JP4196079B2

JP4196079B2 - プラズマディスプレイパネルの製造方法

Info

Publication number: JP4196079B2
Application number: JP2003134103A
Authority: JP
Inventors: 大輔足立
Original assignee: Panasonic Corp; Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Current assignee: Panasonic Corp; Panasonic Holdings Corp
Priority date: 2003-05-13
Filing date: 2003-05-13
Publication date: 2008-12-17
Anticipated expiration: 2023-05-13
Also published as: JP2004342348A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、大画面で、薄型、軽量のディスプレイ装置として知られるプラズマディスプレイパネル（以下、ＰＤＰと記す）の構造物の形成を行うプラズマディスプレイパネルの製造方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
ＰＤＰは、ガス放電により紫外線を発生させ、この紫外線で蛍光体を励起して発光させることにより画像表示を行っている。
【０００３】
ＰＤＰには、大別して、駆動的にはＡＣ型とＤＣ型とがあり、放電形式では面放電型と対向放電型とがあるが、高精細化、大画面化および構造の簡素性に伴う製造の簡便性から、現状では、３電極構造の面放電型のＰＤＰが主流である。その構造は、ガラス等の基板上に、走査電極と維持電極とからなる表示電極と、それを覆う誘電体層と、さらにそれを覆う保護層とを有する前面板と、表示電極に対して直交する複数のアドレス電極と、それを覆う誘電体層と、誘電体層上の隔壁とを有する背面板とを対向配置させることにより、表示電極とデータ電極との交差部に放電セルを形成し、且つ放電セル内に蛍光体層を備えたものである。
【０００４】
このようなＰＤＰは、液晶パネルに比べて高速の表示が可能であり、視野角が広いこと、大型化が容易であること、自発光型であるため表示品質が高いことなどの理由から、フラットパネルディスプレイの中で最近特に注目を集めており、多くの人が集まる場所での表示装置や家庭で大画面の映像を楽しむための表示装置として各種の用途に使用されている。
【０００５】
以上の構成においては、表示電極および／またはアドレス電極のような電極には、その形状および配設ピッチに精度が要求されることから、例えば、金属材料等のような導電性材料に、感光性材料を含有させた材料を基板全面に塗布、乾燥し、それを電極のパターンに露光する露光パターンを備えたフォトマスクにより露光し、その後、それを現像するという、いわゆるフォトリソグラフィ法によってパターニングすることで、所定の位置に所定形状の電極を形成する。
【０００６】
上述のようなフォトリソグラフィ法においては、フォトマスクが備える露光パターンの露光部にダスト等が付着していると、その部分に対応する感光性材料が感光せず重合されないことから、現像時に溶解し、「抜け」となってしまうことから、電極の場合、最悪の場合、断線に至ってしまう。ここで、断線が発生してしまうと、断線発生箇所より給電方向下流側の画素に電力を供給することができず、ＰＤＰにおいては画像表示に支障が生じ、致命的な欠陥となる。
【０００７】
そこで、上述のような断線の発生を抑制するために、露光を、同一の露光パターンを備える複数のフォトマスクを用いて、複数回、行うという方法がある。これは、異なるフォトマスクのそれぞれの露光パターンは、そのパターンの同一箇所にダストが付着している可能性は非常に小さく、したがって、露光を、例えば２枚のフォトマスクを用いて、フォトマスク毎にそれぞれ一回、計２回行うことによれば、一方のフォトマスクに付着したダストのために、そのフォトマスクでの露光が遮られ未感光となるとしても、もう一方のフォトマスクでの露光の際には感光するので、これにより、未感光となる領域を、ほとんどなくすことが可能となるというものである（例えば、特許文献１参照）。
【０００８】
【特許文献１】
特開平１−２８１４４８号公報
【０００９】
【発明が解決しようとする課題】
上述のように、例えば露光を２回行うと、感光性材料の露光の履歴としては、１回目と２回目との両方の露光を受けた領域（２回露光領域）と、１回目もしくは２回目の一方の露光のみを受けた領域（１回露光領域）とに分かれる。
【００１０】
ここで、露光により感光性材料は架橋反応し、硬化するが、２回露光領域においては、その露光が過露光となる場合があり、そのような場合には架橋反応が過度に進行してしまい、形成した電極には応力が内在した状態となり、このような状態で焼成を行うと、電極が収縮し、エッジ部での反り上がりや剥がれといった問題が発生する場合がある。このような問題は、エッジ部が過露光となった場合に特に顕著となる。
【００１１】
また、ＰＤＰにおいては、大画面であるにも関わらず、例えば隔壁など、その構造物には精度を要求されることから、形成には同様にフォトリソグラフィ法が用いられる場合がある。このような場合も、上述と同様の問題が発生し、同様に画像表示に支障が生じてしまう場合がある。
【００１２】
本発明は、このような課題に鑑みてなされたものであり、ＰＤＰの構造物の形成をフォトリソグラフィ法により行うＰＤＰの製造方法において、フォトマスクに付着したダスト等により、ＰＤＰの構造物に断線などの欠陥が発生することを抑制し、且つ、構造物の反り上がり、剥がれなども抑制することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法を実現することを目的とする。
【００１３】
【課題を解決するための手段】
上記目的を達成するために本発明のプラズマディスプレイパネルの製造方法は、ネガ型感光性材料を用いてフォトリソグラフィ法により形成した構造物を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、形成する構造物のパターンに対する露光を、その略中央領域をパターン露光する第一の露光と、この第一の露光による露光領域に一部を重複させて、前記構造物のパターンのうちの残りの領域をパターン露光する第二の露光とにより行うことで、前記重複させる領域を、構造物のパターンの領域の１／５以下で、且つ構造物のパターンの内側に入った箇所とした、ことを特徴とするものである。
【００１４】
【発明の実施の形態】
すなわち、本発明の請求項１に記載の発明は、ネガ型感光性材料を用いてフォトリソグラフィ法により形成した構造物を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、形成する構造物のパターンに対する露光を、その略中央領域をパターン露光する第一の露光と、この第一の露光による露光領域に一部を重複させて、前記構造物のパターンのうちの残りの領域をパターン露光する第二の露光とにより行うことで、前記重複させる領域を、構造物のパターンの領域の１／５以下で、且つ構造物のパターンの内側に入った箇所とした、ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法である。
【００１５】
また、請求項２に記載の本発明は、請求項１に記載の発明において、前記構造物は、線状の構造物であり、第一の露光は、この線状構造物のパターン線幅Ｔよりも小さい開口幅ｔ１の線状開口部を備える第１のフォトマスクを用いて行い、第二の露光は、第１のフォトマスクが備える線状開口部の位置に対して、一部オーバーラップしてその両側となる位置に形成した開口部を備える第２のフォトマスクを用いて行い、この開口部の外幅ｔ２は、ネガ型感光性材料に対して前記線状構造物のパターンの線幅Ｔとなるように露光することができる幅であり、内幅ｔ３は、開口幅ｔ１よりも狭いものである、ことを特徴とするというものである。
【００１６】
以下、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法について、図を用いて説明する。
【００１７】
まず、ＰＤＰの構造の一例について説明する。図１は、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法により製造される、ＰＤＰの概略構成の一例を示す断面斜視図である。
【００１８】
ＰＤＰ１の前面板２は、前面側の、例えばフロート法により得られたガラスのような、平滑、透明且つ絶縁性の基板３の一主面上に形成した、走査電極４と維持電極５とからなる表示電極６と、隣接する表示電極６間に設けた遮光層７と、表示電極６と遮光層７とを覆う誘電体層８と、さらにその誘電体層８を覆う、例えばＭｇＯによる保護層９とを有する構造である。走査電極４と維持電極５は、電気抵抗の低減を目的として、透明電極４ａ、５ａに金属材料のような良導電性材料によるバス電極４ｂ、５ｂを積層した構造である。また、遮光層７は、非発光時に蛍光体層（後述）からの白色を遮蔽し、コントラストを向上させるためのものである。
【００１９】
背面板１０は、背面側の、例えばフロート法により得られたガラスのような、平滑、且つ絶縁性の基板１１の一主面上に形成したアドレス電極１２と、そのアドレス電極１２を覆う誘電体層１３と、誘電体層１３上の、隣り合うアドレス電極１２の間に相当する場所に位置する隔壁１４と、隔壁１４間の蛍光体層１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂとを有する構造である。
【００２０】
そして、前面板２と背面板１０とは、隔壁１４を挟んで、表示電極６とアドレス電極１２とが直交するように対向し、周囲を封着部材により封止した構成であり、前面板２と背面板１０との間に形成された放電空間１６には、例えばＮｅ−Ｘｅ５％の放電ガスを６６．５ｋＰａ（５００Ｔｏｒｒ）の圧力で封入している。
【００２１】
そして、放電空間１６の表示電極６とアドレス電極１２との交差部が放電セル１７（単位発光領域）として動作する。
【００２２】
次に、上述した構造のＰＤＰ１について、その製造方法を同じく図１を参照しながら説明する。
【００２３】
前面板２は、基板３上にまず、走査電極４および維持電極５を例えばストライプ状に形成する。具体的には、基板３上に透明電極４ａ、５ａの材料、例えばＩＴＯによる膜を、例えば電子ビーム蒸着法により形成し、さらにその上にレジストを、透明電極４ａ、５ａのパターンとして残るようにパターニングして形成した後、エッチングにより透明電極４ａ、５ａの材料による膜をエッチングし、その後、レジストを剥離することで、透明電極４ａ、５ａを形成する。なお、透明電極材料としてはＳｎＯ₂等も用いることができる。そして、上述のようにして形成した透明電極４ａ、５ａの上にバス電極４ｂ、５ｂを形成する。具体的には、黒色顔料、ガラスフリット（ＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系やＢｉ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系等）、重合開始剤、光硬化性モノマー、有機溶剤を含む感光性黒色ペーストを用いスクリーン印刷法等によりガラス基板上に黒色電極膜を成膜した後、乾燥し、引き続き、スクリーン印刷法等により黒色電極膜の上にＡｇを材料に含有する導電性材料、ガラスフリット（ＰｂＯ−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系やＢｉ₂Ｏ₃−Ｂ₂Ｏ₃−ＳｉＯ₂系等）、重合開始剤、光硬化性モノマー、有機溶剤を含む感光性Ａｇペーストを用いて金属電極膜を成膜し、再度、乾燥する。そしてその後、フォトリソグラフィ法によってパターニングし、焼成することで、バス電極４ｂ、５ｂを形成することができる。以上により、走査電極４および維持電極５からなる表示電極６を形成することができる。
【００２４】
次に、遮光層７を形成する。これは、感光性黒色ペーストをスクリーン印刷法等により成膜した後、フォトリソグラフィ法によってパターニングし、焼成することで形成することができる。なお、遮光層７は、バス電極４ｂ、５ｂの下地黒色層と同時に形成してもよい。また、黒色であるならペーストを用いた形成方法でなくとも良い。また、バス電極４ｂ、５ｂ形成の前に形成しても良い。
【００２５】
次に、以上のようにして形成した表示電極６と遮光層７とを、誘電体層８で被覆する。誘電体層８は、鉛系のガラス材料を含むペーストを例えばスクリーン印刷で塗布、乾燥した後、焼成することによって形成する。
【００２６】
次に、誘電体層８を、保護層９で被覆する。保護層９は、例えばＭｇＯからなるものであり、蒸着やスパッタなどの成膜プロセスにより形成する。
【００２７】
一方、背面板１０は、基板１１上に、アドレス電極１２を、例えばストライプ状に形成する。具体的には、基板１１上に、アドレス電極１２の材料、例えば感光性Ａｇペーストを用い、スクリーン印刷法等により膜を形成し、その後、フォトリソグラフィ法などによってパターニングし、焼成することで形成することができる。
【００２８】
次に、以上のようにして形成したアドレス電極１２を、誘電体層１３により被覆する。誘電体層１３は、例えば、鉛系のガラス材料を含むペーストを、例えば、スクリーン印刷で塗布、乾燥した後、焼成することによって形成する。また、ペーストをスクリーン印刷する代わりに、成型されたフィルム状の誘電体層の前駆体をラミネートして焼成することによって形成しても良い。
【００２９】
次に、隔壁１４を例えばストライプ状に形成する。隔壁１４は、Ａｌ₂Ｏ₃等の骨材とガラスフリットとを主剤とする感光性ペーストを印刷法やダイコート法等により成膜し、フォトリソグラフィ法によりパターニングし、焼成することで形成することができる。または、例えば、鉛系のガラス材料を含むペーストを、例えば、スクリーン印刷法により所定のピッチで繰り返し塗布、乾燥した後、焼成することによって形成してもよい。ここで、隔壁１４の間隙の寸法は、例えば３２インチ〜５０インチのＨＤ−ＴＶの場合、１３０μｍ〜２４０μｍ程度である。
【００３０】
そして、隔壁１４と隔壁１４との間の溝には、赤色（Ｒ）、緑色（Ｇ）、青色（Ｂ）の各蛍光体粒子により構成される蛍光体層１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂを形成する。これは、各色の蛍光体粒子と有機バインダとからなるペースト状の蛍光体インキを塗布、乾燥し、これを４００〜５９０℃の温度で焼成して有機バインダを焼失させることによって、各蛍光体粒子が結着してなる蛍光体層１５Ｒ、１５Ｇ、１５Ｂとして形成する。
【００３１】
以上のようにして作製した前面板２と背面板１０とを、前面板２の表示電極６と背面板１０のアドレス電極１２とが直交するように重ね合わせるとともに、周縁に封着用ガラス等の封着部材を介挿し、これを例えば４５０℃程度で１０〜２０分間焼成して形成した気密シール層（図示せず）により封着する。そして、一旦、放電空間１６内を高真空（例えば、１．１×１０^-4Ｐａ）に排気した後、放電ガス（例えば、Ｈｅ−Ｘｅ系、Ｎｅ−Ｘｅ系の不活性ガス）を封入することによってＰＤＰ１を作製する。
【００３２】
ここで、ＰＤＰ１は大画面であると同時に、表示電極６、遮光層７、アドレス電極１２、隔壁１４などのＰＤＰ１の構造物には、形状および位置に対する精度が要求されるため、これら、ＰＤＰ１の構造物の形成方法としては、フォトリソグラフィ法が多く用いられている。
【００３３】
そこで、本発明によるＰＤＰ１の製造方法におけるフォトリソグラフィ法について、アドレス電極１２をＰＤＰの構造物の一例として、その形成工程を、本発明の特徴的な点である、露光での工程の流れを中心に、図を用いて説明する。
【００３４】
図２は、アドレス電極１２を形成する際の工程の概略の流れを示す図である。また、図３は、その際に用いる第一のフォトマスクと第二のフォトマスクの開口パターンの相対関係を模式的に示すための部分拡大平面図である。また、図４は、露光による露光領域を模式的に示すための部分拡大平面図である。
【００３５】
まず、図２（ａ）に示すように、アドレス電極１２の材料となるＡｇ材料を有する感光性Ａｇペーストを用い、これをスクリーン印刷法等により基板１１に均一に塗布することで、感光性Ａｇペースト膜２１を形成する。
【００３６】
次に、図２（ｂ）に示すように、開口部２２ａを備える第１のフォトマスク２２を、所定の位置に位置合わせして設置する。ここで、開口部２２ａの開口幅ｔ１は、アドレス電極１２のパターンの線幅Ｔよりも小さく形成している。
【００３７】
この状態で、図２（ｃ）に示すように、感光性Ａｇペースト膜２１に対する第一の露光を行う。具体的には、超高圧水銀ランプによる紫外線２３を照射する。この露光により、開口幅ｔ１がパターンの線幅Ｔよりも小さいことから、図４（ａ）に示すように、アドレス電極１２のパターン３０の略中央領域３１が露光される。
【００３８】
次に、図２（ｄ）に示すように、開口部２４ａを備える第２のフォトマスク２４を、所定の位置に位置合わせして設置する。ここで、図３に示すように、第２のフォトマスク２４における開口部２４ａは、第１のフォトマスク２２における開口部２２ａの位置に対して、一部オーバーラップしてその両側となる位置に形成したものである。なお、開口部２４ａの外幅ｔ２は、感光性Ａｇペースト膜２１に対してアドレス電極１２のパターン３０の線幅Ｔに露光することができる幅である。
【００３９】
そして、この状態で、図２（ｅ）に示すように、超高圧水銀ランプによる紫外線２３を照射し、感光性Ａｇペースト膜２１に対する第二の露光を行う。この露光により、図４（ｂ）に示すように、第一の露光による露光領域３１に一部を重複させた状態で、アドレス電極１２のパターン３０のうちの残りの領域３２が露光され、これにより、パターン３０の全領域が露光されることとなる。
【００４０】
そして以上のようにして、アドレス電極１２のパターンを露光した感光性Ａｇペースト膜２１に対して、現像を行うことで、感光性Ａｇペースト膜２１をアドレス電極１２のパターンに形成することができ、それを焼成することでアドレス電極１２が完成する。
【００４１】
ここで、第１のフォトマスク２２および第２のフォトマスク２４に、それぞれダストが付着していたとしても、感光性Ａｇペースト膜２１に対する相対位置が一致する確率は非常に小さい。具体的には、４０インチクラスのＰＤＰの製造に用いられるフォトマスク上に直径１００μｍの円状の異物が１００個程度付着したとき、第１のフォトマスクと第２のフォトマスクとで付着した異物の位置が一致する確率は０．１％程度以下となる。すなわち、フォトマスクの交換毎に露光を行う場合、感光性Ａｇペースト膜２１に対してフォトマスクの交換によってでも同じ箇所にダストが位置するという確率は非常に小さく、したがって、フォトマスクの交換を行って、その交換毎に露光を行えば、フォトマスクに付着したダストにより露光が遮られ未露光となり断線してしまうという領域を、大幅に抑制することが可能となる。
【００４２】
したがって、上述したような２回露光によりパターン３０中に形成された、第一の露光による露光領域３１と、第二の露光による露光領域３２とが重複する２回露光の領域は、フォトマスクへのダストの付着に関わらず１回は露光される確率が非常に高まるため、このことにより、アドレス電極１２のパターン３０は、最悪でも、上述した二回露光の領域の存在により、断線に至る確率は非常に小さくなる。
【００４３】
ここで、図３に示すように、第１のフォトマスク２２と第２のフォトマスク２４とは、その位置合わせの誤差による、第一の露光と第二の露光とで露光される領域の位置ずれを抑制するために、第２のフォトマスク２４の開口部２４ａの外幅ｔ２は，感光性Ａｇペースト膜２１に対して、アドレス電極１２のパターンの線幅Ｔに露光できる幅とし、第１のフォトマスク２２の開口部２２ａの開口幅ｔ１は、第２のフォトマスク２４の開口部２４ａの内幅ｔ３よりも若干、広くしたものとしている。このことにより、第１のフォトマスク２２による第一の露光による露光領域に一部を重複して、第二の露光が行われるため、その位置合わせの誤差によるパターン３０の「抜け」という問題は抑制される。なお、第１のフォトマスク２２の開口部２２ａの開口幅ｔ１に対する、第２のフォトマスク２４の開口部２４ａの外幅ｔ２と内幅ｔ３とは、露光パターンのデザイン、各フォトマスクの位置決め精度、および感光性材料の焼成時の収縮率などの材料特性に基づき決定すればよい。
【００４４】
また、ここで、露光により感光性Ａｇペースト膜２１は架橋反応し、硬化するが、アドレス電極１２のパターン３０の全領域を、第一の露光と第二の露光とで露光してしまうと、フォトマスクに付着したダストの影響を抑制することは可能とはなるが、２回露光領域においては架橋反応が過度に進行し、過露光となってしまうため、アドレス電極１２には、応力が内在した状態となる。このような状態のアドレス電極１２を焼成すると、焼成の際に異常な収縮が発生し、アドレス電極１２のエッジ部が反り上がったり、剥がれが発生したりする。逆に、２回露光領域の過露光を抑制するために、第一の露光と第二の露光とでの露光量をそれぞれ一様に低減すると、ダストの存在により１回露光のみとなってしまう領域においては露光不足となり、架橋反応の進行が不十分となる場合がある。露光不足の状態とは、露光時の光照射は膜表面から行われるため、架橋反応は膜表面から進行し電極膜表面では硬化が十分に行われているが、電極膜内部では硬化が不充分な露光不足の状態のことであり、このような場合も、現像時や焼成時に剥がれが発生しやすい状態である。
【００４５】
しかしながら、上述したような、本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法における露光方法では、第一の露光による露光領域３１と第二の露光による露光領域３２の重複する箇所、すなわち過露光となる箇所が、アドレス電極１２のパターン３０に対して、内側に入った箇所となり、エッジ部および中央部は１回露光となることから、過露光により発生する応力が原因となるエッジ部での反りや剥がれといった問題の発生が抑制される。
【００４６】
ここで、図５に示すように、第１のフォトマスク２２の開口部２２ａの開口幅をｔ１、第２のフォトマスク２４の開口部２４ａのそれぞれの開口幅をｔ４とし、それぞれを、パターン３０の線幅Ｔに対して、ｔ１＝２×Ｔ／３、ｔ４＝Ｔ／５とすれば、二回露光領域の占める面積は、片側でＴ／１５となり、過露光により発生する応力は十分小さくなる。
【００４７】
なお、本発明者の検討により、二回露光領域の占める割合が、パターンの線幅Ｔに対して、１／５程度以下であれば過露光部が存在しても、反り上がり等不具合が発生しないことを実験的に確認している。
【００４８】
また、以上より、本発明によれば、ＰＤＰの構造物は、その露光後、焼成前の状態において、内部に架橋反応状態が異なる領域を有する状態を呈する。これは具体的には、例えば、炭素濃度の状態で確認することが可能である。また、その異なる領域は、構造物の形成する際の全露光領域に対し、１／５以下である。
【００４９】
また、一方のフォトマスクの開口幅を大きくすると、二回露光領域の面積を小さくするためにもう一方のフォトマスクの開口幅を小さくする必要があるが、この時の開口幅が、ダストの大きさと同等となってしまうと、パターン３０の仕上がり形状が悪化する。このため、第２のフォトマスク２４の開口部２４ａの開口幅の和と第１のフォトマスク２２の開口部２２ａの開口幅は少なくともアドレス電極１２のパターン３０の線幅Ｔの１／４程度以上とすることが望ましい。
【００５０】
以上の説明では、最初に、アドレス電極１２のパターンの略中央領域を露光する第一の露光を行い、次に、第一の露光による露光領域に一部を重複させて、アドレス電極１２のパターンのうちの残りの領域を露光する第二の露光を行うという形態を示したが、上記での第一、第二はその露光の順序を指定するものではなく、したがって、先に第二の露光を行い、その後、第一の露光を行う形態によっても、本発明の効果を同様に得ることが可能である。
【００５１】
また、以上は、ＰＤＰの構造物の一例として、アドレス電極１２を例として説明したが、表示電極６、遮光層７、アドレス電極１２、隔壁１４など、フォトリソグラフィ法を用いて形成するＰＤＰ１の構造物に対しても同様の効果を得ることができる。
【００５２】
以上説明した、本発明の一実施の形態によるプラズマディスプレイパネルの製造方法によれば、上述したような、第１のフォトマスクと第２のフォトマスクとを用いた二回露光を行うので、フォトマスクに付着した異物によるパターンの断線と、二回露光による形状不良の発生とを抑制することが可能となる。
【００５３】
【発明の効果】
以上説明したように、本発明によれば、ＰＤＰの構造物の形成をフォトリソグラフィ法により行うＰＤＰの製造方法において、フォトマスクに付着したダスト等により、ＰＤＰの構造物に断線などの欠陥が発生することを抑制し、且つ、その構造物の反り上がり、剥がれなども抑制することができるプラズマディスプレイパネルの製造方法を実現することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施の形態によるＰＤＰの製造方法により製造される、ＰＤＰの概略構成の一例を示す断面斜視図
【図２】アドレス電極を形成する際の工程の概略の流れを示す図
【図３】形成するアドレス電極のパターンを模式的に示す平面図
【図４】第一のフォトマスクと第二のフォトマスクの開口パターンを模式的に示す平面図
【図５】露光による露光領域を模式的に示す平面図
【符号の説明】
１１基板
２１感光性Ａｇペースト膜
２２第１のフォトマスク
２２ａ開口部
２４第２のフォトマスク
２４ａ開口部
３１、３２領域

Claims

ネガ型感光性材料を用いてフォトリソグラフィ法により形成した構造物を有するプラズマディスプレイパネルの製造方法において、
形成する構造物のパターンに対する露光を、その略中央領域をパターン露光する第一の露光と、この第一の露光による露光領域に一部を重複させて、前記構造物のパターンのうちの残りの領域をパターン露光する第二の露光とにより行うことで、前記重複させる領域を、構造物のパターンの領域の１／５以下で、且つ構造物のパターンの内側に入った箇所とした、
ことを特徴とするプラズマディスプレイパネルの製造方法。
前記構造物は、線状の構造物であり、
第一の露光は、この線状構造物のパターン線幅Ｔよりも小さい開口幅ｔ１の線状開口部を備える第１のフォトマスクを用いて行い、
第二の露光は、第１のフォトマスクが備える線状開口部の位置に対して、一部オーバーラップしてその両側となる位置に形成した開口部を備える第２のフォトマスクを用いて行い、この開口部の外幅ｔ２は、ネガ型感光性材料に対して前記線状構造物のパターンの線幅Ｔとなるように露光することができる幅であり、内幅ｔ３は、開口幅ｔ１よりも狭いものである、
ことを特徴とする請求項１に記載のプラズマディスプレイパネルの製造方法。