JPH05102276A - 半導体装置 - Google Patents

半導体装置

Info

Publication number
JPH05102276A
JPH05102276A JP3260650A JP26065091A JPH05102276A JP H05102276 A JPH05102276 A JP H05102276A JP 3260650 A JP3260650 A JP 3260650A JP 26065091 A JP26065091 A JP 26065091A JP H05102276 A JPH05102276 A JP H05102276A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
semiconductor chip
bonding pad
semiconductor device
pattern
bonding
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP3260650A
Other languages
English (en)
Other versions
JP2985423B2 (ja
Inventor
Kei Shiratori
慶 白鳥
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC Corp
Original Assignee
NEC Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC Corp filed Critical NEC Corp
Priority to JP3260650A priority Critical patent/JP2985423B2/ja
Publication of JPH05102276A publication Critical patent/JPH05102276A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP2985423B2 publication Critical patent/JP2985423B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/02Bonding areas ; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L24/06Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of a plurality of bonding areas
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/023Redistribution layers [RDL] for bonding areas
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/02Bonding areas; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/04Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process
    • H01L2224/05Structure, shape, material or disposition of the bonding areas prior to the connecting process of an individual bonding area
    • H01L2224/0554External layer
    • H01L2224/0555Shape
    • H01L2224/05552Shape in top view
    • H01L2224/05554Shape in top view being square
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49171Fan-out arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/49Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of a plurality of wire connectors
    • H01L2224/491Disposition
    • H01L2224/4912Layout
    • H01L2224/49175Parallel arrangements
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01004Beryllium [Be]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01033Arsenic [As]
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2924/00Indexing scheme for arrangements or methods for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies as covered by H01L24/00
    • H01L2924/01Chemical elements
    • H01L2924/01082Lead [Pb]

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Testing Or Measuring Of Semiconductors Or The Like (AREA)
  • Wire Bonding (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【目的】 ボンディング位置ずれに伴う組立不良を電気
的、かつ瞬時に検出可能にする。 【構成】 半導体チップ11上の各ボンディングパッド
13、14の任意の周囲を一定の間隔を空けて取り囲ん
だパターン15を設け、外周部を通してこのパターン1
5をグランド用ボンディングパッド12と接続し、前記
各ボンディングパッド12、13、14と各内部リード
17、18、19とを各ボンディング用金属線20、2
1、22によって接続し、封止樹脂23により封止す
る。 【効果】 半導体装置の特性検査を実施すると同時に前
記内部リード18、19とグランド用内部リード17間
のショート検査を実施することにより、ボンディング用
金属線21の位置ずれによる組立不良を電気的、かつ瞬
時に検出することが可能である。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、半導体装置の構造に関
し、特に、半導体装置の組立外観を電気的に検査するこ
とを可能にした半導体装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来における半導体装置に使用されてい
る半導体チップを用いた組立完了後の平面拡大図の一例
を図5に示す。
【0003】従来、半導体装置に使用される半導体チッ
プ49は、半導体チップ搭載部53上に搭載され、前記
半導体チップ49上の各ボンディングパッド部50、5
1、52と各内部リード54、55、56とが、各ボン
ディング用金属線57、58、59によって接続されて
いる。その後、組立外観工程において、ダイシング工
程、及び組立工程中に発生したクラック61、カケ62
等の不良を除去し、良品のみ封止樹脂60で封止され
る。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、この従
来の半導体装置では、組立外観良品の半導体装置を選出
するまでに多大の工数がかかっているために、半導体装
置のコストが高くなり、かつ納期短縮の妨げになってき
た。
【0005】また、組立外観検査工程における人的ミス
による組立外観不良の半導体装置の混入も極めて高いと
いう課題があった。
【0006】本発明は従来の上記実情に鑑みてなされた
ものであり、従って本発明の目的は、従来の技術に内在
する上記諸課題を解決することを可能とした新規な半導
体装置を提供することにある。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本発明に係る半導体装置は、半導体チップ上の各ボ
ンディングパッド部の任意の周囲を一定の間隔を空けて
取り囲んだパターンを有し、前記半導体チップの表面上
外周部を通してグランド用ボンディングパッド部と接続
されて構成され、さらに、前記ボンディングパッド部以
外に任意のボンディングパッド部を設け、前記パターン
の一端に接続している特徴を備えている。
【0008】
【実施例】次に、本発明をその好ましい各実施例につい
て図面を参照して具体的に説明する。
【0009】図1は本発明に係る半導体装置に使用した
半導体チップの第1の実施例を示す平面図である。
【0010】図1を参照するに、半導体チップ1上の各
ボンディングパッド部3、4、5、6、7、8、9の任
意の周囲を、ボンディング位置ずれ限界の30μmの間
隔を空けてとり囲んで形成されたパターン10が設けら
れている。パターン10は前記半導体チップ1の表面上
の外周部を通してグランド用ボンディングパッド部2と
接続されている。
【0011】図2は、前記半導体チップ1を使用した組
立完了後の平面拡大図である。
【0012】図2を参照するに、図1の半導体チップ1
と対応する半導体チップ11は半導体チップ搭載部16
に搭載され、前記半導体チップ11上の各ボンディング
パッド部12、13、14と各内部リード17、18、
19とは各ボンディング用金属線20、21、22によ
って接続され、封止樹脂23によって封止される。その
後、特性検査を実施すると同時に、各内部リード18、
19とグランド用内部リード17間のショート検査を実
施することにより、前記ボンディング用金属線21の位
置ずれによる組立不良を電気的かつ瞬時に検出すること
が可能になる。
【0013】図3は本発明に係る半導体装置に使用した
半導体チップの第2の実施例を示す平面図である。
【0014】図3を参照するに、半導体チップ24上に
設けられた任意のボンディングパッド部26は、各ボン
ディングパッド部27、28、29、30、31、32
の任意の周囲をボンディング位置ずれ限界の30μmの
間隔を空けて取り囲まれたパターン33の一端に接続さ
れ、さらに前記半導体チップ24の表面上外周部を通し
てグランド用ボンディングパッド部25に接続されてい
る。
【0015】図4は、前記半導体チップ24を使用した
組立完了後の平面拡大図である。
【0016】図4を参照するに、図3の半導体チップ2
4と対応する半導体チップ34は半導体チップ搭載部3
9へ搭載され、前記半導体チップ34上の各ボンディン
グパッド部35、36、37と各内部リード40、4
1、42とはそれぞれ各ボンディング用金属線43、4
4、45によって接続され、封止樹脂46によって封止
されている。その後、特性検査を実施すると同時に、前
記任意のボンディングパッド部36に接続されている内
部リード42と、前記グランド用ボンディングパッド部
35に接続されている内部リード40間のオープン検査
を実施することにより、ダイシング工程に発生したカケ
48、及びボンディング工程にて発生したクラック47
等の不良品を電気的かつ瞬時に検出することが可能にな
る。
【0017】
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
半導体装置に使用する半導体チップ上の各ボンディング
パッド部の任意の周囲を一定の間隔を空けて取り囲んだ
パターンを有し、前記半導体チップの表面上外周部を通
してグランド用ボンディングパッド部と接続し、さらに
前記ボンディングパッド部以外に任意のボンディングパ
ッド部を設け、前記パターンの一端に接続することによ
り、各ボンディングパッド部とパッケージの各内部リー
ドとをボンディング用金属線にて接続し、特性検査を実
施すると同時に、各リードとグランド用リード間のショ
ート検査を実施することにより、ボンディング用金属線
の位置ずれによる組立不良を電気的かつ瞬時に検出する
ことが可能になるという効果が得られる。
【0018】さらに本発明によれば、前記任意のボンデ
ィングパッド部と接続しているリードと、グランド用リ
ード間のオープン検査を実施することにより、ダイシン
グ工程及びボンディング工程に発生したクラック、カケ
等の半導体チップの外観不良も検出することが可能にな
るという効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明に係る半導体装置に使用する半導体チッ
プの第1の実施例を示す平面図である。
【図2】本発明に係る半導体装置に使用する半導体チッ
プの第1の実施例を示す組立完了後の拡大平面図であ
る。
【図3】本発明に係る半導体装置に使用する半導体チッ
プの第2の実施例を示す平面図である。
【図4】本発明に係る半導体装置に使用する半導体チッ
プの第2の実施例を示す組立完了後の拡大平面図であ
る。
【図5】従来の半導体装置に使用する半導体チップの組
立完了後の拡大平面図である。
【符号の説明】
1…半導体チップ 2…グランド用ボンディングパッド 3、4、5、6、7、8、9…ボンディングパッド 10…ボンディングパッド部の任意の周囲を取り囲んだ
パターン 11…半導体チップ 12…グランド用ボンディングパッド 13、14…ボンディングパッド 15…ボンディングパッド部の任意の周囲を取り囲んだ
パターン 16…半導体チップ搭載部 17、18、19…内部リード 20、21、22…ボンディング用金属線 23…封止樹脂 24…半導体チップ 25…グランド用ボンディングパッド 26…任意のボンディングパッド 27、28、29、30、31、32…ボンディングパ
ッド 33…ボンディングパッド部の任意の周囲を取り囲んだ
パターン 34…半導体チップ 35…グランド用ボンディングパッド 36…任意のボンディングパッド 37…ボンディングパッド 38…ボンディングパッド部の任意の周囲を取り囲んだ
パターン 39…半導体チップ搭載部 40、41、42…内部リード 43、44、45…ボンディング用金属線 46…封止樹脂 47…クラック 48…カケ 49…半導体チップ 50、51、52…ボンディングパッド 53…半導体チップ搭載部 54、55、56…内部リード 57、58、59…ボンディング用金属線 60…封止樹脂 61…クラック 62…カケ

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体チップ上の各ボンディングパッド
    部の任意の周囲を一定の間隔を空けて取り囲んで形成さ
    れたパターンを有し、該パターンは前記半導体チップの
    表面上外周部を通してグランド用ボンディングパッド部
    と接続されていることを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】 半導体チップ上に任意のボンディングパ
    ッドを設け、各ボンディングパッド部の任意の周囲を一
    定の間隔を空けて取り囲んで形成されたパターンの一端
    に前記任意のボンディングパッドを接続し、更に前記パ
    ターンは前記半導体チップの表面上外周部を通してグラ
    ンド用ボンディングパッド部と接続されていることを特
    徴とする半導体装置。
JP3260650A 1991-10-08 1991-10-08 半導体装置 Expired - Fee Related JP2985423B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3260650A JP2985423B2 (ja) 1991-10-08 1991-10-08 半導体装置

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP3260650A JP2985423B2 (ja) 1991-10-08 1991-10-08 半導体装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPH05102276A true JPH05102276A (ja) 1993-04-23
JP2985423B2 JP2985423B2 (ja) 1999-11-29

Family

ID=17350868

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP3260650A Expired - Fee Related JP2985423B2 (ja) 1991-10-08 1991-10-08 半導体装置

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2985423B2 (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100439308B1 (ko) * 2002-01-29 2004-07-07 주식회사 넥사이언 칩 테스트 장치 및 방법
JP2009049269A (ja) * 2007-08-22 2009-03-05 Seiko Epson Corp 半導体装置

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100439308B1 (ko) * 2002-01-29 2004-07-07 주식회사 넥사이언 칩 테스트 장치 및 방법
JP2009049269A (ja) * 2007-08-22 2009-03-05 Seiko Epson Corp 半導体装置

Also Published As

Publication number Publication date
JP2985423B2 (ja) 1999-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6373143B1 (en) Integrated circuit having wirebond pads suitable for probing
JP2002040095A (ja) 半導体装置及びその実装方法
KR0131389B1 (ko) 비지에이 반도체패키지의 와이어본딩 검사방법
US7701072B2 (en) Semiconductor device and manufacturing method therefor
US8994397B2 (en) Thermal pad shorts test for wire bonded strip testing
JPH05102276A (ja) 半導体装置
JP2008028274A (ja) 半導体装置の製造方法
JPS62261139A (ja) 半導体装置
JPH0439950A (ja) 半導体装置
JPS62279648A (ja) 半導体集積回路装置
JPH0496343A (ja) 半導体装置
JP2665075B2 (ja) 集積回路チェックパターンおよびそのチェック方法
KR100460047B1 (ko) 반도체패키지의 본딩검사방법
JPS61269326A (ja) 半導体装置
JPS6222448A (ja) Icの形成されたウエ−ハ
JPH0621175A (ja) 半導体装置用テストチップ
KR0129923Y1 (ko) 웨이퍼검사용 프로브카드
JPS6290940A (ja) 半導体装置
JPH06347509A (ja) 半導体装置
JPH0220034A (ja) 半導体装置
KR19980032698U (ko) 반도체 장치
KR19990018725A (ko) 반도체 웨이퍼 및 그의 전기적 특성 검사 방법
JP2004031946A (ja) 半導体装置及びその製造方法
JPH0314250A (ja) 半導体装置
JPH0355982B2 (ja)

Legal Events

Date Code Title Description
R250 Receipt of annual fees

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees