JPH0437848B2 - - Google Patents
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- JPH0437848B2 JPH0437848B2 JP22692884A JP22692884A JPH0437848B2 JP H0437848 B2 JPH0437848 B2 JP H0437848B2 JP 22692884 A JP22692884 A JP 22692884A JP 22692884 A JP22692884 A JP 22692884A JP H0437848 B2 JPH0437848 B2 JP H0437848B2
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- C08L39/04—Homopolymers or copolymers of monomers containing heterocyclic rings having nitrogen as ring member
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- G—PHYSICS
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Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、紫外線で硬化する光重合性組成物に
関するものであり、プリント配線基板製造のため
のエツチングレジストインキとして特に好適な、
新規な光重合性組成物に関するものである。
関するものであり、プリント配線基板製造のため
のエツチングレジストインキとして特に好適な、
新規な光重合性組成物に関するものである。
従来、紫外線硬化型のエツチングレジストイン
キについては、ポリエステルと、ヒドロキシアル
キルアクリレートと光重合性単量体と、2〜36個
の炭素原子を含むカルボン酸と光重合開始剤を含
む組成物(特開昭51−2503公報参照)や、ポリエ
ステルと多塩基酸(又その無水物)のヒドロキシ
アルキルアクリレート半エステル化合物と、エチ
レン性不飽和結合を有するビニルモノマーと光重
合開始剤とを含む組成物(特開昭57−13444)等
がある。
キについては、ポリエステルと、ヒドロキシアル
キルアクリレートと光重合性単量体と、2〜36個
の炭素原子を含むカルボン酸と光重合開始剤を含
む組成物(特開昭51−2503公報参照)や、ポリエ
ステルと多塩基酸(又その無水物)のヒドロキシ
アルキルアクリレート半エステル化合物と、エチ
レン性不飽和結合を有するビニルモノマーと光重
合開始剤とを含む組成物(特開昭57−13444)等
がある。
しかしながら、上記従来技術は、水性アルカリ
液によつてレジスト皮膜を膨潤剥離することによ
つて、レジスト皮膜の剥離に際し、レジスト皮膜
が溶解剥離せずに膨潤剥離するため、その膨潤剥
離した皮膜がフイルターや剥離用液噴出ノズルの
閉塞をきたすことがある。
液によつてレジスト皮膜を膨潤剥離することによ
つて、レジスト皮膜の剥離に際し、レジスト皮膜
が溶解剥離せずに膨潤剥離するため、その膨潤剥
離した皮膜がフイルターや剥離用液噴出ノズルの
閉塞をきたすことがある。
上記の問題を解決するため、本発明者らは、鋭
意研究の結果、紫外線で硬化するエツチングレジ
ストインキに適し、得られた硬化部が水性アルカ
リ液に可溶である光重合性組成物を提供すること
に成功した。
意研究の結果、紫外線で硬化するエツチングレジ
ストインキに適し、得られた硬化部が水性アルカ
リ液に可溶である光重合性組成物を提供すること
に成功した。
すなわち本発明は
(A) ポリN−ビニルピロリドル 0.5〜20重量%
(B) 一般式〔〕で表される化合物 55〜85重量%
(式〔〕中、R1、R2及びR3は、H又は、
CH3である。) (C) 一般式〔〕で表される化合物 5〜20重量% (式〔〕中、R4は、H又はCH3である)及
び (D) 分子中にアクロイル基又はメタクロイル基を
1個有する単量体 5〜20重量% からなることを特徴とする光重合性組成物であ
り、さらに必要に応じ光重合開始剤(E)を含有させ
たものである。
CH3である。) (C) 一般式〔〕で表される化合物 5〜20重量% (式〔〕中、R4は、H又はCH3である)及
び (D) 分子中にアクロイル基又はメタクロイル基を
1個有する単量体 5〜20重量% からなることを特徴とする光重合性組成物であ
り、さらに必要に応じ光重合開始剤(E)を含有させ
たものである。
本発明の光重合性組成物は紫外線の照射により
硬化し、かつ硬化部が水性アルカリ液に可溶であ
る。
硬化し、かつ硬化部が水性アルカリ液に可溶であ
る。
本発明の光重合性組成物は、上述したごとくプ
リント配線基板製造のためのエツチングレジスト
インキとして好適に利用できるばかりでなく、硬
化皮膜の耐酸性、水性アルカリ液に可溶であると
いつた特性を利用して、硬化皮膜としての機能を
果した後は、皮膜を除去したいような分野で利用
してもよく、又一般のコーテイング分野で使つて
もよい。
リント配線基板製造のためのエツチングレジスト
インキとして好適に利用できるばかりでなく、硬
化皮膜の耐酸性、水性アルカリ液に可溶であると
いつた特性を利用して、硬化皮膜としての機能を
果した後は、皮膜を除去したいような分野で利用
してもよく、又一般のコーテイング分野で使つて
もよい。
本発明で使用できるバインダー用重合体として
のポリN−ビニル−ピロリドン(A)は分子量10000
〜1000000のものが好ましく、例えばBASF社製、
LuviskolK−30又はK−90等が市販されている。
のポリN−ビニル−ピロリドン(A)は分子量10000
〜1000000のものが好ましく、例えばBASF社製、
LuviskolK−30又はK−90等が市販されている。
本発明に用いる一般式〔〕で表わされる化合
物(B)は、ヘキサヒドロフタル酸無水物及びメチ
ル・ヘキサヒドロフタル酸無水物とヒドロキシア
ルキルアクリレート(又はメタクリレート)との
等モル反応生成物として得られる。ヒドロキシア
ルキル基を有するアクリレート又はメタクリレー
トとしては、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート等である。次に一般式〔〕
で表わされる化合物(B)の合成例を示す。
物(B)は、ヘキサヒドロフタル酸無水物及びメチ
ル・ヘキサヒドロフタル酸無水物とヒドロキシア
ルキルアクリレート(又はメタクリレート)との
等モル反応生成物として得られる。ヒドロキシア
ルキル基を有するアクリレート又はメタクリレー
トとしては、ヒドロキシエチルアクリレート、ヒ
ドロキシエチルメタクリレート、ヒドロキシプロ
ピルメタクリレート等である。次に一般式〔〕
で表わされる化合物(B)の合成例を示す。
合成例 1
撹拌装置、温度計、コンデンサーの付いた1.0
反応フラスコにヘキサヒドロ無水フタール酸
154.18部、ヒドロキシエチルアクリレート121.8
部、重合禁止剤としてヒドロキノンモノメチルエ
ーテル0.138部を一度に仕込み、徐々に昇温しな
がら、固体のヘキサヒドロ無水フタール酸が溶解
するまで、ゆつくり撹拌し完全に溶解したなら
ば、90±5℃に保ち、反応を続ける、約19時間反
応を続けると酸価201.0mgKOH/gのハーフエス
テルが生成する。
反応フラスコにヘキサヒドロ無水フタール酸
154.18部、ヒドロキシエチルアクリレート121.8
部、重合禁止剤としてヒドロキノンモノメチルエ
ーテル0.138部を一度に仕込み、徐々に昇温しな
がら、固体のヘキサヒドロ無水フタール酸が溶解
するまで、ゆつくり撹拌し完全に溶解したなら
ば、90±5℃に保ち、反応を続ける、約19時間反
応を続けると酸価201.0mgKOH/gのハーフエス
テルが生成する。
酸 価(mgKOH/g) 201.0
粘 度(25℃cps) 3350.0
比 重(25℃) 1.197
合成例 2
合成例1と同様な装置を備えた1.0反応フラ
スコにヘキサヒドロ無水フタール酸154.18部、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート136.7部、重
合禁止剤としてヒドロキノンモノメチルエーテル
0.145部を一度に仕込み、合成例1と同様に反応
を続けると酸価193.0mgKOH/gのハーフエステ
ルが生成する。
スコにヘキサヒドロ無水フタール酸154.18部、2
−ヒドロキシエチルメタクリレート136.7部、重
合禁止剤としてヒドロキノンモノメチルエーテル
0.145部を一度に仕込み、合成例1と同様に反応
を続けると酸価193.0mgKOH/gのハーフエステ
ルが生成する。
酸 価(mgKOH/g) 193.0
粘 度(35℃cps) 950
比 重(35℃) 1.165
合成例 3
合成例1と同様な装置を備えた1.0反応フラ
スコに4−メチルヘキサヒドロ無水フタール酸
168部、ヒドロキシエチルアクリレート121.8部、
重合禁止剤としてヒドロキノンモノメチルエーテ
ル0.137部を一度に仕込み、合成例1と同様に反
応を続けると酸価202.0mgKOH/gのハーフエス
テルが生成する。
スコに4−メチルヘキサヒドロ無水フタール酸
168部、ヒドロキシエチルアクリレート121.8部、
重合禁止剤としてヒドロキノンモノメチルエーテ
ル0.137部を一度に仕込み、合成例1と同様に反
応を続けると酸価202.0mgKOH/gのハーフエス
テルが生成する。
酸 価(mgKOH/g) 202.0
粘 度(25℃cps) 4800
比 重(25℃) 1.1700
本発明における一般式〔〕を有するアミド化
合物(C)としては、アクリルアミド及びメタクリル
アミドである。本発明における、分子中にアクリ
ロイル基又は、メタクリロイル基を1個有する単
量体(D)としては、各種の(メタ)アクリル酸エス
テル類があり、例えば、カルビトールアクリレー
ト、カルビトールメタクリレート、テトラヒドロ
フルフリルアクリレート、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート等
が挙げられる。次に本発明で用いる光重合開始剤
(E)は、たとえば、ジアセチル、ベンゾイン、アシ
ロインエーテル類及び芳香族ケトン、アルデヒド
類を包含する公知の光重合開始剤の何れをも使用
することができる。適当な光重合開始剤は、たと
えば、チバ・ガイギー社から入手することができ
るベンジルジメチルケタール(商品名、イルガキ
ユアー651)である。本発明の光重合性組成物に
は、本発明の組成物の外に、必要に応じて重合禁
止剤、増粘剤、レベリング剤、流動性改良剤、つ
や消し剤、可ソ剤、充填剤顔料ないしは、染料等
の着色剤並びその他の助剤類を併用することがで
きる。
合物(C)としては、アクリルアミド及びメタクリル
アミドである。本発明における、分子中にアクリ
ロイル基又は、メタクリロイル基を1個有する単
量体(D)としては、各種の(メタ)アクリル酸エス
テル類があり、例えば、カルビトールアクリレー
ト、カルビトールメタクリレート、テトラヒドロ
フルフリルアクリレート、2−ヒドロキシエチル
アクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレ
ート、2−ヒドロキシプロピルメタクリレート等
が挙げられる。次に本発明で用いる光重合開始剤
(E)は、たとえば、ジアセチル、ベンゾイン、アシ
ロインエーテル類及び芳香族ケトン、アルデヒド
類を包含する公知の光重合開始剤の何れをも使用
することができる。適当な光重合開始剤は、たと
えば、チバ・ガイギー社から入手することができ
るベンジルジメチルケタール(商品名、イルガキ
ユアー651)である。本発明の光重合性組成物に
は、本発明の組成物の外に、必要に応じて重合禁
止剤、増粘剤、レベリング剤、流動性改良剤、つ
や消し剤、可ソ剤、充填剤顔料ないしは、染料等
の着色剤並びその他の助剤類を併用することがで
きる。
本発明組成物中に占める(A),(B),(C)及び(A)の混
合割合はそれぞれが0.5〜20重量%、55〜85重量
%、5〜20重量%及び5〜20重量%の範囲にある
ものが好ましい。かかる範囲以外のものにあつて
は、インキ化しにくかつたり、硬化後の塗膜がア
ルカリ水溶液に溶解しなくなる。より好ましい配
合組成としては、(A),(B),(C)及び(D)それぞれが2
〜7重量%、70〜80重量%、5〜15重量%及び5
〜15重量%の範囲のものである。
合割合はそれぞれが0.5〜20重量%、55〜85重量
%、5〜20重量%及び5〜20重量%の範囲にある
ものが好ましい。かかる範囲以外のものにあつて
は、インキ化しにくかつたり、硬化後の塗膜がア
ルカリ水溶液に溶解しなくなる。より好ましい配
合組成としては、(A),(B),(C)及び(D)それぞれが2
〜7重量%、70〜80重量%、5〜15重量%及び5
〜15重量%の範囲のものである。
本発明で必要に応じ用いる光重合開始剤の使用
量は(A)+(B)+(C)+(D)の総量100重量部に対して0
〜10重量部が好ましく、特に好ましくは3〜7重
量部である。
量は(A)+(B)+(C)+(D)の総量100重量部に対して0
〜10重量部が好ましく、特に好ましくは3〜7重
量部である。
次に本発明を具体的に実施例により説明する。
実施例 1
ポリ−N−ビニルピロリドン(BASF社製、商
品名Lnviskol K−30、分子量40000)(バインダ
ー用重合体(A))4.0重量部、合成例1の化合物(B)
24.8部、合成例2の化合物(B)24.0重量部、メタク
リルアミド(C)6.6重量部、カルビトールアクリレ
ート(D)7.0重量部からなる光重合性組成物を得た。
該光重合性組成物に更にベンジルジメチルケター
ル(E)3.8重量部、シヤニンブルー0.5重量部、モダ
フロー(モンサント社製レベリング剤)0.9重量
部、タルク(充填剤)28.4重量部を均一に混合し
た後、三本ロール((株)井上製作所製)で十分に混
練したものをスクリーンに0.1,0.15,0.2,0.3,
0.8,1.0mm巾を5本ずつもつパターンを用いてス
クリーン印刷法により、プリント配線板の銅箔上
に印刷し、紫外線で硬化した所、塗膜の硬さが鉛
筆硬度で4Hの試料が得られた。この試料を塩化
第2銅エツチング液に50℃で30分間処理した所、
0.1〜1.0mm巾すべての塗膜の状態にまつたく異常
がなかつた。塗膜を50℃の5%水酸化ナトリウム
水溶液で溶解した所18秒で溶解した。
品名Lnviskol K−30、分子量40000)(バインダ
ー用重合体(A))4.0重量部、合成例1の化合物(B)
24.8部、合成例2の化合物(B)24.0重量部、メタク
リルアミド(C)6.6重量部、カルビトールアクリレ
ート(D)7.0重量部からなる光重合性組成物を得た。
該光重合性組成物に更にベンジルジメチルケター
ル(E)3.8重量部、シヤニンブルー0.5重量部、モダ
フロー(モンサント社製レベリング剤)0.9重量
部、タルク(充填剤)28.4重量部を均一に混合し
た後、三本ロール((株)井上製作所製)で十分に混
練したものをスクリーンに0.1,0.15,0.2,0.3,
0.8,1.0mm巾を5本ずつもつパターンを用いてス
クリーン印刷法により、プリント配線板の銅箔上
に印刷し、紫外線で硬化した所、塗膜の硬さが鉛
筆硬度で4Hの試料が得られた。この試料を塩化
第2銅エツチング液に50℃で30分間処理した所、
0.1〜1.0mm巾すべての塗膜の状態にまつたく異常
がなかつた。塗膜を50℃の5%水酸化ナトリウム
水溶液で溶解した所18秒で溶解した。
実施例 2
ポリ−N−ビニルピロリドン(BASF社製、商
品名Lnviskol K−30、分子量40000)(バインダ
ー用重合体(A))2.96重量部、合成例2の化合物(B)
10.58重量部、合成例3の化合物(B)39.53重量%、
メタクリルアミド(C)6.92重量%、2−ヒドロキシ
プロピルメタクリレート(D)4.94重量%、ベンジル
ジメチルケタール(E)3.95重量%、シヤニンブルー
(有機顔料)0.5重量%、モダフロー0.99重量%、
タルク29.64重量%からなる組成物を均一に混合
した後、実施例1と同様に、混練、印刷、硬化
し、塗膜の硬さが鉛筆硬度で3Hの試料が得られ
た。この試料を塩化第2銅エツチング液に50℃で
30分間処理した所、0.1〜1.0mm巾すべての塗膜の
状態にまつたく異常がなかつた。塗膜を50℃の5
%水酸化ナトリウム水溶液で溶解した所、21秒で
溶解した。
品名Lnviskol K−30、分子量40000)(バインダ
ー用重合体(A))2.96重量部、合成例2の化合物(B)
10.58重量部、合成例3の化合物(B)39.53重量%、
メタクリルアミド(C)6.92重量%、2−ヒドロキシ
プロピルメタクリレート(D)4.94重量%、ベンジル
ジメチルケタール(E)3.95重量%、シヤニンブルー
(有機顔料)0.5重量%、モダフロー0.99重量%、
タルク29.64重量%からなる組成物を均一に混合
した後、実施例1と同様に、混練、印刷、硬化
し、塗膜の硬さが鉛筆硬度で3Hの試料が得られ
た。この試料を塩化第2銅エツチング液に50℃で
30分間処理した所、0.1〜1.0mm巾すべての塗膜の
状態にまつたく異常がなかつた。塗膜を50℃の5
%水酸化ナトリウム水溶液で溶解した所、21秒で
溶解した。
実施例 3
実施例2の組成物の中のメタクリルアミド(C)を
アクリルアミド(C)にかえて、その他の成分及び重
量%は同一にした組成物を均一に混合した後、実
施例1と同様に、混練、印刷、硬化し、塗膜の硬
さが鉛筆硬度で3Hの試料が得られた。この試料
を塩化第2銅エツチング液に50℃で30分間処理し
た所、0.1〜1.0mm巾すべての塗膜の状態にまつた
く異常がなかつた。塗膜を50℃の5%水酸化ナト
リウム水溶液で溶解した所、26秒で溶解した。
アクリルアミド(C)にかえて、その他の成分及び重
量%は同一にした組成物を均一に混合した後、実
施例1と同様に、混練、印刷、硬化し、塗膜の硬
さが鉛筆硬度で3Hの試料が得られた。この試料
を塩化第2銅エツチング液に50℃で30分間処理し
た所、0.1〜1.0mm巾すべての塗膜の状態にまつた
く異常がなかつた。塗膜を50℃の5%水酸化ナト
リウム水溶液で溶解した所、26秒で溶解した。
実施例 4
ポリ−N−ビニルピロリドン(BASF社製、商
品名Lnviskol K−90、分子量700000)(バイン
ダー用重合体(A))1.26重量%、合成例1の化合物
(B)25.28重量%、合成例2の化合物(B)24.69重量
%、メタクリルアミド(C)6.77重量%、カルビトー
ルアクリレート(D)7.26重量%、ベンジルジメチル
ケタール(E)3.87重量%、シヤニンブルー0.5重量
%、モダフロー0.97重量%、タルク29.04重量%
からなる組成物を均一に混合した後、実施例1と
同様に、混練、印刷、硬化し、塗膜の硬さが鉛筆
硬度で4Hの試料が得られた。この試料を塩化第
2銅エツチング液に50℃で30分間処理した所、
0.1〜1.0mm巾すべての塗膜の状態にまつたく異常
がなかつた。
品名Lnviskol K−90、分子量700000)(バイン
ダー用重合体(A))1.26重量%、合成例1の化合物
(B)25.28重量%、合成例2の化合物(B)24.69重量
%、メタクリルアミド(C)6.77重量%、カルビトー
ルアクリレート(D)7.26重量%、ベンジルジメチル
ケタール(E)3.87重量%、シヤニンブルー0.5重量
%、モダフロー0.97重量%、タルク29.04重量%
からなる組成物を均一に混合した後、実施例1と
同様に、混練、印刷、硬化し、塗膜の硬さが鉛筆
硬度で4Hの試料が得られた。この試料を塩化第
2銅エツチング液に50℃で30分間処理した所、
0.1〜1.0mm巾すべての塗膜の状態にまつたく異常
がなかつた。
比較例 1
三ツ口フラスコに撹拌機、温度計、ゴンテンサ
ー付水分離器を備えた1反応器にプロピレング
リコール80g(1.05モル)とイソフタル酸25g
(0.15モル)と無水マレイン酸99g(0.85モル)
とを仕込み、N2ガス雰囲気中50〜200℃で18時
間、反応させて得られた軟化点60.5℃、酸価53の
ポリエステルを4.4重量%、合成例1の化合物
25.61重量%、合成例2の化合物24.88重量%、カ
ルビトールアクリレート7.32重量%、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート2.93重量%、ベンジ
ルメチルケタール3.90重量%、シヤニングブルー
0.5重量%、モダフロー0.99重量%、タルク29.27
重量%からなる組成物を均一に混合した後、実施
例1と同様に、混練、印刷、硬化し、塗膜の硬さ
が鉛筆硬度で3Hの試料が得られた。この試料を
塩化第2銅エツチング液に50℃で30分間処理した
所0.1〜1.0mm巾すべての塗膜の状態にまつたく異
常がなかつた。塗膜を50℃の5%水酸ナトリウム
水溶液で溶解した所、30秒で膨潤剥離した。
ー付水分離器を備えた1反応器にプロピレング
リコール80g(1.05モル)とイソフタル酸25g
(0.15モル)と無水マレイン酸99g(0.85モル)
とを仕込み、N2ガス雰囲気中50〜200℃で18時
間、反応させて得られた軟化点60.5℃、酸価53の
ポリエステルを4.4重量%、合成例1の化合物
25.61重量%、合成例2の化合物24.88重量%、カ
ルビトールアクリレート7.32重量%、2−ヒドロ
キシプロピルメタクリレート2.93重量%、ベンジ
ルメチルケタール3.90重量%、シヤニングブルー
0.5重量%、モダフロー0.99重量%、タルク29.27
重量%からなる組成物を均一に混合した後、実施
例1と同様に、混練、印刷、硬化し、塗膜の硬さ
が鉛筆硬度で3Hの試料が得られた。この試料を
塩化第2銅エツチング液に50℃で30分間処理した
所0.1〜1.0mm巾すべての塗膜の状態にまつたく異
常がなかつた。塗膜を50℃の5%水酸ナトリウム
水溶液で溶解した所、30秒で膨潤剥離した。
本発明の光重合性組成物は、硬化皮膜が、水性
アルカリ液に可溶で、耐酸性が良好な、紫外線硬
化型エツチングレジストインキに適する。
アルカリ液に可溶で、耐酸性が良好な、紫外線硬
化型エツチングレジストインキに適する。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 (A) ポリN−ビニルピロリドル
0.5〜20重量% (B) 一般式〔1〕で表される化合物 55〜85重量% (式〔〕中、R1、R2及びR3は、H又は、
CH3である。) (C) 一般式〔〕で表される化合物 5〜20重量% (式〔〕中、R4は、H又はCH3である)及
び (D) 分子中にアクロイル基又はメタクロイル基を
1個有する単量体 5〜20重量% からなることを特徴とする光重合性組成物。
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59226928A JPS61106613A (ja) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | 光重合性組成物 |
KR1019850007902A KR910006958B1 (ko) | 1984-10-30 | 1985-10-25 | 광중합 조성물 |
US06/792,736 US4636534A (en) | 1984-10-30 | 1985-10-29 | Photopolymerizable composition |
DE8585307865T DE3569749D1 (en) | 1984-10-30 | 1985-10-30 | Photopolymerizable composition for use as an etching-resist ink |
EP19850307865 EP0180466B1 (en) | 1984-10-30 | 1985-10-30 | Photopolymerizable composition for use as an etching-resist ink |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP59226928A JPS61106613A (ja) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | 光重合性組成物 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS61106613A JPS61106613A (ja) | 1986-05-24 |
JPH0437848B2 true JPH0437848B2 (ja) | 1992-06-22 |
Family
ID=16852797
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP59226928A Granted JPS61106613A (ja) | 1984-10-30 | 1984-10-30 | 光重合性組成物 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4636534A (ja) |
EP (1) | EP0180466B1 (ja) |
JP (1) | JPS61106613A (ja) |
KR (1) | KR910006958B1 (ja) |
DE (1) | DE3569749D1 (ja) |
Families Citing this family (11)
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---|---|---|---|---|
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US4942001A (en) * | 1988-03-02 | 1990-07-17 | Inc. DeSoto | Method of forming a three-dimensional object by stereolithography and composition therefore |
JPH01263645A (ja) * | 1988-04-15 | 1989-10-20 | Tokyo Ohka Kogyo Co Ltd | 光重合性組成物 |
US5344747A (en) * | 1988-04-15 | 1994-09-06 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Photopolymerizable compositions |
JP2649716B2 (ja) * | 1988-12-06 | 1997-09-03 | 日本化薬株式会社 | 光重合性組成物 |
AU634214B2 (en) * | 1989-03-14 | 1993-02-18 | Robert Koch | Procaine double salt complexes |
US5225315A (en) * | 1991-09-19 | 1993-07-06 | Dymax Corporation | Water soluble formulation for masking and the like, and method utilizing the same |
US7208334B2 (en) * | 2004-03-31 | 2007-04-24 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Method of manufacturing semiconductor device, acid etching resistance material and copolymer |
US9574057B2 (en) | 2012-03-28 | 2017-02-21 | Becton, Dickinson And Company | Hydrogel adhesion to molded polymers |
EP3000853B1 (en) | 2014-09-29 | 2020-04-08 | Agfa-Gevaert | Etch-resistant inkjet inks for manufacturing conductive patterns |
KR20200116151A (ko) * | 2018-03-02 | 2020-10-08 | 아그파-게바에르트 엔.브이. | 인쇄 회로 기판을 제조하기 위한 잉크젯 잉크 |
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JPS58149040A (ja) * | 1982-03-02 | 1983-09-05 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 紫外線硬化パタ−ン形成用組成物 |
JPS58153930A (ja) * | 1982-03-09 | 1983-09-13 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 紫外線硬化パタ−ン形成用組成物 |
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