JPS58149040A - 紫外線硬化パタ−ン形成用組成物 - Google Patents
紫外線硬化パタ−ン形成用組成物Info
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- JPS58149040A JPS58149040A JP3172082A JP3172082A JPS58149040A JP S58149040 A JPS58149040 A JP S58149040A JP 3172082 A JP3172082 A JP 3172082A JP 3172082 A JP3172082 A JP 3172082A JP S58149040 A JPS58149040 A JP S58149040A
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- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/004—Photosensitive materials
- G03F7/027—Non-macromolecular photopolymerisable compounds having carbon-to-carbon double bonds, e.g. ethylenic compounds
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明はプリント基板、銘板、あるいは感光性刷版のパ
ターン形成に用いられる紫外線により硬化し且つアルカ
リ水溶液により剥離する性質を有するパターン形成用組
成物に関する。
ターン形成に用いられる紫外線により硬化し且つアルカ
リ水溶液により剥離する性質を有するパターン形成用組
成物に関する。
近年、種々のパターン形成に紫外線硬化型組成物が多用
され始めている。その理由は従来使用されて来た熱硬化
型組成物に較べ、生産性、省エネルギー、無公害などの
面で実用上有利な為である、又、パターン形岬後の紫外
線硬化被膜の剥離も、作業環境汚染や価格等の理由によ
り、溶剤による剥離からアルカリ水溶液による剥離へと
移行している。このような状況において種々の紫外線硬
化組酸物が検討されて来たが、アルカリ水溶液による紫
外線硬化被膜の剥離性を向上させようとすると架橋密度
の低下および組成物系の過度の新水性等の理由により紫
外線硬化性の低下及びエツチング液中での硬化主皮膜の
強度低下を生じ、要求性能を十分に満足するに至ってい
ない。
され始めている。その理由は従来使用されて来た熱硬化
型組成物に較べ、生産性、省エネルギー、無公害などの
面で実用上有利な為である、又、パターン形岬後の紫外
線硬化被膜の剥離も、作業環境汚染や価格等の理由によ
り、溶剤による剥離からアルカリ水溶液による剥離へと
移行している。このような状況において種々の紫外線硬
化組酸物が検討されて来たが、アルカリ水溶液による紫
外線硬化被膜の剥離性を向上させようとすると架橋密度
の低下および組成物系の過度の新水性等の理由により紫
外線硬化性の低下及びエツチング液中での硬化主皮膜の
強度低下を生じ、要求性能を十分に満足するに至ってい
ない。
本発明者らは、上記問題点を岬決すべ（、些１意研究を
読けた結果、アルカリ水溶液による紫外線硬化被膜の剥
離性にすぐれかつ紫外線による硬化性及びエツチング時
の紫外線硬化被膜強度にもすぐれた本発明の紫外線硬化
パターン形成用組成物を完成するに至った。
読けた結果、アルカリ水溶液による紫外線硬化被膜の剥
離性にすぐれかつ紫外線による硬化性及びエツチング時
の紫外線硬化被膜強度にもすぐれた本発明の紫外線硬化
パターン形成用組成物を完成するに至った。
すなわち本発明の紫外線硬化バター／形成用組で示され
るアルキル基）酸無水物と１分子中に少う なくとも１個のヒドロキシル基と少なくとも１個の（メ
タ）アクリロイル基を有する単量体とのモノエステル化
化合物、（Ｂ）ジシクロペンタジェニルオキシアルキル
（メタ）アクリレート、および（Ｃ）光増感剤、を配合
してなる組成物である。本発明に使用される（Ａ）一般
式（Ｉ）で示される酸無水物と１分子中に少なくとも１
個のヒドロキシル基と少なくとも１個の（メタ）アクリ
ロイル基を有する単量体とのモノエステル化化合物とし
ては、ヘキサヒドロフタル酸無水物、３−メチルへキサ
ヒドロフタル酸無水物、４−メチルへキサヒ１
ドロフタル酸無水物、３−エチルへキサヒドロフ
タル酸無水物、４−エチルへキサヒドロフタル酸無水物
、３−プロピルへキサヒドロフタル酸無水物、３−イノ
プロピルへキサヒドロフタル酸無水物、４−プロピルへ
キサヒドロフタル酸無水物、４−イソプロピルへキサヒ
ドロフタル酸無水物、３−ブチルヘキサヒドロフタル酸
無水物、３−イソブチルヘタサヒドロフタル酸無水物、
３−ｔ−ブチルヘキサヒドロフタル酸無水物、４−ブチ
ルヘキサヒドロフタル酸無水物、４−イソブチルへキサ
ヒドロフタル酸無水物、４−ｔ−ブチルヘキサヒドロフ
タル酸無水物などの酸無水物、好ましくは、ヘキサヒド
ロフタル酸無水物、３−メチルへキサヒドロフタル酸無
水物、４−メチルへキサヒドロフタル酸無水物の如き酸
無水物と、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレン
グリコ−ツレモノ°（メタ）アクリレート、ポリプロピ
レンモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレンゲリコー
ルモノ（メタ）アクリレート、ポリヵプロラクトンモノ
（メタ）アクリレートの如キ、単量体とのモノエステル
化化合物がもげられる。
るアルキル基）酸無水物と１分子中に少う なくとも１個のヒドロキシル基と少なくとも１個の（メ
タ）アクリロイル基を有する単量体とのモノエステル化
化合物、（Ｂ）ジシクロペンタジェニルオキシアルキル
（メタ）アクリレート、および（Ｃ）光増感剤、を配合
してなる組成物である。本発明に使用される（Ａ）一般
式（Ｉ）で示される酸無水物と１分子中に少なくとも１
個のヒドロキシル基と少なくとも１個の（メタ）アクリ
ロイル基を有する単量体とのモノエステル化化合物とし
ては、ヘキサヒドロフタル酸無水物、３−メチルへキサ
ヒドロフタル酸無水物、４−メチルへキサヒ１
ドロフタル酸無水物、３−エチルへキサヒドロフ
タル酸無水物、４−エチルへキサヒドロフタル酸無水物
、３−プロピルへキサヒドロフタル酸無水物、３−イノ
プロピルへキサヒドロフタル酸無水物、４−プロピルへ
キサヒドロフタル酸無水物、４−イソプロピルへキサヒ
ドロフタル酸無水物、３−ブチルヘキサヒドロフタル酸
無水物、３−イソブチルヘタサヒドロフタル酸無水物、
３−ｔ−ブチルヘキサヒドロフタル酸無水物、４−ブチ
ルヘキサヒドロフタル酸無水物、４−イソブチルへキサ
ヒドロフタル酸無水物、４−ｔ−ブチルヘキサヒドロフ
タル酸無水物などの酸無水物、好ましくは、ヘキサヒド
ロフタル酸無水物、３−メチルへキサヒドロフタル酸無
水物、４−メチルへキサヒドロフタル酸無水物の如き酸
無水物と、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート
、２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、２−
ヒドロキシブチル（メタ）アクリレート、ポリエチレン
グリコ−ツレモノ°（メタ）アクリレート、ポリプロピ
レンモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレンゲリコー
ルモノ（メタ）アクリレート、ポリヵプロラクトンモノ
（メタ）アクリレートの如キ、単量体とのモノエステル
化化合物がもげられる。
これら（Ａ）モノエステル１ヒ化合物は、一種または二
種以上を任意の割合で混合使用してもかまわない。（Ａ
）モノエステル化化合物の合成は、上記酸無水物とヒ紀
単量体との開環付加反応により行われるのが好ましいが
、通常のエステル化反応ｌにより合成してもかまわない
。（Ａ）モノエステル化化合物を合成する場合、上記酸
無水物１モルに対して上記単量体１モルを使用するのが
好ましいが、一方を過剰に使用してもかまわない、上記
開環付加反応における反応温度は、通常５０〜１５０℃
好ましくは８ト１１０℃の範囲である。上記開環反応を
行う場合、促進剤としてトリエチルアミン、モルホリン
、ペンタメチルジエチレントリアミンなどの第３級アミ
ン類ヌはその第４級アンモニウム塩などを使用してもか
十わｔ「い。又、反応中の重合を防止する為ヒドロキノ
ン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ｔ−ブチルヒド
ロキノン、ｔ−プチルカ子コール、ベンゾキノン、フェ
ノチアジンｈどの重合禁ＩＦ−剤を使用してもかまわな
い。上記開環付ｆ＋Ｉ」反応の反応経過は、上記酸無水
物の赤外線吸収スペクトルにより容易に知る事が出来、
酸無水物の赤外線吸収スペクトルピークの消失により実
質的に反応が完了したとみなして良い、本発明における
（Ａ）のモノエステル化化合物の量は、好ましくは、−
パターン形成用組成物のうち５乍→５とアルカリ水溶液
に対する剥離性の著しい低下を生じまた９５重量％以ヒ
である場合には本発明の充分な効果は得られない。本発
明に使用される（Ｂ）ジシクロペンタジェニルオキシア
ルキル（メタ）アクリレートとしては、ジシクロペンタ
ジェニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジェニ
ルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジンクロペソタ
ジエニルオキシブロビル（メタ）アクリレートな、どが
あげられる。これら（Ｂ）ジシクロペンタジェニルオキ
シアルキル（メタ）アクＩＪ＋／−トは一種でも二種具
−Ｆを任意の割合で混合使用してもかまわない。（Ｂ）
ジシクロペンタジェニルオキシアルキル（メタ）アクリ
レートの１は好ましくは、パターン形成用組成物のうち
２−４９重量％、更に５−４５重量％である事が好まし
い。
種以上を任意の割合で混合使用してもかまわない。（Ａ
）モノエステル化化合物の合成は、上記酸無水物とヒ紀
単量体との開環付加反応により行われるのが好ましいが
、通常のエステル化反応ｌにより合成してもかまわない
。（Ａ）モノエステル化化合物を合成する場合、上記酸
無水物１モルに対して上記単量体１モルを使用するのが
好ましいが、一方を過剰に使用してもかまわない、上記
開環付加反応における反応温度は、通常５０〜１５０℃
好ましくは８ト１１０℃の範囲である。上記開環反応を
行う場合、促進剤としてトリエチルアミン、モルホリン
、ペンタメチルジエチレントリアミンなどの第３級アミ
ン類ヌはその第４級アンモニウム塩などを使用してもか
十わｔ「い。又、反応中の重合を防止する為ヒドロキノ
ン、ヒドロキノンモノメチルエーテル、ｔ−ブチルヒド
ロキノン、ｔ−プチルカ子コール、ベンゾキノン、フェ
ノチアジンｈどの重合禁ＩＦ−剤を使用してもかまわな
い。上記開環付ｆ＋Ｉ」反応の反応経過は、上記酸無水
物の赤外線吸収スペクトルにより容易に知る事が出来、
酸無水物の赤外線吸収スペクトルピークの消失により実
質的に反応が完了したとみなして良い、本発明における
（Ａ）のモノエステル化化合物の量は、好ましくは、−
パターン形成用組成物のうち５乍→５とアルカリ水溶液
に対する剥離性の著しい低下を生じまた９５重量％以ヒ
である場合には本発明の充分な効果は得られない。本発
明に使用される（Ｂ）ジシクロペンタジェニルオキシア
ルキル（メタ）アクリレートとしては、ジシクロペンタ
ジェニル（メタ）アクリレート、ジシクロペンタジェニ
ルオキシエチル（メタ）アクリレート、ジンクロペソタ
ジエニルオキシブロビル（メタ）アクリレートな、どが
あげられる。これら（Ｂ）ジシクロペンタジェニルオキ
シアルキル（メタ）アクＩＪ＋／−トは一種でも二種具
−Ｆを任意の割合で混合使用してもかまわない。（Ｂ）
ジシクロペンタジェニルオキシアルキル（メタ）アクリ
レートの１は好ましくは、パターン形成用組成物のうち
２−４９重量％、更に５−４５重量％である事が好まし
い。
本発明に使用される（Ｃ）光増感剤としては、公知のど
のような光増感剤であっても白いが配合後の貯蔵安定性
のつい事が要求されるっこの様な光増感剤としては、例
えばベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのペンシイ
／アルキルエーテル系光増感剤、？、２ジェトキシアセ
トフェノン、４１フェノキシ２，２ジクロルアセトフエ
ノンなどのアントラキノン系光増感剤、２−ヒドロキシ
−２−メチルプロピオフェノン、４１イソプロピル２−
ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノンなどのプロピ
オフェノン系光増感剤、２−エチルアントラキノン、２
−ｔブチルアントラキノン、２−クロルアノトラキノン
などのアントラキノン系光増感剤その他チオキサントン
系光増感剤、ベンジル（ジメチルケタールなどがあげら
れる。これら（Ｃ）光増感剤は一種でも二種以上任意の
割合で混合使用してもかまわない。（Ｃ）光増感剤の量
は、好ま％、更に３〜１０重量％が好ましい。
のような光増感剤であっても白いが配合後の貯蔵安定性
のつい事が要求されるっこの様な光増感剤としては、例
えばベンゾインエチルエーテル、ベンゾインブチルエー
テル、ベンゾインイソプロピルエーテルなどのペンシイ
／アルキルエーテル系光増感剤、？、２ジェトキシアセ
トフェノン、４１フェノキシ２，２ジクロルアセトフエ
ノンなどのアントラキノン系光増感剤、２−ヒドロキシ
−２−メチルプロピオフェノン、４１イソプロピル２−
ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノンなどのプロピ
オフェノン系光増感剤、２−エチルアントラキノン、２
−ｔブチルアントラキノン、２−クロルアノトラキノン
などのアントラキノン系光増感剤その他チオキサントン
系光増感剤、ベンジル（ジメチルケタールなどがあげら
れる。これら（Ｃ）光増感剤は一種でも二種以上任意の
割合で混合使用してもかまわない。（Ｃ）光増感剤の量
は、好ま％、更に３〜１０重量％が好ましい。
へ
本発明の組成物に上記（Ａ）及び以外の不飽和化合物を
加えてもかまわない。このような不飽和化合物としては
、４例えば２ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、
２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエ
チレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチ
レングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレ
フグリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリカプロラ
クトンモノ（メタ）アクリレート、セロソルブ（メタ）
アクリレート、ブチルセロソルブ（メタ）アクリレート
、メチルセロソルブ（メタ）アクリレート、カルピトー
ル（メタ）アクリレート、ブチルカルピトール（メタ）
アクリレート、メチルカルピトール（メタ）アクリレー
ト、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル
グリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物などの
単官能不飽和化合物、ポリエチレングリコールジ（メタ
）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，６ヘキサンジ（メタ）アクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどの２官
能不飽和化合物などがあげられるが、パターン形成用組
成物のうち４０重量％以−ヒを用いるとアルカリ水溶液
による剥離性が低下する為好ましくない。
加えてもかまわない。このような不飽和化合物としては
、４例えば２ヒドロキシエチル（メタ）アクリレート、
２−ヒドロキシプロピル（メタ）アクリレート、ポリエ
チレングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリエチ
レングリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリブチレ
フグリコールモノ（メタ）アクリレート、ポリカプロラ
クトンモノ（メタ）アクリレート、セロソルブ（メタ）
アクリレート、ブチルセロソルブ（メタ）アクリレート
、メチルセロソルブ（メタ）アクリレート、カルピトー
ル（メタ）アクリレート、ブチルカルピトール（メタ）
アクリレート、メチルカルピトール（メタ）アクリレー
ト、フェノキシエチル（メタ）アクリレート、フェニル
グリシジルエーテルの（メタ）アクリル酸付加物などの
単官能不飽和化合物、ポリエチレングリコールジ（メタ
）アクリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）ア
クリレート、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、１，６ヘキサンジ（メタ）アクリレート、ネオ
ペンチルグリコールジ（メタ）アクリレートなどの２官
能不飽和化合物などがあげられるが、パターン形成用組
成物のうち４０重量％以−ヒを用いるとアルカリ水溶液
による剥離性が低下する為好ましくない。
本発明の組成物は印刷又は塗布により使用されるが、そ
の場合の印刷性、塗布適性を向上させる為に体質顔料、
レベリング剤、消泡剤、着色顔料、揺変剤などを本発明
の組成物に加えてもかまわな℃）、１ 本発明のパターン形成用組喰物を実用するに際しては、
銅、しんちゅう等の金属表面にスクリーン印刷、オフセ
ット印刷等の方法により所望のパターンを印刷した後、
紫外線を照射し、硬化した被曝を形成する。紫外、線の
照射は、通常５ ト２ ｎ Ｏ罵飾の高圧水銀灯又はメ
タルノ・ライドランプを用い、３０秒以内の短時間の照
射により硬化を完了することが出来る。
の場合の印刷性、塗布適性を向上させる為に体質顔料、
レベリング剤、消泡剤、着色顔料、揺変剤などを本発明
の組成物に加えてもかまわな℃）、１ 本発明のパターン形成用組喰物を実用するに際しては、
銅、しんちゅう等の金属表面にスクリーン印刷、オフセ
ット印刷等の方法により所望のパターンを印刷した後、
紫外線を照射し、硬化した被曝を形成する。紫外、線の
照射は、通常５ ト２ ｎ Ｏ罵飾の高圧水銀灯又はメ
タルノ・ライドランプを用い、３０秒以内の短時間の照
射により硬化を完了することが出来る。
次に塩化第二鉄、塩化第二銅、鉱酸などの金属の酸性エ
ツチング液によって今頃露出部分をエツチング除去した
後アルカリ水溶液により本発明のパターン形成用組成物
の紫外線硬化被膜を除去し、金属パターンを形成する。
ツチング液によって今頃露出部分をエツチング除去した
後アルカリ水溶液により本発明のパターン形成用組成物
の紫外線硬化被膜を除去し、金属パターンを形成する。
或いは、金属露出部く・に酸性又は中性のメッキ液を用
いて、ハンダ、ニッケル、金などの金属メッキを行ない
、アルカリ水溶液により本発明のパターン形成用組成物
の紫外線硬化被膜を除去した後、過硫酸アンモニウムな
どの金属のアルカリ性エツチング液により、紫外線硬化
被膜下の上記金属メッキされていない銅、しんちゅう等
の金属面をエツチング除去し、金属メッキを用いた金属
パターンを形成することも可能である。一般式（Ｉ）で
示される酸無水物と１分子中に少（とも１個のヒドロキ
シル基と少くとも１個の（メタ）アクリロ゛イル某を有
する単量体とノモノエステル化合物とジシクロペンタジ
ェニルオキシアルキルアクリレートとを共に一つの組成
分としているのでアルカリ水溶液による紫外線硬化被膜
の剥離性に優れ且つ紫外線による硬化性およびエツチン
グ時の紫外線硬化被膜強度に優れた材料を提供すること
ができる。
いて、ハンダ、ニッケル、金などの金属メッキを行ない
、アルカリ水溶液により本発明のパターン形成用組成物
の紫外線硬化被膜を除去した後、過硫酸アンモニウムな
どの金属のアルカリ性エツチング液により、紫外線硬化
被膜下の上記金属メッキされていない銅、しんちゅう等
の金属面をエツチング除去し、金属メッキを用いた金属
パターンを形成することも可能である。一般式（Ｉ）で
示される酸無水物と１分子中に少（とも１個のヒドロキ
シル基と少くとも１個の（メタ）アクリロ゛イル某を有
する単量体とノモノエステル化合物とジシクロペンタジ
ェニルオキシアルキルアクリレートとを共に一つの組成
分としているのでアルカリ水溶液による紫外線硬化被膜
の剥離性に優れ且つ紫外線による硬化性およびエツチン
グ時の紫外線硬化被膜強度に優れた材料を提供すること
ができる。
実施例１
３−メチルへキサヒドロフタル酸ｍ水物１６８９（ｌモ
＃）、２−ヒドロキシエチルアクリレートｔ３０９（１
モル）を攪拌付フラスコに入れ９５°Ｃにて赤外線吸収
スペクトルの無水酸のピークが消失するまで７時間反応
させモノエステル化化合物（１）を得た。上記モノエス
テル化化合物（Ｉ ） ７６部、シンクロペンタジェニ
ルアクリレート２０部、光増感剤としてベンゾインエチ
ルエーテル４部を配合しパターン形成用組成物とした。
＃）、２−ヒドロキシエチルアクリレートｔ３０９（１
モル）を攪拌付フラスコに入れ９５°Ｃにて赤外線吸収
スペクトルの無水酸のピークが消失するまで７時間反応
させモノエステル化化合物（１）を得た。上記モノエス
テル化化合物（Ｉ ） ７６部、シンクロペンタジェニ
ルアクリレート２０部、光増感剤としてベンゾインエチ
ルエーテル４部を配合しパターン形成用組成物とした。
スクリーン印刷適性を与える為、上記パターン形成用組
成物１００部に対しフィラーとしてタルク３０部、硫酸
バリウム３０部、揺変剤としてエコジル０．５部、着色
顔料としてフタロシアニンブルーを０．５部加えてパタ
ーン形成用スクリーン印刷インクを調製した。次いでス
クリーン印刷により銅板上に上記バター／形成用スクリ
ーン印刷インクを印刷した。
成物１００部に対しフィラーとしてタルク３０部、硫酸
バリウム３０部、揺変剤としてエコジル０．５部、着色
顔料としてフタロシアニンブルーを０．５部加えてパタ
ーン形成用スクリーン印刷インクを調製した。次いでス
クリーン印刷により銅板上に上記バター／形成用スクリ
ーン印刷インクを印刷した。
印刷塗布厚みは１８μであった。この塗布物を閏Ｗ／ｃ
ｍの高圧水銀灯３灯にて硬化した。硬化に要した時間は
５秒であり、硬化被膜の鉛筆硬度は、３Ｈであった。塩
化第二銅エツチング液により金属露出部分をエツチング
除去した。エツチング後の硬化被曝の鉛筆硬度はＦであ
った。４０°Ｃ３％水酸化す） ＩＪウム水溶液にて硬
化被膜を銅表面より剥離して金属パターンを得た。剥離
に要した時間は４秒であった。
ｍの高圧水銀灯３灯にて硬化した。硬化に要した時間は
５秒であり、硬化被膜の鉛筆硬度は、３Ｈであった。塩
化第二銅エツチング液により金属露出部分をエツチング
除去した。エツチング後の硬化被曝の鉛筆硬度はＦであ
った。４０°Ｃ３％水酸化す） ＩＪウム水溶液にて硬
化被膜を銅表面より剥離して金属パターンを得た。剥離
に要した時間は４秒であった。
実施例２
ヘキサヒドロフタル酸無水物１５４９（１モル）、２−
ヒドロキシプロピルアクリレート １３０ｇ（１モル）
を実施例１と同様にしてモノエステル化化合物（２）を
得た。上記モノエステル化化合物（２）６８部シンクロ
ペンタジェニルオキシエチルアクリレート １６部、光
増感剤として２ヒドロキシ２メチルプロピオフエノン６
部その低不飽和化合物としてセロソルブアクリレート
１０部を配合してパターン形成用組成物とした。上記パ
ターン形成用組成物を使用し、実施例１と同様にパター
ン形成用スクリーン印刷インクを調製した。実施例１と
同様に上記パターン形成用スクリーン印刷インクを印刷
、硬化したところ硬化被膜の鉛筆硬度は３Ｈであった。
ヒドロキシプロピルアクリレート １３０ｇ（１モル）
を実施例１と同様にしてモノエステル化化合物（２）を
得た。上記モノエステル化化合物（２）６８部シンクロ
ペンタジェニルオキシエチルアクリレート １６部、光
増感剤として２ヒドロキシ２メチルプロピオフエノン６
部その低不飽和化合物としてセロソルブアクリレート
１０部を配合してパターン形成用組成物とした。上記パ
ターン形成用組成物を使用し、実施例１と同様にパター
ン形成用スクリーン印刷インクを調製した。実施例１と
同様に上記パターン形成用スクリーン印刷インクを印刷
、硬化したところ硬化被膜の鉛筆硬度は３Ｈであった。
次いで塩化第二銅エツチング液により金属露出部分をエ
ツチング除去した。エツチング後の硬化被膜の鉛筆硬度
は、Ｈであった。４００Ｃ３％水酸化ナトリウム水溶液
にて硬化被膜を銅表面より剥離して金属パターンを得た
。剥離に要した時間は８秒であった。
ツチング除去した。エツチング後の硬化被膜の鉛筆硬度
は、Ｈであった。４００Ｃ３％水酸化ナトリウム水溶液
にて硬化被膜を銅表面より剥離して金属パターンを得た
。剥離に要した時間は８秒であった。
実施例３
３−メチルへキサヒドロフタル酸無水物１６８ｇ（１モ
ル）２−ヒドロキシエチルアクリレート１２７．６９
（１，１モル）を実施例１と同様にしてモノエステル化
化合物（３）を得た。上記モノエステル化化合物（３）
８０部ジシクロペンタジエニルオ箪ジプロピルメタクリ
レート７部光増感剤として／２−エチルア／トラキノン
３部とベンジルジメチルケタール５部、その低不飽和化
合物としてヒドロキシエチルメタクリレート５部を配合
してノくターン形成用組成物とした。上記パターン形成
用組゛ 酸物を使用し、実施例１と同様にパターン形成
用スクリーン印刷インクを調製した。実施例１と同様に
パターン形成用スクリーン印刷インクを印刷、硬化した
ところ硬化被膜の鉛筆硬度は２日であった。塩化第二銅
エツチング液により金属露出部分をエツチング除去した
。エツチング後の硬化被膜の鉛筆硬度はＦであった。４
０℃３％水酸化ナトリウム水溶液にて硬化被膜を銅表面
より剥離して金属パターンを得た。剥離に要した時間は
４秒であった。
ル）２−ヒドロキシエチルアクリレート１２７．６９
（１，１モル）を実施例１と同様にしてモノエステル化
化合物（３）を得た。上記モノエステル化化合物（３）
８０部ジシクロペンタジエニルオ箪ジプロピルメタクリ
レート７部光増感剤として／２−エチルア／トラキノン
３部とベンジルジメチルケタール５部、その低不飽和化
合物としてヒドロキシエチルメタクリレート５部を配合
してノくターン形成用組成物とした。上記パターン形成
用組゛ 酸物を使用し、実施例１と同様にパターン形成
用スクリーン印刷インクを調製した。実施例１と同様に
パターン形成用スクリーン印刷インクを印刷、硬化した
ところ硬化被膜の鉛筆硬度は２日であった。塩化第二銅
エツチング液により金属露出部分をエツチング除去した
。エツチング後の硬化被膜の鉛筆硬度はＦであった。４
０℃３％水酸化ナトリウム水溶液にて硬化被膜を銅表面
より剥離して金属パターンを得た。剥離に要した時間は
４秒であった。
実施例４
４−メチルへキサヒドロフタル酸無水物１６８ノ（１モ
ル）、テトラエチレングリコールモノアクリレ−） ３
５８ｇ（１モル）を実施例１と同様にしてモノエステル
化化合物（４）を得た。上記モノエステル化化合物（１
） ３０部上記モノエステル化化合物（４）４０部ジ
シクロペンタジェニル少メタクリレート１１部光増感剤
として４１−フェノキシ２，２ジクロルアセトフ工ノン
１０部その低不飽和化合物としてトリエチレングリコー
ルジアクリレート９部を配合してパターン形成用組成物
とした。上記パターン形成用矩酸物を使用し、実施例１
と同様にパターン形成用スクリーン印刷インクを作製し
た。実施例１と同様に上記パターン形成用スクリーン印
刷インクを印刷、硬化すると硬化被膜の鉛筆硬度は３Ｈ
であった。塩化第二銅エツチング液により金属露出部分
をエツチング除去した。エツチング後の硬化被膜の鉛筆
硬度は２Ｈであった。
ル）、テトラエチレングリコールモノアクリレ−） ３
５８ｇ（１モル）を実施例１と同様にしてモノエステル
化化合物（４）を得た。上記モノエステル化化合物（１
） ３０部上記モノエステル化化合物（４）４０部ジ
シクロペンタジェニル少メタクリレート１１部光増感剤
として４１−フェノキシ２，２ジクロルアセトフ工ノン
１０部その低不飽和化合物としてトリエチレングリコー
ルジアクリレート９部を配合してパターン形成用組成物
とした。上記パターン形成用矩酸物を使用し、実施例１
と同様にパターン形成用スクリーン印刷インクを作製し
た。実施例１と同様に上記パターン形成用スクリーン印
刷インクを印刷、硬化すると硬化被膜の鉛筆硬度は３Ｈ
であった。塩化第二銅エツチング液により金属露出部分
をエツチング除去した。エツチング後の硬化被膜の鉛筆
硬度は２Ｈであった。
４０℃３％水酸化ナトリウム水溶液にて硬化被膜を銅表
面より剥離して金属パターンを得た。剥離に要した時間
は５秒であった。
面より剥離して金属パターンを得た。剥離に要した時間
は５秒であった。
比較例１
上記モノエステル化化合物（１）９６部、光増感剤とし
てベンゾインエチルエーテル４部を配合し、パターン形
成用組成物とした。上記パターン形成用組成物を使用し
、実施例１と同様にパターン形成用スクリーン印刷イン
クを作製した。実施例１と同様に上記パターン形成用ス
クリーン印刷インクを印刷、硬化したところ硬化被膜の
鉛筆硬度はＨであった。塩化第二銅エツチング液により
金属露出部分をエツチング除去した。エツチング後の硬
化被膜の鉛筆６更彦は６Ｂｌ；Ｌ下であった。４０°０
３％水酸化ナトリウム水溶液にて硬化被膜を銅表面より
剥離して金属パターンを得たところ剥離に要した時間は
８秒であった。
てベンゾインエチルエーテル４部を配合し、パターン形
成用組成物とした。上記パターン形成用組成物を使用し
、実施例１と同様にパターン形成用スクリーン印刷イン
クを作製した。実施例１と同様に上記パターン形成用ス
クリーン印刷インクを印刷、硬化したところ硬化被膜の
鉛筆硬度はＨであった。塩化第二銅エツチング液により
金属露出部分をエツチング除去した。エツチング後の硬
化被膜の鉛筆６更彦は６Ｂｌ；Ｌ下であった。４０°０
３％水酸化ナトリウム水溶液にて硬化被膜を銅表面より
剥離して金属パターンを得たところ剥離に要した時間は
８秒であった。
比較例２
上記モノエステル化化合物（２）、７６部、光増感剤と
して２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン６部
、その他年飽和化合物としてセロソルブアクリレート
１８部を配合してパターン形成用組成物とした。上記パ
ターン形成用組成物を使用し、実施例１と同様にパター
ン形成用スクリーン印刷インクを作製した。実施例１と
同様にパターン形成用スクリーン印刷インクを印刷、硬
化すると硬化被膜の鉛筆硬度は３Ｈであった。塩化第二
銅エツチング液により金属露出部分をエツチング除去し
た。エツチング後の硬化被膜の鉛筆硬度は６Ｂであった
。４０℃３％水酸化す） ＩＪウム水溶液にて硬化被膜
を銅表面より剥離して金属パターンを得た。剥離に要し
た時間は２０秒であった。
して２−ヒドロキシ−２−メチルプロピオフェノン６部
、その他年飽和化合物としてセロソルブアクリレート
１８部を配合してパターン形成用組成物とした。上記パ
ターン形成用組成物を使用し、実施例１と同様にパター
ン形成用スクリーン印刷インクを作製した。実施例１と
同様にパターン形成用スクリーン印刷インクを印刷、硬
化すると硬化被膜の鉛筆硬度は３Ｈであった。塩化第二
銅エツチング液により金属露出部分をエツチング除去し
た。エツチング後の硬化被膜の鉛筆硬度は６Ｂであった
。４０℃３％水酸化す） ＩＪウム水溶液にて硬化被膜
を銅表面より剥離して金属パターンを得た。剥離に要し
た時間は２０秒であった。
特許出願人 三井東圧［ヒ堂株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 （但しＲは水素またはＣｎ Ｈ２ｎ−１−１、ｎ−１〜
４で示されるアルキル基）である酸無水物と１分子中に
少（とも１個のヒドロキシル基と少くとも１個の（メタ
）アクリロイル基を有する単量体とのモノエステル化合
物、（Ｂ）ジシクロベンタジエニルオヘ キンアルキルアクリレート、および（Ｃ）光増感剤とを
配合してなる紫外線硬化パターン形成用組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3172082A JPS58149040A (ja) | 1982-03-02 | 1982-03-02 | 紫外線硬化パタ−ン形成用組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3172082A JPS58149040A (ja) | 1982-03-02 | 1982-03-02 | 紫外線硬化パタ−ン形成用組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS58149040A true JPS58149040A (ja) | 1983-09-05 |
Family
ID=12338879
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3172082A Pending JPS58149040A (ja) | 1982-03-02 | 1982-03-02 | 紫外線硬化パタ−ン形成用組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS58149040A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4636534A (en) * | 1984-10-30 | 1987-01-13 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Photopolymerizable composition |
| JPS62275235A (ja) * | 1986-05-06 | 1987-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 乾式画像形成方法 |
-
1982
- 1982-03-02 JP JP3172082A patent/JPS58149040A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US4636534A (en) * | 1984-10-30 | 1987-01-13 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Photopolymerizable composition |
| JPS62275235A (ja) * | 1986-05-06 | 1987-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | 乾式画像形成方法 |
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