JPH04337030A - フォルステライト被膜のない方向性珪素鋼板の製造方法 - Google Patents
フォルステライト被膜のない方向性珪素鋼板の製造方法Info
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- 229910000976 Electrical steel Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 20
- 229910052839 forsterite Inorganic materials 0.000 title claims description 11
- HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N magnesium orthosilicate Chemical compound [Mg+2].[Mg+2].[O-][Si]([O-])([O-])[O-] HCWCAKKEBCNQJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 11
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 title claims description 8
- 238000000137 annealing Methods 0.000 claims abstract description 68
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims abstract description 32
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims abstract description 32
- 238000001953 recrystallisation Methods 0.000 claims abstract description 31
- 238000005097 cold rolling Methods 0.000 claims abstract description 9
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 7
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N Ammonia Chemical compound N QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 16
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 14
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 12
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 12
- 229910021529 ammonia Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 238000011282 treatment Methods 0.000 claims description 7
- 238000005121 nitriding Methods 0.000 claims description 6
- 239000012535 impurity Substances 0.000 claims description 5
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 229910052784 alkaline earth metal Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 150000001342 alkaline earth metals Chemical class 0.000 claims description 3
- 238000009503 electrostatic coating Methods 0.000 claims description 3
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 16
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 abstract description 14
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 abstract description 6
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 abstract description 3
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 abstract description 3
- 239000002253 acid Substances 0.000 abstract 2
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 abstract 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 abstract 1
- 238000000926 separation method Methods 0.000 abstract 1
- 239000003112 inhibitor Substances 0.000 description 24
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 23
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 9
- 230000005381 magnetic domain Effects 0.000 description 8
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000009499 grossing Methods 0.000 description 6
- 238000005498 polishing Methods 0.000 description 6
- 238000007670 refining Methods 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- 229910001224 Grain-oriented electrical steel Inorganic materials 0.000 description 5
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 5
- 230000008569 process Effects 0.000 description 5
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 3
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 3
- 238000005261 decarburization Methods 0.000 description 3
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 3
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 238000000746 purification Methods 0.000 description 3
- -1 AlN and (Al Chemical class 0.000 description 2
- 230000008859 change Effects 0.000 description 2
- 229910052681 coesite Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 description 2
- 238000001816 cooling Methods 0.000 description 2
- 229910052906 cristobalite Inorganic materials 0.000 description 2
- 150000004677 hydrates Chemical class 0.000 description 2
- 238000000053 physical method Methods 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 229910052682 stishovite Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000005728 strengthening Methods 0.000 description 2
- 229910052905 tridymite Inorganic materials 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- 230000002542 deteriorative effect Effects 0.000 description 1
- 229910001873 dinitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000003814 drug Substances 0.000 description 1
- 229940079593 drug Drugs 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 238000000227 grinding Methods 0.000 description 1
- 238000009776 industrial production Methods 0.000 description 1
- 238000011835 investigation Methods 0.000 description 1
- 239000002932 luster Substances 0.000 description 1
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000009467 reduction Effects 0.000 description 1
- 238000005096 rolling process Methods 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000013589 supplement Substances 0.000 description 1
- 238000004065 wastewater treatment Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Soft Magnetic Materials (AREA)
- Manufacturing Of Steel Electrode Plates (AREA)
Abstract
め要約のデータは記録されません。
Description
性珪素鋼板(以下方向性電磁鋼板と云う)に関するもの
である。特にその表面にフォルステライト(以下、グラ
スと云う)被膜を形成させずに二次再結晶工程(仕上焼
鈍工程)を完了させ、その後、磁区細分化、張力コーテ
ィング等の処理を行い、鉄損特性の改善を図ろうとする
ものである。
として多用され、エネルギーロスを少なくすべく、改善
が繰り返されてきた。方向性電磁鋼板の鉄損を低減する
手段として、仕上焼鈍後の材料表面にレーザービームを
照射し、局部歪を与え、それによって磁区を細分化して
鉄損を低下させる方法が、例えば特開昭58−2640
5号公報に開示されている。また局部歪は、通常行われ
る加工後の応力除去焼鈍(歪取り焼鈍)によって除去さ
れるので、磁区細分化効果が消失する。この改善策、す
なわち応力除去焼鈍しても磁区細分化効果が消失しない
手段が、例えば特開昭62−8617号公報に開示され
ている。さらに鉄損値の低減を図かるためには、鋼板表
面近傍の磁区の動きを阻害する地鉄表面の凹凸を取り除
くこと(平滑化)が重要である。仕上焼鈍後の材料表面
を平滑化(鏡面化)する方法としては、特開昭64−8
3620号公報に開示されている化学研磨、電解研磨等
がある。
化する方法としては、前期化学研磨、電解研磨の他にブ
ラシ研磨、サンドペーパー研磨、研削等の化学的あるい
は物理的方法がある。しかしながら、これらの方法は、
小試片、少量の試料を作るには適するが、工業的に多量
生産される金属ストリップ等の表面平滑化のためには、
諸々の困難を伴う。例えば化学的方法においては薬剤濃
度管理、排水処理等の環境問題が発生し、他方、物理的
方法においては工業的に大きな面積を持つ表面を同一基
準で平滑化することが極めて困難である。
規模で方向性電磁鋼板の表面を平滑化する方法を提供す
ることを目的とする。当然ながら平滑化のために磁気特
性が失われてはならない。本発明においては仕上焼鈍工
程で同時に目的を達成しようとするものである。即ち、
二次再結晶の方位を制御しつつ、かつ平滑表面を得よう
とするものである。
ろは、前記するように仕上焼鈍時に平滑表面を得るとこ
ろにある。即ち、通常行われているMgOを主体とする
焼鈍分離剤を用いずに、Al2 O3 等のSiO2
と反応しないか或いは反応しにくい物質を焼鈍分離剤と
して用いて方向性電磁鋼板の表面にグラス(フォルステ
ライト)被膜を形成させないことにある。
、酸可溶性Al:0.008〜0.05重量%、N≦0
.010重量%、残部Fe及び不可避的不純物からなる
珪素鋼熱延鋼帯を必要に応じて焼鈍した後、1回または
中間焼鈍をはさむ2回以上の冷間圧延を行い、所定の板
厚とし、次いで一次再結晶焼鈍を行った後、焼鈍分離剤
を塗布し、仕上焼鈍を施す方向性珪素鋼板の製造におい
て、焼鈍分離剤をAl2 O3 (アルミナ)とし、雰
囲気がN2:0〜95%、残部H2からなる仕上焼鈍の
昇温速度を50℃/Hr以上で920〜1150℃まで
昇温し、この温度で5時間以上保持することである。
に入る前にアンモニアによる窒化処理を行うこと、焼鈍
分離剤の塗布を静電塗布とすること、仕上焼鈍時の雰囲
気を二次再結晶終了時までN2:5%以上95%以下と
すること等の磁気特性向上策をとり入れることが有効で
ある。また、焼鈍分離剤としてMgO以外のアルカリ土
金属の酸化物を用いても良い。
のために1200℃付近で1時間以上100%H2中で
保持することが有効である。以下、本発明についてさら
に詳細に説明する。本発明者等は仕上焼鈍中のインヒビ
ターの挙動を調査した結果、昇温速度によってインヒビ
ターの同一温度における強度が著しく変わることを見出
した。
028重量%、N:0.008重量%、Mn:0.14
重量%、S:0.007重量%、C:0.05重量%、
残部Fe及び不可避的不純物からなる珪素鋼熱延鋼帯を
1100℃で2分間焼鈍した後、冷間圧延し、0.23
mm厚とした。得られた冷延板を脱炭を兼ねるために湿
水素雰囲気とした焼鈍炉で800℃で2分間焼鈍し、一
次再結晶させた。次に二次再結晶を安定化させるために
アンモニア雰囲気中で窒化処理を行い、全窒素量を18
0ppmとし、インヒビターを強化した。その後、Al
2 O3 を静電塗布し、15℃/Hr及び150℃/
Hrで昇温するN2:25%−H2:75%雰囲気から
なる仕上焼鈍を行った。仕上焼鈍中のインタビター(A
lN,(Al,Si)N等)を調べたところ、図1に示
すように昇温速度が大きい場合には同一温度におけるイ
ンヒビター強度が昇温速度が小さい場合のそれより強い
ことが分った。即ち、昇温速度を大きくすれば高温まで
強いインヒビター強度が保持できる。なお、図1ではイ
ンヒビター強度として鋼中酸可溶性Al濃度を示したが
、AlはAlN、(Al,Si)N等の化合物を形成し
てインヒビターとなっているので、酸可溶性Al量がイ
ンヒビター強度を示す指標を考えて良い。
しく調査したところ、鋼板界面におけるAlの酸化過程
が最大の因子であり、さらに鋼中窒素及び焼鈍雰囲気中
の窒素量にも影響されることが分かった。なお、焼鈍雰
囲気中の窒素量は鋼板界面を通して鋼中の窒素量を増加
させているものであり、その効果は当初から鋼中に入っ
ている窒素と同じである。鋼中窒素及び焼鈍雰囲気中の
窒素はAlN等の析出物を増加させてAlを固定し、A
lの鋼板界面への移動を少なくするのでAlの酸化が抑
制されるのである。
は、昇温速度が大きい場合の方が酸化時間が短いために
、昇温速度が小さい場合より多い。必要量のインヒビタ
ーを有した材料を高速で二次再結晶可能な温度に昇温す
れば、インヒビターを劣化させることなく二次再結晶で
きると考えた。以上の観点から次の実験を行った。
l2 O3粉末を静電塗布し、H2:100%からなる
仕上焼鈍炉に入れて、150℃/Hrで昇温し1100
℃で5時間保持したところ、磁束密度(B8)で、1.
93Teslaの電磁鋼板が得られた。この電磁鋼板に
はグラス(フォルステライト)被膜がなく、金属光沢を
示し、また結晶粒界が鋼板表面からそのまま見えた。
剤は、Al2 O3 (アルミナ)等の一次再結晶焼鈍
時、鋼板表面にできるSiO2 を主体とする酸化層と
反応しないか或いは反応しにくい物質であれば主目的と
するグラスのない平滑表面が得られる。この様な物質と
しては、BaO、CaO、SrO等のアルカリ土金属の
酸化物粉末が有効であった。また鋼板表面に被膜を作ら
ないためには、反応性の小さい物質状態、例えば粉末の
粒度を大きくするとか或いは水和物を作ることなく鋼板
表面に塗布する方法が有効であった。水和物を作ること
なく鋼板表面に焼鈍分離剤を塗布する方法として静電塗
布が極めて有効であった。
での昇温速度は、高速であればあるほどインヒビターの
劣化が少なく好都合であった。昇温速度50℃/Hr未
満ではインヒビターの劣化が著しく、二次再結晶可能な
温度での保持時に必要なインヒビターが確保されず、十
分な二次再結晶が得られず鋼板の磁束密度(B8)は低
かった。
℃未満では、二次再結晶完了までの時間が長くなり過ぎ
て実用的でなくなる。また1150℃超では、インヒビ
ター劣化が著しくなり過ぎて二次再結晶完了まで必要な
インヒビターを確保できない。二次再結晶させるための
保持時間は、5時間以上必要でこれより短い時間では、
保持時間内に完了しない。
確保するために昇温及び保持時に焼鈍雰囲気中に窒素ガ
スを5%以上95%以下添加するのが良い。5%未満で
はインヒビターの強化或いは劣化防止に効果がなく、ま
た95%超では表面の平滑化が十分でない。また一次再
結晶焼鈍後から仕上焼鈍前にアンモニアにより窒化処理
を行い、インヒビターを強化するのが有効である。これ
は、一次再結晶完了時のインヒビター強度では二次再結
晶のためには不十分で、また仕上焼鈍中の窒素分圧を上
げてインヒビターの強化或いは劣化防止を行っても、昇
温が短時間であることから二次再結晶時の十二分なイン
ヒビターを確保できないからである。このため、一般に
アンモニア処理によるインヒビター強化が磁気特性を向
上させる。
としては、重量で、Si:2.0〜4.8%、酸可溶性
Al:0.008〜0.050%、N≦0.010%、
残部Fe及び不可避的不純物とするものであり、これら
を必須成分とし、それ以外の成分は特に限定しない。S
iは、4.8%超では、冷間圧延時に材料が割れ易くな
り圧延不可能となる。一方、2.0%未満では結晶方位
及び電気抵抗は上がり、磁気特性が著しく劣化する。
は(Al,Si)Nとなり、インヒビターとして機能す
るものとして必須である。磁束密度が高くなる範囲とし
ては0.008〜0.050%である。Nは、0.01
0%を超えると鋼板中にブリスターとよばれる空孔を生
じる。上記成分の溶鋼は通常の工程により熱延板或いは
熱延鋼帯として750〜1200℃の温度域で30秒〜
30分間焼鈍される。その後、最終冷間圧延率80%以
上で冷延されて冷間圧延鋼板もしくは冷間圧延鋼帯とさ
れる。
するために湿水素雰囲気中で、かつ750〜900℃の
温度域で脱炭と一次再結晶を行う。その後、フォルステ
ライトを作らない焼鈍分離剤を塗布して、雰囲気成分が
N2 :0〜95%、残部H2 からなる仕上焼鈍炉中
で昇温速度50℃/Hr以上で920〜1150℃まで
昇温し、ここで保持し、さらに純化のために1200℃
付近で100%H2 に切替えて保持する。
ため、そのままでは磁区細分化が行われないので、レー
ザービーム照射等による処理を行い、さらに張力付与の
ためのコーティング、例えばリン酸及びクロム酸を主体
とするコーティング等を行う。
N:0.008%、Mn:0.14%、S:0.007
%、C:0.05%、残部Feおよび不可避的不純物か
らなる2.0mm厚の珪素鋼熱延鋼帯を1120℃で2
分間焼鈍した後、0.23mmまで冷間圧延した。得ら
れた冷延板を脱炭を兼ね、湿水素雰囲気中で90秒間焼
鈍し、一次再結晶させた。得られた鋼板にアンモニア雰
囲気で窒化処理を施し、鋼板中の窒素を180ppmと
した。次いで(A)焼鈍分離剤としてAl2 O3 を
静電塗布し、H2 :100%からなる雰囲気の仕上焼
鈍炉中で150℃/Hrで1100℃まで昇温し、この
温度で5時間保持し、さらに純化のため1200℃で1
0時間保持した。冷却後、鋼板に対してレーザービーム
による磁区細分化及びリン酸及びクロム酸を主体とする
張力コーティングを行い、磁気測定した。さらに(B)
比較のために焼鈍分離剤としてMgOスラリーを塗布し
、N2 :25%−H2 :75%からなる雰囲気の仕
上焼鈍炉中で15℃/Hrで1200℃まで昇温し、1
200℃到達後、H2 :100%として20時間保持
した。
る磁区細分化行い、さらに張力を補完するため、リン酸
及びクロム酸を主体とする張力コーティングを行った。 結果を表1に示す。
後の鋼中窒素量を150ppmとして、(C)150℃
/Hrで昇温中の雰囲気をN2 :25%−H2 :7
5%とした実施例1の(A)の方法、(D)同じ材料を
実施例1の(B)の方法で処理した。結果を表2に示す
。
高い二次再結晶と同時に平滑表面を持つ方向性珪素鋼板
が得られ、これを磁区細分化し、張力コーティングを付
加することにより、極めて低鉄損の方向性珪素鋼板が得
られる。また急速加熱するため、材料の在炉時間が著し
く短くなり、仕上焼鈍炉の生産性は著しく改善され、工
業上の効果は絶大である。
大きい場合と小さい場合とを比較して示したものである
。
Claims (5)
- 【請求項1】 Si:2.0〜4.8重量%、酸可溶
性Al:0.008〜0.05重量%、N≦0.010
重量%、残部Fe及び不可避的不純物からなる珪素鋼熱
延鋼帯を必要に応じて焼鈍した後、1回または中間焼鈍
をはさむ2回以上の冷間圧延を行い、所定の板厚とし、
次いで一次再結晶焼鈍を行った後、焼鈍分離剤を塗布し
、仕上焼鈍を施す方向性珪素鋼板の製造において、焼鈍
分離剤をAl2 O3 (アルミナ)とし、雰囲気がN
2:0〜95%、残部H2からなる仕上焼鈍の昇温速度
を50℃/Hr以上で920〜1150℃まで昇温し、
この温度で5時間以上保持することを特徴とするフォル
ステライト被膜のない方向性珪素鋼板の製造方法。 - 【請求項2】一次再結晶焼鈍から仕上焼鈍工程に入る前
にアンモニアによる窒化処理を行うことを特徴とする請
求項1記載のフォルステライト被膜のない方向性珪素鋼
板の製造方法。 - 【請求項3】焼鈍分離剤の塗布を静電塗布とすることを
特徴とする請求項1記載のフォルステライト被膜のない
方向性珪素鋼板の製造方法。 - 【請求項4】仕上焼鈍時の雰囲気を二次再結晶終了時ま
でN2:5%以上95%以下とすることを特徴とする請
求項1記載のフォルステライト被膜のない方向性珪素鋼
板の製造方法。 - 【請求項5】焼鈍分離剤としてMgO以外のアルカリ土
金属の酸化物を用いることを特徴とする請求項1記載の
フォルステライト被膜のない方向性珪素鋼板の製造方法
。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11062791A JP3153962B2 (ja) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | フォルステライト被膜のない方向性珪素鋼板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP11062791A JP3153962B2 (ja) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | フォルステライト被膜のない方向性珪素鋼板の製造方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04337030A true JPH04337030A (ja) | 1992-11-25 |
JP3153962B2 JP3153962B2 (ja) | 2001-04-09 |
Family
ID=14540570
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP11062791A Expired - Lifetime JP3153962B2 (ja) | 1991-05-15 | 1991-05-15 | フォルステライト被膜のない方向性珪素鋼板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
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