JPH0452627B2 - - Google Patents
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- JPH0452627B2 JPH0452627B2 JP13640285A JP13640285A JPH0452627B2 JP H0452627 B2 JPH0452627 B2 JP H0452627B2 JP 13640285 A JP13640285 A JP 13640285A JP 13640285 A JP13640285 A JP 13640285A JP H0452627 B2 JPH0452627 B2 JP H0452627B2
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- Bipolar Transistors (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は高周波特性に優れたバイポーラトラン
ジスタの製造方法に関するものである。
ジスタの製造方法に関するものである。
従来の技術
従来のバイポーラトランジスタの代表的構造を
第5図に示す。図において、12はn型シリコン
基板、13はエピタキシヤル成長によつてその上
に設けられたn+型コレクタ、14は拡散によつ
て設けられたp型ベース、15は拡散または合金
によつて設けられたn型エミツタ、16はコレク
タ電極、17はベース電極、18はエミツタ電極
である。
第5図に示す。図において、12はn型シリコン
基板、13はエピタキシヤル成長によつてその上
に設けられたn+型コレクタ、14は拡散によつ
て設けられたp型ベース、15は拡散または合金
によつて設けられたn型エミツタ、16はコレク
タ電極、17はベース電極、18はエミツタ電極
である。
これはnpnトランジスタであるが、pnpトラン
ジスタでも同様に構成することができる。
ジスタでも同様に構成することができる。
この例は同一の半導体材料すなわちシリコンを
用いて、エミツタ、ベース、コレクタを形成して
いる。
用いて、エミツタ、ベース、コレクタを形成して
いる。
ところで、エミツタをベースよりも禁制帯エネ
ルギー幅の大きい半導体を用いて形成(ヘテロ接
合バイポーラトランジスタ)すると、非常に高い
電流利得の得られることが知られている。これは
材料を適当に選ぶことにより、エミツターベース
接合部のバンド構造を、電子に対してはあまり障
壁にならず、ホールに対して大きな障壁となるよ
うに構成できることによる。その代表的な例は、
エミツタにAlxGa1-xAsを、ベースとコレクタに
GaAsを用いたものである。
ルギー幅の大きい半導体を用いて形成(ヘテロ接
合バイポーラトランジスタ)すると、非常に高い
電流利得の得られることが知られている。これは
材料を適当に選ぶことにより、エミツターベース
接合部のバンド構造を、電子に対してはあまり障
壁にならず、ホールに対して大きな障壁となるよ
うに構成できることによる。その代表的な例は、
エミツタにAlxGa1-xAsを、ベースとコレクタに
GaAsを用いたものである。
更にこのような構造とすることにより、高周波
特性がいちじるしく改善されることが知られてい
る。バイポーラトランジスタの最大遮断周波数 Fcは Fc=√1(8) Rb;ベース抵抗 Cc;コレクタ容量 であらわされる。エミツタをベースよりも禁制帯
エネルギーの大きい半導体を用いて形成すると、
前述の如く、材料を適当に選ぶことにより、エミ
ツターベース接合部のバンド構造を、電子に対し
てはあまり障壁にならず、ホールに対して大きな
障壁となるように構成できる。そのため、ベース
のキヤリア濃度(ホール濃度)を非常に高くする
ことができる。したがつて、ベース抵抗を極端に
小さくすることができ、その結果として最大遮断
周波数Fcの非常に大きな値が得られるものであ
る。しかしp型ベース層とn型コレクタ層との接
合面積が大きくコレクタ容量が大きいため、(1)式
からわかるように高周波特性の充分優れたものが
得られなかつた。
特性がいちじるしく改善されることが知られてい
る。バイポーラトランジスタの最大遮断周波数 Fcは Fc=√1(8) Rb;ベース抵抗 Cc;コレクタ容量 であらわされる。エミツタをベースよりも禁制帯
エネルギーの大きい半導体を用いて形成すると、
前述の如く、材料を適当に選ぶことにより、エミ
ツターベース接合部のバンド構造を、電子に対し
てはあまり障壁にならず、ホールに対して大きな
障壁となるように構成できる。そのため、ベース
のキヤリア濃度(ホール濃度)を非常に高くする
ことができる。したがつて、ベース抵抗を極端に
小さくすることができ、その結果として最大遮断
周波数Fcの非常に大きな値が得られるものであ
る。しかしp型ベース層とn型コレクタ層との接
合面積が大きくコレクタ容量が大きいため、(1)式
からわかるように高周波特性の充分優れたものが
得られなかつた。
発明が解決しようとする問題点
このような従来の構成では、コレクタ容量およ
びエミツタ容量共小さい素子を得ることが困難で
あり、高周波特性の充分優れたものが得られな
い。
びエミツタ容量共小さい素子を得ることが困難で
あり、高周波特性の充分優れたものが得られな
い。
本発明はかかる点に鑑みなされたもので、コレ
クタ容量およびエミツタ容量共に小さい構造を提
供することを目的としている。
クタ容量およびエミツタ容量共に小さい構造を提
供することを目的としている。
問題点を解決するための手段
本発明は上記問題点を解決するため、基板側に
エミツタを有する構成において、あらかじめ半絶
縁性半導体層を形成したのち、エツチングによつ
て該半絶縁性半導体層の一部を除去し、その上に
ベース層およびコレクタ層を分子線エピタキシー
などのエピタキシヤル成長技術を用いて再成長さ
せることによつて、コレクタ容量およびエミツタ
容量共に小さい構造を提供するものである。
エミツタを有する構成において、あらかじめ半絶
縁性半導体層を形成したのち、エツチングによつ
て該半絶縁性半導体層の一部を除去し、その上に
ベース層およびコレクタ層を分子線エピタキシー
などのエピタキシヤル成長技術を用いて再成長さ
せることによつて、コレクタ容量およびエミツタ
容量共に小さい構造を提供するものである。
作 用
本発明は上記した構造により、コレクタ容量お
よびエミツタ容量共に小さいので高周波特性が改
善される。
よびエミツタ容量共に小さいので高周波特性が改
善される。
実施例
第1図は本発明の構造の一実施例を示したもの
である。第1図において、1は半絶縁性GaAs基
板、2はn+型GaAsエミツタ1層(電極取り出
し層)、3はn型AlxGa1-xAs(x=0.3)エミツタ
2層、4はAlyGa1-yAs(y=0.3)半絶縁性半導
体層、5はp型GaAsベース層、6はn型GaAs
コレクタ1層、7はn+型GaAsコレクタ2層
(電極取り出し層)、8はエミツタ電極、9はベー
ス電極、10はコレクタ電極である。
である。第1図において、1は半絶縁性GaAs基
板、2はn+型GaAsエミツタ1層(電極取り出
し層)、3はn型AlxGa1-xAs(x=0.3)エミツタ
2層、4はAlyGa1-yAs(y=0.3)半絶縁性半導
体層、5はp型GaAsベース層、6はn型GaAs
コレクタ1層、7はn+型GaAsコレクタ2層
(電極取り出し層)、8はエミツタ電極、9はベー
ス電極、10はコレクタ電極である。
各層の厚みは、1の半絶縁性GaAs基板が
400μm,2のn+型GaAsエミツタ1層が4000
Å、3のn型AlxGa1-xAsエミツタ2層が2000Å、
4のAlyGa1-yAs半絶縁性半導体層が2000Å、5
のp型GaAsベース層が1000Å、6のn型GaAs
コレクタ1層は1500Å、7の電極取り出し用n+
型GaAsエミツタ2層は1500Åである。2〜7の
各層は、分子線エピタキシー(MBE)によつて
形成された。
400μm,2のn+型GaAsエミツタ1層が4000
Å、3のn型AlxGa1-xAsエミツタ2層が2000Å、
4のAlyGa1-yAs半絶縁性半導体層が2000Å、5
のp型GaAsベース層が1000Å、6のn型GaAs
コレクタ1層は1500Å、7の電極取り出し用n+
型GaAsエミツタ2層は1500Åである。2〜7の
各層は、分子線エピタキシー(MBE)によつて
形成された。
次に本実施例の素子の製造方法について述べ
る。第2図に示すように、先ず1の半絶縁性
GaAs基板の上に分子線エピタキシーにより、2
〜4の各層を所定の厚みに形成した。次に通常の
ホトリソグラフイー法によりレジストマスクを形
成し、このレジストマスクによつて、第3図に示
すように、4のAlyGa1-yAs半絶縁性半導体層の
一部をエツチングして、3のエミツタ2層の一部
を露出させた。この場合エツチングは第3図の点
線で示したように、エミツタ層内まですすんでも
かまわない。AlyGa1-yAsのエツチングは、H2
SO4−H2O2−H2O混合液を用いて行なつた。
GaAs基板として、(001)を用いることにより、
〔110〕方向から見て第3図に示すような逆台形の
形にエツチング部を形成することができた。
る。第2図に示すように、先ず1の半絶縁性
GaAs基板の上に分子線エピタキシーにより、2
〜4の各層を所定の厚みに形成した。次に通常の
ホトリソグラフイー法によりレジストマスクを形
成し、このレジストマスクによつて、第3図に示
すように、4のAlyGa1-yAs半絶縁性半導体層の
一部をエツチングして、3のエミツタ2層の一部
を露出させた。この場合エツチングは第3図の点
線で示したように、エミツタ層内まですすんでも
かまわない。AlyGa1-yAsのエツチングは、H2
SO4−H2O2−H2O混合液を用いて行なつた。
GaAs基板として、(001)を用いることにより、
〔110〕方向から見て第3図に示すような逆台形の
形にエツチング部を形成することができた。
次にレジストをアセトンで除去し、分子線エピ
タキシーにより、1000Åのp型GaAsベース層お
よび1500Åのn型GaAsコレクタ1層、1500Åの
n+型GaAsコレクタ2層を第4図に示すように
再成長させた。
タキシーにより、1000Åのp型GaAsベース層お
よび1500Åのn型GaAsコレクタ1層、1500Åの
n+型GaAsコレクタ2層を第4図に示すように
再成長させた。
次にホトリソグラフイー法によつて、該半絶縁
性半導体層のある部分の一部をH2SO4−H2O2−
H2O混合液を用いてエツチングし、ベース層お
よびエミツタ1層の一部を露出させた。
性半導体層のある部分の一部をH2SO4−H2O2−
H2O混合液を用いてエツチングし、ベース層お
よびエミツタ1層の一部を露出させた。
次に、レジスト部をアセトンで除去し、通常の
ホトリソグラフイーおよび真空蒸着および熱処理
技術により、該半絶縁性半導体層のない部分に1
0のコレクタ電極を、露出させたベース、エミツ
タ層に、それぞれ9,8のベース電極、エミツタ
電極を形成した。
ホトリソグラフイーおよび真空蒸着および熱処理
技術により、該半絶縁性半導体層のない部分に1
0のコレクタ電極を、露出させたベース、エミツ
タ層に、それぞれ9,8のベース電極、エミツタ
電極を形成した。
本実施例の構造のコレクタ容量Ccは、再成長
部のコレクタとベースの接合面積に比例する。こ
の面積はコレクタのメサエツチングの面積と同じ
に成り、したがつてホトリソグラフイーのマスク
の寸法とすることができる。そのためコレクタを
基板側に形成した場合よりも面積を小さくできる
ことは明らかである。コレクタ容量がちいさくな
れば、(1)式より高周波特性の改善されることは明
らかである。
部のコレクタとベースの接合面積に比例する。こ
の面積はコレクタのメサエツチングの面積と同じ
に成り、したがつてホトリソグラフイーのマスク
の寸法とすることができる。そのためコレクタを
基板側に形成した場合よりも面積を小さくできる
ことは明らかである。コレクタ容量がちいさくな
れば、(1)式より高周波特性の改善されることは明
らかである。
本実施例の構造のエミツタ容量Ceは5と3の
pn接合部の接合容量と、4と3の接合部の接合
容量の和となる。
pn接合部の接合容量と、4と3の接合部の接合
容量の和となる。
一般にpn接合の容量Cpnは
a;接合部面積
q;電荷
NA1;p型半導体のアクセプタ濃度
ND2;n型半導体のドナー濃度
ε1;p型半導体の誘電率
ε2;n型半導体の誘電率
Vb;バイアス電圧
で与えられる。
これより、アクセプタ濃度とドナー濃度の差が
大きい場合には、近似的にをその大きさの小さい
方で決ることがわかる。本実施例のp型GaAsベ
ース層のアクセプタ濃度は1・1019/cm3、n型
GaAsエミツタ層のドナー濃度は5・1017/cm3で
ある。したがつてエミツタ容量は近似的に Cpn∝√2 (3) となる。
大きい場合には、近似的にをその大きさの小さい
方で決ることがわかる。本実施例のp型GaAsベ
ース層のアクセプタ濃度は1・1019/cm3、n型
GaAsエミツタ層のドナー濃度は5・1017/cm3で
ある。したがつてエミツタ容量は近似的に Cpn∝√2 (3) となる。
一方、n型GaAs層と、AlyGa1-yAs半絶縁性半
導体層との接合容量は、半絶縁性半導体層のアク
セプタ濃度が1・1014/cm3以下であるため、接合
容量は、このアクセプタ濃度の平方根に比例し、
その値は、(3)式の値よりもはるかに小さいものと
なる。もし半絶縁性半導体層がない場合には、4
と3の接合容量は、n型GaAs層のキヤリア濃度
が、1・1018/cm3と大きいため、この部分のエミ
ツタ容量が大きなものとなる。p型GaAsに代え
てp型AlxGa1-xAsを用いても、接合容量はほと
んどかわらない。以上の理由から、本実施例のよ
うに、p型ベース層とn型GaAsエミツタ層との
間に、半絶縁性半導体層を形成することにより、
同一面積の構成であればエミツタ容量をはるかに
小さくできる。
導体層との接合容量は、半絶縁性半導体層のアク
セプタ濃度が1・1014/cm3以下であるため、接合
容量は、このアクセプタ濃度の平方根に比例し、
その値は、(3)式の値よりもはるかに小さいものと
なる。もし半絶縁性半導体層がない場合には、4
と3の接合容量は、n型GaAs層のキヤリア濃度
が、1・1018/cm3と大きいため、この部分のエミ
ツタ容量が大きなものとなる。p型GaAsに代え
てp型AlxGa1-xAsを用いても、接合容量はほと
んどかわらない。以上の理由から、本実施例のよ
うに、p型ベース層とn型GaAsエミツタ層との
間に、半絶縁性半導体層を形成することにより、
同一面積の構成であればエミツタ容量をはるかに
小さくできる。
トランジスタの電流増幅率が1となる最大周波数
Ftは Ft=(1/2π)・(A・Ce+B)-1 A,B;定数 で与えられる。
Ftは Ft=(1/2π)・(A・Ce+B)-1 A,B;定数 で与えられる。
従つて、エミツタ容量Ceを減らすことにより、
高周波特性を改善することができる。
高周波特性を改善することができる。
本実施例では、ヘテロ接合バイポーラトランジ
スタの特徴を生かして、ベース領域のキヤリア濃
度を極めて高くできる(実施例では1・1019/cm3
のキヤリア濃度を用いた)ため、ベース抵抗Rb
は極めて小さい。そのため最大遮断周波数の極め
て高い高周波特性に優れたトランジスタを得るこ
とができる。
スタの特徴を生かして、ベース領域のキヤリア濃
度を極めて高くできる(実施例では1・1019/cm3
のキヤリア濃度を用いた)ため、ベース抵抗Rb
は極めて小さい。そのため最大遮断周波数の極め
て高い高周波特性に優れたトランジスタを得るこ
とができる。
本実施例で得られたヘテロ接合トランジスタは
予想されたようにコレクタ容量およびエミツタ容
量が共に大幅に小さくなつたことから、同一寸法
の場合、従来のものに比べて高周波特性が非常に
向上した。
予想されたようにコレクタ容量およびエミツタ容
量が共に大幅に小さくなつたことから、同一寸法
の場合、従来のものに比べて高周波特性が非常に
向上した。
本実施例分子線エピタキシー技術を用いたが、
そのほかに、例えば、有機金属化学気相成長
(MO−CVD)法を用いても同様に作成すること
ができる。
そのほかに、例えば、有機金属化学気相成長
(MO−CVD)法を用いても同様に作成すること
ができる。
また本実施例だは、半導体としてGaAs−Alx
Ga1-xAsを用いたが、他の半導体材料、例えば
InP−InGaAsP等を用いても作成することができ
る。またAl濃度として、x=0.3,y=0.3を用い
たが、これは0〜1の範囲で任意に選ぶことがで
きる。
Ga1-xAsを用いたが、他の半導体材料、例えば
InP−InGaAsP等を用いても作成することができ
る。またAl濃度として、x=0.3,y=0.3を用い
たが、これは0〜1の範囲で任意に選ぶことがで
きる。
本実施例では、半絶縁性層としてAlyGa1-yAs
(0.3)を用いたが、y=0すなわちGaAsを用い
ても、コレクタ容量を低減させるということで
は、同じ効果を有することは明らかである。
(0.3)を用いたが、y=0すなわちGaAsを用い
ても、コレクタ容量を低減させるということで
は、同じ効果を有することは明らかである。
本実施例では、y=0.3を用いたが、Aly,
Ga1-yAsはGaAsよりも禁制帯エネルギーが大き
いため、これによりp型ベース電極取り出し用
GaAs層とn型コレクタ層との間のもれ電流を、
更に少なくすることができる。もれ電流はトラン
ジスタの電流増幅率を低下させるため、もれ電流
を低減させることにより電流増幅率を向上させる
ことができる。
Ga1-yAsはGaAsよりも禁制帯エネルギーが大き
いため、これによりp型ベース電極取り出し用
GaAs層とn型コレクタ層との間のもれ電流を、
更に少なくすることができる。もれ電流はトラン
ジスタの電流増幅率を低下させるため、もれ電流
を低減させることにより電流増幅率を向上させる
ことができる。
本実施例では、−化合物半導体を用いた
が、シリコン(Si)を用いても分子線エピタキシ
ーにより同様のプロセルを用いて、コレクタ容量
およびエミツタ容量共に極めて小さいバイポーラ
トランジスタを得ることができた。得られたSiバ
イポーラトランジスタも優れた高周波特性を示し
た。
が、シリコン(Si)を用いても分子線エピタキシ
ーにより同様のプロセルを用いて、コレクタ容量
およびエミツタ容量共に極めて小さいバイポーラ
トランジスタを得ることができた。得られたSiバ
イポーラトランジスタも優れた高周波特性を示し
た。
本実施例では、エミツタ、コレクタをn型に、
ベースをp型にしたが、エミツタ、コレクタをp
型に、ベースをn型にすることもできる。
ベースをp型にしたが、エミツタ、コレクタをp
型に、ベースをn型にすることもできる。
発明の効果
以上述べた如く、本発明は、コレクタ容量およ
びエミツタ容量共に著しく小さくすることによ
り、高周波特性に優れたバイポーラトランジスタ
を、提供するものである。
びエミツタ容量共に著しく小さくすることによ
り、高周波特性に優れたバイポーラトランジスタ
を、提供するものである。
第1図は本発明の一実施例を示す図、第2図〜
第4図は本発明の構造を実現するための製造途中
の構造を示す図、第5図は従来のバイポーラトラ
ンジスタの構造を示す図である。 1……半絶縁性GaAs基板、2……n+型
GaAsエミツタ1層、3……n型AlxGa1-xAsエミ
ツタ2層、4……AlyGa1-yAs半絶縁性半導体層、
5……p型GaAsベース層、6……n型GaAsコ
レクタ1層、7……n+型GaAsコレクタ2層
(電極取り出し層)、8……エミツタ電極、9……
ベース電極、10……コレクタ電極、11……レ
ジスト。
第4図は本発明の構造を実現するための製造途中
の構造を示す図、第5図は従来のバイポーラトラ
ンジスタの構造を示す図である。 1……半絶縁性GaAs基板、2……n+型
GaAsエミツタ1層、3……n型AlxGa1-xAsエミ
ツタ2層、4……AlyGa1-yAs半絶縁性半導体層、
5……p型GaAsベース層、6……n型GaAsコ
レクタ1層、7……n+型GaAsコレクタ2層
(電極取り出し層)、8……エミツタ電極、9……
ベース電極、10……コレクタ電極、11……レ
ジスト。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 半導体基板の上にエミツタ層を形成し、その
上に半絶縁性半導体層を形成した後、該半絶縁性
半導体層の一部を除去して、該エミツタ層の一部
を露出させ、その上にベース層、コレクタ層を順
次エピタキシヤル成長させ、次に該半絶縁性半導
体層のない部分に形成された該コレクタ層の上
に、コレクタ電極を、また該半絶縁性半導体層の
ある部分の一部を除去して、該ベース層、該エミ
ツタ層の一部を露出させ、それぞれにベース電
極、エミツタ電極を形成したことを特徴とするバ
イポーラトランジスタの製造方法。 2 少なくともエミツタの禁制帯エネルギー幅が
ベースの禁制帯エネルギー幅よりも大きいことを
特徴とする特許請求の範囲第1項記載のバイポー
ラトランジスタの製造方法。 3 半絶縁性半導体層の禁制帯エネルギー幅がベ
ースの禁制帯エネルギー幅よりも大きいことを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載のバイポーラ
トランジスタの製造方法。 4 −化合物半導体を用いたことを特徴とす
る特許請求の範囲第1項記載のバイポーラトラン
ジスタの製造方法。
Priority Applications (4)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13640285A JPS61294857A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | バイポ−ラトランジスタの製造方法 |
EP86304785A EP0206787B1 (en) | 1985-06-21 | 1986-06-20 | Heterojunction bipolar transistor and method of manufacturing same |
DE8686304785T DE3682959D1 (de) | 1985-06-21 | 1986-06-20 | Bipolarer transistor mit heterouebergang und verfahren zu seiner herstellung. |
US07/048,470 US4746626A (en) | 1985-06-21 | 1987-05-08 | Method of manufacturing heterojunction bipolar transistors |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13640285A JPS61294857A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | バイポ−ラトランジスタの製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61294857A JPS61294857A (ja) | 1986-12-25 |
JPH0452627B2 true JPH0452627B2 (ja) | 1992-08-24 |
Family
ID=15174324
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13640285A Granted JPS61294857A (ja) | 1985-06-21 | 1985-06-21 | バイポ−ラトランジスタの製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS61294857A (ja) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS63168049A (ja) * | 1986-12-29 | 1988-07-12 | Nec Corp | ヘテロ接合バイポ−ラトランジスタおよびその製造方法 |
JPH02159723A (ja) * | 1988-12-14 | 1990-06-19 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | バイポーラトランジスタの製造方法 |
JPH031542A (ja) * | 1989-05-29 | 1991-01-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | バイポーラトランジスタの製造方法 |
JPH031543A (ja) * | 1989-05-29 | 1991-01-08 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | パイポーラトランジスタの製造方法 |
-
1985
- 1985-06-21 JP JP13640285A patent/JPS61294857A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS61294857A (ja) | 1986-12-25 |
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