JP2001117239A - 感光性ペーストを用いたパターン形成方法 - Google Patents
感光性ペーストを用いたパターン形成方法Info
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- JP2001117239A JP2001117239A JP29631699A JP29631699A JP2001117239A JP 2001117239 A JP2001117239 A JP 2001117239A JP 29631699 A JP29631699 A JP 29631699A JP 29631699 A JP29631699 A JP 29631699A JP 2001117239 A JP2001117239 A JP 2001117239A
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- JP
- Japan
- Prior art keywords
- photosensitive paste
- pattern
- forming method
- coating film
- pattern forming
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Landscapes
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 感光性ペーストを用いたパターン形成方法に
おいて、焼成工程で塗膜に剥離が生じる。 【解決手段】 表面と裏面の両方から、露光することに
より、現像後の被形成面との接触面積を増大させ、膜の
密着力を増加させる。
おいて、焼成工程で塗膜に剥離が生じる。 【解決手段】 表面と裏面の両方から、露光することに
より、現像後の被形成面との接触面積を増大させ、膜の
密着力を増加させる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、感光性ペースト材
料の露光方法に関するものである。
料の露光方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】図２に従来の感光性ペーストを用いたパ
ターン形成方法を示す。感光性ペースト材料は被形成面
１に対して印刷法を用いて塗膜２を形成される。形成さ
れた塗膜２は所望のパターンが形成されている露光用マ
スク３を通して紫外線４を照射され、照射された感光性
ペースト材料の塗膜２は露光用マスク３により未露光部
５と露光部６ができ、ネガ型の感光性ペーストを用いて
いる場合、露光部６は架橋反応を起こし、現像液に対し
て不溶化する。
ターン形成方法を示す。感光性ペースト材料は被形成面
１に対して印刷法を用いて塗膜２を形成される。形成さ
れた塗膜２は所望のパターンが形成されている露光用マ
スク３を通して紫外線４を照射され、照射された感光性
ペースト材料の塗膜２は露光用マスク３により未露光部
５と露光部６ができ、ネガ型の感光性ペーストを用いて
いる場合、露光部６は架橋反応を起こし、現像液に対し
て不溶化する。
【０００３】この様に露光を施された感光性ペースト材
料の塗膜は現像液をスプレーする事により所望のパター
ンにパターニングされた後、焼成により感光性ペースト
材料に含まれる有機物を除去され厚膜パターンが形成さ
れる。
料の塗膜は現像液をスプレーする事により所望のパター
ンにパターニングされた後、焼成により感光性ペースト
材料に含まれる有機物を除去され厚膜パターンが形成さ
れる。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】被形成面１に印刷され
た感光性ペースト材料の塗膜２は塗膜面側から被形成面
側に対して紫外線４を照射される。感光性ペースト材料
の塗膜２は照射された紫外線４を吸収するため塗膜内部
で被形成面に近づくに従い照度は弱くなる。
た感光性ペースト材料の塗膜２は塗膜面側から被形成面
側に対して紫外線４を照射される。感光性ペースト材料
の塗膜２は照射された紫外線４を吸収するため塗膜内部
で被形成面に近づくに従い照度は弱くなる。
【０００５】従って、露光部が光架橋反応を起こし現像
液に対して不溶化するネガ型の感光性ペーストを用いた
塗膜の場合、塗膜の露光部６は被形成面に近づくに従い
架橋度が弱くなり、現像液に対して溶けやすくなる。こ
のため、現像後の形成されたパターンは塗膜における上
面７と下面８で寸法が異なることとなる。
液に対して不溶化するネガ型の感光性ペーストを用いた
塗膜の場合、塗膜の露光部６は被形成面に近づくに従い
架橋度が弱くなり、現像液に対して溶けやすくなる。こ
のため、現像後の形成されたパターンは塗膜における上
面７と下面８で寸法が異なることとなる。
【０００６】特に形成されるパターンが一定の幅を有す
る帯状のラインの場合、その断面形状が塗膜上面の幅よ
りも塗膜下面の幅の方が細い逆台形の形状となる。この
様にしてパターニングされた塗膜は逆台形の形状のため
被形成面１との接触面積が小さくなるため、焼成時に剥
離が発生しやすく製造歩留りが悪くコスト的に問題とな
る。
る帯状のラインの場合、その断面形状が塗膜上面の幅よ
りも塗膜下面の幅の方が細い逆台形の形状となる。この
様にしてパターニングされた塗膜は逆台形の形状のため
被形成面１との接触面積が小さくなるため、焼成時に剥
離が発生しやすく製造歩留りが悪くコスト的に問題とな
る。
【０００７】本発明は、上記のような問題点に鑑みてな
されたものであり、その目的とするところは、ネガ型感
光性ペースト材料を用いたパターン形成において、その
焼成工程で発生する剥離を軽減し、安定的に感光性ペー
ストのパターン形成を行うことにより、製造歩留りを向
上させ、安価に生産できる感光性ペーストのパターン形
成方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法を
提供することにある。
されたものであり、その目的とするところは、ネガ型感
光性ペースト材料を用いたパターン形成において、その
焼成工程で発生する剥離を軽減し、安定的に感光性ペー
ストのパターン形成を行うことにより、製造歩留りを向
上させ、安価に生産できる感光性ペーストのパターン形
成方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法を
提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するた
め、本発明に係るＰＤＰ用電極は、印刷、露光、現像、
焼成工程によりパターニングするネガ型感光性ペースト
材料を用い、その露光工程において表面、裏面の両方か
ら露光することを特徴とする。
め、本発明に係るＰＤＰ用電極は、印刷、露光、現像、
焼成工程によりパターニングするネガ型感光性ペースト
材料を用い、その露光工程において表面、裏面の両方か
ら露光することを特徴とする。
【０００９】また、表面露光用マスクと裏面露光用マス
クのパターンは互いに線対称であるマスクを用いている
ことを特徴とする。
クのパターンは互いに線対称であるマスクを用いている
ことを特徴とする。
【００１０】また、表面露光用マスクと裏面露光用マス
クのパターン寸法が異なることを特徴とする。
クのパターン寸法が異なることを特徴とする。
【００１１】また、ネガ型感光性ペースト材料中にＡ
ｇ、Ｃｕ、Ａｌのうち少なくともいずれか１つを含んで
いることを特徴とする。
ｇ、Ｃｕ、Ａｌのうち少なくともいずれか１つを含んで
いることを特徴とする。
【００１２】また、その形成されたパターンはプラズマ
ディスプレイパネル用電極であることを特徴とする。
ディスプレイパネル用電極であることを特徴とする。
【００１３】本発明によるネガ型感光性ペースト材料の
露光方法を用いることにより、現像後のパターンにおい
て被形成面との接触面積が増加するため膜の密着力が増
加し焼成時に剥離が発生しないため製造歩留りが向上
し、安価に生産できるネガ型感光性ペーストのパターン
形成方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法
を提供することができる。
露光方法を用いることにより、現像後のパターンにおい
て被形成面との接触面積が増加するため膜の密着力が増
加し焼成時に剥離が発生しないため製造歩留りが向上
し、安価に生産できるネガ型感光性ペーストのパターン
形成方法およびプラズマディスプレイパネルの製造方法
を提供することができる。
【００１４】
【発明の実施の形態】図１に本発明に係る感光性ペース
トを用いたパターン形成方法の一例としてＡＣ型ＰＤＰ
用前面板に形成した感光性Ａｇペーストを用いた一定幅
を有する帯状のＡｇ電極の形成方法を示す。
トを用いたパターン形成方法の一例としてＡＣ型ＰＤＰ
用前面板に形成した感光性Ａｇペーストを用いた一定幅
を有する帯状のＡｇ電極の形成方法を示す。
【００１５】Ａｇ電極の被形成面はガラス基板９上に帯
状にパターニングされた透明電極１０となる。ガラス基
板には低歪点ガラスを用い、透明電極には成膜、パター
ニングの容易なＩＴＯを用いている。ＩＴＯはスパッタ
法を用いてガラス基板上に成膜した後にフォトレジスト
を用いてマスク層を形成し、ウェットエッチング加工を
施すことにより帯状のパターニングをおこなう。
状にパターニングされた透明電極１０となる。ガラス基
板には低歪点ガラスを用い、透明電極には成膜、パター
ニングの容易なＩＴＯを用いている。ＩＴＯはスパッタ
法を用いてガラス基板上に成膜した後にフォトレジスト
を用いてマスク層を形成し、ウェットエッチング加工を
施すことにより帯状のパターニングをおこなう。
【００１６】前記透明電極付きガラス基板１１に対して
ネガ型感光性Ａｇペーストを印刷法を用いて全面に塗布
することにより塗膜１２を形成する。形成されたネガ型
感光性Ａｇペーストの塗膜１２は表面（塗膜面側）の露
光用マスク１３を通して紫外線１４を照射される。次に
裏面の露光用マスク１５を通して紫外線１６を照射され
る。
ネガ型感光性Ａｇペーストを印刷法を用いて全面に塗布
することにより塗膜１２を形成する。形成されたネガ型
感光性Ａｇペーストの塗膜１２は表面（塗膜面側）の露
光用マスク１３を通して紫外線１４を照射される。次に
裏面の露光用マスク１５を通して紫外線１６を照射され
る。
【００１７】本実施例においては表面露光用マスク１３
と裏面露光用マスク１５のパターンは互いに線対称なも
のを用いているため表面からの露光部と裏面からの露光
部は同一部分となる。
と裏面露光用マスク１５のパターンは互いに線対称なも
のを用いているため表面からの露光部と裏面からの露光
部は同一部分となる。
【００１８】この様にして感光性ペースト塗膜の未露光
部１７と露光部１８ができるが、形成された塗膜に対し
て両面から露光することにより、塗膜の膜厚方向に対し
て均一に光架橋反応した露光部を得ることができる。
部１７と露光部１８ができるが、形成された塗膜に対し
て両面から露光することにより、塗膜の膜厚方向に対し
て均一に光架橋反応した露光部を得ることができる。
【００１９】この露光されたネガ型感光性ペーストの塗
膜はアルカリ性の現像液をスプレーすることによりパタ
ーニングされるが、前記のように露光部１８は塗膜の膜
厚方向に対して均一に光架橋反応しているため、パター
ニングされた帯状のＡｇ電極はその断面形状が塗膜上面
１９の幅と塗膜下面２０の幅がほぼ同一な長方形の形状
となる。
膜はアルカリ性の現像液をスプレーすることによりパタ
ーニングされるが、前記のように露光部１８は塗膜の膜
厚方向に対して均一に光架橋反応しているため、パター
ニングされた帯状のＡｇ電極はその断面形状が塗膜上面
１９の幅と塗膜下面２０の幅がほぼ同一な長方形の形状
となる。
【００２０】この様にしてパターニングされた塗膜は長
方形の形状のため被形成基板との接触面積が露光部の塗
膜上面よりも小さくなることが無く、接触面積を十分に
確保できるため、密着力が増加し焼成時に剥離が発生し
にくいこととなる。
方形の形状のため被形成基板との接触面積が露光部の塗
膜上面よりも小さくなることが無く、接触面積を十分に
確保できるため、密着力が増加し焼成時に剥離が発生し
にくいこととなる。
【００２１】この様に形成された透明電極１０とＡｇ電
極との複合電極２１を覆って誘電体層２２を形成し、さ
らにその上に保護層２３（ＭｇＯ層）を形成することに
よりＡＣ型ＰＤＰ用前面板を作製した。
極との複合電極２１を覆って誘電体層２２を形成し、さ
らにその上に保護層２３（ＭｇＯ層）を形成することに
よりＡＣ型ＰＤＰ用前面板を作製した。
【００２２】また、周知の製造方法にて、ＡＣ型ＰＤＰ
パネル用背面板を作製し、これらにガスを封入し、プラ
ズマディスプレイパネルを作製した。
パネル用背面板を作製し、これらにガスを封入し、プラ
ズマディスプレイパネルを作製した。
【００２３】以上の理由により、本発明により、その焼
成時に剥離が発生せず製造歩留りの向上し安価に生産で
きる感光性ペーストを用いたパターン形成方法およびプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することが
できる。
成時に剥離が発生せず製造歩留りの向上し安価に生産で
きる感光性ペーストを用いたパターン形成方法およびプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することが
できる。
【００２４】なお、本実施例において感光性ペーストに
Ａｇを含んだものを用いているがこれに限定されるもの
ではない。また、露光において表面（塗膜面側）の露光
をおこなった後に裏面の露光をおこなっているが、裏面
側から先に露光をおこなっても同様の効果を得ることが
でき、また、表面と裏面で同時に露光をおこなっても同
様の効果を得ることができるため、露光の順序はこれに
限定されるものではない。
Ａｇを含んだものを用いているがこれに限定されるもの
ではない。また、露光において表面（塗膜面側）の露光
をおこなった後に裏面の露光をおこなっているが、裏面
側から先に露光をおこなっても同様の効果を得ることが
でき、また、表面と裏面で同時に露光をおこなっても同
様の効果を得ることができるため、露光の順序はこれに
限定されるものではない。
【００２５】また、裏面からの露光では被形成基板を通
して塗膜に紫外線を照射するため、被形成基板によって
は塗膜に減衰して紫外線が到達することもあるため表面
からの紫外線露光量と裏面からの紫外線露光量を変える
ことにより調整することも可能である。
して塗膜に紫外線を照射するため、被形成基板によって
は塗膜に減衰して紫外線が到達することもあるため表面
からの紫外線露光量と裏面からの紫外線露光量を変える
ことにより調整することも可能である。
【００２６】
【発明の効果】本発明に係る感光性ペーストのパターン
形成方法によれば、その焼成工程においてパターニング
された塗膜の剥離を軽減し、製造歩留りが向上し安価に
生産できる感光性ペーストのパターン形成方法およびプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することが
できる。
形成方法によれば、その焼成工程においてパターニング
された塗膜の剥離を軽減し、製造歩留りが向上し安価に
生産できる感光性ペーストのパターン形成方法およびプ
ラズマディスプレイパネルの製造方法を提供することが
できる。
【図１】本発明による感光性ペーストを用いたパターン
形成方法を示す図
形成方法を示す図
【図２】従来の感光性ペーストを用いたパターン形成方
法を示す図
法を示す図
１ 被形成面 ２ 塗膜 ３ 露光用マスク ４ 紫外線 ５ 塗膜の未露光部 ６ 塗膜の露光部 ７ 塗膜上面 ８ 塗膜下面 ９ ガラス基板 １０ 透明電極 １１ 透明電極付きガラス基板 １２ 感光性Ａｇペースト塗膜 １３ 表面露光用マスク １４ 紫外線 １５ 裏面露光用マスク １６ 紫外線 １７ 未露光部 １８ 露光部 １９ 塗膜上面 ２０ 塗膜下面 ２１ 複合電極 ２２ 誘電体層 ２３ 保護層
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 住田 圭介 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 田中 博由 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 藤原 伸也 大阪府門真市大字門真1006番地 松下電器 産業株式会社内 (72)発明者 丸中 英喜 大阪府高槻市幸町１番１号 松下電子工業 株式会社内 Ｆターム(参考） 2H025 AA14 AB17 AC01 AD01 CC09 FA04 FA15 2H096 AA00 AA27 BA01 EA02 EA15 GA01 HA01 JA04 2H097 AA01 FA06 JA02 LA20 5C027 AA01 AA02 5C040 FA01 GC05 GC18 GC19 JA02 JA15 JA32 KA01 KA16 KB03 KB17 MA10 MA24 MA26
Claims (5)
- 【請求項１】 印刷、露光、現像、焼成工程によりパタ
ーニングするネガ型感光性ペースト材料を用いたパター
ン形成方法であって、前記露光工程において表面と裏面
の両方から露光することを特徴とするパターン形成方
法。 - 【請求項２】 表面露光用マスクと裏面露光用マスクの
パターンは互いに線対称であることを特徴とする請求項
１に記載のパターン形成方法。 - 【請求項３】 表面露光用マスクと裏面露光用マスクの
パターン寸法が異なることを特徴とする請求項１または
２に記載のパターン形成方法。 - 【請求項４】 ネガ型感光性ペースト材料中にＡｇ、Ｃ
ｕ、Ａｌのうち少なくともいずれか１つを含んでいるこ
とを特徴とする請求項１から３のいずれかに記載のパタ
ーン形成方法。 - 【請求項５】 請求項１から４のいずれかの記載のパタ
ーン形成方法で電極を形成することを特徴とするプラズ
マディスプレイパネルの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29631699A JP2001117239A (ja) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | 感光性ペーストを用いたパターン形成方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP29631699A JP2001117239A (ja) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | 感光性ペーストを用いたパターン形成方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2001117239A true JP2001117239A (ja) | 2001-04-27 |
Family
ID=17831981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP29631699A Pending JP2001117239A (ja) | 1999-10-19 | 1999-10-19 | 感光性ペーストを用いたパターン形成方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2001117239A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100442840B1 (ko) * | 2001-01-05 | 2004-08-02 | 삼성에스디아이 주식회사 | 삼극관 탄소나노튜브 전계방출 어레이의 제조 방법 |
| US9348073B2 (en) | 2012-02-13 | 2016-05-24 | Samsung Display Co., Ltd. | Photoreactive material layer and method of manufacturing the same |
-
1999
- 1999-10-19 JP JP29631699A patent/JP2001117239A/ja active Pending
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100442840B1 (ko) * | 2001-01-05 | 2004-08-02 | 삼성에스디아이 주식회사 | 삼극관 탄소나노튜브 전계방출 어레이의 제조 방법 |
| US9348073B2 (en) | 2012-02-13 | 2016-05-24 | Samsung Display Co., Ltd. | Photoreactive material layer and method of manufacturing the same |
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