JPH0481166B2 - - Google Patents
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- JPH0481166B2 JPH0481166B2 JP9724483A JP9724483A JPH0481166B2 JP H0481166 B2 JPH0481166 B2 JP H0481166B2 JP 9724483 A JP9724483 A JP 9724483A JP 9724483 A JP9724483 A JP 9724483A JP H0481166 B2 JPH0481166 B2 JP H0481166B2
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- Japan
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- insulating layer
- liquid crystal
- electrode
- inorganic insulating
- crystal display
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
- G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
- G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour
- G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
- G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
- G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
- G02F1/133345—Insulating layers
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Nonlinear Science (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
(イ) 産業上の利用分野
本発明は高密度表示を行なうための多層電極を
有した液晶表示器に関する。 (ロ) 従来技術 従来画像等を表示する液晶表示器は、第１図に
示すように液晶１０をはさむ基板９，９の少なく
とも一方において、液晶１０を駆動するための表
示電極１５，１５…と、表示電極１５，１５…に
給電するためのリード電極１４，１４…とを絶縁
層１２を介して多層配線し表示密度を高めてい
た。ところがこの方法では絶縁層１２の不所望の
場所にピンホールが発生し、絶縁不良が発生す
る。これを防ぐには絶縁層１２の厚みを例えば
5μm以上と充分厚くすれば改善できるが、絶縁層
１２で光吸収が生じて表示コントラストが低下
し、また電極接続用のスルホール１６，１６…で
の導通不良が多発して不都合である。 (ハ) 発明の目的 本発明は上述の点を考慮してなされたもので、
歩留まりよく製造できコントラストのよい液晶表
示器を提供するものである。 (ニ) 発明の構成 本発明は次の点に鑑みてなされたものである。 まず絶縁層の光吸収と酸化インジウム系に代表
される電極材料の材料特性を考慮すると、絶縁層
の厚みが3μm以下で確実な導通をとるのが最も好
ましい。 次に絶縁層に生じるピンホールはその絶縁層を
複数回に分けて行えば同一場所に発生する確率が
少ないものの、同一材料で複数回行なうと所定位
置のスルホールが型くずれを生じたり除去むらが
生じやすい。 さらにリード電極側は高密度配線となるのでリ
ークの生じない材料がよく、表示電極側はスルホ
ール部のエツジがなめらかになりやすく電極材料
がなだらかに連続してスルホール壁面に付着する
事が必要である。 以上のことから本発明では上述した絶縁層を第
２図に示すように上下２層の積層構造とし、リー
ド電極４，４…側に無機絶縁層２を、また表示電
極５，５…側に有機絶縁層３を用いた。以下実施
例に基づいて本発明を詳細に説明する。 (ホ) 実施例 第２図に示すようにソーダガラス又は表面処理
されたガラス板からなる基台１上にリード電極
４，４…を設け、無機絶縁層２としてSiO2を蒸
着法により設けリフトオフ法でスルホールを形成
したのち、有機絶縁層３としてポリイミド（日立
化成工業製PIQ1200）をスピンナ塗布し、フオト
エツチングでスルホール６，６…を形成し、酸化
インジウム膜500Å設けて表示電極５，５…とし
た。表示面積140×200mm中に画素数19200個を形
成した時の結果の１例を示す。
有した液晶表示器に関する。 (ロ) 従来技術 従来画像等を表示する液晶表示器は、第１図に
示すように液晶１０をはさむ基板９，９の少なく
とも一方において、液晶１０を駆動するための表
示電極１５，１５…と、表示電極１５，１５…に
給電するためのリード電極１４，１４…とを絶縁
層１２を介して多層配線し表示密度を高めてい
た。ところがこの方法では絶縁層１２の不所望の
場所にピンホールが発生し、絶縁不良が発生す
る。これを防ぐには絶縁層１２の厚みを例えば
5μm以上と充分厚くすれば改善できるが、絶縁層
１２で光吸収が生じて表示コントラストが低下
し、また電極接続用のスルホール１６，１６…で
の導通不良が多発して不都合である。 (ハ) 発明の目的 本発明は上述の点を考慮してなされたもので、
歩留まりよく製造できコントラストのよい液晶表
示器を提供するものである。 (ニ) 発明の構成 本発明は次の点に鑑みてなされたものである。 まず絶縁層の光吸収と酸化インジウム系に代表
される電極材料の材料特性を考慮すると、絶縁層
の厚みが3μm以下で確実な導通をとるのが最も好
ましい。 次に絶縁層に生じるピンホールはその絶縁層を
複数回に分けて行えば同一場所に発生する確率が
少ないものの、同一材料で複数回行なうと所定位
置のスルホールが型くずれを生じたり除去むらが
生じやすい。 さらにリード電極側は高密度配線となるのでリ
ークの生じない材料がよく、表示電極側はスルホ
ール部のエツジがなめらかになりやすく電極材料
がなだらかに連続してスルホール壁面に付着する
事が必要である。 以上のことから本発明では上述した絶縁層を第
２図に示すように上下２層の積層構造とし、リー
ド電極４，４…側に無機絶縁層２を、また表示電
極５，５…側に有機絶縁層３を用いた。以下実施
例に基づいて本発明を詳細に説明する。 (ホ) 実施例 第２図に示すようにソーダガラス又は表面処理
されたガラス板からなる基台１上にリード電極
４，４…を設け、無機絶縁層２としてSiO2を蒸
着法により設けリフトオフ法でスルホールを形成
したのち、有機絶縁層３としてポリイミド（日立
化成工業製PIQ1200）をスピンナ塗布し、フオト
エツチングでスルホール６，６…を形成し、酸化
インジウム膜500Å設けて表示電極５，５…とし
た。表示面積140×200mm中に画素数19200個を形
成した時の結果の１例を示す。
【表】
絶縁層のいずれかにおいてもそれぞれピンホー
ルの発生が認められたが、実験を通じてピンホー
ルの位置が上下層で重なる事はなく、また有機絶
縁層用のエツチヤントは無機絶縁層を侵食しなか
つたので、基台１を清浄にして無機絶縁層２を設
けておけば短絡不良は防止できることが明確とな
つた。 実験では無機絶縁層２は200乃至10000Å、有機
絶縁層３は2000乃至8000Åの時電気特性も良く、
またコントラストも良好であつた。 尚実験において、スルホール６，６、はテーパ
角θの大きさに適当な条件がある事もわかつた。
即ちテーパ角θが90度以上では電極材料が不連続
となるが、電極材料が良好な導電性を示すのに必
要なうすさの限界としての厚み100Åとすると、
電極材料の光吸収が顕著となりはじめる厚さ2000
Åを上の層の表示電極５として蒸着するとして、
スルホール６斜面における電極厚みが100Åにな
るテーパ角、即ちθnax＝COS-1（100/2000）＝87.1
度が限界となる。一方リード電極４，４…の巾以
上にスルホール径を設けると２本のリード電極
４，４…にまたがる可能性が大きくなり、またリ
ード電極４，４…の巾の1/2以上を露出させてお
かないと位置ずれした時に導通不良を生じやす
い。従つて絶縁層全体の厚みが3μm、リード電極
４，４…の巾が50μmとするとθminは6.8度にな
る。即ちバラツキを考慮したテーパ角θの許容範
囲は５乃至85度となる。 上述の実験に続いて無機絶縁層２として
MgF2、CeO2などの金属酸化物、ハロゲン化物に
ついても実験を行ない、同様の結果を得た。 (ヘ) 発明の考果 以上の如く本発明は、内面に電極を有した複数
の基板によつて挾持された液晶を有する液晶表示
器において、前記基板の少なくとも一方は、基台
側の第１の電極群（上記実施例ではリード電極）
と、その第１の電極上に設けられた無機絶縁層
と、該無機絶縁層上に積層された有機絶縁層と、
これら絶縁層を貫通して第１の電極群に電気的に
接続され、有機絶縁層上に設けられた液晶側の第
２の電極（上記実施例では表示電極）とを具備し
た液晶表示器であるから製造しやすく表示コント
ラストがよい。
ルの発生が認められたが、実験を通じてピンホー
ルの位置が上下層で重なる事はなく、また有機絶
縁層用のエツチヤントは無機絶縁層を侵食しなか
つたので、基台１を清浄にして無機絶縁層２を設
けておけば短絡不良は防止できることが明確とな
つた。 実験では無機絶縁層２は200乃至10000Å、有機
絶縁層３は2000乃至8000Åの時電気特性も良く、
またコントラストも良好であつた。 尚実験において、スルホール６，６、はテーパ
角θの大きさに適当な条件がある事もわかつた。
即ちテーパ角θが90度以上では電極材料が不連続
となるが、電極材料が良好な導電性を示すのに必
要なうすさの限界としての厚み100Åとすると、
電極材料の光吸収が顕著となりはじめる厚さ2000
Åを上の層の表示電極５として蒸着するとして、
スルホール６斜面における電極厚みが100Åにな
るテーパ角、即ちθnax＝COS-1（100/2000）＝87.1
度が限界となる。一方リード電極４，４…の巾以
上にスルホール径を設けると２本のリード電極
４，４…にまたがる可能性が大きくなり、またリ
ード電極４，４…の巾の1/2以上を露出させてお
かないと位置ずれした時に導通不良を生じやす
い。従つて絶縁層全体の厚みが3μm、リード電極
４，４…の巾が50μmとするとθminは6.8度にな
る。即ちバラツキを考慮したテーパ角θの許容範
囲は５乃至85度となる。 上述の実験に続いて無機絶縁層２として
MgF2、CeO2などの金属酸化物、ハロゲン化物に
ついても実験を行ない、同様の結果を得た。 (ヘ) 発明の考果 以上の如く本発明は、内面に電極を有した複数
の基板によつて挾持された液晶を有する液晶表示
器において、前記基板の少なくとも一方は、基台
側の第１の電極群（上記実施例ではリード電極）
と、その第１の電極上に設けられた無機絶縁層
と、該無機絶縁層上に積層された有機絶縁層と、
これら絶縁層を貫通して第１の電極群に電気的に
接続され、有機絶縁層上に設けられた液晶側の第
２の電極（上記実施例では表示電極）とを具備し
た液晶表示器であるから製造しやすく表示コント
ラストがよい。
第１図は従来の液晶表示器の断面図、第２図は
本発明実施例の液晶表示器に適用される基板の要
部断面図である。 １……基台、２……無機絶縁層、３……有機絶
縁層、４，４……リード電極、５，５……表示電
極、６，６……スルホール、１０……液晶。
本発明実施例の液晶表示器に適用される基板の要
部断面図である。 １……基台、２……無機絶縁層、３……有機絶
縁層、４，４……リード電極、５，５……表示電
極、６，６……スルホール、１０……液晶。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ 内面に電極を有した複数の基板によつて挾持
された液晶を有する液晶表示器において、前記基
板の少なくとも一方は、基台側の第１の電極群
と、その第１の電極上に設けられた無機絶縁層
と、該無機絶縁層上に積層されたポリイミド系の
有機絶縁層と、これら絶縁層を貫通して第１の電
極群に電気的に接続され、有機絶縁層上に設けら
れた液晶側の第２の電極とを具備したことを特徴
とする液晶表示器。 ２ 前記無機絶縁層は金属酸化物又はハロゲン化
物からなることを特徴とする前記特許請求の範囲
第１項記載の液晶表示器。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58097244A JPS59222814A (ja) | 1983-05-31 | 1983-05-31 | 液晶表示器 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP58097244A JPS59222814A (ja) | 1983-05-31 | 1983-05-31 | 液晶表示器 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS59222814A JPS59222814A (ja) | 1984-12-14 |
| JPH0481166B2 true JPH0481166B2 (ja) | 1992-12-22 |
Family
ID=14187175
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP58097244A Granted JPS59222814A (ja) | 1983-05-31 | 1983-05-31 | 液晶表示器 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS59222814A (ja) |
Families Citing this family (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS6214622A (ja) * | 1985-07-12 | 1987-01-23 | Toppan Printing Co Ltd | カラ−フイルタ−付電極板 |
| EP0224040B1 (en) * | 1985-11-26 | 1990-09-26 | Stanley Electric Co., Ltd. | Liquid crystal color display device and its manufacturing process |
| JPH0435070A (ja) * | 1990-05-31 | 1992-02-05 | Taiyo Yuden Co Ltd | 透光性配線基板 |
| JP2849989B2 (ja) * | 1995-07-14 | 1999-01-27 | キヤノン株式会社 | 液晶装置 |
| JP2626650B2 (ja) * | 1996-06-24 | 1997-07-02 | セイコーエプソン株式会社 | アクティブマトリクスパネルの製造方法 |
Family Cites Families (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5226632B2 (ja) * | 1972-10-31 | 1977-07-15 | ||
| JPS57194875A (en) * | 1981-05-21 | 1982-11-30 | Seiko Seiki Co Ltd | Controlling method of grinding machine |
-
1983
- 1983-05-31 JP JP58097244A patent/JPS59222814A/ja active Granted
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPS59222814A (ja) | 1984-12-14 |
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