JPH0433098B2 - - Google Patents
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- JPH0433098B2 JPH0433098B2 JP1231314A JP23131489A JPH0433098B2 JP H0433098 B2 JPH0433098 B2 JP H0433098B2 JP 1231314 A JP1231314 A JP 1231314A JP 23131489 A JP23131489 A JP 23131489A JP H0433098 B2 JPH0433098 B2 JP H0433098B2
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- photosensitive resin
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- electrode
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/22—Electrodes, e.g. special shape, material or configuration
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J17/00—Gas-filled discharge tubes with solid cathode
- H01J17/38—Cold-cathode tubes
- H01J17/48—Cold-cathode tubes with more than one cathode or anode, e.g. sequence-discharge tube, counting tube, dekatron
- H01J17/49—Display panels, e.g. with crossed electrodes, e.g. making use of direct current
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0035—Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/36—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like
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- Engineering & Computer Science (AREA)
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
Description
本発明はプラズマ表示素子の製造方法に関する
ものであつて、特に写真蝕刻法で電極および隔壁
を形成するプラズマ表示素子の製造方法に関す
る。 一般にプラズマ表示素子は２枚の硝子基板に形
成される上下部のそれぞれ異なる二つの電極、即
ち、エノード電極とカソード電極間にガスを封入
し、前記電極に電圧を印加することにより発生す
るガス放電を利用して数字、又は文字等を表現す
る表示素子である。 これら放電表示装置の一般的構造は、一方向に
延長される複数個の平行電極等からなるエノード
電極群と、前記エノード電極群と所定の間隔を置
いて対向し、前記エノード電極群の延長方向と交
叉しながら延長される複数個の平行電極等からな
されるカソード電極群から形成されるマトリツク
ス形態に構成されるが、前記エノード電極群とカ
ソード電極群をなす各電極の対向交叉部は発光表
示部、即ち、画素になり、前記画素と画素の間に
はカソード電極側から発生するプラズマグローウ
（Plasma Glow）放電の拡散を防止するための隔
壁が形成される。 このような電極構造を有する気体放電表示装置
に対する先行技術である特開昭58−150248号はカ
ソード電極側から発生するプラズマグーウの拡散
防止のため所定の高さの絶縁性隔壁をエノード電
極群側の基板面よりカソード電極群側へ向くよう
に通常的なスクリーン印刷法で形成する。
ものであつて、特に写真蝕刻法で電極および隔壁
を形成するプラズマ表示素子の製造方法に関す
る。 一般にプラズマ表示素子は２枚の硝子基板に形
成される上下部のそれぞれ異なる二つの電極、即
ち、エノード電極とカソード電極間にガスを封入
し、前記電極に電圧を印加することにより発生す
るガス放電を利用して数字、又は文字等を表現す
る表示素子である。 これら放電表示装置の一般的構造は、一方向に
延長される複数個の平行電極等からなるエノード
電極群と、前記エノード電極群と所定の間隔を置
いて対向し、前記エノード電極群の延長方向と交
叉しながら延長される複数個の平行電極等からな
されるカソード電極群から形成されるマトリツク
ス形態に構成されるが、前記エノード電極群とカ
ソード電極群をなす各電極の対向交叉部は発光表
示部、即ち、画素になり、前記画素と画素の間に
はカソード電極側から発生するプラズマグローウ
（Plasma Glow）放電の拡散を防止するための隔
壁が形成される。 このような電極構造を有する気体放電表示装置
に対する先行技術である特開昭58−150248号はカ
ソード電極側から発生するプラズマグーウの拡散
防止のため所定の高さの絶縁性隔壁をエノード電
極群側の基板面よりカソード電極群側へ向くよう
に通常的なスクリーン印刷法で形成する。
上記する通常のスクリーン印刷法を利用してプ
ラズマ表示素子（以下、PDPと略称する）の電
極と隔壁とを製造する場合の如き問題点が提起さ
れた。 即ち、スクリーン印刷法を利用する場合、印
刷、およびパターン（Pattern）形成のためにス
クリーンマスク（Screen Mask）を作らなけれ
ばならないが、前記スクリーンマスクは精密なパ
ターンを形成することができなかつた。 このようなスクリーンマスクは木材やアルミニ
ウム材質のフレーム（Frame）にポリエステル
布やステンレスメツシユ（Mesh）を一定する張
力で固定させ、この上に感光性樹脂を塗布した
後、所望のパターンを形成させて製作し、このよ
うに製作された前記スクリーンマスクを印刷機に
掛けて硝子基板上にエノード電極、又はカソード
電極用ペーストを印刷し、又隔壁用ペーストを前
記のスクリーンマスクを介して印刷することによ
りPDPを製造する。 上記において言及した如く、このような従来の
スクリーン印刷法によるPDPの電極および隔壁
の製造においてはスクリーンマスクパターンの高
精細化問題、即ち、マスクのライン（Line）の
幅が数百マイクロメートルに過ぎないからPDP
の大形化趨勢に従つた製作が不可能である。
ラズマ表示素子（以下、PDPと略称する）の電
極と隔壁とを製造する場合の如き問題点が提起さ
れた。 即ち、スクリーン印刷法を利用する場合、印
刷、およびパターン（Pattern）形成のためにス
クリーンマスク（Screen Mask）を作らなけれ
ばならないが、前記スクリーンマスクは精密なパ
ターンを形成することができなかつた。 このようなスクリーンマスクは木材やアルミニ
ウム材質のフレーム（Frame）にポリエステル
布やステンレスメツシユ（Mesh）を一定する張
力で固定させ、この上に感光性樹脂を塗布した
後、所望のパターンを形成させて製作し、このよ
うに製作された前記スクリーンマスクを印刷機に
掛けて硝子基板上にエノード電極、又はカソード
電極用ペーストを印刷し、又隔壁用ペーストを前
記のスクリーンマスクを介して印刷することによ
りPDPを製造する。 上記において言及した如く、このような従来の
スクリーン印刷法によるPDPの電極および隔壁
の製造においてはスクリーンマスクパターンの高
精細化問題、即ち、マスクのライン（Line）の
幅が数百マイクロメートルに過ぎないからPDP
の大形化趨勢に従つた製作が不可能である。
本発明は、従来の技術では解決できなかつたパ
ターンの精細化に対する限界点を克服し、併せて
PDPの大形化に従つた製作が可能になるよう写
真蝕刻法を利用してPDPを製造するプラズう表
示素子の製造方法を提供することにその目的があ
る。
ターンの精細化に対する限界点を克服し、併せて
PDPの大形化に従つた製作が可能になるよう写
真蝕刻法を利用してPDPを製造するプラズう表
示素子の製造方法を提供することにその目的があ
る。
上記する目的を達成するために本発明は電極又
は隔壁の形成のとき、硝子基板に水溶性感光樹脂
を塗布し、露光および現像を行つた後、その上に
電極又は隔壁用材質を塗布した後水溶性感光樹脂
上にある各形成材質を極めて除去して製造するこ
とを特徴とするのである。
は隔壁の形成のとき、硝子基板に水溶性感光樹脂
を塗布し、露光および現像を行つた後、その上に
電極又は隔壁用材質を塗布した後水溶性感光樹脂
上にある各形成材質を極めて除去して製造するこ
とを特徴とするのである。
本発明の実施例を添付する図面に従い詳細に説
明する。 添付図面は本発明によるPDPの製造方法を説
明するものである。 先ず、カソード電極形成方法に関して説明す
る。即ち、硝子基板１上に水溶性感光樹脂２を塗
布するが該感光樹脂２の塗布層の厚さが2030μｍ
程度になるようにスピーンコーライング機
（Spin Coater）で均一に塗布する。（図面イ参
照） 前記する水溶性感光樹脂２はポリビニルアルコ
ール溶液（Poly vinyl alcohol）、重クローム酸
ナトリウム（Na2Cr207）（Sodium dichromate）
溶液、アクリールエマルジヨン（acryl
emulsion）およびプロピレンオクサイドエチレ
ンオクザイドポリマ（propylene oxide ethylen
oxide polymer）を混合して構成したものでPDP
製造工程の容易性と作業環境を考慮して通常的で
ある有機性感光樹脂剤を排除したのである。 かくの如く硝子基板１１に塗布された水溶性感
光樹脂２を乾燥炉で35乃至38℃に約５分間乾燥さ
せ、カソード電極を形成させるためのパターンに
は前記の感光樹脂２が除去されるようにネガテー
ブ（Negative）方式によりマスクを設けた後に
露光現像を行う。 これにより、カソード電極を形成するための部
分の水溶性感光樹脂が除去される。（図面ロ参
照）。 続いてニツケル粉末に接着補強剤であるカシー
ル（Kasil）を組合わせた組成物であるカソード
電極用ニツケルペースト（Paste）３を、図面ハ
に図示される如く、次の不必要な部分、例えば水
溶性感光樹脂上のニツケルペースト３を除去す
る。 即ち、水溶性感光樹脂２が除去された部分にの
みニツケルペーストが固着され、それ以外の部分
のニツケルペーストは除去されるようにする工程
は二つの方法があるが、一つはニツケルペースト
３が塗布された状態で約75℃〜95℃に乾燥させた
後過酸化水素溶液をスプレイ（Spray）させるの
であり、他の一つは約25℃〜45℃を維持する過酸
化水素溶液に浸澱させるのである。 前記二つの方法のうちどの方法によつても水溶
性感光樹脂２が除去され、併せて水溶性感光樹脂
２上に有するニツケルペーストを脱落させる。 従つて図面ニに図示する如く硝子基板１上にア
ソード電極４が形成される。 次にはエノード電極６と隔壁７に対して説明す
る。先ず、エノード電極６は前記するカソード電
極形成方法と同一に形成した後、又本発明による
PDPの隔壁を形成させる。 前記のためにエノード電極６が形成された硝子
基板１′上に水溶性感光樹脂２を100〜120μｍ厚
さにやや厚く塗布した後隔壁形成用マスクをポン
テイブ（positive）方式で設けて、露光、現象と
するとエノード電極６を除いた部分の水溶性感光
樹脂２が除去されエノード電極６上にのみ前記水
溶性感光樹脂２が塗布された状態になる。 これに隔壁用硝子ペースト５を塗布乾燥すれば
図面ホの如くなる。 前記の隔壁用硝子ペースト５が塗布された状態
で過酸化水素溶液に浸澱させると水溶性感光樹脂
２が除去されると同時に感光樹脂２上に塗布され
ている硝子ペーストが除去される。 従つて、図面ヘに図示された如くエノード電極
６間に隔壁７が形成されることになる。 前記の写真蝕刻法による工程でエノード電極６
および隔壁７が形成された前面硝子基板１′とカ
ソード電極４が形成された背面硝子基板１を製作
し、この両硝子基板を封止材で封止させてPDP
を完成するのである。
明する。 添付図面は本発明によるPDPの製造方法を説
明するものである。 先ず、カソード電極形成方法に関して説明す
る。即ち、硝子基板１上に水溶性感光樹脂２を塗
布するが該感光樹脂２の塗布層の厚さが2030μｍ
程度になるようにスピーンコーライング機
（Spin Coater）で均一に塗布する。（図面イ参
照） 前記する水溶性感光樹脂２はポリビニルアルコ
ール溶液（Poly vinyl alcohol）、重クローム酸
ナトリウム（Na2Cr207）（Sodium dichromate）
溶液、アクリールエマルジヨン（acryl
emulsion）およびプロピレンオクサイドエチレ
ンオクザイドポリマ（propylene oxide ethylen
oxide polymer）を混合して構成したものでPDP
製造工程の容易性と作業環境を考慮して通常的で
ある有機性感光樹脂剤を排除したのである。 かくの如く硝子基板１１に塗布された水溶性感
光樹脂２を乾燥炉で35乃至38℃に約５分間乾燥さ
せ、カソード電極を形成させるためのパターンに
は前記の感光樹脂２が除去されるようにネガテー
ブ（Negative）方式によりマスクを設けた後に
露光現像を行う。 これにより、カソード電極を形成するための部
分の水溶性感光樹脂が除去される。（図面ロ参
照）。 続いてニツケル粉末に接着補強剤であるカシー
ル（Kasil）を組合わせた組成物であるカソード
電極用ニツケルペースト（Paste）３を、図面ハ
に図示される如く、次の不必要な部分、例えば水
溶性感光樹脂上のニツケルペースト３を除去す
る。 即ち、水溶性感光樹脂２が除去された部分にの
みニツケルペーストが固着され、それ以外の部分
のニツケルペーストは除去されるようにする工程
は二つの方法があるが、一つはニツケルペースト
３が塗布された状態で約75℃〜95℃に乾燥させた
後過酸化水素溶液をスプレイ（Spray）させるの
であり、他の一つは約25℃〜45℃を維持する過酸
化水素溶液に浸澱させるのである。 前記二つの方法のうちどの方法によつても水溶
性感光樹脂２が除去され、併せて水溶性感光樹脂
２上に有するニツケルペーストを脱落させる。 従つて図面ニに図示する如く硝子基板１上にア
ソード電極４が形成される。 次にはエノード電極６と隔壁７に対して説明す
る。先ず、エノード電極６は前記するカソード電
極形成方法と同一に形成した後、又本発明による
PDPの隔壁を形成させる。 前記のためにエノード電極６が形成された硝子
基板１′上に水溶性感光樹脂２を100〜120μｍ厚
さにやや厚く塗布した後隔壁形成用マスクをポン
テイブ（positive）方式で設けて、露光、現象と
するとエノード電極６を除いた部分の水溶性感光
樹脂２が除去されエノード電極６上にのみ前記水
溶性感光樹脂２が塗布された状態になる。 これに隔壁用硝子ペースト５を塗布乾燥すれば
図面ホの如くなる。 前記の隔壁用硝子ペースト５が塗布された状態
で過酸化水素溶液に浸澱させると水溶性感光樹脂
２が除去されると同時に感光樹脂２上に塗布され
ている硝子ペーストが除去される。 従つて、図面ヘに図示された如くエノード電極
６間に隔壁７が形成されることになる。 前記の写真蝕刻法による工程でエノード電極６
および隔壁７が形成された前面硝子基板１′とカ
ソード電極４が形成された背面硝子基板１を製作
し、この両硝子基板を封止材で封止させてPDP
を完成するのである。
上記において詳述する如き本発明によると、写
真蝕刻法の特徴であるパターン形成の高精細化を
プラズマ表示素子製造に表現することができて、
大形化趨勢に伴うプラズマ表示素子を製造するこ
とができ、かつ従来のスクリーン印刷のとき発生
する不良率を減少させる利点等がある。
真蝕刻法の特徴であるパターン形成の高精細化を
プラズマ表示素子製造に表現することができて、
大形化趨勢に伴うプラズマ表示素子を製造するこ
とができ、かつ従来のスクリーン印刷のとき発生
する不良率を減少させる利点等がある。
添付図面は本発明によるプラズマ表示素子の製
造方法を説明するための製造工程順序図である。 １，１′……硝子基板、２……感光樹脂、３…
…ニツケルペースト、４……カソード電極、５…
…硝子ペースト（隔壁用）、６……エノード電極、
７……隔壁。
造方法を説明するための製造工程順序図である。 １，１′……硝子基板、２……感光樹脂、３…
…ニツケルペースト、４……カソード電極、５…
…硝子ペースト（隔壁用）、６……エノード電極、
７……隔壁。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １ プラズマ表示素子の製造方法において、写真
蝕刻法により硝子基板１，１′上の電極、又は隔
壁形成がそれぞれ水溶性感光樹脂の塗布、乾燥、
露光及び現像する段階と、前記の電極又は隔壁形
成のためにそれぞれの材質ペースト塗布した後水
溶性感光樹脂上にある材質ペーストを除去する段
階から成ることを特徴とするプラズマ表示素子の
製造方法。 ２ 前記電極の形成は硝子板１，１′上に水溶性
感光樹脂２を塗布する工程と、マスクを設けて電
極パターンを形成するように露光および現像する
工程と、続いて電極用材質ペーストを塗布する工
程および過酸化水素溶液で水溶性感光樹脂とこの
樹脂上に塗布されている材質ペーストを除去する
工程から成ることを特徴とする特許請求の範囲第
１項記載のプラズマ表示素子の製造方法。 ３ 前記隔壁の形成はエノード電極６が形成され
た硝子基板１上に水溶性感光樹脂２を塗布する工
程と、隔壁形成用マスクを設けて隔壁パターンを
形成させるように露光および現像する工程と、続
いて隔壁用硝子ペーストを塗布する工程および過
酸化水素溶液で水溶性感光樹脂と、この感光樹脂
上に有する硝子ペーストを除去する工程から成る
ことを特徴とする特許請求の範囲第１項記載のプ
ラズマ表示素子の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| KR8811871A KR910003690B1 (en) | 1988-09-14 | 1988-09-14 | Pdp manufacturing method |
| KR88P11871 | 1988-09-14 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH031421A JPH031421A (ja) | 1991-01-08 |
| JPH0433098B2 true JPH0433098B2 (ja) | 1992-06-02 |
Family
ID=19277728
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1231314A Granted JPH031421A (ja) | 1988-09-14 | 1989-09-06 | プラズマ表示素子の製造方法 |
Country Status (3)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US5037723A (ja) |
| JP (1) | JPH031421A (ja) |
| KR (1) | KR910003690B1 (ja) |
Families Citing this family (16)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH06267439A (ja) * | 1992-08-21 | 1994-09-22 | Du Pont Kk | プラズマディスプレイ装置およびその製造方法 |
| US5635334A (en) * | 1992-08-21 | 1997-06-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making plasma display apparatus with pixel ridges made of diffusion patterned dielectrics |
| JPH0992134A (ja) * | 1995-09-22 | 1997-04-04 | Dainippon Printing Co Ltd | ノズル塗布方法及び装置 |
| JPH10319875A (ja) * | 1997-05-20 | 1998-12-04 | Sony Corp | プラズマアドレス表示装置の製造方法 |
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