JPH0489469A - 2−ジアゾ−1,2−キノン誘導体、及びそれを用いた画像形成材料 - Google Patents
2−ジアゾ−1,2−キノン誘導体、及びそれを用いた画像形成材料Info
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
[0001]
本発明は、光照射によって極性変化を起こす新規な2−
ジアゾ−1,2−キノン誘導体、及びそれを用いた、カ
ラープルーフの受像シート、フォトレジスト、もしくは
印刷版等の記録材料に有用な画像形成材料に関する。 [0002]
ジアゾ−1,2−キノン誘導体、及びそれを用いた、カ
ラープルーフの受像シート、フォトレジスト、もしくは
印刷版等の記録材料に有用な画像形成材料に関する。 [0002]
多層の記録材料を使用する場合には、その層間の接着力
をコントロールできることが好ましい。また、−層の材
料であっても、支持体側と外側の接着力をコントロール
できることが好ましい。 例えば、光照射により層間の接着力を弱める技術が、E
PO156535号に開示されている。この方法では、
光照射により界面活性剤を生成させている。 また、Photographic 5cience a
nd Engineering Vol、 22. N
o、3.138〜141 i1 977)には、ジアゾもしくはアジドを添加し、光照射
によって気体を発生させて剥離現像を行う技術が開示さ
れている。 しかし、いずれの場合にも効果は十分なも
のとは言いがたい。 [0003] 2−ジアゾ−1,2−キノン誘導体は光照射によりWo
lff転位を起こし、窒素ガスとインデンカルボン酸誘
導体を生成する。この光転位反応を利用した記録材料、
特にポジ型の感光性組成物は広く知られており、米国特
許第3046110号、同第3046111号、同第3
046123号、同第3046124号、同第3106
465号、同第3130047号および特公昭46−2
1247号等にその記載がみられる。 だが、上述の光転位反応を光照射により層間の接着力を
弱めるプロセスに応用した例は従来知られていない。 [0004] 一方、これらジアゾ化合物の光分解前後の基体との接着
力変化を利用した乾式画像形成方法も知られている。例
えば特開昭52−57819には、支持体上に接着剤層
を設けたシートと、ジアゾニウム塩とバインダーとから
なる感光性組成物層を塗布した透明プラスチックフィル
ムとを重ね合わせた積層体に露光後、シートを剥離する
と該感光性組成物層の未露光部が透明プラスチック上に
、露光部分が支持体上に残存する画像形成方法が開示さ
れている。また、特開昭54−79032、同54−7
9033、同54−79034には、像露光後に、常温
では被粘着性のシート状担体と密着させた状態で該感光
性組成物の軟化点以上の温度に加熱し、該シート状担体
と該画像形成材料とを、該加熱温度以下の温度で剥離し
て、感光性組成物層の露光部を選択的に該シート状担体
上に転着させ、レリーフ画像を形成する方法が開示され
ている。しかし、これらの方法では、露光部分と未露光
部分との接着力変化が十分ではなく、良好な画像が得ら
れなかった。 [0005] 特開昭61−189535には支持体上に有機高分子か
らなる2層の受像層を有し、該受像層間の剥離力及び第
2層と画像層間との剥離力を調整することにより、永久
支持体上に画像層を転写する際に画像層のみを転写させ
ることも、画像層と該第2の受像層を転写させることも
、任意に選択できる画像受像シートが開示されている。 この画像受像シートを用いると、該第2の受像層の転写
の有無、および転写される第2の受像層の厚みを変化さ
せることで画像の光学的なゲイン量の調節が可能となる
。更に画像上の受像層の厚みが薄い効果によって、受像
層表面が永久支持体の凹凸をより忠実に再現出来、自然
な艶消し効果が得られる等、印刷物近似性の優れたカラ
ープルーフを得るのに好適である。 [0006] しかしながら、上記方法においては、受像第1層と第2
層間の層間密着力の設定に際し、次のような問題点があ
る。 1)画像を受像シートへ転写する段階では、受像第1層
と第2層間の層間密着力は強い程好ましい。(弱すぎる
と、画像を受像シートへ転写する際画像支持体を剥離す
る時に、受像第1層と第2層の間で剥がれてしまう恐れ
がある)2)画像層を永久支持体へ転写する段階では、
受像第1層と第2層間の層間密着力は弱い程好ましい。 (強すぎると永久支持体へ画像層を転写する際受像シー
ト支持体を剥離する時に、紙むけの発生する恐れがある
)[0007]
をコントロールできることが好ましい。また、−層の材
料であっても、支持体側と外側の接着力をコントロール
できることが好ましい。 例えば、光照射により層間の接着力を弱める技術が、E
PO156535号に開示されている。この方法では、
光照射により界面活性剤を生成させている。 また、Photographic 5cience a
nd Engineering Vol、 22. N
o、3.138〜141 i1 977)には、ジアゾもしくはアジドを添加し、光照射
によって気体を発生させて剥離現像を行う技術が開示さ
れている。 しかし、いずれの場合にも効果は十分なも
のとは言いがたい。 [0003] 2−ジアゾ−1,2−キノン誘導体は光照射によりWo
lff転位を起こし、窒素ガスとインデンカルボン酸誘
導体を生成する。この光転位反応を利用した記録材料、
特にポジ型の感光性組成物は広く知られており、米国特
許第3046110号、同第3046111号、同第3
046123号、同第3046124号、同第3106
465号、同第3130047号および特公昭46−2
1247号等にその記載がみられる。 だが、上述の光転位反応を光照射により層間の接着力を
弱めるプロセスに応用した例は従来知られていない。 [0004] 一方、これらジアゾ化合物の光分解前後の基体との接着
力変化を利用した乾式画像形成方法も知られている。例
えば特開昭52−57819には、支持体上に接着剤層
を設けたシートと、ジアゾニウム塩とバインダーとから
なる感光性組成物層を塗布した透明プラスチックフィル
ムとを重ね合わせた積層体に露光後、シートを剥離する
と該感光性組成物層の未露光部が透明プラスチック上に
、露光部分が支持体上に残存する画像形成方法が開示さ
れている。また、特開昭54−79032、同54−7
9033、同54−79034には、像露光後に、常温
では被粘着性のシート状担体と密着させた状態で該感光
性組成物の軟化点以上の温度に加熱し、該シート状担体
と該画像形成材料とを、該加熱温度以下の温度で剥離し
て、感光性組成物層の露光部を選択的に該シート状担体
上に転着させ、レリーフ画像を形成する方法が開示され
ている。しかし、これらの方法では、露光部分と未露光
部分との接着力変化が十分ではなく、良好な画像が得ら
れなかった。 [0005] 特開昭61−189535には支持体上に有機高分子か
らなる2層の受像層を有し、該受像層間の剥離力及び第
2層と画像層間との剥離力を調整することにより、永久
支持体上に画像層を転写する際に画像層のみを転写させ
ることも、画像層と該第2の受像層を転写させることも
、任意に選択できる画像受像シートが開示されている。 この画像受像シートを用いると、該第2の受像層の転写
の有無、および転写される第2の受像層の厚みを変化さ
せることで画像の光学的なゲイン量の調節が可能となる
。更に画像上の受像層の厚みが薄い効果によって、受像
層表面が永久支持体の凹凸をより忠実に再現出来、自然
な艶消し効果が得られる等、印刷物近似性の優れたカラ
ープルーフを得るのに好適である。 [0006] しかしながら、上記方法においては、受像第1層と第2
層間の層間密着力の設定に際し、次のような問題点があ
る。 1)画像を受像シートへ転写する段階では、受像第1層
と第2層間の層間密着力は強い程好ましい。(弱すぎる
と、画像を受像シートへ転写する際画像支持体を剥離す
る時に、受像第1層と第2層の間で剥がれてしまう恐れ
がある)2)画像層を永久支持体へ転写する段階では、
受像第1層と第2層間の層間密着力は弱い程好ましい。 (強すぎると永久支持体へ画像層を転写する際受像シー
ト支持体を剥離する時に、紙むけの発生する恐れがある
)[0007]
本発明の目的は、複数の層からなる記録材料の少なくと
も一層、もしくは単一の層からなる記録材料に添加し、
光照射により該層間もしくは該単一層と他の材料との接
着力を弱めることができる新規な化合物、及び該化合物
を用いた画像形成材料を提供することにある。 また、本発明の他の目的は、塗布層の表面に集中的に存
在して、表面の接着力を低下させることのできる新規な
化合物を提供することにある。 [0008]
も一層、もしくは単一の層からなる記録材料に添加し、
光照射により該層間もしくは該単一層と他の材料との接
着力を弱めることができる新規な化合物、及び該化合物
を用いた画像形成材料を提供することにある。 また、本発明の他の目的は、塗布層の表面に集中的に存
在して、表面の接着力を低下させることのできる新規な
化合物を提供することにある。 [0008]
本発明者らはかかる課題を解決すべく鋭意研究を重ねた
結果、層間の接着力を光照射により弱めるプロセスに2
−ジアゾ−1,2−キノン誘導体が有効であり特に後述
の新規化合物が好ましい機能を有することを見出すに至
った。 すなわち本発明の目的は、フッ素原子で置換されたアル
キル基を含む基で置換された新規な2−ジアゾ−1,2
−キノン誘導体、及びそれを含有する層を有する画像形
成材料により達成された。 [0009] ここで述べる2−ジアゾ−1,2−キノン誘導体は下記
一般式(1)%式%]
結果、層間の接着力を光照射により弱めるプロセスに2
−ジアゾ−1,2−キノン誘導体が有効であり特に後述
の新規化合物が好ましい機能を有することを見出すに至
った。 すなわち本発明の目的は、フッ素原子で置換されたアル
キル基を含む基で置換された新規な2−ジアゾ−1,2
−キノン誘導体、及びそれを含有する層を有する画像形
成材料により達成された。 [0009] ここで述べる2−ジアゾ−1,2−キノン誘導体は下記
一般式(1)%式%]
【1】
一般式(I)
[0011]
(式(I)中、R1、R2のうちいずれが一方は水素原
子、もう一方はフッ素原子で置換されたアルキル基を含
む基を示す。)で表されるものを含む。ここでいうフッ
素原子で置換されたアルキル基を含む基の代表例として
は一般式(II)(II) −So。−〇−R3 または一般式(III) (式(II) (III)中、R3、及びR4とR
5のうち少なくとも一方は、3個以上のフッ素原子で置
換された02〜C2oのアルキル基を含有する基を示す
。)で表される基が挙げられる。 [0012] 3個以上のフッ素原子で置換されたc2〜c2oのアル
キル基を含有する基の例としては、まずフッ素原子で置
換されたアルキル基、例えば2.2.2− )リフルオ
ロエチル基、3.3.3− )リフルオロプロピル基、
1.1.1.3.3.3−へキサフルオロ−2−プロピ
ル基、IH,IH−ペンタフルオロプロピル基、IH9
IH−へブタフルオロブチル基、IH、IH−ノナフル
オロペンチル基、IH,IH−ウンデカフルオロヘキシ
ル基、IH,IH,2H,2H−ペンタフルオロ−1−
ブチル基、IH,IH,2H,2H−ノナフルオロ−1
−ヘキシル基、IH,IH,2H,2H−)リデカフル
オロー1−オクチル基、IH,IH,2H,2H−ヘプ
タデカフルオロ−1−デシル基、IH,IH,2H,2
H−ヘンイコサフルオロー1−ドデシル基、IH,IH
,5H−オクタフルオロペンチル基、LH,LH,7H
−ドデカフルオロヘプチル基、IH,IH,9H−へキ
サデカフルオロノニル基等が挙げられる。 3個以上のフッ素原子で置換された02〜C2oのアル
キル基を含有する基のさらなる例としては、フッ素原子
で置換されたアルキル基を含有するフェニル基、例えば
パーフルオロアルキルメトキシフェニル基、パーフルオ
ロアルキルエトキシフェニル基、(パーフルオロアルキ
ルメチルチオ)フェニル基、(パーフルオロアルキルエ
チルチオ)フェニル基、パーフルオロアルキルメチルス
ルホニルフェニル基、パーフルオロアルキルエチルスル
ホニルフェニル基、パーフルオロアルキルメトキシカル
ボニルフェニル基、パーフルオロアルキルエトキシカル
ボニルフェニル基等が挙げられる。 [0013] 一般式(I)で表される化合物のうち特に好ましいのは
、半分以上の水素原子がフッ素原子で置換されたC2〜
C2oのアルキル基を含むスルホン酸エステル基が2−
ジアゾ−1,2−ナフトキノンの4位に結合しているも
のである。 次に一般式(I)の化合物の一般的合成法を示す。一般
式(I)の化合物は、−般式(IV) (IV) HO−R3 または一般式(V) (v)HNR4R5 (式中、R3、R4、R5は前述と同じである。)で表
されるフッ素原子で置換されたアルキル基と水酸基また
はアミノ基とを含む化合物と、一般式(VI)[001
4]
子、もう一方はフッ素原子で置換されたアルキル基を含
む基を示す。)で表されるものを含む。ここでいうフッ
素原子で置換されたアルキル基を含む基の代表例として
は一般式(II)(II) −So。−〇−R3 または一般式(III) (式(II) (III)中、R3、及びR4とR
5のうち少なくとも一方は、3個以上のフッ素原子で置
換された02〜C2oのアルキル基を含有する基を示す
。)で表される基が挙げられる。 [0012] 3個以上のフッ素原子で置換されたc2〜c2oのアル
キル基を含有する基の例としては、まずフッ素原子で置
換されたアルキル基、例えば2.2.2− )リフルオ
ロエチル基、3.3.3− )リフルオロプロピル基、
1.1.1.3.3.3−へキサフルオロ−2−プロピ
ル基、IH,IH−ペンタフルオロプロピル基、IH9
IH−へブタフルオロブチル基、IH、IH−ノナフル
オロペンチル基、IH,IH−ウンデカフルオロヘキシ
ル基、IH,IH,2H,2H−ペンタフルオロ−1−
ブチル基、IH,IH,2H,2H−ノナフルオロ−1
−ヘキシル基、IH,IH,2H,2H−)リデカフル
オロー1−オクチル基、IH,IH,2H,2H−ヘプ
タデカフルオロ−1−デシル基、IH,IH,2H,2
H−ヘンイコサフルオロー1−ドデシル基、IH,IH
,5H−オクタフルオロペンチル基、LH,LH,7H
−ドデカフルオロヘプチル基、IH,IH,9H−へキ
サデカフルオロノニル基等が挙げられる。 3個以上のフッ素原子で置換された02〜C2oのアル
キル基を含有する基のさらなる例としては、フッ素原子
で置換されたアルキル基を含有するフェニル基、例えば
パーフルオロアルキルメトキシフェニル基、パーフルオ
ロアルキルエトキシフェニル基、(パーフルオロアルキ
ルメチルチオ)フェニル基、(パーフルオロアルキルエ
チルチオ)フェニル基、パーフルオロアルキルメチルス
ルホニルフェニル基、パーフルオロアルキルエチルスル
ホニルフェニル基、パーフルオロアルキルメトキシカル
ボニルフェニル基、パーフルオロアルキルエトキシカル
ボニルフェニル基等が挙げられる。 [0013] 一般式(I)で表される化合物のうち特に好ましいのは
、半分以上の水素原子がフッ素原子で置換されたC2〜
C2oのアルキル基を含むスルホン酸エステル基が2−
ジアゾ−1,2−ナフトキノンの4位に結合しているも
のである。 次に一般式(I)の化合物の一般的合成法を示す。一般
式(I)の化合物は、−般式(IV) (IV) HO−R3 または一般式(V) (v)HNR4R5 (式中、R3、R4、R5は前述と同じである。)で表
されるフッ素原子で置換されたアルキル基と水酸基また
はアミノ基とを含む化合物と、一般式(VI)[001
4]
【化2】
−数式(VI)
[0015]
(式中、R6、R7のうちいずれか一方は水素原子、も
う一方は一8O3−C1で表される基を示す。)で表さ
れる2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンスルホニルクロ
ライドとを脱酸剤の共存下で縮合させることにより得ら
れる。 −数式(VI)の化合物の例としては、2−ジアゾ−1
,2−ナフトキノン−4−スルホニルクロライド、2−
ジアゾ−1,2−ナフトキノン−5−スルホニルクロラ
イドが挙げられる。 [0016] 反応溶媒としては各種の有機溶媒、中でもジエチルエー
テル、アセトン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩
化炭素、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、
トルエン、アセトニトリル等が好適である。また、脱酸
剤としては各種の有機アミン類、中でもピリジン、ジエ
チルアミン、トリエチルアミン、N、N−ジメチルアニ
リン、N、N−ジエチルアニリン等が好ましく用いられ
る。 反応は、−数式(■■)または(V)の化合物1モル当
量に対して、−数式(VI)を1〜1.2当量、脱酸剤
を1〜1.2当量用いるのが好ましく、反応温度は一1
0℃〜40℃が好ましい。 [0017] 本発明の2−ジアゾ−1,2−キノン誘導体は公知の2
−ジアゾ−1,2−キノン誘導体と同様、光照射により
Wolff転位を起こし、窒素ガスとカルボン酸誘導体
を生成する。複数の層からなる記録材料において、その
うちの少なくとも1層に本発明の2−ジアゾ−1,2−
キノン誘導体を添加すると、この化合物は光照射で上述
の転位反応により極性変化を起こし、この層と接する層
との間の接着力が効果的に減少する。従って、上述の複
数の層からなる記録材料を用いた一連の画像形成プロセ
スの中で、この2層間の接着力をできるだけ強くしたい
工程とできるだけ弱くしたい工程がある場合、2層のう
ちの少なくとも1層に本発明の2−ジアゾ−1,2−キ
ノン誘導体を添加し、この2つの工程の間に光照射の工
程を挿入することで2つの工程のそれぞれで要求される
接着力強度を同時に実現することができる。 従って、本発明の2−ジアゾ−1,2−キノン誘導体は
、カラープルーフの受像シート、剥離現像によるフォト
レジスト・印刷版等の画像形成材料にも効果的に使用す
ることが可能である。 以下に、本発明になる2−ジアゾ−1,2−キノン誘導
体を、カラープルーフを作成する場合に使用する受像シ
ートに用いた例を詳細に説明する。 [0018] 受像シートの支持体としては、化学的及び熱的に安定で
あり、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
カーボネート、場合によりポリエチレンフィルムをラミ
ネートした紙なども使用可能であるが、これらに限定さ
れるものではない。又、これら支持体と受像第一層の接
着力をあげる為にコロナ放電処理、グロー放電処理など
の表面処理やあるいはアンダーコート層を設けることも
可能である。アンダーコート層としては支持体と受像第
1層の接着力をあげるものならなんでもよいが、特にシ
ランカップリング等が好適である。 第1層として用い
る有機高分子物質してとヴイカーVicat法(具体的
にはアメリカ材料試験法ニーエステ−エムデーASTM
D1235によるポリマー軟化点測定法)による軟化点
が約80℃以下の有機高分子物質より選ばれることが好
ましい。この理由は軟化点の低いポリマーを用いること
により、転写可能な画像を受像シート材料に転写後、紙
などの永久支持体上に熱と圧で転写する際に、核層が紙
の凹凸に従って埋め込まれ紙との密着をよくし、又剥離
する際にマット化等の工程を必要とせず印刷物との近似
性をあげるものである。軟化点が高いポリマーを用いた
場合には、高い温度で転写する必要があり、画像の寸度
安定性等に大きな弊害を与える。ポリエチレンテレフタ
レートフィルム等を感材や、受像シート材料の支持体に
用いた場合には、このような点でVicat法による有
機高分子物質の軟化点が約80℃以下のもの、好ましく
は60℃以下、特に好ましくは50℃以下のものである
。軟化点が約80℃以下のものの具体例としては、ポリ
エチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチ
レンと酢酸ビニルあるいはエチレンとアクリル酸エステ
ルの如きエチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニ
ルと酢酸ビニルの如き塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビ
ニリデン、塩化ビニリデン共重合体ポリスチレン、スチ
レンと(メタ)アクリル酸エステルの如きスチレン共重
合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと(メタ)
アクリル酸エステルの如きビニルトルエン共重合、ポリ
(メタ)アクリル酸エステル、 (メタ)アクリル酸
ブチルど酢酸ビニル等の(メタ)アクリル酸エステルの
共重合体、酢酸ビニル、ナイロン、共重合ナイロン、N
−アルコキシメチル化ナイロンの如きポリアミド樹脂、
合成ゴム、塩化ゴム等の有機高分子物質から少なくとも
1つ選ばれるのが好ましいが、更に「プラスチック性能
便覧」 (日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチ
ック成形工業連合会編著、工業調査会発行、1968年
10月25日発行)による軟化点が約80℃以下の有機
高分子物質を使用することができる。 [0019] これらの有機高分子物質中には該高分子物質と相溶性の
ある種の可塑剤を添加して実質的な軟化点を下げること
も可能である。さらには、軟化点が80℃以上の有機高
分子物質でも相溶性のある可塑剤を添加することにより
、実質的に軟化点を80℃以下に下げることが可能であ
る。又これらの有機高分子物質中に受像シートの支持体
や、上にくる第2の有機高分子物質との接着力を調節す
るために実質的な軟化点が80℃を越えない範囲で各種
のポリマーや、密着改良剤あるいは界面活性剤や離型剤
を加えることが可能である。 [0020] 第1層の有機高分子物質の厚さは1μから50μが好ま
しく、特に5μから30μが好ましい。この理由の1つ
は受像シート材料上に転写された画像を永久支持体に転
写する場合、永久支持体の表面の凹凸より厚くする必要
があること、又他の1つは、転写可能な画像を受像シー
ト材料に転写する際に、転写可能な画像の画線部と非画
線部に凹凸があるような場合、単色の場合は薄くても良
いが、特にカラープルーフ用等の4色の重なりがある場
合には、各色の画線部と非画線部の凹凸の4倍の厚さが
あることが好ましいためである。 [0021] 次にこの上に設ける受像第2層について説明する。受像
第2層に使用される有機高分子物質の目的は永久支持体
への再転写時において受像シートの支持体の剥離で受像
第1層と第2層の間で層間剥離をさせ永久支持体上の画
像上に薄い第2層のみを残し、永久支持体の凹凸により
、特別なマット化処理をほどこすことなく実際の印刷物
の光沢に近似した画像を得ることにある。したがって特
開昭61−189535記載の接着力の関係を満足しう
るものであればなんでも使用可能であるが好ましくは第
1層目よりも10℃以上軟化点が高い物質から選ばれる
ことが好ましく、第1層目の素材に何を使用するか、あ
るいは転写可能な画像形成法として何を用いるかによっ
て画像形成部の素材あるいは永久支持体の材質; (例
としてアート紙、コート紙、上質紙、頁紙、金属板、合
成フィルム)により適宜選択されるべきである。 [0022] 第2層目に用いる有機高分子物質の具体例としては、ポ
リエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エ
チレンと酢酸ビニルあるいはエチレンとアクリル酸エス
テルの如きエチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビ
ニルと酢酸ビニルの如き塩化ビニル共重合体、ポリ塩化
ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、
スチレンと(メタ)アクリル酸エステルの如きスチレン
共重合体ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと(メタ
)アクリル酸エステルの如きビニルトルエン共重合、ポ
リ(メタ)アクリル酸エステル、 (メタ)アクリル酸
ブチルと酢酸ビニル等の(メタ)アクリル酸エステルの
共重合体、酢酸ビニル、ナイロン、共重合ナイロン、N
−アルコキシメチル化ナイロンの如きポリアミド樹脂、
合成ゴム、塩化ゴム、セルローズ誘導体等から選ばれた
少なくとも1種以上の有機高分子物質を用いることがで
きる。 又、受像第2層の粘着性、熱接着性さらには最終仕上が
り画像の保存性(耐接着性)といった膜物性をコントロ
ールする手段として第2層中に光重合性モノマ−を添加
し、永久支持体へ転写後に後露光して受像第2層を硬化
させる事も非常に有効である。 受像第2層の膜厚としては、0.1μ〜10μ位が好ま
しく特に0.5μ〜5μが好ましい。膜厚が厚すぎると
永久支持体の表面の凹凸感が損なわれ、光沢が出過ぎて
印刷物近似性を悪くする。永久支持体上に2層以上の受
像層が転写される場合は全膜厚がこの範囲にあることが
好ましい。 [0023] 本発明になる受像シートにおいては、受像第1層もしく
は第2層の少なくとも1つの層中に、本発明になる2−
ジアゾ−1,2−キノン誘導体が添加されている。 添加量は添加する層の対固形分比で0.01〜60wt
%、好ましくは1〜20wt%が好適である。添加量が
0.01wt%未満の場合には充分な層間密着力の低下
が得られず、また60wt%を越える場合には層間密着
力の低下は充分あるものの光照射で発生する窒素ガスの
影響で画質が悪化する不都合が生ずる。 [0024] 本発明になる受像シートを用いる転写可能な画像形成法
としては、前述した明細書に開示された各種の画像形成
法が利用可能であるが、支持体上に剥離層を設けたもの
が特に好ましい。この理由は剥離層がないと画像部自身
が永久支持体に転写されなければならないが、種々の実
験では素材の選択中が狭かったりあるいは熱転写の温度
を高くしなければならない等の制約を受けるが、剥離層
を設けた場合には機能分離が可能になり、温度のラチチ
ュード、あるいは永久支持体の転写される材質の種類が
広がるなどの利点を有している。 これらの剥離層は、写真的画像形成の際に非画線部の剥
離層が現像時にエツチングされ、画線部の下だけ残って
いても良いし、又現像時に剥離層がエツチングされるこ
となく剥離層上に色画像が形成されても良い。 [0025] また、本発明になる化合物は前述のような極性変化を利
用して、アルカリ水溶液等の現像液を用いた現像による
フォトレジスト・印刷版等の画像形成材料にも効果的に
使用することができる。この際にも、本発明になる2−
ジアゾ−1,2−キノン誘導体は、フッ素原子で置換さ
れたアルキル基を有する為に、該基を有さない公知の2
−ジアゾ−1,2−キノン誘導体と異なり、層内での局
在化が容易であり、種々の優れた特性が得られることを
期待できる。 更に、例えばフォトポリマーハンドブック(フォトポリ
マー懇話全編)[工業調査会(1989)]に記載され
た各種感光性詑録材料にも応用できると思われる。 以下、本発明を実施例によって更に詳細に説明するが、
本発明の内容がこれによって限定されるものではないこ
とはいうまでもない。 [0026]
う一方は一8O3−C1で表される基を示す。)で表さ
れる2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンスルホニルクロ
ライドとを脱酸剤の共存下で縮合させることにより得ら
れる。 −数式(VI)の化合物の例としては、2−ジアゾ−1
,2−ナフトキノン−4−スルホニルクロライド、2−
ジアゾ−1,2−ナフトキノン−5−スルホニルクロラ
イドが挙げられる。 [0016] 反応溶媒としては各種の有機溶媒、中でもジエチルエー
テル、アセトン、ジクロロメタン、クロロホルム、四塩
化炭素、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ベンゼン、
トルエン、アセトニトリル等が好適である。また、脱酸
剤としては各種の有機アミン類、中でもピリジン、ジエ
チルアミン、トリエチルアミン、N、N−ジメチルアニ
リン、N、N−ジエチルアニリン等が好ましく用いられ
る。 反応は、−数式(■■)または(V)の化合物1モル当
量に対して、−数式(VI)を1〜1.2当量、脱酸剤
を1〜1.2当量用いるのが好ましく、反応温度は一1
0℃〜40℃が好ましい。 [0017] 本発明の2−ジアゾ−1,2−キノン誘導体は公知の2
−ジアゾ−1,2−キノン誘導体と同様、光照射により
Wolff転位を起こし、窒素ガスとカルボン酸誘導体
を生成する。複数の層からなる記録材料において、その
うちの少なくとも1層に本発明の2−ジアゾ−1,2−
キノン誘導体を添加すると、この化合物は光照射で上述
の転位反応により極性変化を起こし、この層と接する層
との間の接着力が効果的に減少する。従って、上述の複
数の層からなる記録材料を用いた一連の画像形成プロセ
スの中で、この2層間の接着力をできるだけ強くしたい
工程とできるだけ弱くしたい工程がある場合、2層のう
ちの少なくとも1層に本発明の2−ジアゾ−1,2−キ
ノン誘導体を添加し、この2つの工程の間に光照射の工
程を挿入することで2つの工程のそれぞれで要求される
接着力強度を同時に実現することができる。 従って、本発明の2−ジアゾ−1,2−キノン誘導体は
、カラープルーフの受像シート、剥離現像によるフォト
レジスト・印刷版等の画像形成材料にも効果的に使用す
ることが可能である。 以下に、本発明になる2−ジアゾ−1,2−キノン誘導
体を、カラープルーフを作成する場合に使用する受像シ
ートに用いた例を詳細に説明する。 [0018] 受像シートの支持体としては、化学的及び熱的に安定で
あり、具体的には、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
カーボネート、場合によりポリエチレンフィルムをラミ
ネートした紙なども使用可能であるが、これらに限定さ
れるものではない。又、これら支持体と受像第一層の接
着力をあげる為にコロナ放電処理、グロー放電処理など
の表面処理やあるいはアンダーコート層を設けることも
可能である。アンダーコート層としては支持体と受像第
1層の接着力をあげるものならなんでもよいが、特にシ
ランカップリング等が好適である。 第1層として用い
る有機高分子物質してとヴイカーVicat法(具体的
にはアメリカ材料試験法ニーエステ−エムデーASTM
D1235によるポリマー軟化点測定法)による軟化点
が約80℃以下の有機高分子物質より選ばれることが好
ましい。この理由は軟化点の低いポリマーを用いること
により、転写可能な画像を受像シート材料に転写後、紙
などの永久支持体上に熱と圧で転写する際に、核層が紙
の凹凸に従って埋め込まれ紙との密着をよくし、又剥離
する際にマット化等の工程を必要とせず印刷物との近似
性をあげるものである。軟化点が高いポリマーを用いた
場合には、高い温度で転写する必要があり、画像の寸度
安定性等に大きな弊害を与える。ポリエチレンテレフタ
レートフィルム等を感材や、受像シート材料の支持体に
用いた場合には、このような点でVicat法による有
機高分子物質の軟化点が約80℃以下のもの、好ましく
は60℃以下、特に好ましくは50℃以下のものである
。軟化点が約80℃以下のものの具体例としては、ポリ
エチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エチ
レンと酢酸ビニルあるいはエチレンとアクリル酸エステ
ルの如きエチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビニ
ルと酢酸ビニルの如き塩化ビニル共重合体、ポリ塩化ビ
ニリデン、塩化ビニリデン共重合体ポリスチレン、スチ
レンと(メタ)アクリル酸エステルの如きスチレン共重
合体、ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと(メタ)
アクリル酸エステルの如きビニルトルエン共重合、ポリ
(メタ)アクリル酸エステル、 (メタ)アクリル酸
ブチルど酢酸ビニル等の(メタ)アクリル酸エステルの
共重合体、酢酸ビニル、ナイロン、共重合ナイロン、N
−アルコキシメチル化ナイロンの如きポリアミド樹脂、
合成ゴム、塩化ゴム等の有機高分子物質から少なくとも
1つ選ばれるのが好ましいが、更に「プラスチック性能
便覧」 (日本プラスチック工業連盟、全日本プラスチ
ック成形工業連合会編著、工業調査会発行、1968年
10月25日発行)による軟化点が約80℃以下の有機
高分子物質を使用することができる。 [0019] これらの有機高分子物質中には該高分子物質と相溶性の
ある種の可塑剤を添加して実質的な軟化点を下げること
も可能である。さらには、軟化点が80℃以上の有機高
分子物質でも相溶性のある可塑剤を添加することにより
、実質的に軟化点を80℃以下に下げることが可能であ
る。又これらの有機高分子物質中に受像シートの支持体
や、上にくる第2の有機高分子物質との接着力を調節す
るために実質的な軟化点が80℃を越えない範囲で各種
のポリマーや、密着改良剤あるいは界面活性剤や離型剤
を加えることが可能である。 [0020] 第1層の有機高分子物質の厚さは1μから50μが好ま
しく、特に5μから30μが好ましい。この理由の1つ
は受像シート材料上に転写された画像を永久支持体に転
写する場合、永久支持体の表面の凹凸より厚くする必要
があること、又他の1つは、転写可能な画像を受像シー
ト材料に転写する際に、転写可能な画像の画線部と非画
線部に凹凸があるような場合、単色の場合は薄くても良
いが、特にカラープルーフ用等の4色の重なりがある場
合には、各色の画線部と非画線部の凹凸の4倍の厚さが
あることが好ましいためである。 [0021] 次にこの上に設ける受像第2層について説明する。受像
第2層に使用される有機高分子物質の目的は永久支持体
への再転写時において受像シートの支持体の剥離で受像
第1層と第2層の間で層間剥離をさせ永久支持体上の画
像上に薄い第2層のみを残し、永久支持体の凹凸により
、特別なマット化処理をほどこすことなく実際の印刷物
の光沢に近似した画像を得ることにある。したがって特
開昭61−189535記載の接着力の関係を満足しう
るものであればなんでも使用可能であるが好ましくは第
1層目よりも10℃以上軟化点が高い物質から選ばれる
ことが好ましく、第1層目の素材に何を使用するか、あ
るいは転写可能な画像形成法として何を用いるかによっ
て画像形成部の素材あるいは永久支持体の材質; (例
としてアート紙、コート紙、上質紙、頁紙、金属板、合
成フィルム)により適宜選択されるべきである。 [0022] 第2層目に用いる有機高分子物質の具体例としては、ポ
リエチレン、ポリプロピレンなどのポリオレフィン、エ
チレンと酢酸ビニルあるいはエチレンとアクリル酸エス
テルの如きエチレン共重合体、ポリ塩化ビニル、塩化ビ
ニルと酢酸ビニルの如き塩化ビニル共重合体、ポリ塩化
ビニリデン、塩化ビニリデン共重合体、ポリスチレン、
スチレンと(メタ)アクリル酸エステルの如きスチレン
共重合体ポリビニルトルエン、ビニルトルエンと(メタ
)アクリル酸エステルの如きビニルトルエン共重合、ポ
リ(メタ)アクリル酸エステル、 (メタ)アクリル酸
ブチルと酢酸ビニル等の(メタ)アクリル酸エステルの
共重合体、酢酸ビニル、ナイロン、共重合ナイロン、N
−アルコキシメチル化ナイロンの如きポリアミド樹脂、
合成ゴム、塩化ゴム、セルローズ誘導体等から選ばれた
少なくとも1種以上の有機高分子物質を用いることがで
きる。 又、受像第2層の粘着性、熱接着性さらには最終仕上が
り画像の保存性(耐接着性)といった膜物性をコントロ
ールする手段として第2層中に光重合性モノマ−を添加
し、永久支持体へ転写後に後露光して受像第2層を硬化
させる事も非常に有効である。 受像第2層の膜厚としては、0.1μ〜10μ位が好ま
しく特に0.5μ〜5μが好ましい。膜厚が厚すぎると
永久支持体の表面の凹凸感が損なわれ、光沢が出過ぎて
印刷物近似性を悪くする。永久支持体上に2層以上の受
像層が転写される場合は全膜厚がこの範囲にあることが
好ましい。 [0023] 本発明になる受像シートにおいては、受像第1層もしく
は第2層の少なくとも1つの層中に、本発明になる2−
ジアゾ−1,2−キノン誘導体が添加されている。 添加量は添加する層の対固形分比で0.01〜60wt
%、好ましくは1〜20wt%が好適である。添加量が
0.01wt%未満の場合には充分な層間密着力の低下
が得られず、また60wt%を越える場合には層間密着
力の低下は充分あるものの光照射で発生する窒素ガスの
影響で画質が悪化する不都合が生ずる。 [0024] 本発明になる受像シートを用いる転写可能な画像形成法
としては、前述した明細書に開示された各種の画像形成
法が利用可能であるが、支持体上に剥離層を設けたもの
が特に好ましい。この理由は剥離層がないと画像部自身
が永久支持体に転写されなければならないが、種々の実
験では素材の選択中が狭かったりあるいは熱転写の温度
を高くしなければならない等の制約を受けるが、剥離層
を設けた場合には機能分離が可能になり、温度のラチチ
ュード、あるいは永久支持体の転写される材質の種類が
広がるなどの利点を有している。 これらの剥離層は、写真的画像形成の際に非画線部の剥
離層が現像時にエツチングされ、画線部の下だけ残って
いても良いし、又現像時に剥離層がエツチングされるこ
となく剥離層上に色画像が形成されても良い。 [0025] また、本発明になる化合物は前述のような極性変化を利
用して、アルカリ水溶液等の現像液を用いた現像による
フォトレジスト・印刷版等の画像形成材料にも効果的に
使用することができる。この際にも、本発明になる2−
ジアゾ−1,2−キノン誘導体は、フッ素原子で置換さ
れたアルキル基を有する為に、該基を有さない公知の2
−ジアゾ−1,2−キノン誘導体と異なり、層内での局
在化が容易であり、種々の優れた特性が得られることを
期待できる。 更に、例えばフォトポリマーハンドブック(フォトポリ
マー懇話全編)[工業調査会(1989)]に記載され
た各種感光性詑録材料にも応用できると思われる。 以下、本発明を実施例によって更に詳細に説明するが、
本発明の内容がこれによって限定されるものではないこ
とはいうまでもない。 [0026]
実施例1
4− (IH,IH,2H,2H−ヘプタデカフルオロ
デシルオキシ)スルホニル−2−ジアゾ−1,2−ナフ
トキノンの合成 2−ジアゾ−1,2−ナフトキノン−4−スルホニルク
ロライド13.4g、IH,IH、2H,2H−へブタ
デカフルオロデカノール23.2g、アセトニトリル1
00m1の混合物を攪拌した。これに、トリエチルアミ
ン5.16gのアセトニトリル20m lの溶液を滴下
した。滴下終了後反応混合物を氷水中に滴下した。 生成物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥、溶媒留去して粗生成物を得た。これをカ
ラムクロマトグラフィーで精製して表記化合物15、6
gを得た。融点125℃〜127℃(分解)[0027
] 実施例2 5− (IHJIH,2H,2H−ヘプタデカフルオロ
デシルオキシ)スルホニル−2−ジアゾ−1,2−ナフ
トキノンの合成 2−ジアゾ−1,2−ナフトキノン−4−スルホニルク
ロライド13.4g、IH,IH、2H,28−ヘプタ
デカフルオロデカノール23.2g、テトラヒドロフラ
ン100m1の混合物を攪拌した。これに、トリエチル
アミン5.16gのテトラヒドロフラン20m1の溶液
を滴下した。滴下終了後、氷水中に滴下すると、沈澱が
析出した。これを濾取水洗して粗生成物を得た。これを
アセトン−メタノール混合溶媒より再結晶して表記化合
物21.6gを得た。融点127℃〜129℃(分解)
[0028] 実施例3 4− (4−(IH,IH,2H,2H−ヘプタデカフ
ルオロデシル)チオ)フェノキシスルホニル−2−ジア
ゾ−1,2−ナフトキノンの合成1) (4−(LH,
IH,2H,2H−へブタデカフルオロデシル)チオ)
フェノールの合成p−チオハイドロキノン12.6gと
ジメチルアセトアミド180m1の混合物を一20℃で
攪拌した。この中にナトリウムメトキサイドの28zメ
タノール溶液19.3g、LH,IH。 2H,2H−へブタデカフルオロデシルアイオダイド5
7.4gのジメチルアセトアミド溶液を順に添加した。 薄層クロマトグラフィーで原料の消失が確認されたら水
にあけ、酢酸エチルで抽出、乾燥、溶媒留去により粗生
成物を得た。これをカラムクロマトグラフィーで精製し
た。 2) 4−(4−(LH,IH,2H,2H−へブタデ
カフルオロデシル)チオ)フェノキシスルホニル−2−
ジアゾ−1,2−ナフトキノンの合成2−ジアゾ−1,
2−ナフトキノン−4−スルホニルクロライド5.37
g、 1)で合成したフェノール11.5g、アセトニ
トリル50m lの混合物を水浴中で攪拌した。 これに、トリエチルアミン2.12gのアセトニトリル
10m1の溶液を滴下した。滴下終了後、氷水中に滴下
すると、沈澱が析出した。これを濾取、水洗して粗生成
物が得た。これをアセトン−メタノール混合溶媒より再
結晶して表記化合物13.3gを得た。融点121℃〜
123℃(分解)[0029] 実施例4 5− (4−(IH,IH,2H,2H−へブタデカフ
ルオロデシル)チオ)フェノキシスルホニル−2−ジア
ゾ−1,2−ナフトキノンの合成2−ジアゾ−1,2−
ナフトキノン−4−スルホニルクロライド5.37g及
び実施例31)で合成したフェノール11.5gより、
実施例3と同様に合成した。収量14゜5g0融点13
8℃〜140℃(分解)[00301 実施例5 4−(4−(IH,IH,2H,2H−へブタデカフル
オロデシルオキシ)カルボニル)フェノキシスルホニル
−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンの合成1) 4−
(IH,IH,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシル
オキシ)カルボニルフェノールの合成 4−ヒドロキシ安息香酸5.52g、LH,LH,2H
,2H−へブタデカフルオロデカノール18゜6g、濃
硫酸0.7ml、トルエン150m1の混合物を加熱還
流させた。 5時間後反応液を酢酸エチルで抽出し、抽出液を無水硫
酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去して表記化合物8.9
3gを得た。 2) 4−(4−(IH,LH,2H,2H−へブタデ
カフルオロデシルオキシ)カルボニル)フェノキシスル
ホニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンの合成2−
ジアゾ−1,2−ナフトキノン−4−スルホニルクロラ
イド1.61g、1)で合成したフェノール3.51g
、アセトニトリル30m1、テトラヒドロフラン20m
lの混合物を攪拌した。これに、トリエチルアミン0
.62gのアセトニトリル5mlの溶液を滴下した。滴
下終了後、氷水中に滴下すると、沈澱が析出した。これ
を濾取、水洗して粗生成物を得た。これをアセトン−メ
タノール混合溶媒より再結晶して表記化合物3.03g
を得た。融点148℃(分解)[0031] 実施例6 5− (4−(IH,IH,2H,2H−ヘプタデカフ
ルオロデシルオキシ)カルボニル)フェノキシスルホニ
ル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンの合成2−ジア
ゾ−1,2−ナフトキノン−4−スルホニルクロライド
2.69g及び実施例51)で合成したフェノール5.
84gより、実施例5と同様に合成した。収量3.78
g0融点141℃〜142℃(分解)[0032] 実施例7 先ず転写可能な画像形成材料を以下の手順で作成した。 下記組成を有する剥離層溶液をポリエチレンテレフタレ
ートフィルム支持体(厚さ:100μ)上に塗布・乾燥
して、乾燥膜厚が0.5μの剥離層を設けた。 剥離層用塗布液 アルコール可溶性ポリアミド 7.
2g(CM−8000、「η」20℃ 10wt%メタ
ノール溶液 23cps東しく株)製) ポリヒドロキシスチレン 1.
8g(レジンM、平均分子量:5500 丸首石油(
株)製)メタノール
400gメチルセロソルブ
100g[0033] 次いで、この剥離層上に下記衣−1に示した4種類(Y
、M、C,B)の塗布液を各々塗布・乾燥して、各々イ
エロー(Y) マゼンタ(M) シアン(C)ブラ
ック(B)に着色した乾燥塗膜が2.4μの感光性樹脂
層を設けた。 更に、各々の感光性樹脂層上に下記組成の塗布液を塗布
・乾燥して、乾燥膜厚が1.5μの保護層を形成した。 [0034]
デシルオキシ)スルホニル−2−ジアゾ−1,2−ナフ
トキノンの合成 2−ジアゾ−1,2−ナフトキノン−4−スルホニルク
ロライド13.4g、IH,IH、2H,2H−へブタ
デカフルオロデカノール23.2g、アセトニトリル1
00m1の混合物を攪拌した。これに、トリエチルアミ
ン5.16gのアセトニトリル20m lの溶液を滴下
した。滴下終了後反応混合物を氷水中に滴下した。 生成物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を無水硫酸マグネ
シウムで乾燥、溶媒留去して粗生成物を得た。これをカ
ラムクロマトグラフィーで精製して表記化合物15、6
gを得た。融点125℃〜127℃(分解)[0027
] 実施例2 5− (IHJIH,2H,2H−ヘプタデカフルオロ
デシルオキシ)スルホニル−2−ジアゾ−1,2−ナフ
トキノンの合成 2−ジアゾ−1,2−ナフトキノン−4−スルホニルク
ロライド13.4g、IH,IH、2H,28−ヘプタ
デカフルオロデカノール23.2g、テトラヒドロフラ
ン100m1の混合物を攪拌した。これに、トリエチル
アミン5.16gのテトラヒドロフラン20m1の溶液
を滴下した。滴下終了後、氷水中に滴下すると、沈澱が
析出した。これを濾取水洗して粗生成物を得た。これを
アセトン−メタノール混合溶媒より再結晶して表記化合
物21.6gを得た。融点127℃〜129℃(分解)
[0028] 実施例3 4− (4−(IH,IH,2H,2H−ヘプタデカフ
ルオロデシル)チオ)フェノキシスルホニル−2−ジア
ゾ−1,2−ナフトキノンの合成1) (4−(LH,
IH,2H,2H−へブタデカフルオロデシル)チオ)
フェノールの合成p−チオハイドロキノン12.6gと
ジメチルアセトアミド180m1の混合物を一20℃で
攪拌した。この中にナトリウムメトキサイドの28zメ
タノール溶液19.3g、LH,IH。 2H,2H−へブタデカフルオロデシルアイオダイド5
7.4gのジメチルアセトアミド溶液を順に添加した。 薄層クロマトグラフィーで原料の消失が確認されたら水
にあけ、酢酸エチルで抽出、乾燥、溶媒留去により粗生
成物を得た。これをカラムクロマトグラフィーで精製し
た。 2) 4−(4−(LH,IH,2H,2H−へブタデ
カフルオロデシル)チオ)フェノキシスルホニル−2−
ジアゾ−1,2−ナフトキノンの合成2−ジアゾ−1,
2−ナフトキノン−4−スルホニルクロライド5.37
g、 1)で合成したフェノール11.5g、アセトニ
トリル50m lの混合物を水浴中で攪拌した。 これに、トリエチルアミン2.12gのアセトニトリル
10m1の溶液を滴下した。滴下終了後、氷水中に滴下
すると、沈澱が析出した。これを濾取、水洗して粗生成
物が得た。これをアセトン−メタノール混合溶媒より再
結晶して表記化合物13.3gを得た。融点121℃〜
123℃(分解)[0029] 実施例4 5− (4−(IH,IH,2H,2H−へブタデカフ
ルオロデシル)チオ)フェノキシスルホニル−2−ジア
ゾ−1,2−ナフトキノンの合成2−ジアゾ−1,2−
ナフトキノン−4−スルホニルクロライド5.37g及
び実施例31)で合成したフェノール11.5gより、
実施例3と同様に合成した。収量14゜5g0融点13
8℃〜140℃(分解)[00301 実施例5 4−(4−(IH,IH,2H,2H−へブタデカフル
オロデシルオキシ)カルボニル)フェノキシスルホニル
−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンの合成1) 4−
(IH,IH,2H,2H−ヘプタデカフルオロデシル
オキシ)カルボニルフェノールの合成 4−ヒドロキシ安息香酸5.52g、LH,LH,2H
,2H−へブタデカフルオロデカノール18゜6g、濃
硫酸0.7ml、トルエン150m1の混合物を加熱還
流させた。 5時間後反応液を酢酸エチルで抽出し、抽出液を無水硫
酸マグネシウムで乾燥、溶媒留去して表記化合物8.9
3gを得た。 2) 4−(4−(IH,LH,2H,2H−へブタデ
カフルオロデシルオキシ)カルボニル)フェノキシスル
ホニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンの合成2−
ジアゾ−1,2−ナフトキノン−4−スルホニルクロラ
イド1.61g、1)で合成したフェノール3.51g
、アセトニトリル30m1、テトラヒドロフラン20m
lの混合物を攪拌した。これに、トリエチルアミン0
.62gのアセトニトリル5mlの溶液を滴下した。滴
下終了後、氷水中に滴下すると、沈澱が析出した。これ
を濾取、水洗して粗生成物を得た。これをアセトン−メ
タノール混合溶媒より再結晶して表記化合物3.03g
を得た。融点148℃(分解)[0031] 実施例6 5− (4−(IH,IH,2H,2H−ヘプタデカフ
ルオロデシルオキシ)カルボニル)フェノキシスルホニ
ル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンの合成2−ジア
ゾ−1,2−ナフトキノン−4−スルホニルクロライド
2.69g及び実施例51)で合成したフェノール5.
84gより、実施例5と同様に合成した。収量3.78
g0融点141℃〜142℃(分解)[0032] 実施例7 先ず転写可能な画像形成材料を以下の手順で作成した。 下記組成を有する剥離層溶液をポリエチレンテレフタレ
ートフィルム支持体(厚さ:100μ)上に塗布・乾燥
して、乾燥膜厚が0.5μの剥離層を設けた。 剥離層用塗布液 アルコール可溶性ポリアミド 7.
2g(CM−8000、「η」20℃ 10wt%メタ
ノール溶液 23cps東しく株)製) ポリヒドロキシスチレン 1.
8g(レジンM、平均分子量:5500 丸首石油(
株)製)メタノール
400gメチルセロソルブ
100g[0033] 次いで、この剥離層上に下記衣−1に示した4種類(Y
、M、C,B)の塗布液を各々塗布・乾燥して、各々イ
エロー(Y) マゼンタ(M) シアン(C)ブラ
ック(B)に着色した乾燥塗膜が2.4μの感光性樹脂
層を設けた。 更に、各々の感光性樹脂層上に下記組成の塗布液を塗布
・乾燥して、乾燥膜厚が1.5μの保護層を形成した。 [0034]
【表1】
表−に着色感光性樹脂N塗布法の処方
[0035]
保護層用塗布液
ポリビニルアルコール
60g(GL−05、日本合成化学工業(株)製)水
97
0gメタノール
30gこのようにして、順に支持体、剥離層、感光性
樹脂層および保護層からなる4色の感光性転写シー)(
N−+P型層着色感光シートを作成した。 4色各々の感光性転写シートを、レジスターピンを用い
て相応するマスクと重合わせ、2Kwの超高圧水銀灯で
50cmの距離で画像露光を行った。 しかる後、露光
済みの転写シートを下記組成の現像液を用いて35℃の
温度で10〜20秒間現像処理して剥離層上に4色のポ
ジ画像を得た。 [0036] 現像液 Na2CO315g ブチルセロソルブ 1g
水
II一方、受像シート材料を次のごとく作成した。ポリ
エチレンテレフタレートフィルム(厚さ:100μ)を
用意し下記組成の受像第1層用の塗布液Aを塗布・乾燥
して、乾燥膜厚が20μのの受像第1層を形成した。 [0037] 受像第1層塗液 エチレン−酢酸ビニル共重合体 15 g(
重量比、エチレン81%、酢酸ビニル19%、三井ポリ
ケミカル(株)製エバフレックス 塩素化ポリエチレン 0.075 g
(出隅国策パルプ(株)製スーパークロン07LTA) フッ素系界面活性剤 0.25g(3
M社製 フロラード FC−430)トルエン
100g[0038] 次に、上記の受像第1層の上に、以下の様にして乾燥膜
厚が2μmの受像第2層を形成した。 受像第2層母液 アルコール可溶性ナイロン
1.5g(東しく株)製、アミラン“CM
−8000°°)スチレン・マレイン酸半エステル共重
合樹脂 1.5g(日本触媒(株
)製、オキシラック5H−101)ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート 2.
1gミヒラーズケトン
0.02 gベンゾフェノン
0.1
3gメタノール
70gメチルセロソルブ
30gこの受像
第2層母液105.3gに、本発明の下記化合物を0.
3g添加した塗布液を用いた。 4−(4−(LH,IH,2H,2H−へブタデカフル
オロデシル)チオ)フェノキシスルホニル−2−ジアゾ
−1,2−ナフトキノン[0039] これら4色のポジ画像及び受像シートを用いて、以下の
評価を行った。 各々の受像面と、ブラック画像が形成されたカラープル
ーフィングシートの画像面とをレジスターピンにより位
置決めして重ね合わせ、カラーアート転写機CA−60
0T (富士写真フィルム(株)製)により受像シート
にブラック画像を転写したところ、ブラック画像は剥離
層と共にカラープルーフィングシートから受像シート上
に完全に転写された。 次いで、この転写されたブラック画像上にシアン、マゼ
ンタ、イエローの各画像が形成されたカラープルーフィ
ングシートを用いて前記と同様の操作を繰り返したとこ
ろ、各々のカラー画像は剥離層とともに受像シート上に
完全に転写され4色からなるカラー画像が得られた。 [00403 更に、このようにして得られた4色の転写画像を有する
受像シートの画像面と白色アート紙とを重ね合わせて前
記と同様の転写を行ない、その後に本発明の光重合性を
有する試料について密着プリンター(犬日本スクリーン
(株)製、P−607、lkw超高圧水銀灯)を用いて
受像シートのベース側から30秒間露光をおこない受像
シート材料を剥離すると支持体に受像第1層のみを残し
て、即ち永久支持体上には画像とその上の受像第2層が
形成された。 [0041] 下記衣−2に画像の転写性、及び受像第1層と第2層間
の剥離力を示す。 [0042]
60g(GL−05、日本合成化学工業(株)製)水
97
0gメタノール
30gこのようにして、順に支持体、剥離層、感光性
樹脂層および保護層からなる4色の感光性転写シー)(
N−+P型層着色感光シートを作成した。 4色各々の感光性転写シートを、レジスターピンを用い
て相応するマスクと重合わせ、2Kwの超高圧水銀灯で
50cmの距離で画像露光を行った。 しかる後、露光
済みの転写シートを下記組成の現像液を用いて35℃の
温度で10〜20秒間現像処理して剥離層上に4色のポ
ジ画像を得た。 [0036] 現像液 Na2CO315g ブチルセロソルブ 1g
水
II一方、受像シート材料を次のごとく作成した。ポリ
エチレンテレフタレートフィルム(厚さ:100μ)を
用意し下記組成の受像第1層用の塗布液Aを塗布・乾燥
して、乾燥膜厚が20μのの受像第1層を形成した。 [0037] 受像第1層塗液 エチレン−酢酸ビニル共重合体 15 g(
重量比、エチレン81%、酢酸ビニル19%、三井ポリ
ケミカル(株)製エバフレックス 塩素化ポリエチレン 0.075 g
(出隅国策パルプ(株)製スーパークロン07LTA) フッ素系界面活性剤 0.25g(3
M社製 フロラード FC−430)トルエン
100g[0038] 次に、上記の受像第1層の上に、以下の様にして乾燥膜
厚が2μmの受像第2層を形成した。 受像第2層母液 アルコール可溶性ナイロン
1.5g(東しく株)製、アミラン“CM
−8000°°)スチレン・マレイン酸半エステル共重
合樹脂 1.5g(日本触媒(株
)製、オキシラック5H−101)ペンタエリスリトー
ルテトラアクリレート 2.
1gミヒラーズケトン
0.02 gベンゾフェノン
0.1
3gメタノール
70gメチルセロソルブ
30gこの受像
第2層母液105.3gに、本発明の下記化合物を0.
3g添加した塗布液を用いた。 4−(4−(LH,IH,2H,2H−へブタデカフル
オロデシル)チオ)フェノキシスルホニル−2−ジアゾ
−1,2−ナフトキノン[0039] これら4色のポジ画像及び受像シートを用いて、以下の
評価を行った。 各々の受像面と、ブラック画像が形成されたカラープル
ーフィングシートの画像面とをレジスターピンにより位
置決めして重ね合わせ、カラーアート転写機CA−60
0T (富士写真フィルム(株)製)により受像シート
にブラック画像を転写したところ、ブラック画像は剥離
層と共にカラープルーフィングシートから受像シート上
に完全に転写された。 次いで、この転写されたブラック画像上にシアン、マゼ
ンタ、イエローの各画像が形成されたカラープルーフィ
ングシートを用いて前記と同様の操作を繰り返したとこ
ろ、各々のカラー画像は剥離層とともに受像シート上に
完全に転写され4色からなるカラー画像が得られた。 [00403 更に、このようにして得られた4色の転写画像を有する
受像シートの画像面と白色アート紙とを重ね合わせて前
記と同様の転写を行ない、その後に本発明の光重合性を
有する試料について密着プリンター(犬日本スクリーン
(株)製、P−607、lkw超高圧水銀灯)を用いて
受像シートのベース側から30秒間露光をおこない受像
シート材料を剥離すると支持体に受像第1層のみを残し
て、即ち永久支持体上には画像とその上の受像第2層が
形成された。 [0041] 下記衣−2に画像の転写性、及び受像第1層と第2層間
の剥離力を示す。 [0042]
【表2】
[0043]
受像第1層と第2層間の剥離力(層間密着力)は次のよ
うな条件で測定した。 層間剥離力の測定条件 測定試料として6x16cm2の受像層を用意した。 2 測定試料を24℃80%RHの雰囲気下で1時間調
湿した。 35cm巾のマイラーテープを受像層上に貼った。 4 4.5cm巾に測定試料を再カットした。 5 測定試料端部の受像層を一部マイラーテープととも
に層間剥離させ、同試料をデジタルフォースゲージメー
タ−DFG−2に型(SHIMPO工業(株)にて剥離
スピード1500mm/minで層間を剥離してその強
度を測定した。 [0044] 実施例8 実施例7で用いた4−(4−(LH,IH,2H,2H
−へブタデカフルオロデシル)チオ)フェノキシスルホ
ニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンの代わりに、
本発明の化合物4− (IH,IH,2H,2H−へブ
タデカフルオロデシル)オキシスルホニル−2−ジアゾ
−1,2−ナフトキノンを用いた以外は実施例7と同様
に試料を作成し、同様の評価を行った。 表−2に画像の転写性、及び受像第1層と第2層間の剥
離力を示す。 [0045] 実施例9 実施例7で用いた4 −(4−(IH,IH,2H,2
H−ヘプタデカフルオロデシル)チオ)フェノキシスル
ホニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンの代わりに
、本発明の化合物4− (2−(LH,LH,2H,2
H−へブタデカフルオロデシル)オキシ)フェノキシス
ルホニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンを用いた
以外は実施例7と同様に試料を作成し、同様の評価を行
った。 表−2に画像の転写性、及び受像第1層と第2層間の剥
離力を示す。 [0046] 実施例10 実施例7で用いた4 −(4−(LH,LH,2H,2
H−へブタデカフルオロデシル)チオ)フェノキシスル
ホニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンの代わりに
、本発明の化合物4−(LH,LH,5H−オクタフル
オロペンチル)オキシスルホニル−2−ジアゾ−1,2
−ナフトキノンを用いた以外は実施例7と同様に試料を
作成し、同様の評価を行った。 表−2に画像の転写性、及び受像第1層と第2層間の剥
離力を示す。 [0047] 実施例11 実施例7で用いた4−(4−(LH,LH,2H,2H
−へブタデカフルオロデシル)チオ)フェノキシスルホ
ニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンの代わりに、
本発明の化合物4− (4−(IH,LH,2H,2H
−へブタデカフルオロデシル)スルホニル)フェノキシ
スルホニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンを用い
た以外は実施例7と同様に試料を作成し、同様の評価を
行った。 表−2に画像の転写性、及び受像第1層と第2層間の剥
離力を示す。 [0048] 比較例 実施例7で用いた4−(4−(LH,LH,2H,2H
−へブタデカフルオロデシル)チオ)フェノキシスルホ
ニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンを添加しなか
った以外は実施例7と同様に試料を作成し、同様の評価
を行った。 表−2に画像の転写性、及び受像第1層と第2層間の剥
離力を示す。 [0049] 以上衣−2に示す様に本発明の化合物を受像層中に含む
サンプルは後露光により1層/2層間の密着力が大きく
低下して、その結果紙支持体への画像層の転写時の剥離
が軽くなり剥離端部に見られた紙ムケが改良された。 [0050] 実施例12 下記組成の感光液を調製した。 4−(4−(LH,IH,2H,2H−へブタデカフル
オロデシル)チオ)フェノキシスルホニル−2−ジアゾ
−1,2−ナフトキノン 2
gポリビニルブチラール(電気化学工業製、デンカブチ
ラール4002)2gメチルエチルケトン
20m1この液を
、ホワイラーを用いてアルミニウム基板上に均一に塗布
し、膜厚4μの感光層を形成した。この感光層にポジ原
稿を密着させて100Wの高圧水銀灯から20cmの距
離で100秒間露光した。次いで、熱ラミネートフィル
ムを重ねながら、ローラー温度が125℃に設定された
熱ローラー間を通過させ、熱ラミネートした後直ちにラ
ミネートフィルムを該感光層から剥離した。アルミニウ
ム基板上には感光層の非露光部から成る良好なポジ型の
レリーフ画像が、又、剥離したラミネートフィルム上に
は感光性組成物層の露光部から成るネガ型のレリーフ画
像が得られた。 [0051]
うな条件で測定した。 層間剥離力の測定条件 測定試料として6x16cm2の受像層を用意した。 2 測定試料を24℃80%RHの雰囲気下で1時間調
湿した。 35cm巾のマイラーテープを受像層上に貼った。 4 4.5cm巾に測定試料を再カットした。 5 測定試料端部の受像層を一部マイラーテープととも
に層間剥離させ、同試料をデジタルフォースゲージメー
タ−DFG−2に型(SHIMPO工業(株)にて剥離
スピード1500mm/minで層間を剥離してその強
度を測定した。 [0044] 実施例8 実施例7で用いた4−(4−(LH,IH,2H,2H
−へブタデカフルオロデシル)チオ)フェノキシスルホ
ニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンの代わりに、
本発明の化合物4− (IH,IH,2H,2H−へブ
タデカフルオロデシル)オキシスルホニル−2−ジアゾ
−1,2−ナフトキノンを用いた以外は実施例7と同様
に試料を作成し、同様の評価を行った。 表−2に画像の転写性、及び受像第1層と第2層間の剥
離力を示す。 [0045] 実施例9 実施例7で用いた4 −(4−(IH,IH,2H,2
H−ヘプタデカフルオロデシル)チオ)フェノキシスル
ホニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンの代わりに
、本発明の化合物4− (2−(LH,LH,2H,2
H−へブタデカフルオロデシル)オキシ)フェノキシス
ルホニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンを用いた
以外は実施例7と同様に試料を作成し、同様の評価を行
った。 表−2に画像の転写性、及び受像第1層と第2層間の剥
離力を示す。 [0046] 実施例10 実施例7で用いた4 −(4−(LH,LH,2H,2
H−へブタデカフルオロデシル)チオ)フェノキシスル
ホニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンの代わりに
、本発明の化合物4−(LH,LH,5H−オクタフル
オロペンチル)オキシスルホニル−2−ジアゾ−1,2
−ナフトキノンを用いた以外は実施例7と同様に試料を
作成し、同様の評価を行った。 表−2に画像の転写性、及び受像第1層と第2層間の剥
離力を示す。 [0047] 実施例11 実施例7で用いた4−(4−(LH,LH,2H,2H
−へブタデカフルオロデシル)チオ)フェノキシスルホ
ニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンの代わりに、
本発明の化合物4− (4−(IH,LH,2H,2H
−へブタデカフルオロデシル)スルホニル)フェノキシ
スルホニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンを用い
た以外は実施例7と同様に試料を作成し、同様の評価を
行った。 表−2に画像の転写性、及び受像第1層と第2層間の剥
離力を示す。 [0048] 比較例 実施例7で用いた4−(4−(LH,LH,2H,2H
−へブタデカフルオロデシル)チオ)フェノキシスルホ
ニル−2−ジアゾ−1,2−ナフトキノンを添加しなか
った以外は実施例7と同様に試料を作成し、同様の評価
を行った。 表−2に画像の転写性、及び受像第1層と第2層間の剥
離力を示す。 [0049] 以上衣−2に示す様に本発明の化合物を受像層中に含む
サンプルは後露光により1層/2層間の密着力が大きく
低下して、その結果紙支持体への画像層の転写時の剥離
が軽くなり剥離端部に見られた紙ムケが改良された。 [0050] 実施例12 下記組成の感光液を調製した。 4−(4−(LH,IH,2H,2H−へブタデカフル
オロデシル)チオ)フェノキシスルホニル−2−ジアゾ
−1,2−ナフトキノン 2
gポリビニルブチラール(電気化学工業製、デンカブチ
ラール4002)2gメチルエチルケトン
20m1この液を
、ホワイラーを用いてアルミニウム基板上に均一に塗布
し、膜厚4μの感光層を形成した。この感光層にポジ原
稿を密着させて100Wの高圧水銀灯から20cmの距
離で100秒間露光した。次いで、熱ラミネートフィル
ムを重ねながら、ローラー温度が125℃に設定された
熱ローラー間を通過させ、熱ラミネートした後直ちにラ
ミネートフィルムを該感光層から剥離した。アルミニウ
ム基板上には感光層の非露光部から成る良好なポジ型の
レリーフ画像が、又、剥離したラミネートフィルム上に
は感光性組成物層の露光部から成るネガ型のレリーフ画
像が得られた。 [0051]
本発明の2−ジアゾ−1,2−キノン誘導体は光照射に
よって極性変化を起こす。そのため多層からなる記録体
の少なくとも1層に本発明の化合物を添加すると、この
層とこの層と接する層の間の接着力を光照射前に比して
光照射後で効果的に低下させることができる。本発明の
2−ジアゾ−1,2−キノン誘導体はまた、印刷版、レ
ジスト材料等の目的にも使用することが可能である。
よって極性変化を起こす。そのため多層からなる記録体
の少なくとも1層に本発明の化合物を添加すると、この
層とこの層と接する層の間の接着力を光照射前に比して
光照射後で効果的に低下させることができる。本発明の
2−ジアゾ−1,2−キノン誘導体はまた、印刷版、レ
ジスト材料等の目的にも使用することが可能である。
Claims (4)
- 【請求項1】フッ素原子で置換されたアルキル基を含む
基で置換されていることを特徴とする2−ジアゾ−1,
2−キノン誘導体。 - 【請求項2】4位または5位が該フッ素原子で置換され
たアルキル基を含む基で置換された2−ジアゾ−1,2
−ナフトキノン誘導体であることを特徴とする請求項1
に記載の2−ジアゾ−1,2−キノン誘導体。 - 【請求項3】該フッ素原子で置換されたアルキル基がス
ルホン酸エステルまたはアミドを介して2−ジアゾ−1
,2−ナフトキノンに結合していることを特徴とする請
求項2に記載の2−ジアゾ−1,2−ナフトキノン誘導
体。 - 【請求項4】支持体上に、フっ素原子で置換されたアル
キル基を含む基で置換された2−ジアゾ−1,2−キノ
ン誘導体を含む層を有する事を特徴とする画像形成材料
。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/736,343 US5312905A (en) | 1990-07-27 | 1991-07-26 | 2-diazo-1,2-naphthoquinone compounds |
DE69105848T DE69105848T3 (de) | 1990-07-27 | 1991-07-26 | 2-Diazo-1,2-chinonverbindungen und Reproduktionsmaterialien, die diese Verbindungen enthalten. |
EP91112624A EP0468531B2 (en) | 1990-07-27 | 1991-07-26 | 2-Diazo-1,2-quinone compounds and image forming materials prepared using the compounds |
US08/093,722 US5384227A (en) | 1990-07-27 | 1993-07-20 | Image forming materials prepared using 2-diazo-1,2-naphthoquinone compounds having fluorine atom containing substituent groups |
US08/315,574 US5514518A (en) | 1990-07-27 | 1994-09-30 | Method of improving delamination in an image forming material utilizing 2-diazo-1,2-quinone compounds having fluorine containing substituent groups |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2-200989 | 1990-07-27 | ||
JP20098990 | 1990-07-27 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0489469A true JPH0489469A (ja) | 1992-03-23 |
Family
ID=16433657
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP40005990A Pending JPH0489469A (ja) | 1990-07-27 | 1990-12-01 | 2−ジアゾ−1,2−キノン誘導体、及びそれを用いた画像形成材料 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0489469A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102114117B1 (ko) * | 2018-11-27 | 2020-05-22 | 인하대학교 산학협력단 | 고불소계 용제에 용해성을 가지는 고불소화 단분자 포토레지스트 및 고불소화 아민 유도체를 이용한 포지티브형 포토레지스트의 제조 |
Citations (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JPS5494024A (en) * | 1971-05-28 | 1979-07-25 | Polychrome Corp | Photosensitive composition |
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- 1990-12-01 JP JP40005990A patent/JPH0489469A/ja active Pending
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KR102114117B1 (ko) * | 2018-11-27 | 2020-05-22 | 인하대학교 산학협력단 | 고불소계 용제에 용해성을 가지는 고불소화 단분자 포토레지스트 및 고불소화 아민 유도체를 이용한 포지티브형 포토레지스트의 제조 |
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