JPH031421A - プラズマ表示素子の製造方法 - Google Patents
プラズマ表示素子の製造方法Info
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- JPH031421A JPH031421A JP1231314A JP23131489A JPH031421A JP H031421 A JPH031421 A JP H031421A JP 1231314 A JP1231314 A JP 1231314A JP 23131489 A JP23131489 A JP 23131489A JP H031421 A JPH031421 A JP H031421A
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Classifications
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/22—Electrodes, e.g. special shape, material or configuration
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J17/00—Gas-filled discharge tubes with solid cathode
- H01J17/38—Cold-cathode tubes
- H01J17/48—Cold-cathode tubes with more than one cathode or anode, e.g. sequence-discharge tube, counting tube, dekatron
- H01J17/49—Display panels, e.g. with crossed electrodes, e.g. making use of direct current
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/0035—Multiple processes, e.g. applying a further resist layer on an already in a previously step, processed pattern or textured surface
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/36—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
本発明はプラズマ表示素子の製造方法に関するものであ
って、特に写真蝕刻法で電極および隔壁を形成するプラ
ズマ表示素子の製造方法に関する。 一般にプラズマ表示素子は2枚の硝子基板に形成される
上下部のそれぞれ異なる二つの電極、即ち、エノード電
極とカソード電極間にガスを封入し、前記電極に電圧を
印加することにより発生するガス放電を利用して数字、
又は文字等を表現する表示素子である。 これら放電表示装置の一般的構造は、一方向に延長され
る複数個の平行電極等からなるエノード電極群と、前記
エノード電極群と所定の間隔を置いて対向し、前記エノ
ード電極群の延長方向と交叉しながら延長される複数個
の平行電極等からなされるカソード電極群から形成され
るマトリックス形態に構成されるが、前記エノード電極
群とカソード電極群をなす各電極の対向交叉部は発光表
示部、即ち、画素になり、前記画素と画素の間にはカソ
ード電極側から発生するプラズマ表示素子(Plasm
a Glow)放電の拡散を防止するための隔壁が形
成される。 このような電極構造を存する気体放電表示装置に対する
先行技術である特開昭58−150248号はカソード
電極側から発生するプラズマグーウの拡散防止のため所
定の高さの絶縁性隔壁をエノード電極群側の基板面より
カソード電極群側へ向くように通常的なスクリーン印刷
法で形成する。
って、特に写真蝕刻法で電極および隔壁を形成するプラ
ズマ表示素子の製造方法に関する。 一般にプラズマ表示素子は2枚の硝子基板に形成される
上下部のそれぞれ異なる二つの電極、即ち、エノード電
極とカソード電極間にガスを封入し、前記電極に電圧を
印加することにより発生するガス放電を利用して数字、
又は文字等を表現する表示素子である。 これら放電表示装置の一般的構造は、一方向に延長され
る複数個の平行電極等からなるエノード電極群と、前記
エノード電極群と所定の間隔を置いて対向し、前記エノ
ード電極群の延長方向と交叉しながら延長される複数個
の平行電極等からなされるカソード電極群から形成され
るマトリックス形態に構成されるが、前記エノード電極
群とカソード電極群をなす各電極の対向交叉部は発光表
示部、即ち、画素になり、前記画素と画素の間にはカソ
ード電極側から発生するプラズマ表示素子(Plasm
a Glow)放電の拡散を防止するための隔壁が形
成される。 このような電極構造を存する気体放電表示装置に対する
先行技術である特開昭58−150248号はカソード
電極側から発生するプラズマグーウの拡散防止のため所
定の高さの絶縁性隔壁をエノード電極群側の基板面より
カソード電極群側へ向くように通常的なスクリーン印刷
法で形成する。
上記する通常のラスリーン印刷法を利用してプラズマ表
示素子(以下、FDPと略称する)の電極と隔壁とを製
造する場合の如き問題点が提起された。 即ち、スクリーン印刷法を利用する場合、印刷、および
パターン(Pattern)形成のためにスクリーンマ
スク(Screen Mask)を作らなければなら
ないが、前記スクリーンマスクは精密なパターンを形成
することができなかった。 このようなスクリーンマスクは木材やアルミニウム材質
のフレーム(F r ame)にポリエステル布やステ
ンレスメツシュ(M e s h ) ヲ一定する張力
で固定させ、この上に感光性樹脂を塗布した後、所望の
パターンを形成させて製作し、このように製作された前
記スクリーンマスクを印刷機に掛けて硝子基板上にエノ
ード電極、又はカソード電極用ペーストを印刷し、又隔
壁用ペーストを前記のスクリーンマスクを介して印刷す
ることによりFDPを製造する。 上記において言及した如く、このような従来のスクリー
ン印刷法によるFDPの電極および隔壁の製造において
はスクリーンマスクパターンの高精細化問題、即ち、マ
スクのライン(L i n e)の幅が数百マイクロメ
ートルに過ぎないからFDPの大形化趨勢に従った製作
が不可能である。
示素子(以下、FDPと略称する)の電極と隔壁とを製
造する場合の如き問題点が提起された。 即ち、スクリーン印刷法を利用する場合、印刷、および
パターン(Pattern)形成のためにスクリーンマ
スク(Screen Mask)を作らなければなら
ないが、前記スクリーンマスクは精密なパターンを形成
することができなかった。 このようなスクリーンマスクは木材やアルミニウム材質
のフレーム(F r ame)にポリエステル布やステ
ンレスメツシュ(M e s h ) ヲ一定する張力
で固定させ、この上に感光性樹脂を塗布した後、所望の
パターンを形成させて製作し、このように製作された前
記スクリーンマスクを印刷機に掛けて硝子基板上にエノ
ード電極、又はカソード電極用ペーストを印刷し、又隔
壁用ペーストを前記のスクリーンマスクを介して印刷す
ることによりFDPを製造する。 上記において言及した如く、このような従来のスクリー
ン印刷法によるFDPの電極および隔壁の製造において
はスクリーンマスクパターンの高精細化問題、即ち、マ
スクのライン(L i n e)の幅が数百マイクロメ
ートルに過ぎないからFDPの大形化趨勢に従った製作
が不可能である。
本発明は、従来の技術では解決できなかったパターンの
精細化に対する限界点を克服し、併せてFDPの大形化
に従った製作が可能になるよう写真蝕刻法を利用してF
DPを製造するプラズマ表示素子の製造方法を提供する
ことにその目的がある。
精細化に対する限界点を克服し、併せてFDPの大形化
に従った製作が可能になるよう写真蝕刻法を利用してF
DPを製造するプラズマ表示素子の製造方法を提供する
ことにその目的がある。
上記する目的を達成するために本発明は電極又は隔壁の
形成のとき、硝子基板に水溶性感光樹脂を塗布し、露光
および現像を行った後、その上に電極又は隔壁用材質を
塗布した後水溶性感光樹脂上にある各形成材質を纏めて
除去して製造することを特徴とするのである。
形成のとき、硝子基板に水溶性感光樹脂を塗布し、露光
および現像を行った後、その上に電極又は隔壁用材質を
塗布した後水溶性感光樹脂上にある各形成材質を纏めて
除去して製造することを特徴とするのである。
本発明の実施例を添付する図面に従い詳細に説明する。
添付図面は本発明によるFDPの製造方法を説明するも
のである。 先ず、カソード電極形成方法に関して説明する。即ち、
硝子基板1上に水溶性感光樹脂2を塗布するが該感光樹
脂2の塗布層の厚さが2030μm程度になるようにス
ピーンコーライング機(Spin Coater)で
均一に塗布する。 (図面イ参照) 前記する水溶性感光樹脂2はポリビニルアルコール溶液
(PolY vinyl alcohol)、重ク
ローム酸ナトリウム(Na2Cr207)(Sodiu
m dichromate)溶液、アクリールエマル
ジョン(acryl emulsion)およびプロ
ピレンオクサイドエチレンオクザイドボリマ(1)ro
p)’ l eneoxid’e ethylen
oxide p。 l yme r)を混合して構成したものでFDP製造
工程の容易性と作業環境を考慮して通常的である有機性
感光樹脂剤を排除したのである。 かくの如く硝子基板11に塗布された水溶性感光樹脂2
を乾燥炉で35乃至38℃に約5分間乾燥させ、カソー
ド電極を形成させるためのパターンには前記の感光樹脂
2が除去されるようにネガテープ(Negative)
方式によりマスクを設けた後に露光現像を行う。 これにより、カソード電極を形成するための部分の水溶
性感光樹脂が除去される。(図面口参照)。 続いてニッケル粉末に接着補強剤であるカシール(Ka
sil)を組合わせた組成物であるカソード電極用ニッ
ケルペース)(Paste)3を、図面へに図示される
如く、次の不必要な部分、例えば水溶性感光樹脂上のニ
ッケルペースト3を除去する。 即ち、水溶性感光樹脂2が除去された部分にのみニッケ
ルペーストが固着され、それ以外の部分のニッケルペー
ストは除去されるようにする工程は二つの方法があるが
、一つはニッケルペースト3が塗布された状態で約75
°C〜95°Cに乾燥させた後過酸化水素溶液をスプレ
ィ(Spray)させるのであり、他の一つは約25°
C〜45℃を維持する過酸化水素溶液に浸澱させるので
ある。 前記二つの方法のうちどの方法によっても水溶性感光樹
脂2が除去され、併せて水溶性感光樹脂2上に有するニ
ッケルペーストを脱落させる。 従って図面(ニ)に図示する如く硝子基板1上にカソー
ド電極4が形成される。 次にはエノード電極6と隔壁7に対して説明する。先ず
、エノード電極6は前記するカソード電極形成方法と同
一に形成した後、又本発明によるFDPの隔壁を形成さ
せる。 前記のためにエノード電極6が形成された硝子基板1′
上に水溶性感光樹脂2を100〜120μm厚さにやや
厚く塗布した後隔壁形成用マスクをポンチイブ(pos
i t 1ve)方式で設けて、露光、現象とすると
エノード電極6を除いた部分の水溶性感光樹脂2が除去
されエノード電極6上にのみ前記水溶性感光樹脂2が塗
布された状態になる。 これに隔壁用硝子ペースト5を塗布乾燥すれば図面(ホ
)の如くなる。 前記の隔壁用硝子ペースト5が塗布された状態で過酸化
水素溶液に浸澱させると水溶性感光樹脂2が除去される
と同時に感光樹脂2上に塗布されている硝子ペーストが
除去される。 従って、図面(へ)に図示された如くエノード電極6間
に隔壁7が形成されることになる。 前記の写真蝕刻法による工程でエノード電極6および隔
壁7が形成された前面硝子基板1′とカソード電極4が
形成された背面硝子基板1を製作し、この両硝子基板を
封止材で封止させてFDPを完成するのである。
のである。 先ず、カソード電極形成方法に関して説明する。即ち、
硝子基板1上に水溶性感光樹脂2を塗布するが該感光樹
脂2の塗布層の厚さが2030μm程度になるようにス
ピーンコーライング機(Spin Coater)で
均一に塗布する。 (図面イ参照) 前記する水溶性感光樹脂2はポリビニルアルコール溶液
(PolY vinyl alcohol)、重ク
ローム酸ナトリウム(Na2Cr207)(Sodiu
m dichromate)溶液、アクリールエマル
ジョン(acryl emulsion)およびプロ
ピレンオクサイドエチレンオクザイドボリマ(1)ro
p)’ l eneoxid’e ethylen
oxide p。 l yme r)を混合して構成したものでFDP製造
工程の容易性と作業環境を考慮して通常的である有機性
感光樹脂剤を排除したのである。 かくの如く硝子基板11に塗布された水溶性感光樹脂2
を乾燥炉で35乃至38℃に約5分間乾燥させ、カソー
ド電極を形成させるためのパターンには前記の感光樹脂
2が除去されるようにネガテープ(Negative)
方式によりマスクを設けた後に露光現像を行う。 これにより、カソード電極を形成するための部分の水溶
性感光樹脂が除去される。(図面口参照)。 続いてニッケル粉末に接着補強剤であるカシール(Ka
sil)を組合わせた組成物であるカソード電極用ニッ
ケルペース)(Paste)3を、図面へに図示される
如く、次の不必要な部分、例えば水溶性感光樹脂上のニ
ッケルペースト3を除去する。 即ち、水溶性感光樹脂2が除去された部分にのみニッケ
ルペーストが固着され、それ以外の部分のニッケルペー
ストは除去されるようにする工程は二つの方法があるが
、一つはニッケルペースト3が塗布された状態で約75
°C〜95°Cに乾燥させた後過酸化水素溶液をスプレ
ィ(Spray)させるのであり、他の一つは約25°
C〜45℃を維持する過酸化水素溶液に浸澱させるので
ある。 前記二つの方法のうちどの方法によっても水溶性感光樹
脂2が除去され、併せて水溶性感光樹脂2上に有するニ
ッケルペーストを脱落させる。 従って図面(ニ)に図示する如く硝子基板1上にカソー
ド電極4が形成される。 次にはエノード電極6と隔壁7に対して説明する。先ず
、エノード電極6は前記するカソード電極形成方法と同
一に形成した後、又本発明によるFDPの隔壁を形成さ
せる。 前記のためにエノード電極6が形成された硝子基板1′
上に水溶性感光樹脂2を100〜120μm厚さにやや
厚く塗布した後隔壁形成用マスクをポンチイブ(pos
i t 1ve)方式で設けて、露光、現象とすると
エノード電極6を除いた部分の水溶性感光樹脂2が除去
されエノード電極6上にのみ前記水溶性感光樹脂2が塗
布された状態になる。 これに隔壁用硝子ペースト5を塗布乾燥すれば図面(ホ
)の如くなる。 前記の隔壁用硝子ペースト5が塗布された状態で過酸化
水素溶液に浸澱させると水溶性感光樹脂2が除去される
と同時に感光樹脂2上に塗布されている硝子ペーストが
除去される。 従って、図面(へ)に図示された如くエノード電極6間
に隔壁7が形成されることになる。 前記の写真蝕刻法による工程でエノード電極6および隔
壁7が形成された前面硝子基板1′とカソード電極4が
形成された背面硝子基板1を製作し、この両硝子基板を
封止材で封止させてFDPを完成するのである。
上記において詳述する如き本発明によると、写真蝕刻法
の特徴であるパターン形成の高精細化をプラズマ表示素
子製造に表現することができて、大形化趨勢に伴うプラ
ズマ表示素子を製造することができ、かつ従来のスクリ
ーン印刷のとき発生する不良率を減少させる利点等があ
る。
の特徴であるパターン形成の高精細化をプラズマ表示素
子製造に表現することができて、大形化趨勢に伴うプラ
ズマ表示素子を製造することができ、かつ従来のスクリ
ーン印刷のとき発生する不良率を減少させる利点等があ
る。
添付図面は本発明によるプラズマ表示素子の製造方法を
説明するための製造工程順序図である。 1.1′・・・硝子基板 2・・・感光樹脂 3・・・ニッケルペースト 4・・・カソード電極 5・・・硝子ペースト(隔壁用) 6・・・エノード電極 7・・・隔壁
説明するための製造工程順序図である。 1.1′・・・硝子基板 2・・・感光樹脂 3・・・ニッケルペースト 4・・・カソード電極 5・・・硝子ペースト(隔壁用) 6・・・エノード電極 7・・・隔壁
Claims (3)
- (1)プラズマ表示素子の製造方法において、写真蝕刻
法により硝子基板(1)、(1′)上の電極、又は隔壁
形成がそれぞれ水溶性感光樹脂の塗布、乾燥、露光及び
現像する段階と、前記の電極又は隔壁形成のためにそれ
ぞれの材質ペースト塗布した後水溶性感光樹脂上にある
材質ペーストを除去する段階から成ることを特徴とする
プラズマ表示素子の製造方法。 - (2)前記電極の形成は硝子基板(1)、(1′)上に
水溶性感光樹脂(2)を塗布する工程と、マスクを設け
て電極パターンを形成するように露光および現像する工
程と、続いて電極用材質ペーストを塗布する工程および
過酸化水素溶液で水溶性感光樹脂とこの樹脂上に塗布さ
れている材質ペーストを除去する工程から成ることを特
徴とする特許請求の範囲第1項記載のプラズマ表示素子
の製造方法。 - (3)前記隔壁の形成はエノード電極(6)が形成され
た硝子基板(1)上に水溶性感光樹脂(2)を塗布する
工程と、隔壁形成用マスクを設けて隔壁パターンを形成
させるように露光および現像する工程と、続いて隔壁用
硝子ペーストを塗布する工程および過酸化水素溶液で水
溶性感光樹脂と、この感光樹脂上に有する硝子ペースト
を除去する工程から成ることを特徴とする特許請求の範
囲第1項記載のプラズマ表示素子の製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
KR88P11871 | 1988-09-14 | ||
KR8811871A KR910003690B1 (en) | 1988-09-14 | 1988-09-14 | Pdp manufacturing method |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH031421A true JPH031421A (ja) | 1991-01-08 |
JPH0433098B2 JPH0433098B2 (ja) | 1992-06-02 |
Family
ID=19277728
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1231314A Granted JPH031421A (ja) | 1988-09-14 | 1989-09-06 | プラズマ表示素子の製造方法 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5037723A (ja) |
JP (1) | JPH031421A (ja) |
KR (1) | KR910003690B1 (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6638129B2 (en) | 1998-01-27 | 2003-10-28 | Mitsubishi Denki Kabushiki | Surface discharge type plasma display panel with intersecting barrier ribs |
Families Citing this family (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5635334A (en) * | 1992-08-21 | 1997-06-03 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for making plasma display apparatus with pixel ridges made of diffusion patterned dielectrics |
JPH06267439A (ja) * | 1992-08-21 | 1994-09-22 | Du Pont Kk | プラズマディスプレイ装置およびその製造方法 |
JPH0992134A (ja) * | 1995-09-22 | 1997-04-04 | Dainippon Printing Co Ltd | ノズル塗布方法及び装置 |
JPH10319875A (ja) * | 1997-05-20 | 1998-12-04 | Sony Corp | プラズマアドレス表示装置の製造方法 |
KR19990003524A (ko) * | 1997-06-25 | 1999-01-15 | 김영환 | 플라즈마 디스플레이 패널의 격벽 형성 방법 |
KR19990004793A (ko) * | 1997-06-30 | 1999-01-25 | 엄길용 | 플라즈마 표시소자의 전극 형성방법 |
US5858619A (en) * | 1997-09-30 | 1999-01-12 | Candescent Technologies Corporation | Multi-level conductive matrix formation method |
KR100519663B1 (ko) * | 1998-05-30 | 2005-11-25 | 오리온전기 주식회사 | 평판소자의 전극성형방법 |
US6352763B1 (en) | 1998-12-23 | 2002-03-05 | 3M Innovative Properties Company | Curable slurry for forming ceramic microstructures on a substrate using a mold |
US6247986B1 (en) * | 1998-12-23 | 2001-06-19 | 3M Innovative Properties Company | Method for precise molding and alignment of structures on a substrate using a stretchable mold |
US6878333B1 (en) | 1999-09-13 | 2005-04-12 | 3M Innovative Properties Company | Barrier rib formation on substrate for plasma display panels and mold therefor |
US6821178B2 (en) | 2000-06-08 | 2004-11-23 | 3M Innovative Properties Company | Method of producing barrier ribs for plasma display panel substrates |
US7176492B2 (en) * | 2001-10-09 | 2007-02-13 | 3M Innovative Properties Company | Method for forming ceramic microstructures on a substrate using a mold and articles formed by the method |
US7033534B2 (en) * | 2001-10-09 | 2006-04-25 | 3M Innovative Properties Company | Method for forming microstructures on a substrate using a mold |
KR20060090433A (ko) * | 2005-02-05 | 2006-08-11 | 삼성에스디아이 주식회사 | 평판 디스플레이 장치 및 이의 제조 방법 |
Family Cites Families (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS58150248A (ja) * | 1982-03-01 | 1983-09-06 | Sony Corp | 放電表示装置 |
US4804615A (en) * | 1985-08-08 | 1989-02-14 | Macdermid, Incorporated | Method for manufacture of printed circuit boards |
-
1988
- 1988-09-14 KR KR8811871A patent/KR910003690B1/ko not_active IP Right Cessation
-
1989
- 1989-08-31 US US07/400,995 patent/US5037723A/en not_active Expired - Lifetime
- 1989-09-06 JP JP1231314A patent/JPH031421A/ja active Granted
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6638129B2 (en) | 1998-01-27 | 2003-10-28 | Mitsubishi Denki Kabushiki | Surface discharge type plasma display panel with intersecting barrier ribs |
US6683589B2 (en) | 1998-01-27 | 2004-01-27 | Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha | Surface discharge type plasma display panel with intersecting barrier ribs |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
US5037723A (en) | 1991-08-06 |
KR910003690B1 (en) | 1991-06-08 |
JPH0433098B2 (ja) | 1992-06-02 |
KR900005523A (ko) | 1990-04-14 |
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