JPH051204A - 炭酸ガスレーザー印字に適したエポキシ樹脂組成物 - Google Patents

炭酸ガスレーザー印字に適したエポキシ樹脂組成物

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JPH051204A
JPH051204A JP3153498A JP15349891A JPH051204A JP H051204 A JPH051204 A JP H051204A JP 3153498 A JP3153498 A JP 3153498A JP 15349891 A JP15349891 A JP 15349891A JP H051204 A JPH051204 A JP H051204A
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Tatsumi Kawaguchi
竜巳 河口
Shoji Sasai
祥二 佐々井
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Abstract

(57)【要約】 【構成】 エポキシ樹脂、硬化剤、充填剤などからな
り、かつシュウ酸銅(II)などの発色材を含有し、前記
充填剤の平均粒径が10μm以下である。 【効果】 発色材の分散が良好となり、炭酸ガスレーザ
ーの照射により鮮明な印字を施すことができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電気電子部品の絶縁被
覆に用いられ、炭酸ガスレーザー(以下、CO2 レーザ
ーという)の照射によりその絶縁被覆表面に鮮明な印字
を施すことのできるCO2 レーザー印字に適したエポキ
シ樹脂組成物に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来、エポキシ樹脂組成物により絶縁被
覆された電気電子部品に特性や型番を明示するため印字
をする際、熱硬化性のインクや紫外線硬化性のインクが
用いられているが、工程の合理化を目的としてより短時
間で印字できる方法が要求されている。
【0003】この対応方法の1つのとして、レーザーの
照射による印字システムが注目されている。このレーザ
ー印字システムは、文字やパターン状にレーザーを照射
された部分が熱エネルギーにより変色する、あるいは照
射された部分が昇華し表面粗化され、光の散乱によって
文字やパターンが識別できるものであり、この方法の印
字時間は0.01秒以下であり、従来の熱あるいは紫外線硬
化性のインクが硬化に数分〜数10分を必要とするのに比
べ、大幅に短縮されものである。
【0004】しかし、従来のエポキシ樹脂組成物の絶縁
被覆にレーザーを照射した場合、単に被覆表面を粗化す
るのみで、変色がおこらず、鮮明な文字やパターンを印
字することができなかった。
【0005】最近、従来のエポキシ樹脂組成物に黄色の
水酸化第二鉄を含有させるとレーザー照射によって黄色
から褐色に変色することが見出された(特開昭62-50360
号公報)。
【0006】水酸化第二鉄は黄色であるため、黄、橙色
のような色相にしか用いることができないが、塩基性炭
酸銅や塩基性炭酸鉛等を用いることによって青や緑色の
下地、特に淡色系の下地に黒色のレーザー印字を施すこ
とが可能になった。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】本発明は、より低エネ
ルギーのCO2 レーザー光で変色する樹脂組成物を得ん
として鋭意検討した結果、シュウ酸銅(II)等のレーザ
ー発色材の他に平均粒径が10μm以下と細かい充填剤を
含有させると、従来、変色度の少なかった低エネルギー
のCO2 レーザー光でも明瞭に変色させられることを見
出し、更にこの知見に基づき種々研究を進めて本発明を
完成するに至ったものである。
【0008】本発明の目的とするところは電気的特性及
び他の諸特性を低下させることなく、低エネルギーのC
2 レーザー光でも照射により樹脂表面に鮮明な印字を
施すことのできる硬化物を与えるエポキシ樹脂組成物を
提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明は、シュウ酸銅
(II)等のレーザー発色材の他に、平均粒径が10μm以
下と細かい充填剤を含有することを特徴とするCO2
ーザー印字に適したエポキシ樹脂組成物に関するもので
ある。
【0010】本発明のエポキシ樹脂組成物に平均粒径10
μm以下の細かい充填剤を用いる理由を、発色材として
シュウ酸銅を用いた場合について以下に述べる。シュウ
酸銅(II)は淡青色の粉末であり、加熱すると200〜300
℃で脱炭酸し酸化銅(II)に変化し、黒色となる。
【0011】従って、シュウ酸銅(II)を含有したエポ
キシ樹脂組成物に対し文字やパターン状にレーザーを照
射すると、樹脂表面がレーザーの熱エネルギーにより加
熱され、樹脂中に含有されたシュウ酸銅(II)が上記化
学反応を生じ黒色となる。この時、樹脂組成物に平均粒
径が10μm以下の細かい充填剤が含有されていると、シ
ュウ酸銅(II)等のレーザー発色材の分散を促す効果が
あるため、樹脂組成物中に均一にレーザー発色材を分散
させることができる。すなわち低エネルギーのCO2
ーザー光でも文字やパターンを鮮明に印字することがで
きる。
【0012】本発明に用いられるシュウ酸銅(II)など
の発色材の粒度は平均粒径が 100μm以下であることが
好ましい。その理由はエポキシ樹脂組成物に発色材を混
合分散させた際、100μm以上の平均粒径では電子電気部
品に被覆させた際表面に斑点状となり、部品の商品価値
を低下させるばかりでなく、分散が不充分となりやすく
レーザーが照射された際、発色材が存在しない部分では
変色がおさらず、文字やパターンがとぎれ鮮明な印字が
できなくなる場合がある。
【0013】なお、この平均粒径はコールターカウンタ
ー(日科機(株)製)により得られる粒度分布を重量平均
することにより求めるのが適当であるが、コールターカ
ウンター以外の測定方法により求めてもよい。
【0014】発色材の含有量は 0.5〜20重量%が好まし
い。この理由は、含有量が 0.5重量%以下では、レーザ
ーが照射されても変色する度合が小さく鮮明な印字とな
らない。一方、20重量%を越えると、樹脂組成物の電気
絶縁性が低下し、電子電気部品用絶縁材料としての本来
の性能を満足しにくくなるためである。
【0015】本発明に用いられるエポキシ樹脂として
は、例えばビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェ
ノールF型エポキシ樹脂等のジグリシジルエーテル型エ
ポキシ樹脂、フェノールノボラック型エポキシ樹脂、ク
レゾールノボラック型エポキシ樹脂等のノボラック型エ
ポキシ樹脂、グリシジルエステル型エポキシ樹脂、グリ
シジルアミン型エポキシ樹脂、線状脂肪族型エポキシ樹
脂、被素環型エポキシ樹脂、ハロゲン化エポキシ樹脂等
があげられるが、これらに限定されるものではない。
【0016】本発明に用いられる硬化剤及び硬化促進剤
としては、酸無水物、ポリアミン、ノボラック型フェノ
ール樹脂、第3級アミン、イミダゾール化合物等がある
が、いずれを用いてもよい。無機充填剤としては、平均
粒径が10μm以下のもので、例えばジルコン粉末、タル
ク粉末、結晶シリカ粉末、溶融シリカ粉末、炭酸カルシ
ウム粉末、マグネシア粉末、ケイ酸カルシウム粉末、水
和アルミナ粉末、アルミナ粉末等が挙げられる。
【0017】本発明により得られる樹脂組成物はシュウ
酸銅(II)の場合、その色調により通常淡青色を呈する
が、赤、青、緑、黒、白色等の顔料を併用してもよい。
本発明の樹脂組成物は注型材料等の液状、粉体塗料等の
粉状、成型材料等の顆粒状、塊状等いずれの状態でもよ
い。
【0018】本発明のエポキシ樹脂組成物を製造する方
法として、例えば粉体塗料の場合をあげると、所定の割
合で秤量した原料成分をミキサーによって充分混合した
のち、エクストルーダー、コニーダーあるいはロール等
で溶融混練し、次いで粉砕機にて粉砕する方法等があ
る。上記方法により得られる粉体塗料により電子電気部
品の絶縁被覆を行う方法としては、流動浸漬法、静電流
動浸漬法、ころがし法、ふりかけ法、ホットスプレー
法、静電スプレー法等、一般の粉体塗装方法が用いられ
る。
【0019】又、注型材料、成型材料の場合についても
公知の技術で製造でき、絶縁材料として使用できる。
【0020】
【実施例】次に本発明を実施例により更に詳しく説明す
る。
【0021】実施例1 ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量950) 50重量部 シュウ酸銅(II)(平均粒径15μm) 5重量部 炭酸カルシウム粉末(平均粒径 7μm) 50重量部 2−メチルイミダゾール 1重量部 上記組成物を配合し、ヘンシェルミキサーでブレンド
し、コニーダーにて溶融混練した後、粉砕機で粉砕する
ことにより平均粒径60〜70μmのエポキシ樹脂組成物の
粉体塗料を得た。
【0022】実施例2 実施例1において、無機充填剤を炭酸カルシウム粉末
(平均粒径 8μm)に替え、他は同様の方法にて平均粒
径60〜70μmのエポキシ樹脂組成物の粉体塗料を得た。
【0023】比較例1 実施例1において、無機充填剤を炭酸カルシウム粉末
(平均粒径17μm)に替え、他は同様の方法にて平均粒
径60〜70μmのエポキシ樹脂組成物の粉体塗料を得た。
【0024】比較例2 実施例1において、無機充填剤を炭酸カルシウム粉末
(平均粒径30μm)に替え、他は同様の方法にて平均粒
径60〜70μmのエポキシ樹脂組成物の粉体塗料を得た。
【0025】実施例1、2及び比較例1、2の樹脂組成
物について 100℃で2時間硬化させた。この試料に炭酸
ガスレーザー(ウシオ電機(株)製 400型レーザーマー
ク、エネルギー密度4Joule/cm2 及び6Joule/cm2)を
用いて、100万分の1秒間所定のマスクを通してレーザ
ーを照射して、硬化物の表面にマーキングを施した。ま
た、上記硬化物の絶縁被覆電圧をJIS K 6911により測定
した。結果を表1に示す。
【0026】
【表1】
【0027】
【発明の効果】本発明のレーザー印字に適したエポキシ
樹脂組成物を絶縁被覆材として用いた場合、電気的特性
及び他の特性を低下させることなく、低エネルギーのレ
ーザーの照射により樹脂表面に鮮明な印字を施すことの
できる被覆を与えることができる。従って、従来より非
常に短時間で印字できるため、電気電子部品の生産工程
の合理化をはかることができる。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 エポキシ樹脂、硬化剤、充填剤などから
    なるエポキシ樹脂組成物において、シュウ酸銅(II)等
    のレーザー発色材を有し、かつ前記充填剤の平均粒径が
    10μm以下であることを特徴とするエポキシ樹脂組成
    物。
  2. 【請求項2】 シュウ酸銅(II)を組成物に対して0.
    5〜20重量部含有することを特徴とする請求項1又は
    2記載のエポキシ樹脂組成物。
JP3153498A 1991-06-25 1991-06-25 炭酸ガスレーザー印字に適したエポキシ樹脂組成物 Expired - Lifetime JP2600029B2 (ja)

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013149737A (ja) * 2012-01-18 2013-08-01 Nitto Denko Corp フリップチップ型半導体装置の製造方法

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