JPH04505175A - インダン含有ポリアリールエーテルケトン及び無定形ポリアリールエーテルケトンの光学系への使用 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるため要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 インダン含有ポリアリールエーテル ケトン及び無定形ポリアリールニ一 本発明はインダン含有ポリアリールエーテルケトン並びにそれの及び他の無定形 ポリアリールエーテルケトンの光学装置への使用に関する。

透明な熱可塑性樹脂は設備の光学部品、高性能光学素子用光学装置及びレンズ及 びプリズムの形体での特殊目的の光学素子における種々な光学被覆用基礎材料と して、ミラー、レンズ及びプリズムの透明な被覆材料として、及び光学導波管と しての使用が増加している。熱可塑性樹脂の一般的利点はそれらがガラスと比べ て比較的安価に加工可能なこと及び低密度にあり、これは特に可動光学素子に有 利である。熱可塑性樹脂で作った光学部品はしばしば高価な表面処理を必要とし ないが、それはこれらの材料が研磨した型の中で注型又は射出成型できるからで ある。約１．５の屈折率を持つガラス例えばクラウンガラスは相当する透明熱可 塑性樹脂と同じ価格水準である。しかしながら、ガラスは屈折率の増加と共に著 しく高価となり、そしてこれらのガラスの加工費用又は表面処理の費用も常に材 料損失が伴うため同じく増加する。

この結果、ガラスを樹脂で置き換えることが屈折率の増加につれて経済的観点か らますます魅力的になる。

これまで光学的適用に使用されている標準の樹脂例えばそれぞれ１．４９と１． ５８の屈折率を持つメチルメタクリレートとポリカーボネートはその加工が容易 であるが、しかしながらそれらは比較的低いガラス転移点を持つ。

１．６〜１．６６の屈折率を持つ他の無定形の高性能樹脂例えばボリアリールエ ーテルスルホン、ポリアリールスルホン及びポリエーテルイミドはすべて極めて 高いガラス転移点を持ち（Ｔｇが１８０℃より高い）、そして相応して加工がよ り困難であるが、これらも近年光学的適用に使用されている（日本特許公開第６ １／１４４．７３８号、同第６１１０５５、９８６号、米国特許第４．４７７、 ５５５号、欧州特許公開第すエステルの分野でも無定形ポリエステルの方向で開 発がなされており、この物は高いガラス転移点を持ち、同様に光学的適用に適し ている。エステル又はアミドを含むすべての無定形ポリマーの大きな欠点はそれ らの低い化学的安定性と加水分解に対する感受性である。

マクロ環オリゴマー製造における成分としてスピロ（ビス）インダンの使用は公 知である（ＷＯ８８／　０６．６０５）。

しかしながら、この刊行物には新規なボリアリールエーテルケトンの合成と性質 について何も述べられていない。

上述の熱可塑性樹脂の及ぶ特性スペクトルから出発して、加水分解感受性基例え ばエステル又はアミド基を含まず、可能な最低の水吸収性、高い透明度を持ち、 従うて原則として光学的適用に適しており、更にポリカーボネートより高いガラ ス転移点を持ち、しかし同時に高性能ポリマー例えばボリアリールエーテルスル ホン、ポリアリールスルホン又はポリエーテルイミドの場合より低温で加工する こともでき、そして上述の高性能ポリマーの屈折率に匹敵するそれを持つ光学的 適用のための熱可塑性ポリマーを提供することが目的である。

我々自身の種々なポリマーの種類についての研究によす、驚＜べきことにエーテ ル基に加えてケト基をも鎖中に含むある芳香族ポリエーテルが要求される特性輪 郭に最も近づくものであることが示された。

商業的に入手できるボリアリールエーテルケトン例えばＩＣＩカ販売すル”ＶＩ ＣＴＲＥＸ　ＰＥＥＲとＰＥＫ、　及ヒＡｌｌ０ＣＯＣ０ＲＰ。

が販売する’ＫＡＤＥＬは一部分結晶状である。

これらは分子が本質的に分岐しておらず、そして大部分がエーテル又はカルボニ ル基によりバラ位で互いに結合している置換されていないフェニル又はビフェニ ル単位で大部分が構成される重縮合物であり、それらは溶剤と化学的作用に対し て極めて安定であり、そして充填状態における高い熱変形抵抗性を特徴とする。

このようなボリアリールエーテルケトンの結晶化の傾向を抑制することが、例え ば上述の比較的簡単な極めて規則正しい鎖構造を乱すことにより、例えばフェニ ル環の割合を増して、それにオルソ又はメタ結合を組み込むことにより、又は置 換された芳香族環を含む単位を組み込むことにより可能であれば、無定形重縮合 物が得られる。これらは慣用的な溶媒（クロロホルム、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセト アミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド又はＮ−メチル−２−ピロリドン）に可 溶である。ＤＳＣ図においてそれらは唯一のガラス転移点を持ち、そして融点を 持たない。溶液又は溶融物からそれらは固体、可撓性で透明なフィルムを形成す る。例えば同様に無定形であるボリアリールエーテルスルポンと対照的に、無定 形ポリアリールエーテルケトンはこれまで熱可塑性樹脂として工業的な重要性を 獲得するに至らなかった。

芳香族環を含む主鎖構造を持つ有機高分子材料例えばポリアリールエーテルケト ンの使用、とりわけ近赤外線照射用集積光学回路付属部品への使用は公知である （日本特許公開筒６１／　２０８．００１号）。これらの部品はレンズ、プリズ ム及び光学導波管を含む。しかしながら、この刊行物は高分子材料の組成につい てそれ以上の詳しい記述を含まない。

従って、本発明は少な（とも１つの無定形、芳香族ポリアリールエーテルケトン の光学装置用要素の製造のための使用に関する。ここで使用するポリアリールエ ーテルケトンは少なくとも１つの式ｌ −０−Ａ−０−Ｂ−（Ｉ） の構造単位から構成され、式中、八が基から選ばれ、そしてＢが基 から選ばれ、式中、Ｒ１とＲ２は同一か又は異なり、そしてハロゲン好ましくは 臭素、（Ｃ＋〜Ｃ５）−アルキル又は−アルコキシ好ましくは（Ｃ＋〜Ｃ４）− アルキル又は−アルコキシ、及びアリール又はアリールオキシ基（アリールは好 ましくはフェニルである）であり、ｋとｎは同一か又は異なり、モして０又は１ 〜４の整数好ましくは０．１又は２、特に０又は２である。基Ｂ！とＢ３におＪ するＲ１とＲ２がハロゲンの場合、ｋとｎは好ましくは２である。Ｄは２価の基 Ｄ’　−０−１Ｄ宜ン昨０．　Ｄ哀　−ＣＨ，−１Ｄ’　−Ｃ（ＣＨｓ）ｔ−１ Ｄ’　−Ｃ（ＣＦｓ）ｔ−１から選ばれ、結果として単位ＡとＢを生じる七ツマ −（Ａ′）と（Ｂ′）のモル比は一般に０．９５〜１．０５　：　１．０好まし くは１：１である。基Ｂ６とＢ′を含むインダン化合物を使用して作ったポリア リールエーテルケトンにおいては、このモル比が一般に１．００１〜１．０６： １好ましくは１００２〜１．０５：１、そして特に１．００４〜０．０５：１で ある。

従って、表示したポリマーは、繰り返し単位当たり１単位のタイプＡ及び１単位 のタイプＢのみを含む単独重縮合物、もしくは２つ又はそれより多い種々な単位 のタイプＡ及び／又は２つ又はそれより多い種々な単位のタイプＢを含む共重縮 合物でありうる。インダン含有ポリアリールエーテルケトンは式（Ｉ）における 基ＢとしてタイプＢｅと８７の基の少なくとも５モル％好ましくは少なくとも３ ０モル％、そして特に少なくとも５０モル％を含む。

この比率は１００モル％であっても良い。基Ｂ６とＢ′の外に基ＢはＤが基Ｄ４ 、−Ｃ（ＣＨｓ）ｚ−である基Ｂ３から形成させることもできる。Ｂにおけるこ れらの単位の合計は常に１００モル％である。

Ａは好ましくはＡＩとＡ２、そして特に好ましくはＡ２から選ばれる。Ｂは好ま しくはＢｌ、　Ｂ２及びＢ３、そして特に好ましくはＢ３から選ばれる。Ｄは好 ましくはバラ位で結合スルＤ２、Ｂ３、Ｂ４、Ｂ５、Ｂ６、Ｂ７、Ｄｓ、Ｄ９又 ハＤ１０カ好マシい。Ｂ４、Ｂ５、Ｂ９及びＤ１′が特に好ましい。

ＡがＡ１とＡ２から選ばれる場合、ＢはＢ４ではない。Ｂが８３でｎがＯの場合 、ＤｌとＢ２は選ばれない。

Ａが式（１）の構造単位におけるＡＩの場合、Ｂは好ましくはＢ１又はＢ！であ り、そしてｎはＯＳｌ又は２、特にｎは０である。

本発明によりその用途が特許請求されるポリアリールエーテルケトンが単独重縮 合物でなく共重縮合物である場合、Ａは好ましくはＡ１とＡ２から選ばれ、そし て特に好ましくはＡ２である。成分Ｂは好ましくは９１の０〜５０モル％と８２ 〜Ｂｇから選ばれる５０−０モル％との混合物であり、特にＢｌの５〜１０モル ％とＢ３の４５〜５０モル％である。同様に、Ａは好ましくはＡ２の０〜５０モ ル％とＡ３の５０−０モル％、特にＡ２の５〜３０モル％とＡ３の４５〜２０モ ル％であることができ、特に好ましい範囲ではＢがＢ１及びｎが０である。

本発明は少なくとも１つの構造単位（Ｉ）から構成され、その基Ｂが少なくとも １つの基Ｂ６又はＢｙであり、さらにＤが基Ｄ４である基Ｂ３の単位を含むこと ができる新規な線形、芳香族ボリアリールエーテルケトンにも関する。この種類 のボリアリールエーテルケトンは少なくとも１７０℃好ましくは１８５℃のガラ ス転移点を持つ。

インダン含有ボリアリールエーテルケトンは好ましくは構造 又は を持つ。既に述べたようにインダン基の外にビスフェノールＡ基も存在すること ができる。指数ｒとｐは一般に約ＩＯの値を持ち、分子量はモノマー比から算出 され、ポリマーの極限粘度で表される。わずかに過剰のジハロゲン化合物を使用 することにより、ボリアリールエーテルケトンはハロゲン原子、一般には塩素と 好ましくはフッ素を鎖末端に含む。

単独重縮合物又は共重縮合物を使用する外に、２つ又はそれより多い上述の単独 縮合物、１つ又はそれより多い上述の単独重縮合物及び１つ又はそれより多い上 述の共重縮合物、もしくは２つ又はそれより多い上述の共重縮合物からなるポリ マー混合物を使用することも可能である。

本発明により使用するボリアリールエーテルケトンは光学装置用要素を製造する ために使用することができる。

この用語「光学装置の要素」は装置の光学部品、特殊目的の光学素子の部品並び に舞台光学素子の部品、導光技術及び光エレクロトニクス例えばレンズ、プリズ ム、照明及び吹射装置、導光装置、光学被覆及び光学基材の分野の装置のそれの 意味を持つ。

熱可塑性樹脂が透明であるためには、適当な波長領域における固有の吸収と顕著 な散乱損失の原因となる屈折率変動のないことが必要条件である。屈折率変動は 物理的二相状態すなわち部分的な結晶状態、又は化学的二相状態すなわち相分離 のいずれかによって起こる。不純物は材料の透明性に対して吸収中心及び散乱中 心としての両面から悪影響を及ぼすが、しかしながら上述の因子とは対照的にポ リマー合成とポリマー加工の両方における技術的処置により除くことができる。

ポリアリールエーテルケトンにおいては、エーテル又はケト基のいずれも芳香族 電子殻の実質的な非局在化の原因とならない。この理由からこれらの基の深色効 果は著しい吸収が可視波長領域すなわち４００ｎ■以上好ましくは４５０〜８０ ０ｎｍで起こるほど太き（ない。

エーテルとケト基が加水分解に対して比較的不感受性であることも公知である。

高度に芳香族的且つ疎水的性質と結び付く酸性水素原子の欠如と強力な双極子の 欠如はポリアリールエーテルケトンの低い水吸収を示唆する。

芳香族ポリアリールエーテルケトンは多核芳香族酸ハロゲン化物（この場合少な くとも１つの基は電子供与置換基を持たなければならない）、例えばフェノキシ アリール酸クロリドの電子性重縮合反応（フリーデル・クラフッ反応）、又はジ カルボン酸ハロゲン化物の富電子芳香族化合物例えばジアリールエーテルとの縮 合により作ることができる（ＬＩＳ−Ａ　３．９５６．２４０）。

他の可能な合成法はハロゲン基がオルソ又はパラ位における電気陰性置換基によ り活性化されているハロフェノール、又は２価、単核又は多核フェノールの活性 化されたジハロゲン化芳香族との核性重縮合（求核性置換反応）である請求核性 重縮合の場合、アルカリの作用によりフェノールから形成されるフェノラートが 実際の薬剤である（ドイツ特許第１．５４５．１０６号及びカナダ特許第８４７ 、９６３号）。

本発明に使用する無定形ボリアリールエーテルケトンは通常の条件下でそして上 述の反応系成分（モノマー）の変換を伴って公知の方法により作られ、例えば芳 香族ジヒドロキシ化合物（Ｂ′）と活性化された芳香族ジハロゲン化合物（Ａ′ ）とから得られる。

上述の場合、すなわちジヒドロキシ化合物（Ｂ′）の活性化された芳香族ジハロ ゲン化合物（Ａ′）との反応において、２つの反応系成分のモル比はインダン含 有化合物の場合と異なり、通常０．９５〜１゜０５　：　１．　Ｏである。化合 物はモル比１：１又はわずかに過剰のジハロゲン化合物を使用するのが好ましい 。インダン化合物の場合、２つの反応体（Ａ′）と（Ｂ′）のモル比は上述の限 界に相当する。

適当な芳香族ジヒドロキシ化合物（Ｂ′）の例は式の単核ジフェノール例えばヒ ドロキノン、レゾルシノール又はその同族体、例えばメチルヒドロキノン、２． ５−ジメチルヒドロキノン、２．３．５．６−チトラメチルヒドロキシンおよび ２〜メチルレゾルシノールである。ヒドロキノン、レゾルシノール及び２，５− ジメチルヒドロキノンが好ましい。適当な多核ジヒドロキシ化合物の例は２つの アルキル又はアルコキシ置換又は置換されていないフェノール基が直接結合又は 原子又は基例えばアルキリデン、酸素又はカルボニルを介して結合しているそれ である。この化合物は弐■ で表すことができ、式中、Ａｒが基ｌｉｔとＲ２で置換することができる了り− レン基好ましくはフェニレンである。Ｒ１とＲ２はハロゲン好ましくは臭素、各 々の場合１〜８個好ましくは１〜４個の炭素原子を持つアルキル基又はアルコキ シ基、及びアリール又はアリールオキシ基（アリールは好ましくはフェニルであ る）である。ｋとｎは同一か又は異なり、そして一般に０〜４好ましくは０．１ 又は２、特にＯ又は２である。Ｄは場合によりハロゲン好ましくはフッ素又はア リール環により置換される０１〜３−アルキリデン基であるか、又はＣ６−シク ロアルキリデン基（ビスフェノールの場合、場合により置換されたフェノール及 びオキソ化合物例えばアセトン、ホルムアルデヒド、シクロヘキサノンなどから 作られる）であるが、又は直接結合であり、そして基ニ ー〇−、−Ｃ−Ｏ−、−ＣＨ，−、 −Ｃ（ＣＨ＃）！−、−Ｃ（ＣＦ、）り−、この種類の多核ジヒドロキシ化合物 の例はビス（４−ヒドロキシフェニル）メタン、３．４′−ジヒドロキシジフェ ニル、４．４’−ジヒドロキシベンゾフェノン、４．４’−ジヒドロキシジフェ ニルエーテル、ビス−（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）メタン、 ２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）フェニルプロパン、１．】−ビス（４ −ヒドロキシフェニル）フェニルエタン、１．３−ビス（４−ヒドロキシフェニ ルイソプロピリデン）ベンゼン、１．３−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロ キシフェニルイソプロピリデン）ベンゼン、１，３−ビス（４−ヒドロキシフェ ニル−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピリデン）ベンゼン、 １．３−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニルー１．１．１．３． ３．３−ヘキサフルオロイソプロピリデン）ベンゼン、２，７−ジヒドロキシナ フタレン、２．３−ジヒドロキシナフタレン、１．４−ジヒドロキシナフタレン 、２．７−シヒドロキシー９−フルオレノンであり、そして好ましく使用される 化合物は２，２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ ）、２．２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２ ．２−ビス（３，５−ジブロモ−４−ヒドロキシフェニル）プロパン、２．２− ビス（４−ヒドロキシフェニル）−１、１，１，３，３，３−へキサフルオロプ ロパン、３．３′−ジヒドロキシジフェニル、４，４′−ジヒドロキシジフェニ ル、３．３’、５．５’−テトラメチル−４，４′−ジヒドロキシジフェニル、 ３．３’　−５゜５′−テトラメチル−４，４′−ジヒドロキシベンゾフェノン 、２．２−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル’Ｉ　−１，１， １，３，３，３−ヘキサフルオロプロパン、１．４−ビス（４−ヒドロキシフェ ニルイソプロピリデン）ベンゼン、１．４−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒド ロキシフェニルイソプロピリデン）ベンゼン、１．４−ビス（４−ヒドロキシフ ェニル−１，１，１，３，３，３−ヘキサフルオロイソプロピリデン）ベンゼン 、１，４−ビス（３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル−１，１，１，３ ，３，３−ヘキサフルオロイソプロピリデン）ベンゼン、ｌ、５−ジヒドロキシ ナフタレン、２．６−ジヒドロキシナフタレン、５−ヒドロキシ−３−（４−ヒ ドロキシフェニル）−１，ｉ、３−トリメチルインダン、５−ヒドロキシ−３− （３，５−ジメチル−４−ヒドロキシフェニル）−１，１，３，４，６−ペンタ メチルインダン、及び６．６′−ジヒドロキシ−３，３，３’　、　３’−テト ラメチル−１，１′−スピロビインダンである。

活性化された芳香族ジハロゲン化合物（Ａ′）は単核又は多核化合物であり、そ のハロゲン原子はそれらに対して〇−又はｐ−位にある電気陰性置換基により活 性化されている。多核化合物の場合ハロゲン原子は異なるベンゼン環にあるのが 好ましく、ここでは電気陰性置換基はベンゼン環の接続要素でありでも良い。こ の種類の適当なジハロゲン化合物は１−（２〜クロロベンゾイル）−４−（４− クロロベンゾイル）ベンゼン及び１−（２−クロロベンゾイル）−３−（４−ク ロロベンゾイル）ベンゼンであるが、しかしながら好ましくは４．４′−ジクロ ロベンゾフェノン、４．４’−ジフルオロベンゾフェノン、１．４−ビス（４− フルオロベンゾイル）ベンゼン、１．４−ビス（４−クロロベンゾイル）ベンゼ ン、１．３−ビス（４−フルオロベンゾイル）ベンゼン、１．３−ビス（４−ク ロロベンゾイル）ベンゼン及び１．−（２−フルオロベンゾイル）−４−（４− フルオロベンゾイル）ベンゼンである。

縮合反応は固相中か又は形成させたポリマーが反応温度で可溶性である不活性溶 媒の存在下のいずれかで実行する。適当な溶媒の例はジフェニルスルホン、Ｎ− シクロへキシル−２−ピロリドン、環状芳香族スルホン例えばジベンゾチオフェ ン・Ｓ、Ｓ−ジオキシドであり、又はこれらほどでない例としてはベンゾフェノ ン及び環状芳香族ケトン例えば９−フルオレノンである。この種類の溶媒は特に ドイツ特許公開第２．８０３．８７３号に記述されている。

Ｎ、Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド又はＮ−メチル −２−ピロリドンも適当な溶媒である。この場合、適当な水共沸剤（例えばトル エン）を反応混合物に添加しなければならない。

反応温度の下限は少なくとも１つの成分又は溶媒の融点により設定し、そして上 限は縮合相手化合物又は場合により使用する溶媒の分解温度により設定する。反 応温度は一般に１００〜４００℃好ましくは１５０〜３５０℃であり、とりわけ 縮合相手化合物の反応性と使用する溶媒の種類のいかんによる。この工程は好ま しくは低い反応温度で開始し、そして反応材料の粘度が増加する場合、温度を徐 々に又は段階的に上げる。

それらの分子量の尺度として上述のボリアリールエーテルケトンのＤＩＮ　５１ ５６２により測定する限界粘度（固有粘度）は１００厘ｌのクロロホルム中０． １ｇのポリマーの溶液につき２５℃で測定し、この値は０．２〜２．５ｄｌ／ｙ の広い範囲にわたることがあるが、好ましくは０．４〜１５ｄｌ／ｑである。

インダン含有ポリアリールエーテルケトンは少なくとも０．３０ｄｌ／ｑの粘度 を持つ。上述のボリアリールエーテルケトンは４〜１００　ｑ　／　１０分好ま しくは８〜８０９／１０分及び特に好ましくは１５〜８０ｇ／分の１ｌＦＴ　（ メルトフローインデックス）　（２７０℃で５分間の溶融時間）を有する（ＤＩ Ｎ５３７３５による）。

本発明に使用するボリアリールエーテルケトンの透明度は高く、そして調製方法 により残留塩又は残留溶媒の形体をとる不純物の存在により限られた程度で左右 される。洗浄の繰り返し、再沈殿の繰り返しのみならず、ポリマー溶液又はポリ マー溶融物の濾過をも含むことがある適当な精製手段により無定形ポリアリール エーテルケトンの透明度が改良される。材料の透明度又はきれいさは常に具体的 適用と関連させて評価するべきである。従って、例えば光学的導波管として使用 する場合１．ミラー被覆又はミラー基材として使用する場合よりもっと複雑な清 浄化方法を包含する。

、本発明に使用するボリアリールエーテルケトンの屈折率は概して極めて高く、 そしてポリエーテル鎖の化学構造のいかんによる。ある七ツマ一単位の選択によ り屈折率を１．５５〜１．７０好ましくは１．６０〜１．６８、特に１．６２〜 １．６７の範囲に設定することが許される。

ボリアリールエーテルケトンの低い水吸収も有利である。それは８５％の相対湿 度、２３℃で０．１〜０．５％の値であり極めて低い。０．１〜０．４％の水吸 収が好ましい。

上述のボリアリールエーテルケトンは無定形である。

２０°／分におけるＤＳＣ（走査熱量測定）によりそれらのガラス転換点は１５ ５℃より上であり、従ってポリカーボネートのガラス転移点より上である。１６ ０℃より上のガラス転移点が好ましい。インダン含有ポリアリールエーテルケト ンのガラス転移点は一般に高水準である。それらのガラス転移点は一般に１７０ ℃より上、好ましくは１８５℃より上である。

押し出しの操作温度は２３０〜３５０℃好ましくは２３０〜３３０℃、そして特 に好ましくは２３５〜３２０℃である。

無定形ポリアリールエーテルケトンの密度は一般にボリアリールエーテルスルホ ン又はポリアリールエーテルイミドのそれより低い。選ばれる鎖構造により１． ２〜１．４ｇ／ｃＩＩ！の密度が測定される。１．３５９／　ｃｍ”以下の密度 の値が好ましい。慣用的な助剤例えば安定剤、紫外線吸収剤、増白剤、離型剤及 び帯電防止剤を既述の特性をそこなうことなく配合することができる。

高いガラス転移点と比較的容易な加工性により、これらのポリマーが舞台光学素 子の分野、特に今日では一層高いエネルギー密度を目指しており、そして光路に おける光学要素のより高い熱抵抗性も要求される照明光学素子と吹射光学素子の 分野で有効に使用される結果となる。

例えば本発明のポリマーからなるレンズ又は散乱スクリーンはポリメチルメタク リレート、ポリスチレン又はポリカーボネートからなるそれよりそのような適用 においてすぐれている。

本発明に使用する無定形ボリアリールエーテルケトンの射出成型の能力は、製造 の間車−又は多数の集束させ且つ散乱させる光分布が同時に意図される特殊なラ ンプの設計の光学要素の製造に特別な利益を提供する。この種類の光学要素は極 めて複雑な幾何学的形状を持ち、これをプラスチック以外の材料で必要な有用な 性質と許容できる価格で製造することは事実上不可能である。本発明のポリマー が容易に耐えるこれらの光学部品における局部加温はしばしば透明な標準プラス チックの熱抵抗性の限度を超える。フレネル階段状レンズも上述の透明なボリア リールエーテルケトンからしばしば有利に製造することができる。

本発明の熱可塑性樹脂は異常な加熱を経験する短い経路の光伝達の分野において も多少の利益を提供する。押し出しによりフィルム又はファイバーが得られる加 工性に加えて、比較的高い屈折率により極めて良好な光集束が得られ、従って光 ファイバー又はフィルムのコア材料として適当である。これらの無定形ボリアリ ールエーテルケトンから作ったフィルムとファイバーは比較的大きい厚さ又は直 径で光導波路として使用することができる。

１．６５より小さい屈折率を持つボリアリールエーテルケトンは光学導波管のさ や材料として使用することもできる。

１．６３より小さい屈折率を持つボリアリールエーテルケトンが好ましい。極め て多数の熱可塑性樹脂例えばポリアクリレート、ポリスルホン、ポリメタクリレ ート及びビニルポリマーは極めて高い屈折率のポリアリールエーテルケトンコア を含む光学導波管のさや材料として適当である。本発明のポリマーより一層高い 熱変形抵抗性を持つプラスチック例えばポリエーテルスルホンも適当なさや材料 であり、この物はポリアリールエーテルケトンのコアを持つ関連する光導波路の 熱変形抵抗性を更に増加させる。さやとコアが屈折率の値が０．０１以上異なる ポリアリールエーテルケトンからなる先導波路を作ることも可能である。この場 合コアとさやの間に形成される良好な接着のためこの種類の光導波路は特に好ま しい。

本発明に使用する無定形ボリアリールエーテルケトンの高い屈折率は極めて一般 的に高い屈折力を持つ薄いレンズを作る利点を提供する。色消しレンズの製造に も本発明の熱可塑性樹脂を使用するのが極めて有利である。

ここできわ立つのは高い又は可変の屈折率のみならず、可変のアツベ数である。

例えば低いアツベ数をもつポリアリールニーデルケトンは負のレンズ用に好まし く、そして高いアツベ数を持つポリアリールエーテルケトンは正のレンズ用に好 ましい。アツベ数は光学媒体の分散を特徴づける。これは として定義され、式中、ｎｏ、　ｒＤ及びｎｃはヘリウムＤ線とフラウンホーフ ァー線のＦ線とＣ線における媒質の屈折率である。この値はボリアリールエーテ ルケトン鎖を作る単位に左右され、そして１８〜４ｏ好ましくは１９〜３２であ り、特に好ましくは２０〜３０である。色消しレンズの製造に使用する透明なポ リアリールエーテルケトンがら作る非球面要素は個々に又は射出成型によるポリ アリールエーテルケトンの補正レンズを直接カプセルに入れること）　により製 造することができる。

コ　透明性、比較的容易な加工性、増加したガラス転移点；　及び他の特性例え ば加水分解に対する抵抗性及び非極性とわずかにのみ極性の溶媒例えば脂肪族炭 化水素、アルコール、ジエチルエーテル、アセトンなどに溶解しないことから、 ポリアリールエーテルケトンは光学被覆の基材としての使用に適している。その ような基材は光学被覆上の入射光がそれらを通過すること、それらが被覆に好ま しい表面特性、例えば不溶解性、熱変形抵抗性及び化学的抵抗性を持つこと、並 びに基材の透明麿が被覆加工により減少しないという事実により特徴づれられる 。

適当な光学被覆は有機及び無機被覆の両方、例えば染料被覆、誘電体被覆及び金 属被覆である。薄板とフィルム形体の無定形ボリアリールエーテルケトンからな る光学被覆の基材、例えば光学データ記憶媒体用基板として使用するそれが好ま しい。

無定形ボリアリールエーテルケトンの加水分解に対する抵抗性は腐食性媒質中で 使用する光学素子に利用される。本発明の熱可塑性樹脂から全光学要素を製造す ることが可能であるが、しかしガラス、金属又はプラスチックから作ったある種 の光学要素例えばミラー又はレンズであって、腐食性媒質に曝されるそれをポリ アリールエーテルケトンで被覆することも可能である。次にこの被覆は主として 保護機能（ガラスは少数の主として酸性媒質によっても侵される）を持つが、し かしながら光学機能も持ち、例えば表面の反射性に影響を与えることができる。

被覆するには、本発明のポリマーをフィルムの形体で接着させるか又は圧着させ ること、又は溶液から処理することができる。無定形ボリアリールエーテルケト ンを含む被覆溶液の調製に使用することができる溶剤はＮ−メチル−２−ピロリ ドン、ジメチルスルホキシド、Ｎ、Ｎ−ジメチルアセトアミド及びＮ、Ｎ−ジ− メチルホルムアミドである。被覆はスピン塗布又は浸漬により実行することもで きる。次いで被覆を空気の気流中で１００〜１４０℃で乾燥する。

実施例 インダンに基づくジヒドロキシ化合物の調製り　６．６’−ジヒドロキジー３， ３．３’、３’−テトラメチル−１，１′−スピロビ・インダン １０ｇの＾ｌｃ１．を２００ｇのジクロロベンゼン中２２９ｇの２，２−ビス（ ４−ヒドロキシフェニル）プロパン（ビスフェノールＡ）に添加し、混合物を９ ０℃で３０分間撹拌した。粗生成物からフェノールを水蒸気蒸留により除き、ジ クロロベンゼンと水を除いた後得らねる粗生成物をトルエンからの再結晶化を繰 り返して精製した。

収率：理論値の８１％ 融点：１７８℃ 純度（シリル化後ＧＣ）：＞９５％ ２）５−ヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，３〜トリメチ ルインダン ａ）　２４６９のｐ−イソプロペニルフェノールを０．５重量％の水を含む５４ ７ｇのトリフルオロ酢酸に溶解した。混合物を５０℃で４時間撹拌した後、トリ フルオロ酢酸を減圧下で水蒸気蒸留により除き、そして５００ｇの水を熱残留物 にゆフくり添加した。混合物を還流下で短時間処理し、そして５００ｇの水を蒸 留により除き、同時に５００９の１０％濃度ソーダ溶液を添加した。結晶残留物 を吸引しながら濾別し、トルエンから再結晶化させた。収率は理論値は７２％で あった（融点１９１〜１９２℃、ＧＣによる純度：＞９９．５工リア％、ＦＩＤ ）。

ｂ）ｐ−イソプロペニルフェノールの代わりにｐ−イソプロペニルフェノールと その二量体との重量比２０　：　８０の混合物を使用し、トリフルオロ酢酸水溶 液中で実施例２ａと同様に反応させた。仕上げた後、物質を理論値の７３％の収 率で得、融点は１９１〜１９２℃であった。

Ｃ）ｐ−イソプロペニルフェノールの代わりにｐ−イソプロペニルフェノールと その二量体との重量比７０：３０の混合物を使用し、トリフルオロ酢酸水溶液中 で実施例２ａと同様に反応させた。仕上げた後、物質を理論値の７４％の収率で 得、融点は１９１〜１９２℃であった。

ｄ）ｐ−イソプロペニルフェノールの代わりにｐ−イソプロペニルフェノールと その二量体との重量比８４：１６の混合物を使用し、トリフルオロ酢酸水溶液中 で実施例２ａと同様に反応させた。仕上げた後、物質を理論値の６９％の収率で 得、融点は１９１〜１９２℃であった。

３）　６．６’−ジヒドロキシ−３，３，３’　、　３’−テトラメチル−１， １′−スピロビインダン及び５−ヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフェニル） −１，１，３−トリメチルインダン １０９の＾ＩｃＩ　、を２００ｇのジクロロベンゼン中２２９ｇのビスフェノー ルＡに添加し、混合物を９０℃で３０分間撹拌した。

粗生成物からフェノールを水蒸気蒸留により除き、ジクロロベンゼンと水を除い た後に得られるその生成物をトルエンからの再結晶化を繰り返して精製した。

収得量：１．２％の低沸点物質、１３．４％の５−ヒドロキシ−３−（４−ヒド ロキシフェニル）　−１，１，３−）リメチルインダン、８３．６％の６．６′ −ジヒドロキシ−３，３，３’、３’−テトラメチル−１，１′−スピロビイン ダン及び１．８％の高沸点物質からなる。９７８ｇの生成物（％のデータはガス クロマトグラムのエリアパーセントを表す）。

４）　１９２．５９の１．４−ビス（４−フルオロベンゾイル）ベンゼン（ＢＦ Ｂ）　、１３７９のビスフェノールＡ、　１００９のＮａ２ＣＯ３及び４００ｇ のジフェニルスルホンを撹拌機と内部温度計を備えた２１の四つ首フラスコ中で 、フラスコに不活性ガスをフラッシングしながら溶融した。反応混合物を２３０ ℃で３時間撹拌した。次いで混合物の温度を２４０℃に上げ、撹拌をさらに１． ５時間継続し、そして最後に撹拌をさらに２５０℃で１．５時間継続した。反応 混合物をフラスコから注ぎ出し、冷却し、粉砕（ｃｏｔｓｉｎｕｔｅ）　Ｌ、最 後にすり砕いた（　ｇｒｏｕｎｄ）。微粉砕した生成物をアセトンと水で繰り返 し洗浄し、最後に減圧下で１４０℃で１２時間乾燥した。

得られる白色粉末は１６０℃のガラス転移点（Ｔｇ）と１００Ｃ■３の溶液中０ ．１ｇのポリマーを含むクロロホルム溶液中で２５℃で測定した場合、０．６４ ｄｌ／ｑの固有粘度を示した。溶融すると透明な成型組成物が得られた。

５）　９７９のＢＦＢと６８．３ｇのビスフェノールＡを実施例４により２００ ｇのジフェニルスルホン中で５０９の炭酸ナトリウムと反応させた。得られるポ リマーは０．６ｄｌ／ｙの固有粘度と１６０℃のガラス転移点を示した。

６）　２０１．６９の２．２−ビス（４−ヒドロキシフェニル）へキサフルオロ プロパン（６Ｆ−ビスフェノールＡ）を実施例４に記述した方法で１９２．５ａ のＢＦＢと反応させた。得られるポリマーは１６２℃のＴｇと０．４０ｄｌ／　 ｑの固有粘度（実施例４に述べた条件で測定した）を示した。溶融し、次いで固 体化させた状態でこの材料は透明である。

？）　１２３ｇのビスフェノールＡと６，６９のヒドロキノンとを実施例４に記 述した方法で１９２．５ｇのＢＦＢと反応させた。

得られるポリマーは１６３℃のＴｇと０．７０ｄｌ／ｇの固有粘度（実施例４に 述べた条件で測定した）を示した。溶融し、次いで固体化させた状態でこの材料 は透明である。

８）　１９２．５ｇの１−（４−フルオロベンゾイル）−４（２−フルオロベン ゾイル）ベンゼンと６６９のヒドロキノンとを実施例４に記述した方法で反応さ せた。得られるポリマーは０．７２ｄｌ／　ｑの固有粘度と１５５℃のＴｇを示 した。溶融し、次いで固体化させた状態でこの材料は透明である。

９）　１４２９のＢＦＢと１３５の６．６′−ジヒドロキシ−３，３，３’　、 　３’−テトラメチル−１，１′−スピロビインダン（Ｉ）を撹拌機、還流コン デンサー、水分離器及び内部温度計を備えた２１の四つ首フラスコ中で、フラス コを絶えず不活性ガスでフラッシングしながら１．０ＯＯｓ＋／のＮ、　Ｎ、− ジメチルアセトアミドと２００ｍ１のトルエンに溶解した。完全に溶解した後６ ２９のＮａ２ＣＯ３を添加し、そして混合物を還流下で水分離器にもはや水が分 離しなくなるまで撹拌した（約１２時間）。溶液を還流下でさらに３時間処理し 、冷却しそして１０％濃度酢酸溶液中に移した。ポリマーを水とメタノール次い でアセトンで繰り返し洗浄し、次いで１４０℃で１２時間乾燥した。得られる粉 末は０．６４ｄｌ／ｙの固有粘度（クロロホルム；　Ｏ，Ｌｑ／　ｄｉ　；　２ ５℃）と２０２℃のＴｇを示した。溶融し、次いで固体化させた状態でこの材料 は透明である。

１０）　１４２ｑのＢＦＢを実施例９におけるように１１７．５９の５−ヒドロ キシ−３（４−ヒドロキシフェニル）−１，１，３−トリメチルインダン（ＩＩ ）と反応させた。得られるポリマーは１９２℃のガラス転移点（Ｔｇ）と０．４ ７ｄｌｌ、の固有粘度を示した（実施例９における条件）。

１１）　２７９の（Ｉ）と８０９のビスフェノールＡと１４２９のＢＦＢを実施 例９の方法により反応させた。１７５℃のガラス転移点と１．５４ｄｌ／　９の 固有粘度を持つポリマーが得られた。

１２）　１９２．５ｖのＢＦＢ、　１３７９のビスフェノールＡ、　１００ｇの Ｎａ１ＣＯ１及び４００ｇのジフェニルスルホンを撹拌機と内部温度計を備えた ２１の四つ首フラスコ中で、フラスコに不活性ガスをフラッシングしながら溶融 した。反応混合物を２３０℃で３時間撹拌した。次いで混合物の温度を２４０℃ に上げ、撹拌をさらに１．５時間継続し、そして最後に撹拌をさらに２５０℃で １．５時間継続した。次いで１ｇのＢＦＢを反応混合物に添加し、次いでこれを ２５０℃でさらに３０分間撹拌した。反応混合物をフラスコから注ぎ出し、冷却 し、粉砕し、最後にすり砕いた。微粉砕した生成物をアセトンと水で繰り返し洗 浄し、最後に減圧下で１４０℃で１２時間乾燥した。得られる白色粉末は１６２ ℃のガラス転移点（Ｔｇ）と１００ｃｍ”の溶液中０．１ｇのポリマーを含むク ロロホルム溶液中で２５℃で測定した場合、０．’１Ｏｄｌ／ｙの固有粘度を示 した。溶融すると透明な成型組成物が得られた。

１３）　１４２ｖのＢＦＢと１０１９のビスフェノールＡを撹拌機、還流コンデ ンサー、水分離器及び内部温度計を備えた２１の四つ首フラスコ中で、フラスコ を絶えず不活性ガスでフラッシングしながら１．　ＯＯＯ＊ｌのＮ、Ｎ−ジメチ ルアセトアミドと２０（１＋Ｊのトルエンに溶解した。完全に溶解した後６２９ のＮａＨＣＯ２を添加し、そして混合物を還流下で水分離器にもはや水が分離し なくなるまで撹拌した（約１２時間）。

溶液を還流下でさらに３時間処理し、冷却しそして１０％濃度酢酸溶液中に移し た。ポリマーを水とメタノール次いでアセトンで繰り返し洗浄し、次いで１４０ ℃で１２時間乾燥した。得られる粉末は０．５１ｄｌｌ　、の固有粘度（クロロ ホルム；　Ｏ，１ｇ／　ｄｉ　：　２５℃）と１７０℃のＴｇを示した。溶融し 、次いで固体化させた状態でこの材料は透明である。

１４）　７２９のＢＦＢと５０．７９のビスフェノールＡを実施例１３により５ ００ｍｊ’のＮ、Ｎ−ジメチルアセトアミドと１００ｍＪのトルエンの混合物中 で３１９のＮａ２ＣＯ３と反応させた。得られるポリマーは０．５２ｄｌ／　９ の固有粘度と１６８℃のガラス転移点を示した。

１５）　１９２．５ｇのＢＦＢ、　１５９．３９の（ＩＩ）、１００ｇのＮａ２ ＣＯ３及び４００９のジフェニルスルホンを撹拌機と内部温度計を備えた２１の 四つ首フラスコ中で、フラスコに不活性ガスをフラッシングしながら溶融した。

反応混合物を２３０℃で３時間撹拌した。次いで混合物の温度を２４０℃に上げ 、撹拌をさらに１．５時間継続し、そして最後に撹拌をさらに２５０℃で１５時 間継続した。反応混合物をフラスコから注ぎ出し、冷却し、粉砕し、最後にすり 砕いた。微粉砕した生成物をアセトンと水で繰り返し洗浄し、最後に減圧下で１ ４０℃で１２時間乾燥した。得られる白色粉末は１９０℃のガラス転移点（Ｔｇ ）と１００ｃｍ３の溶液中０．１ｇのポリマーを含むクロロホルム溶液中で２５ ℃で測定した場合、０．５３ｄ　ｌ　、′９の固有粘度を示した。溶融すると透 明な成型組成物が得られた。

１６）　１４２９のＢＦＢと１３６．４ｑの実施例３により調製した混合物を実 施例１５のように反応させた。０．３３ｄｊ！／９の固有粘度と１９５℃のＴｇ を持つポリマーが得られた。

１７）実施例４により調製したポリマーを実施例７により調製したポリマーと１ ：１の比率でニーグー中で２７０℃の材料温度で混合した。これにより１５７℃ のＴｇを持つ透明なプラスチック組成物が得られた。

１８）実施例４．６〜８．１３及び１７のポリマーの成型品を種々な熱条件下で 製造する。特に好ましい押し出し条件は２３５〜３２０℃を占めていることが明 らかであった。

１９）実施例４により調製したポリアリールエーテルケトンをさらに精製するこ となく３００℃の材料温度で射出成型して厚さ１，５菖ｉの試験用試料を形成し た。同一試験（ｉｄｅｎｔｉｃａｌ　ｔｅｓｔ）用試料も商業的に入手できる透 明な高性能プラスチック例えばポリアリールエーテルスルホン（’Ｕｌｔｒａｓ ｏｎ　Ｅ　２０００、製造業者ＢＡＳＦ　ＡＧ、ドイツ連邦共和国）及ヒポリア リールスルホン（’Ｕｌｔｒａｓｏｎ　Ｓ　２０００）及びポリアリールエーテ ルイミド（’ｌＪ１ｔｅｍ　１０００、製造業者Ｇｅｎｅｒａｌ　Ｅｌｅｃｔｒ ｉｃ、米国）から製造した。可視波長領域における透過率を試験試料につき分光 計を使用する比較実験で測定した。得られた透過率曲線を比較のため図１に示す 。

２０）実施例４．６〜８．１３及び１７により調製したポリアリールエーテルケ トンを使用して２８０℃でブ１ノスドシ一トを製造した。同一プレストシートも Ｕｌｔｒａｓｏｎ　Ｅ’２０００、Ｕｌｔｒａｓｏｎ　Ｓ　２０００、Ｕｌｔｅ ｍ　１０００及びポリカーボネート（’Ｍａｋｒｏｌｏｎ　ＣＤ　２０００、Ｂ ａｙｅｒ　ＡＧ、ドイツ連邦共和国）からプレスして作った。比較実験において 、これらのシートの密度と屈折率を測定し、測定は室温でア・ソベ屈折計を用い て混合光で行った。すべての試料の密度を分析用天秤とサーモスタット制御液体 容器とからなる同一容器を使用して液体排除の原理により測定した。測定値を比 較のため図２に示す。

２１）実施例２０により製造した実施例４のポリマーのシート及び同一機械的条 件下で比較目的のため使用する市販製品のシートに一つき２３℃及び８５％の相 対湿度における水吸収を測定した。測定値を表１で対照させる。

Ｕｌｔｒａｓｏｎ　Ｅ　２０００　１．２７％Ｕｌｔｒａｓｏｎ　Ｓ　２０００ 　０．５２％ｔｌｌｔｅｍ　１０００　０．６４％ ２２）実施例２１のポリアリールエーテルケトンのシート１二つきアツベ数をめ た。測定した屈折率はｎｌ１ｌ＝　１．６５８２、ｎｒ＝１．６８２９及びｎＣ ＝１．６４９７であり、これからア・ソベ数γ＝２０が得られる。

波長（ｎｍ）　−一→ 補正書の翻訳文提出書 （特許法第１８４条の７第１項） 平成３年１１月１２日

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １．少なくとも１つの式Ｉ −Ｏ−Ａ−Ｏ−Ｂ−（Ｉ） の構造単位から構成される無定形、線形、芳香族ポリアリールエーテルケトンで あって、前記式中、Ａが基 Ａ１▲数式、化学式、表等があります▼Ａ２▲数式、化学式、表等があります▼ （ｍ又はｐ）Ａ３▲数式、化学式、表等があります▼（ｍ又はｐ）から選ばれ、 そしてＢが少なくとも５モル％の程度まで少なくとも１つの基 Ｂ６▲数式、化学式、表等があります▼Ｂ７▲数式、化学式、表等があります▼ であり、結果として単位ＡとＢを生じる出発モノマーのモル比が１．００１〜１ ．０６：１であり、前記ポリアリールエーテルケトンが少なくとも１７０℃のガ ラス転移点とクロロホルム中０．１％溶液で２５℃で測定した場合、少なくとも ０．３０ｄｌ／ｇの固有粘度とを持つ無定形、線形、芳香族ポリアリールエーテ ルケトン。 ２．基Ｂとして、単位Ｂ６及び／又はＢ７に加えて２，２−ビス（４−ヒドロキ シフェニル）プロパン基を含み、Ｂにおける該単位の合計が常に１００モル％で ある請求項１記載のポリアリールエーテルケトン。 ３．単位Ａ：Ｂの比率が１．００２〜１．０５：１であり、そして特に１．００ ４〜１．０５：１である請求項１又は２記載のポリアリールエーテルケトン。 ４．主として構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ に従い、構造中、ｒが１０より大きい整数であり、そしてＸがハロゲンである請 求項１記載のポリアリールエーテルケトン。 ５．主として構造 ▲数式、化学式、表等があります▼ に従い、構造中、ｐが１０より大きい整数であり、そしてＸがハロゲンである請 求項１記載のポリアリールエーテルケトン。 ６．ハロゲンが塩素、好ましくはフッ素である請求項４又は５記載のポリアリー ルエーテルケトン。 ７．単位Ａがパラ結合するＡ２である請求項１〜６の１つ又はそれ以上の請求項 記載のポリアリールエーテルケトン。 ８．単位Ａが１，４−ビス（４−フルオロベンゾイル）ベンゼンの基であり、そ して単位Ｂが６，６′−ジヒドロキシ−３，３，３′，３′−テトラメチル−１ ，１′−スピロビインダン及び／又は５−ヒドロキシ−３−（４−ヒドロキシフ ェニル）−１，１，３−トリメチルインダンの基である請求項１〜７の１つ又は それ以上の請求項記載のポリアリールエーテルケトン。 ９．光学装置用要素の製造のための少なくとも１つの無定形、芳香族ポリアリー ルエーテルケトンの使用であって、ここで少なくとも１つのポリアリールエーテ ルケトンが使用され、前記ポリアリールエーテルケトンは少なくとも１つの式Ｉ −Ｏ−Ａ−Ｏ−Ｂ−（Ｉ） 構造単位から構成され、式中、Ａが基 Ａ１▲数式、化学式、表等があります▼Ａ２▲数式、化学式、表等があります▼ （ｍ又はｐ）Ａ３▲数式、化学式、表等があります▼（ｍ又はｐ）から選ばれ、 そしてＢが基 Ｂ１▲数式、化学式、表等があります▼Ｂ２▲数式、化学式、表等があります▼ Ｂ３▲数式、化学式、表等があります▼Ｂ４▲数式、化学式、表等があります▼ Ｂ５▲数式、化学式、表等があります▼Ｂ６▲数式、化学式、表等があります▼ Ｂ７▲数式、化学式、表等があります▼Ｂ８▲数式、化学式、表等があります▼ から選ばれ、式中Ｒ１とＲ２は同一か又は異なり、そしてハロゲン、（Ｃ１〜Ｃ ８）−アルキル又は−アルコキシであり、ｋとｎは同一か又は異なり、そして０ 又は１〜４の整数であり、Ｄが２価の基 Ｄ１−Ｏ−、Ｄ２▲数式、化学式、表等があります▼、Ｄ３−ＣＨ２−、Ｄ４− Ｃ（ＣＨ３）２−、Ｄ５−Ｃ（ＣＦ３）２−、Ｄ６▲数式、化学式、表等があり ます▼、Ｄ７▲数式、化学式、表等があります▼、Ｄ８▲数式、化学式、表等が あります▼、Ｄ９▲数式、化学式、表等があります▼（ｍ又はｐ）、Ｄ１０▲数 式、化学式、表等があります▼（ｍ又はｐ）から選ばれ、単位ＡとＢのモル比が ０．９５〜１．０５：１．０である少なくとも１つの無定形、芳香族ポリアリー ルエーテルケトンの使用。 １０．Ｒ１とＲ２が臭素、（Ｃ１〜Ｃ４）−アルキル又はアルコキシであり、ｋ とｎが０、１又は２、特に０又は２であり、そして単位Ａ：Ｂの比率が１：１で ある請求項９記載の使用。 １１．ポリアリールエーテルケトンの単独重縮合物又は共重縮合物を使用する請 求項９又は１０記載の使用。 １２．ポリアリールエーテルケトンにおいて、重縮合物がＢ１、Ｂ２及びＢ４の 存在下に単位Ａ２を０〜５０モル％と単位Ａ３を５０〜０モル％、好ましくはＡ ２を５〜３０モル％６とＡ３を４５〜２０モル％とを含む請求項１１記載の使用 。 １３．共重縮合物において、基ＡがＡ１、Ａ２及びＡ３から選ばれ、そして基Ｂ が単位Ｂ１を０〜５０、好ましくは５〜２０、特に５〜１０モル％とＢ２、Ｂ３ 及びＢ４から選ばれる単位を５０〜０、好ましくは４５〜３０、特に４５〜４０ モル％とを含む請求項１１記載の使用。 １４．ポリアリールエーテルケトンにおいて、基ＡがＡ１とＡ２からなり、基Ｂ が基Ｂ１〜Ｂ３からなり、基Ｄが基Ｄ２〜Ｄ１０からなり、特にＡ２、Ｂ３、Ｄ ４、Ｄ５、Ｄ９及びＤ１０である請求項９〜１３の１つ又はそれ以上の請求項記 載の使用。 １５．基Ａ、Ｂ及びＤがパラ結合をもつ請求項９〜１４の１つ又はそれ以上の請 求項記載の使用。 １６．ポリアリールエーテルケトンが次の特性：ａ）０．２〜２．５ｄｌ／ｇ、 好ましくは０．４〜１．５ｄｌ／ｇの極限粘度（１００ｄｌのクロロホルム中０ ．１ｇのポリマー、２５℃）、 ｂ）４〜１００ｇ／１０分、好ましくは８〜８０ｇ／１０分、特に１５〜８０ｇ ／１０分のＭＦＩ（２７０℃で５分間の溶融時間）、 ｃ）１．５５〜１．７０、好ましくは１．６０〜１．６８、特に１．６２〜１． ６７の範囲の屈折率、 ｄ）２３℃及び８５％の相対湿度において０．１〜０．５％、好ましくは０．１ 〜０．４％の水吸収、ｅ）１．２〜１．４ｇ／ｃｍ３、好ましくは１．３５ｇ／ ｃｍ３未満の密度、及び ｆ）１８〜４０、好ましくは１９〜３２、特に２０〜３０の範囲のアッベ数 の少なくとも１つを持つ請求項９〜１５の１つ又はそれ以上の請求項記載の使用 。 １７．レンズ、プリズム、補正レンズ装置、色消しレンズ、照明及び映射装置、 光学導波管、光学被覆及び光学被覆用基材の製造のための請求項９〜１６の１つ 又はそれ以上の請求項記載の使用。 １８．コアとさやは異なる屈折率をもつ無定形ポリアリールエーテルケトンから なる光学導波管の製造のための請求項１７記載の使用。 １９．光学データキャリアー用基体としての請求項１７記載の使用。