g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
温度30℃の硝酸濃度15重量%水溶液(アルミニウムイオンを4.5重量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーで水洗した。前記デスマットに用いた硝酸水溶液は、硝酸水溶液中で交流を用いて電気化学的な粗面化を行う工程の廃液を用いた。
60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、塩7.5g/リットル水溶液(アルミニウムイオンを5g/リットル含む。)、温度35℃であった。電流値がゼロからピークに達するまでの時間TPが0.8msec、DUTY比1:1、交流電源波形は矩形波であり、カーボン電極を対極として電気化学的な粗面化処理を行った。補助アノードにはフェライトを用いた。電解槽はラジアルセルタイプのものを使用した。
電流密度は電流のピーク値で25A/dm2、電気量はアルミニウム板が陽極時の電気量の総和で50C/dm2であった。
その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26重量%、アルミニウムイオン濃度6.5重量%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.10g/m2溶解し、前段の交流を用いて電気化学的な粗面化処理を行ったときに生成した水酸化アルミニウムを主体とするスマット成分を除去し、また、生成したピットのエッジ部分を溶解してエッジ部分を滑らかにした。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
温度60℃の硫酸濃度25重量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5重量%含む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
電解液としては、硫酸を用いた。電解液は、いずれも硫酸濃度170g/リットル(アルミニウムイオンを0.5重量%含む。)、温度は38℃であった。その後、井水を用いてスプレーによる水洗を行った。
電流密度はともに約30A/dm2であった。最終的な酸化皮膜量は2.7g/m2であった。
陽極酸化処理により得られたアルミニウム支持体を温度30℃の1号ケイ酸ソーダの4重量%水溶液の処理層中へ、10秒間、浸せきすることでアルカリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。その後、井水を用いたスプレーによる水洗を行った。その際のシリケート付着量は5.5mg/m2であった。
上記によって得られた支持体Cの表面処理した裏面に、実施例1〜3、比較例1及び2と同様のバックコート層を設け、実施例7〜9、比較例7及び8とした。また、バックコートを設けないものを比較例9とした。
バックコート層まで設けた実施例7〜9及び比較例7〜9の支持体の表面処理した面に、下記の有機下塗液をバーコーターで塗布し、80℃15秒間乾燥し、乾燥後の被覆量が18mg/m2の有機下塗層を設けた。
・メタノール 100重量部
上述のように設けた有機下塗層の表面に、以下の記録層形成用塗布液3をバーコーターで塗布し、TABAI社製PERFECT OVEN PH200にて130℃50秒間乾燥し、乾燥後の塗布量が0.85g/m2の記録層を設けた。その後、以下の記録層形成用塗布液4をバーコーターで塗布し、TABAI社製PERFECT OVEN PH200にて130℃60秒間乾燥し、乾燥後の塗布量が0.22g/m2の記録層を設け、実施例7〜実施例9、及び比較例7〜比較例9の赤外線感光性平版印刷版を得た。
・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/アクリロニトリル/メタクリル酸メチル共重合体(36/34/30重量%:重量平均分子量50,000、酸価2.65) 1.9重量部
・m/pクレゾールノボラック 0.3重量部
(m/p=6/4、重量平均分子量4,500、未反応クレゾール0.8重量%含有)
・前記シアニン染料A 0.13重量部
・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.13重量部
・無水テトラヒドロフタル酸 0.19重量部
・p−トルエンスルホン酸 0.008重量部
・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン ヘキサフルオロホスフェート
0.032重量部
・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシ−2−ナフタレンスルホン酸イオンに変えたもの 0.078重量部
・メガファックF780(F系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製、メチルエチルケトン30%) 0.2重量部
・メチルエチルケトン 25.0重量部
・1−メトキシ−2−プロパノール 13.0重量部
・γ−ブチロラクトン 13.0重量部
・フェノール/m/p クレゾールノボラック(フェノール/m/p=5/3/2、重量平均分子量5,000、未反応クレゾール0.8重量%含有) 0.27重量部
・前記アクリル樹脂B 0.042重量部
・前記シアニン染料A 0.019重量部
・前記スルホニウム塩化合物D 0.065重量部
・前記化合物Y 0.004重量部
・メガファックF780(F系界面活性剤、大日本インキ化学工業(株)製、メチルエチルケトン30%) 0.02重量部
・前記F系界面界面活性剤E(メチルエチルケトン60%) 0.032重量部
・メチルエチルケトン 13.0重量部
・1−メトキシ−2−プロパノール 7.0重量部
得られた実施例及び比較例の各赤外線感光性平版印刷版について、「1.バックコート層の硬度」を前述と同一の方法で測定し、また、「2.輸送による擦れ傷の発生」、「3.オートローダーでの擦れ傷の発生」の項目について、前述と同一の方法で評価した。その結果を表2に示す。
Claims (2)
- 支持体の片面に、赤外線の照射により画像を形成し得る記録層を有し、
該支持体の記録層を有する面とは反対側の面に、ビッカーズ硬度0.2以下のバックコート層を有することを特徴とする
赤外線感光性平版印刷版。 - 前記記録層が赤外線吸収剤を含有する請求項1記載の赤外線感光性平版印刷版。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006070931A JP2007245478A (ja) | 2006-03-15 | 2006-03-15 | 赤外線感光性平版印刷版 |
US11/714,743 US20070218404A1 (en) | 2006-03-15 | 2007-03-07 | Infrared-sensitive lithographic printing plate |
AT07005239T ATE420773T1 (de) | 2006-03-15 | 2007-03-14 | Infrarotempfindliche flachdruckplatte |
EP07005239A EP1834802B1 (en) | 2006-03-15 | 2007-03-14 | Infrared-sensitive lithographic printing plate |
DE602007000472T DE602007000472D1 (de) | 2006-03-15 | 2007-03-14 | Infrarotempfindliche Flachdruckplatte |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2006070931A JP2007245478A (ja) | 2006-03-15 | 2006-03-15 | 赤外線感光性平版印刷版 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2007245478A true JP2007245478A (ja) | 2007-09-27 |
Family
ID=37998424
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2006070931A Abandoned JP2007245478A (ja) | 2006-03-15 | 2006-03-15 | 赤外線感光性平版印刷版 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20070218404A1 (ja) |
EP (1) | EP1834802B1 (ja) |
JP (1) | JP2007245478A (ja) |
AT (1) | ATE420773T1 (ja) |
DE (1) | DE602007000472D1 (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPWO2008105230A1 (ja) * | 2007-02-26 | 2010-06-03 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 平版印刷版材料 |
US20100151385A1 (en) * | 2008-12-17 | 2010-06-17 | Ray Kevin B | Stack of negative-working imageable elements |
US8722308B2 (en) * | 2011-08-31 | 2014-05-13 | Eastman Kodak Company | Aluminum substrates and lithographic printing plate precursors |
JP5711168B2 (ja) * | 2012-02-27 | 2015-04-30 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版および平版印刷版の作製方法 |
BR112015031465A2 (pt) | 2013-06-18 | 2017-07-25 | Agfa Graphics Nv | método para fabricar um precursor de placa de impressão litográfica tendo uma camada traseira padronizada |
US9821541B2 (en) | 2015-07-14 | 2017-11-21 | uBeam Inc. | Laminate material bonding |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50151136A (ja) * | 1974-05-24 | 1975-12-04 | ||
JPH0720448A (ja) * | 1993-06-28 | 1995-01-24 | Samsung Electron Devices Co Ltd | 液晶光シャッター |
JP2002046363A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-02-12 | Agfa Gevaert Nv | 顔料着色された背面コーテイングを有するプリセンシタイズ印刷版 |
JP2002225453A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
JP2003015304A (ja) * | 2001-07-04 | 2003-01-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 赤外線レーザ用ポジ型平版印刷原板 |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4594315A (en) * | 1983-09-21 | 1986-06-10 | Konishiroku Photo Industry Co., Ltd. | Light-sensitive silver halide photographic element with electron beam cured interlayer |
JPH06202312A (ja) * | 1993-01-04 | 1994-07-22 | Fuji Photo Film Co Ltd | 感光性平版印刷版 |
JP2001117236A (ja) * | 1999-10-14 | 2001-04-27 | Fuji Photo Film Co Ltd | 光重合性平版印刷原版 |
JP2005062456A (ja) * | 2003-08-12 | 2005-03-10 | Fuji Photo Film Co Ltd | 赤外線感光性平版印刷版 |
JP2005088331A (ja) * | 2003-09-17 | 2005-04-07 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 平版印刷版材料及びそれを用いた印刷方法 |
JP2006062236A (ja) * | 2004-08-27 | 2006-03-09 | Konica Minolta Medical & Graphic Inc | 平板印刷版材料及びそれを用いた印刷方法 |
-
2006
- 2006-03-15 JP JP2006070931A patent/JP2007245478A/ja not_active Abandoned
-
2007
- 2007-03-07 US US11/714,743 patent/US20070218404A1/en not_active Abandoned
- 2007-03-14 EP EP07005239A patent/EP1834802B1/en active Active
- 2007-03-14 AT AT07005239T patent/ATE420773T1/de not_active IP Right Cessation
- 2007-03-14 DE DE602007000472T patent/DE602007000472D1/de active Active
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS50151136A (ja) * | 1974-05-24 | 1975-12-04 | ||
JPH0720448A (ja) * | 1993-06-28 | 1995-01-24 | Samsung Electron Devices Co Ltd | 液晶光シャッター |
JP2002046363A (ja) * | 2000-06-19 | 2002-02-12 | Agfa Gevaert Nv | 顔料着色された背面コーテイングを有するプリセンシタイズ印刷版 |
JP2002225453A (ja) * | 2001-01-29 | 2002-08-14 | Fuji Photo Film Co Ltd | 平版印刷版原版 |
JP2003015304A (ja) * | 2001-07-04 | 2003-01-17 | Fuji Photo Film Co Ltd | 赤外線レーザ用ポジ型平版印刷原板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ATE420773T1 (de) | 2009-01-15 |
EP1834802B1 (en) | 2009-01-14 |
DE602007000472D1 (de) | 2009-03-05 |
US20070218404A1 (en) | 2007-09-20 |
EP1834802A1 (en) | 2007-09-19 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4611185B2 (ja) | 赤外線感光性平版印刷版原版 | |
JP2007245478A (ja) | 赤外線感光性平版印刷版 | |
JP4441427B2 (ja) | 赤外線感光性平版印刷版原版 | |
JP4795118B2 (ja) | 赤外線感光性平版印刷版原版 | |
JP2005062456A (ja) | 赤外線感光性平版印刷版 | |
JP4615492B2 (ja) | 平版印刷版原版積層体、及び平版印刷版原版の製造方法 | |
JP2004012770A (ja) | 画像形成材料及びそれを用いた平版印刷版原版 | |
JP4652193B2 (ja) | 赤外線感光性平版印刷版原版 | |
JP2004157459A (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP4680098B2 (ja) | 赤外線感光性平版印刷版原版 | |
JP2004287194A (ja) | 感熱性平版印刷版 | |
JP4642583B2 (ja) | 赤外線感光性平版印刷版原版 | |
JP2005091703A (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP2007065387A (ja) | 赤外線感光性平版印刷版原版 | |
JP2007086219A (ja) | 赤外線感光性平版印刷版原版 | |
JP3771694B2 (ja) | 赤外線レーザー用ポジ型感光性組成物 | |
JP4593419B2 (ja) | 赤外線感光性平版印刷版原版 | |
JP4359446B2 (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP2004279806A (ja) | 感熱性平版印刷版の製版方法 | |
JP4373823B2 (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP4057926B2 (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP2005274607A (ja) | 平版印刷版原版 | |
JP4614454B2 (ja) | 赤外線感光性平版印刷版原版 | |
JP2007093941A (ja) | 赤外線感光性平版印刷版原版 | |
JP2004163732A (ja) | 平版印刷版原版 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20080709 |
|
RD03 | Notification of appointment of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7423 Effective date: 20100617 |
|
RD04 | Notification of resignation of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7424 Effective date: 20100924 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20110124 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110208 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20110316 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110419 |
|
A762 | Written abandonment of application |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A762 Effective date: 20110609 |