JPH05124853A - セラミツク基板の製造方法 - Google Patents

セラミツク基板の製造方法

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JPH05124853A
JPH05124853A JP3288171A JP28817191A JPH05124853A JP H05124853 A JPH05124853 A JP H05124853A JP 3288171 A JP3288171 A JP 3288171A JP 28817191 A JP28817191 A JP 28817191A JP H05124853 A JPH05124853 A JP H05124853A
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JP
Japan
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ceramic substrate
sheet
production
ceramic
substrate
Prior art date
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Pending
Application number
JP3288171A
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English (en)
Inventor
Akihiro Muranaka
晃浩 村中
Sunao Ikoma
直 生駒
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【目的】 各種電子素子の搭載基板等に用いられるセラ
ミック基板の製造方法に関するもので、ボイドのないセ
ラミック基板を得ることを目的とする。 【構成】 セラミック材料を混合、混練し、シート化し
てから減圧後、焼成することを特徴とするセラミック基
板の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は各種電子素子の搭載基板
等として用いられるセラミック基板の製造方法に関する
ものである。
【0002】
【従来の技術】従来のセラミック基板は耐火物骨材、燃
焼助剤、バインダーを混合、混練し、シート化しそのま
ま焼成してセラミック基板を得ているが、シート化した
シートの表面は、押出機によるもの、ロールによるもの
を問わず加圧下からの開放によりボイドが発生し、表面
粗度、強度に悪影響を及ぼし、ボイドのないセラミック
基板を得ることは大きな要望であった。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】従来の技術で述べたよ
うに従来のセラミック基板ではボイドが多いという欠点
がある。本発明は従来の技術における上述の問題点に鑑
みてなされたもので、その目的とするところは、ボイド
のないセラミック基板の製造方法を提供することにあ
る。
【0004】
【課題を解決するための手段】本発明は、セラミック材
料を混合、混練し、シート化してから減圧後、焼成する
ことを特徴とするセラミック基板の製造方法のため上記
目的を達成することができたもので、以下本発明を詳細
に説明する。
【0005】本発明に用いるセラミック材料は、アルミ
ナ質、マグネシア質、珪石質、窒化質、ボロン質等のよ
うな耐火物骨材、セラミック粉末や、タルク、カルシ
ア、イットリゥム等の燃焼助剤、メチルセルロース、ア
クリル、酢酸ビニール、ユリア樹脂、メラミン樹脂、フ
ェノール樹脂等のバインダーを添加したものである。混
合、混練、シート化は通常用いられるものをそのまま用
いることができ、特に限定するものではない。シート化
されたシートは、減圧炉、減圧槽等の減圧装置で好まし
くは5〜70Torr程度に減圧し、ボイドを除去して
から焼成するが、焼成方法、焼成装置については通常用
いられるものをそのまま用いることができる。減圧装置
内ではシートを直線的に移行させず、シートをU字型、
V字型、W字型、M字型、N字型のように屈曲させて移
行させることが、減圧装置の長さを短縮できスペース、
コストを節約できるので望ましいことである。
【0006】以下本発明を実施例に基づいて説明する。
【0007】
【実施例】平均粒径2.8ミクロンのアルミナ98重量
部(以下単に部と記す)に対し、タルク2部を加え混合
後、メチルセルロース5部、水10部を加え混合後、ニ
ーダーで30分間混練し、押出機で厚み1.1mmにシ
ート化してから、該シートを内部がM字型で移行する減
圧度20Torrの減圧装置で20分間減圧後400×
400mmに打ち抜いて得たグリーンシートを100℃
/時間の昇温率で1570℃迄昇温させ、1570℃で
3時間焼成後、降温してセラミック基板を得た。
【0008】
【比較例】減圧装置を用いて減圧せず、そのままシート
を焼成した以外は実施例と同様に処理してセラミック基
板を得た。
【0009】実施例及び比較例のセラミック基板の性能
は、表1のようである。
【0010】
【表1】
【0011】
【発明の効果】本発明は上述した如く構成されている。
特許請求の範囲に記載した構成を有するセラミック基板
の製造方法においては、ボイドのないセラミック基板が
得られる効果がある。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 セラミック材料を混合、混練し、シート
    化してから減圧後、焼成することを特徴とするセラミッ
    ク基板の製造方法。
JP3288171A 1991-11-05 1991-11-05 セラミツク基板の製造方法 Pending JPH05124853A (ja)

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