JPH04360886A - 含フッ素ジアリールエテン系化合物 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、新規な含フッ素ジアリ
ールエテン系化合物に係り、更に詳細には、フォトクロ
ミック性を有し、光記録材料等に好適な含フッ素ジアリ
ールエテン系化合物に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、記録，記憶材料，複写材料，調光
材料，印刷感光体，レーザ用感光体，マスキング材料，
光量計あるいは表示材料に利用される、光照射により可
逆的に色相変化する種々のフォトクロミック性を有する
化合物が提案されている。

【０００３】例えば、それらのフォトクロミック化合物
としてベンゾスピロピラン類，ナフトオキサジン類，フ
ルギド類，ジアゾ化合物あるいはジアリールエテン類等
の化合物が提案されている。

【０００４】そして、このようなフォトクロミック化合
物を可逆的な光記録材料に応用するためには、特に次の
ような性能が要求される。すなわち、（１）記録の安定
性，（２）繰り返し耐久性，（３）高い感度，（４）半
導体レーザー感受性等である。

【０００５】ところが、前記既存のフォトクロミック化
合物は、一般に着色状態又は消色状態のどちらか一方が
熱的に不安定であり、室温に於いても数時間以内に、よ
り安定な状態に戻るため、記録の安定性が確保できない
という欠点を有している。

【０００６】光照射による二つの状態が、熱的に比較的
安定なものとしては、フルギド類やジアリールエテン類
が知られているが、記録材料に応用するには安定性が不
十分であり、更に繰り返し耐久性に劣るという欠点があ
り、未だ光記録材料として十分満足な性能を有するフォ
トクロミック化合物がないのが現状である。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、このような
事情に鑑み、なされたものであって、その目的とすると
ころは、着色状態の熱安定性，繰り返し耐久性，あるい
は感度等、フォトクロミック材料として優れた特性を有
する新規含フッ素ジアリールエテン系化合物を提供する
にある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】上述の目的は、下記一般
式にて示されるジアリールエテン系化合物により達成さ
れる。

【０００９】

【化２】

【００１０】本発明の含フッ素ジアリールエテン系化合
物は、例えば次のような方法で製造する事ができる。即
ち、下記構造式化３にて示されるパーフルオロシクロペ
ンテンと、下記式化４で示されるリチオアリール誘導体
を反応させる方法である。

【００１１】

【化３】

【化４】

【００１２】本発明の含フッ素ジアリールエテン系化合
物の一例として、３，３′，４，４′，５，５′−ヘキ
サフルオロ−１，２−ジ−（３−メチル−２−ベンゾチ
エニル）−シクロペンテンについて説明すると、下記の
ように紫外光を吸収すると閉環体に変化して黄色になる
。

【００１３】

【化５】

【００１４】また、この閉環体に可視光を照射すると、
元の開環体に戻り、消色する。

【００１５】本発明の含フッ素ジアリールエテン系化合
物は、着色状態も消色状態も熱的安定性が高く、長期間
変化せず、良好に保持される。又、着消色の繰り返し耐
久性にも優れ、可逆的な光情報記録材料に有利に使用す
ることができる。

【００１６】本発明の新規含フッ素ジアリールエテン系
化合物を含有する記録層を利用した光記録材料は、公知
の方法で容易に得ることができる。

【００１７】例えば、本発明の含フッ素ジアリールエテ
ン系化合物を、公知の蒸着法により、適当な基板上に蒸
着する方法，該化合物を、ポリエステル樹脂，ポリスチ
レン樹脂，ポリ塩化ビニル樹脂，ポリ酢酸ビニル樹脂，
ポリビニルブチラール樹脂，ポリメチルメタクリル酸樹
脂，ポリカーボネイト樹脂，フェノール樹脂，エポキシ
樹脂等の樹脂バインダーと共に、ベンゼン，トルエン，
ヘキサン，シクロヘキサン，メチルエチルケトン，アセ
トン，メタノール，エタノール，テトラヒドロフラン，
ジオキサン，四塩化炭素，クロロホルム等の溶媒に分散
又は溶解させて、適当な基板上に塗布する方法，該化合
物を、前記のような溶媒に溶解し、ガラスセル等に封入
する方法，等により、記録層を形成することによって、
光記録材料とすることができる。

【００１８】

【発明の効果】以上のように、本発明の含フッ素ジアリ
ールエテン系化合物は、熱安定性に優れ、かつ発消色の
繰り返し耐久性の良好なフォトクロミック性を有してお
り、更にこれを用いれば、性能の優れた可逆的光記録材
料を得ることができる。

【００１９】以下に、実施例を挙げて本発明を具体的に
説明する。

【００２０】

【実施例】

実施例１ 容量１００ｍｌの２つ口フラスコに３−メチルベンゾチ
オフェン０．７４ｇ（５ｍｍｏｌ）とジエチルエーテル
１０ｍｌを入れ、窒素気流下でｎ−ブチルリチウムヘキ
サン溶液５ｍｍｏｌを滴下し、１５分間攪拌した後、４
５分間環流した。室温にまで放冷後、ＴＨＦ２０ｍｌを
加え、−７８℃に冷却して、パーフルオロシクロペンテ
ン３３６μｌ（２．５ｍｍｏｌ）を加えて１時間反応さ
せた。２時間かけて室温に戻しながら攪拌し、反応終了
後、１規定塩酸２０ｍｌを加えた。その後、ジエチルエ
ーテル５０ｍｌで２回抽出し、エーテル層を集め、洗浄
・乾燥後、エーテルを留去した。反応生成物をシリカゲ
ルのカラムクロマトグラフィーを用いて分離精製した結
果、下記構造式のジアリールエテン類１６６ｍｇ（収率
１４％）を得た。

【００２１】なお、生成物の同定は、核磁気共鳴スペク
トル、質量分析スペクトルにより行った。また、光照射
による可逆的変化が認められた。

【００２２】

【化６】

【００２３】分析値： （ｉ）　１Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ３　）δ１．９８（ｓ
，６Ｈ，Ａｒ−ＣＨ３　）７．３３−７．８３（ｍ，８
Ｈ，Ａｒ−Ｈ） （ｉｉ）　　ＭＳ（ｍ／ｅ）　　４６８（Ｍ＋　）

【０
０２４】フォトクロミック性：上記で合成した化合物を
ベンゼンに溶解して得た透明な溶液を１ｃｍ×１ｃｍ×
４ｃｍの石英ガラスセルに封入し、これにガラスフィル
ター（Ｕ−３３０　　ＨＯＹＡ社製）を装着した１００
Ｗ水銀灯（オスラム社製）により紫外光を照射したとこ
ろ黄色に着色した。

【００２５】その吸収スペクトルは図１に実線で示すも
のから点線で示すものに変化した。即ち紫外光で下記式
の→方向の変化が起こり黄色に着色した。

【００２６】

【化７】

【００２７】次に、黄色着色状態の溶液に、カットフィ
ルター（日本真空光学社製）を装着した１００Ｗの水銀
灯により、４００ｎｍ以上の可視光を照射したところ、
ただちに消色し、元の透明の状態に変化した。この変化
は可逆的に繰り返すことができた。

【００２８】繰り返し耐久性（可逆着色消色サイクル耐
性）：上記で合成した化合物の１０ｍｇをポリメチルメ
タクリレート１００ｍｇとともにＴＨＦ１ｍｌに溶解し
、これを１×３ｃｍ角石英ガラス板上にスピンコーティ
ング法により塗布，乾燥して記録層を作成した。この記
録層の吸収スペクトルの４５０ｎｍにおける吸光度は０
．０４９であった。

【００２９】この記録層に、Ｕ−３３０フィルターを装
着した１００Ｗ水銀灯により紫外光を６０秒間照射し、
全面着色状態にした。この着色状態の化合物の、４５０
ｎｍにおける吸光度は０．２２２であった。

【００３０】次にこの着色状態の記録層に、カットフィ
ルターを装着した１００Ｗ水銀灯により、４００ｎｍ以
上の可視光を３０秒間照射したところ、ただちに消色し
、この記録層の吸収スペクトルの吸光度は０．０５０に
戻った。

【００３１】この紫外光，可視光の交互の照射による着
・消色を１サイクルとして、繰り返し耐久性試験を行っ
た。この結果を図２に示した。

【００３２】図２に示すように、１５０サイクル繰り返
した時点での吸収スペクトルの４５０ｎｍの吸光度は、
消色状態で０．０５７、着色状態で０．２２０であった
。５００サイクル繰り返した後も消色状態が０．０６４
，着色状態が０．２０７と、優れた繰り返し耐久性を有
していた。

【００３３】保存安定性：繰り返し耐久性で使用したも
のと同様にして作製した記録層の２枚のうち、一方を紫
外光により着色し、他方を未着色のまま、各々アルミホ
イルで遮光し、８０℃の恒温槽に入れ、吸光度の変化を
観察した。その結果を図３に示してあるが、２週間経過
しても吸光度の変化はほとんどなく、記録を安定に保存
することができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施例１の化合物の吸収スペクトルを示す図で
ある。

【図２】実施例１の化合物に、紫外光，可視光を５００
サイクル照射した時の、４５０ｎｍにおける吸光度の変
化を示す図である。

【図３】実施例１の化合物に紫外光を照射し、２週間保
存した時の４５０ｎｍにおける吸光度変化を示す図であ
る。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　下記構造式 【化１】 にて示される含フッ素ジアリールエテン系化合物。