JPH04259374A - 蒸着装置 - Google Patents
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- JPH04259374A JPH04259374A JP3017549A JP1754991A JPH04259374A JP H04259374 A JPH04259374 A JP H04259374A JP 3017549 A JP3017549 A JP 3017549A JP 1754991 A JP1754991 A JP 1754991A JP H04259374 A JPH04259374 A JP H04259374A
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- 238000000151 deposition Methods 0.000 title abstract 7
- 239000000463 material Substances 0.000 claims abstract description 9
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 23
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 claims description 10
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 claims description 10
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 6
- 238000007738 vacuum evaporation Methods 0.000 claims description 6
- 238000004804 winding Methods 0.000 claims description 6
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 abstract description 23
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 abstract description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 abstract description 3
- 238000001816 cooling Methods 0.000 abstract 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 6
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 4
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 3
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 3
- -1 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 229920001343 polytetrafluoroethylene Polymers 0.000 description 3
- 239000004810 polytetrafluoroethylene Substances 0.000 description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 239000000110 cooling liquid Substances 0.000 description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 230000006698 induction Effects 0.000 description 2
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 description 2
- 239000012528 membrane Substances 0.000 description 2
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 2
- 230000037303 wrinkles Effects 0.000 description 2
- 238000000137 annealing Methods 0.000 description 1
- 239000003990 capacitor Substances 0.000 description 1
- 230000008602 contraction Effects 0.000 description 1
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 239000000155 melt Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 238000009832 plasma treatment Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/56—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
- C23C14/562—Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks for coating elongated substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/541—Heating or cooling of the substrates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
- C23C14/54—Controlling or regulating the coating process
- C23C14/542—Controlling the film thickness or evaporation rate
- C23C14/544—Controlling the film thickness or evaporation rate using measurement in the gas phase
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- Chemical & Material Sciences (AREA)
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- Organic Chemistry (AREA)
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、フィルムに含属膜を形
成する蒸着装置に関する。
成する蒸着装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、蒸着装置は、磁気記録テープ,フ
ィルムコンデンサ等の金属膜の蒸着に広く利用されてい
る。
ィルムコンデンサ等の金属膜の蒸着に広く利用されてい
る。
【0003】以下、従来のフィルムの蒸着装置の一例に
ついて図3を参照しながら説明する。図3において、1
は蒸着により膜が堆積されるフィルム、2は蒸着材料、
3は蒸着材料2を溶融し、蒸発させる抵抗加熱,高周波
誘導加熱,電子ビーム等の真空蒸着源、4は真空蒸着源
3に対向して設けられ、内部に冷却液が循環し、フィル
ム1の蒸着面を冷却し回転するキャン、5はフィルム1
をキャン4へ供給する供給ローラー、6は蒸着されたフ
ィルム1を巻取り、さらにフィルム1と接触する表面が
ポリテトラフルオロエチレン樹脂等の絶縁材料のテープ
またはコーティングで覆われ、アースと絶縁された巻取
りローラー、7aはフィルム1の巻取りおよび走行を補
助し、フィルム1と接触する表面がポリテトラフルオロ
エチレン樹脂等の絶縁材料のテープまたはコーティング
で覆われ、アースと絶縁されたフリーローラー、7bは
フィルム1の巻取りおよび走行を補助し、アースと絶縁
され、さらにフィルム1の蒸着面と導通があるフリーロ
ーラー、8は真空チャンバー、9は真空チャンバー8内
を真空排気するための真空ポンプ、10はフリーローラ
ー7bを通じて蒸着後のフィルム1に直流の電圧を印加
する直流電源である。
ついて図3を参照しながら説明する。図3において、1
は蒸着により膜が堆積されるフィルム、2は蒸着材料、
3は蒸着材料2を溶融し、蒸発させる抵抗加熱,高周波
誘導加熱,電子ビーム等の真空蒸着源、4は真空蒸着源
3に対向して設けられ、内部に冷却液が循環し、フィル
ム1の蒸着面を冷却し回転するキャン、5はフィルム1
をキャン4へ供給する供給ローラー、6は蒸着されたフ
ィルム1を巻取り、さらにフィルム1と接触する表面が
ポリテトラフルオロエチレン樹脂等の絶縁材料のテープ
またはコーティングで覆われ、アースと絶縁された巻取
りローラー、7aはフィルム1の巻取りおよび走行を補
助し、フィルム1と接触する表面がポリテトラフルオロ
エチレン樹脂等の絶縁材料のテープまたはコーティング
で覆われ、アースと絶縁されたフリーローラー、7bは
フィルム1の巻取りおよび走行を補助し、アースと絶縁
され、さらにフィルム1の蒸着面と導通があるフリーロ
ーラー、8は真空チャンバー、9は真空チャンバー8内
を真空排気するための真空ポンプ、10はフリーローラ
ー7bを通じて蒸着後のフィルム1に直流の電圧を印加
する直流電源である。
【0004】以上のように構成されたフィルムの蒸着装
置について、以下その動作について説明する。
置について、以下その動作について説明する。
【0005】まず、真空チャンバー8内をロータリーポ
ンプ,油拡散ポンプ,クライオポンプ等の真空排気ポン
プ9により5×10−5Torr程度の真空度まで真空
排気する。次に供給ローラー5、キャン4、巻取りロー
ラー6を回転する。フィルム1は、供給ローラー5、フ
リーローラー7a、キャン4、フリーローラー7b、フ
リーローラー7aと走行し、巻取りローラー6に巻取ら
れる。 次に、抵抗加熱,高周波誘導加熱,電子ビーム等の真空
蒸着源3により、蒸着材料2が溶融され蒸発する。蒸発
した粒子が飛散し、対向するキャン4上を走行している
フィルム1表面上に堆積し膜が形成される。このとき、
フリーローラー7bを通じて蒸着後のフィルム1に直流
電源10より、正または負の電圧を印加し、フィルム1
とキャン4との間に電位差を生じさせる。そして、冷却
液が内部で循環しているキャン4にフィルム1が密着し
、冷却され、フリーローラー7b,7aと走行し、最後
に、巻取りローラー6に巻取られる。
ンプ,油拡散ポンプ,クライオポンプ等の真空排気ポン
プ9により5×10−5Torr程度の真空度まで真空
排気する。次に供給ローラー5、キャン4、巻取りロー
ラー6を回転する。フィルム1は、供給ローラー5、フ
リーローラー7a、キャン4、フリーローラー7b、フ
リーローラー7aと走行し、巻取りローラー6に巻取ら
れる。 次に、抵抗加熱,高周波誘導加熱,電子ビーム等の真空
蒸着源3により、蒸着材料2が溶融され蒸発する。蒸発
した粒子が飛散し、対向するキャン4上を走行している
フィルム1表面上に堆積し膜が形成される。このとき、
フリーローラー7bを通じて蒸着後のフィルム1に直流
電源10より、正または負の電圧を印加し、フィルム1
とキャン4との間に電位差を生じさせる。そして、冷却
液が内部で循環しているキャン4にフィルム1が密着し
、冷却され、フリーローラー7b,7aと走行し、最後
に、巻取りローラー6に巻取られる。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら上記のよ
うな構成では、膜のフィルム1に対する付着強度を充分
に向上させることができず、付着強度を向上するために
、フィルム1に前処理としてアニールによる水分および
不純物の除去、またはプラズマ処理による不純物の除去
およびフィルム1表面に凹凸を形成するなどが必要とな
り、生産タクトが長くなり、場合によっては前処理専用
の設備が必要となる。また、蒸発源3により溶融した蒸
着材料2の蒸発し飛散した粒子の中のイオンが、対向す
るフィルム1へ衝突する量が増加すると、イオンエネル
ギーによりフィルム1が伸び,収縮,溶融等の熱変形を
発生するという課題を有していた。
うな構成では、膜のフィルム1に対する付着強度を充分
に向上させることができず、付着強度を向上するために
、フィルム1に前処理としてアニールによる水分および
不純物の除去、またはプラズマ処理による不純物の除去
およびフィルム1表面に凹凸を形成するなどが必要とな
り、生産タクトが長くなり、場合によっては前処理専用
の設備が必要となる。また、蒸発源3により溶融した蒸
着材料2の蒸発し飛散した粒子の中のイオンが、対向す
るフィルム1へ衝突する量が増加すると、イオンエネル
ギーによりフィルム1が伸び,収縮,溶融等の熱変形を
発生するという課題を有していた。
【0007】本発明は上記課題を解決するもので、蒸発
した粒子の中のイオンをフィルムに強力に衝突させ、膜
のフィルムに対する付着強度を向上し、さらにイオンの
フィルムに衝突する量を制御することにより、付着強度
を制御しながら、イオンエネルギーによるフィルムの熱
変形を防止する蒸着装置を提供することを目的とするも
のである。
した粒子の中のイオンをフィルムに強力に衝突させ、膜
のフィルムに対する付着強度を向上し、さらにイオンの
フィルムに衝突する量を制御することにより、付着強度
を制御しながら、イオンエネルギーによるフィルムの熱
変形を防止する蒸着装置を提供することを目的とするも
のである。
【0008】
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、蒸着フィルムとアース間に流れる電流を計
測する電流計測手段を設けた構成である。
するために、蒸着フィルムとアース間に流れる電流を計
測する電流計測手段を設けた構成である。
【0009】
【作用】本発明は上記した構成によって、蒸着後のフィ
ルムに負の電圧が印加され、フィルム表面の金属蒸着膜
が負に帯電するため、蒸発した粒子の中のイオンがフィ
ルムに強力に衝突しイオンエネルギーにより蒸着膜のフ
ィルムに対する付着強度が向上する。このとき、フィル
ム上の金属膜,蒸発源を通して、イオンにより発生する
電流を電流計により計測し、イオンのフィルムに衝突す
る量を直流電圧で電流値を調整することにより制御する
。その結果、膜の付着強度を向上および制御することが
でき、また、多量のイオンがフィルムに衝突して、イオ
ンエネルギーにより発生するフィルムの伸び,収縮,溶
融等の熱変形を防止することができ、巻取りローラーに
しわなく巻取られることになる。さらに付着強度を向上
させるためのフィルムの前処理が必要なくなるため、生
産タクトが短縮され、前処理専用の設備も必要なくなる
ことになる。
ルムに負の電圧が印加され、フィルム表面の金属蒸着膜
が負に帯電するため、蒸発した粒子の中のイオンがフィ
ルムに強力に衝突しイオンエネルギーにより蒸着膜のフ
ィルムに対する付着強度が向上する。このとき、フィル
ム上の金属膜,蒸発源を通して、イオンにより発生する
電流を電流計により計測し、イオンのフィルムに衝突す
る量を直流電圧で電流値を調整することにより制御する
。その結果、膜の付着強度を向上および制御することが
でき、また、多量のイオンがフィルムに衝突して、イオ
ンエネルギーにより発生するフィルムの伸び,収縮,溶
融等の熱変形を防止することができ、巻取りローラーに
しわなく巻取られることになる。さらに付着強度を向上
させるためのフィルムの前処理が必要なくなるため、生
産タクトが短縮され、前処理専用の設備も必要なくなる
ことになる。
【0010】
【実施例】以下、本発明の一実施例の蒸着装置について
、図面を参照しながら説明する。
、図面を参照しながら説明する。
【0011】図1は本発明の一実施例における蒸着装置
の概略断面図である。図1において、従来例の図3と同
一部分には同一番号を付し、説明を省略する。すなわち
本発明の特徴はフィルム1とアース間に流れる電流を計
測する電流計11を入れたことである。図2はその電流
計11近傍と、蒸着メカニズムを説明するための構成図
である。以上のように構成されたフィルム蒸着装置につ
いて、以下図1および図2を用いてその動作を説明する
。
の概略断面図である。図1において、従来例の図3と同
一部分には同一番号を付し、説明を省略する。すなわち
本発明の特徴はフィルム1とアース間に流れる電流を計
測する電流計11を入れたことである。図2はその電流
計11近傍と、蒸着メカニズムを説明するための構成図
である。以上のように構成されたフィルム蒸着装置につ
いて、以下図1および図2を用いてその動作を説明する
。
【0012】すなわち従来例と同様に真空チャンバー8
内を排気し、フィルム1の表面に蒸着材料2を蒸発,付
着させて膜を形成するのであるが、このとき、フリーロ
ーラー7bを通じて、蒸着後のフィルム1に、直流電源
10より、0〜−500V程度の電圧を印加し、フィル
ム1と、キャン4との間に電位差を生じさせる。そして
、冷却液が内部で循環しているキャン4にフィルム1が
密着し、冷却され、フリーローラー7b,7aと走行し
、最後に、巻取りローラー6に巻取られる。そこでフィ
ルム1とアース間に発生する電流を電流計11により計
測し、例えば50mA以下になるように直流電源10の
電圧で調整し、フィルム1に衝突するイオンの量を制御
する。
内を排気し、フィルム1の表面に蒸着材料2を蒸発,付
着させて膜を形成するのであるが、このとき、フリーロ
ーラー7bを通じて、蒸着後のフィルム1に、直流電源
10より、0〜−500V程度の電圧を印加し、フィル
ム1と、キャン4との間に電位差を生じさせる。そして
、冷却液が内部で循環しているキャン4にフィルム1が
密着し、冷却され、フリーローラー7b,7aと走行し
、最後に、巻取りローラー6に巻取られる。そこでフィ
ルム1とアース間に発生する電流を電流計11により計
測し、例えば50mA以下になるように直流電源10の
電圧で調整し、フィルム1に衝突するイオンの量を制御
する。
【0013】以上のように本実施例によれば、蒸着後の
フィルム1に負の電圧が印加され、図2に示すようにフ
ィルム1表面の金属蒸着膜12が負に帯電するため、蒸
発した粒子の中のイオンがフィルムに強力に衝突しイオ
ンエネルギーにより金属蒸着膜12のフィルム1に対す
る付着強度が向上する。このとき、フィルム1上の金属
膜12,蒸発源3を通して、イオンにより発生する電流
を電流計11により計測し、イオンのフィルム1に衝突
する量を直流電圧で電流値を調整することにより制御す
ることができる。その結果、金属蒸着膜12の付着強度
を向上および制御することができ、また、多量のイオン
がフィルム1に衝突して、イオンエネルギーにより発生
するフィルム1の伸び,収縮,溶融等の熱変形を防止す
ることができ、巻取りローラー6にしわなく巻取ること
ができる。さらに付着強度を向上させるためのフィルム
1の前処理が必要なくなるため、生産タクトが短縮され
、前処理専用の設備も不要とすることができる。
フィルム1に負の電圧が印加され、図2に示すようにフ
ィルム1表面の金属蒸着膜12が負に帯電するため、蒸
発した粒子の中のイオンがフィルムに強力に衝突しイオ
ンエネルギーにより金属蒸着膜12のフィルム1に対す
る付着強度が向上する。このとき、フィルム1上の金属
膜12,蒸発源3を通して、イオンにより発生する電流
を電流計11により計測し、イオンのフィルム1に衝突
する量を直流電圧で電流値を調整することにより制御す
ることができる。その結果、金属蒸着膜12の付着強度
を向上および制御することができ、また、多量のイオン
がフィルム1に衝突して、イオンエネルギーにより発生
するフィルム1の伸び,収縮,溶融等の熱変形を防止す
ることができ、巻取りローラー6にしわなく巻取ること
ができる。さらに付着強度を向上させるためのフィルム
1の前処理が必要なくなるため、生産タクトが短縮され
、前処理専用の設備も不要とすることができる。
【0014】また、本実施例により、FEP等、ポリテ
トラフルオロエチレン樹脂系のフィルムで、耐熱温度が
200℃と非常に低いものでも、熱変形を防止すること
ができ、ニッケル膜の付着強度を向上および制御するこ
とができた。
トラフルオロエチレン樹脂系のフィルムで、耐熱温度が
200℃と非常に低いものでも、熱変形を防止すること
ができ、ニッケル膜の付着強度を向上および制御するこ
とができた。
【0015】なお、本実施例において、イオンにより発
生する電流を直流電源10による電圧により制御したが
、蒸着源3の電子ビーム等のパワーを変化させ、蒸着材
料2のイオン化を調整し、制御してもよい。
生する電流を直流電源10による電圧により制御したが
、蒸着源3の電子ビーム等のパワーを変化させ、蒸着材
料2のイオン化を調整し、制御してもよい。
【0016】
【発明の効果】以上のように本発明は、蒸着フィルムと
アース間に流れる電流を計測する電流計を設けることに
より、蒸発した粒子の中のイオンをフィルムに強力に衝
突させ、膜のフィルムに対する付着強度を向上し、さら
にイオンのフィルムに衝突する量を制御することにより
、付着強度を制御しながら、イオンエネルギーによるフ
ィルムの熱変形を防止することができる蒸着装置を提供
できる。
アース間に流れる電流を計測する電流計を設けることに
より、蒸発した粒子の中のイオンをフィルムに強力に衝
突させ、膜のフィルムに対する付着強度を向上し、さら
にイオンのフィルムに衝突する量を制御することにより
、付着強度を制御しながら、イオンエネルギーによるフ
ィルムの熱変形を防止することができる蒸着装置を提供
できる。
【図1】本発明の一実施例における蒸着装置の概略断面
図
図
【図2】同蒸着装置における電流計近傍と蒸着メカニズ
ムを示す構成図
ムを示す構成図
【図3】従来の蒸着装置の概略断面図
1 フィルム
2 蒸着材料
3 真空蒸着源
4 キャン
5 供給ローラー
6 巻取りローラー
7a,7b フリーローラー
8 真空チャンバー
9 真空ポンプ
10 直流電源(電圧印加手段)
11 電流計(電流計測手段)
Claims (1)
- 【請求項1】真空チャンバーと、その真空チャンバー内
を減圧雰囲気にするための真空ポンプと、真空チャンバ
ー内に蒸着材料を備えた少なくとも1個の真空蒸着源と
、その真空蒸着源に対向して設けられフィルムの蒸着面
を冷却し回転するキャンと、フィルムをキャンへ供給す
る供給ローラーと、蒸着されたフィルムを巻取る巻取り
ローラーと、フィルムの巻取りおよび走行を補助するフ
リーローラーと、蒸着後のフィルムに直流の電圧を印加
する電圧印加手段とを備えた蒸着装置において、前記蒸
着フィルムとアース間に流れる電流を計測する電流計測
手段を設けたことを特徴とする蒸着装置。
Priority Applications (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3017549A JP2833230B2 (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | 蒸着装置 |
US07/833,443 US5258074A (en) | 1991-02-08 | 1992-02-07 | Evaporation apparatus comprising film substrate voltage applying means and current measurement means |
KR1019920001809A KR940011004B1 (ko) | 1991-02-08 | 1992-02-08 | 증착장치 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP3017549A JP2833230B2 (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | 蒸着装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04259374A true JPH04259374A (ja) | 1992-09-14 |
JP2833230B2 JP2833230B2 (ja) | 1998-12-09 |
Family
ID=11946999
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3017549A Expired - Fee Related JP2833230B2 (ja) | 1991-02-08 | 1991-02-08 | 蒸着装置 |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5258074A (ja) |
JP (1) | JP2833230B2 (ja) |
KR (1) | KR940011004B1 (ja) |
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Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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1991
- 1991-02-08 JP JP3017549A patent/JP2833230B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1992
- 1992-02-07 US US07/833,443 patent/US5258074A/en not_active Expired - Lifetime
- 1992-02-08 KR KR1019920001809A patent/KR940011004B1/ko not_active IP Right Cessation
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Publication number | Publication date |
---|---|
JP2833230B2 (ja) | 1998-12-09 |
KR920016610A (ko) | 1992-09-25 |
KR940011004B1 (ko) | 1994-11-22 |
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