JPH02175871A - 蒸着装置 - Google Patents

蒸着装置

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JPH02175871A
JPH02175871A JP88332888A JP33288888A JPH02175871A JP H02175871 A JPH02175871 A JP H02175871A JP 88332888 A JP88332888 A JP 88332888A JP 33288888 A JP33288888 A JP 33288888A JP H02175871 A JPH02175871 A JP H02175871A
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JP
Japan
Prior art keywords
film
vapor deposition
roller
vacuum
thermal deformation
Prior art date
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Pending
Application number
JP88332888A
Other languages
English (en)
Inventor
Akira Okuda
晃 奥田
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP88332888A priority Critical patent/JPH02175871A/ja
Priority to KR1019890019521A priority patent/KR930006121B1/ko
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Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/24Vacuum evaporation
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 本発明は、蒸着装置に関するものである。
従来の技術 近年、蒸着装置は、磁気記録テープ、フィルムコンデン
サ等の、金属膜の蒸着に広く利用されている。
以下図面を参照しながら、従来のフィルム蒸着装置の一
例について説明する。第2図は従来のフィルム蒸着装置
を示すものである。第2図において、1は蒸着により暎
が堆積されるフィルム、2は蒸着材料、3は蒸着材料2
を溶融し、蒸発させる抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子
ビーム等の真空蒸発源、4は真空蒸着源3に対向して設
けられ、内部に冷却液が循環し、フィルム蒸着面を冷却
し回転するキャン、6はフィルム1をキャン4へ供給す
る供給ローラー、6は蒸着されたフィルム1を巻き取る
巻き取りローラー、7はフィルム1の巻き取り及び走行
を補助するフリーローラー、8は真空チャンバー、9は
真空チャンバー8内を真空排気するための真空排気ポン
プである。
以上のように構成された蒸着装置について、以下その動
作について説明する。
まず、真空チャンバー8内をロータリーポンプ、油拡散
ポンプ、クライオポンプ等の真空排気ポンブ9により1
0−5Toor台の真空度まで真空排気する。次に、供
給ローラー6、キャン4、巻き取りローフ−6を回転す
る。フィルム1は、供給ローラー6、フリーローラー7
、キャン4、フリーローラー7と走行し、巻き取りロー
ラー6に巻き取られる。次に、抵抗加熱、高周波誘導加
熱、電子ビーム等の真空蒸着源3により、蒸着材料2が
溶融され蒸発する。蒸発した粒子が飛散し、対向するキ
ャン4上を走行しているフィルム1表面上に堆積し喚が
形成される。このときフィルム1は、冷却液が内部で循
環しているキャン4により冷却される。そして蒸着され
たフィルム1は、フリーローラー7を走行し、最後に巻
き取りローラー6に巻き取られる。
発明が解決しようとする課題 しかしながら上記のような構成では、フィルム1は静電
気により、キャン4に付着しているだけで、完全に密着
していないため、フィルム1上で、充分キャン4によシ
冷却される部分と、冷却されない部分が生じる。このた
め、蒸着による、蒸着粒子の凝縮熱及び、蒸着源からの
輻射熱にょシ、フィルム1のキャン4に付着しないで冷
却されていない部分が、伸び、収縮、溶融等の熱変形を
発生する。さらに巻き取りローラー6にフィルム1を巻
き取る際、シワとなり、量産装置の場合、全てが不良と
なる。また、FEP等、テフロン系のフィルムは、PE
7等フィルムと比校して、耐熱温度が低く、従来の構成
では、フィルム冷却温度をいくら低下しても、熱変形を
防止することができないという課題を有していた。
本究明は上記課題に濫み、フィルムのキャンへの密着力
を向上し、フィルム全体をムラなく冷却することにより
、蒸着によるフィルムの熱変形を置は、アースと絶縁さ
れた巻き取りローラと、フリーローラーをもち、蒸着後
のフィルムに直流の電圧を印加する直流電源を備えたも
のである。
作用 本発明は上記した構成によって、蒸着後のフィA/ムに
直流の電圧が印加されるため、フィルム表面の金属蒸着
膜が、正または負に帯電し、アース電位であるキャンと
フィルムの間で電位差が発生する。そのため、キャン表
面へ、フィルムが完全に密着する。これは、従来の静電
気による付着力と比べ、大幅に付着力が向上し、蒸着さ
れるフィルム表面全体がムラなく、キャンにより冷却さ
れることになる。その結果、フィルムの伸び、収縮、溶
融等の熱変形を防止することができ、巻き取りローラー
にシワなく巻き取られることとなる。
実施例 以下本発明の一実施例の蒸着装置について、図面を参照
しながら説明する。
第1図は本発明の一実施例における蒸着装置の概略断面
図を示す。第1図において1o1は蒸着により膜が堆積
されるフィルム、102は蒸着材料、103は蒸着材料
102を溶融し、蒸発させる抵抗加熱、高周波誘導加熱
、電子ビーム等の真空蒸着源、104は真空蒸発源10
3に対向して設けられ、内部に冷却液が循環し、フィル
ム蒸着面を冷却し回転するキャン、106はフィルム1
01をキャン104へ供給する供給ローフ−106は蒸
着されたフィルム1o1を巻き取り、さらにフィルム1
01と接触するローラー表面がテフロン等絶縁材料のテ
ープ及びコーティングで覆われ、アースと絶縁された巻
き取りローラー107aはフィルム101の巻き取り及
び走行を補助し、フィルム101と接触するローラー表
面がテフロン等絶縁材料のテープ及びコーティングで覆
われ、アースと絶縁されたフリーローラー107bはフ
ィルム101の巻き取り及び走行を補助し、アースと絶
縁され、さらにフィルム101の蒸着面と導通があるフ
リーローツー、1o8は真空チャンバー、109は真空
チャンバー108内を真空排気するための真空排気ポン
プ、110は、フリーローラー107bを通じて、蒸着
後のフィIレム1o1に、直流の電圧を印加する直流電
源である。
以上のように構成された蒸着装置について、以下第1図
を用いてその動作を説明する。
まず、真空チャンバー108内をロータリーポンプ、油
拡散ポンプ、クライオポンプ等の真空排気ポンプ109
により5 X 10−5Tooτ程度の真空度まで真空
排気する。次に供給ローラー106、キャン104、巻
き取りローラー106を回転する。フィルム1o1は、
供給ローフ−1o6、フリーローラー107a、キャン
104、フリーローラー1o7b、フリーローラー10
7aと走行し、巻き取りローラー106に巻き取られる
。次に抵抗加熱、高周波誘導加熱、電子ビーム等の真空
蒸着源103により、蒸着材料102が溶−され蒸発す
る。蒸発した粒子が飛散し、対向するキャン104上を
走行しているフィルム101表1m上に堆積し膜が形成
される。このとき、フリーローラー107bを通じて、
蒸着後のフィルム101に、直流電源110よシ、0〜
負5oov程度の電圧を印加し、フィルム1o1と、キ
ャ:/104との間に電位差を生じさせる。そして、冷
却液が内部で循環しているキャン104にフィルム1o
1が密着し、冷却され、フリーローラー107b110
7aと走行し、最後に、巻き取りローラー106に巻き
取られる。
以上のように本実施例によれば、フィルム1o1に蒸着
された金属膜に、フリーローラー107bを通じて、直
流電源11oにより、負の電圧を印加することにより、
アース電位のキャン104と、フィルム101との間に
電位差を生じさせ、キャン104へ、フィルム101を
強力に密着させることができる。よって、蒸着時のフィ
ルム101表面全体がムラなくキャン104により冷却
され、蒸着粒子の凝縮熱及び、蒸着源からの輻射熱によ
るフィルム1o1の伸び、収縮、溶融等の熱変形を防止
することができ、巻き取りローツー106にシワなく巻
き取ることができる。
また、本実施例により、FEP等、テフロン系のブイl
レムで、耐熱温度が200°Cと非常に低いものでも、
熱変形を防止することができた。
なお、本実施例において、蒸着後のフィルム1o1に、
直流電源110により、負の電圧を印加するとしたが、
正の電圧を印加してもよい。
発明の効果 以上のように本発明は、アースと絶縁された巻き取りロ
ーラーと、フリーローフ−をもち、蒸着後のフィルムに
直流の電圧を印加する直流電源を設けることにより、蒸
着粒子の凝縮熱及び、蒸着源からの輻射熱によるフィル
ムの伸び、収縮、溶融等の熱変形を防止することができ
、巻き取りローラーにシワなく巻き取ることができる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の実施例における蒸着装置の概略断面図
、第2図は従来の蒸着装置の概略断面図である。 1o1・・・・・・フィルム、102・・・・・・蒸着
材料、103・・・・・・蒸着源、104・・・・・・
キャン、106・・・・・・供給ローラー、106・・
・・・・巻キ取すローラー107b・・・・・・フリー
ローラー、110・・・・・・I[流[源。 代理人の氏名 弁理士 粟 野 重 孝 ほか1名派 (O )コ

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 真空状態の維持が可能な真空チャンバーと、真空チャン
    バー内を減圧雰囲気にするための真空ポンプと、蒸着材
    料を備えた少なくとも1個の真空蒸着源に対向して設け
    られ、フィルム蒸着面を冷却し、回転するキャンと、フ
    ィルムをキャンへ供給する供給ローラーと蒸着されたフ
    ィルムを巻き取る巻き取りローラーと、フィルムの巻き
    取り及び走行を補助するフリーローラーとをもつフィル
    ム蒸着装置において、蒸着後のフィルムに直流の電圧を
    印加する電圧印加手段を備えたことを特徴とする蒸着装
    置。
JP88332888A 1988-12-27 1988-12-27 蒸着装置 Pending JPH02175871A (ja)

Priority Applications (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP88332888A JPH02175871A (ja) 1988-12-27 1988-12-27 蒸着装置
KR1019890019521A KR930006121B1 (ko) 1988-12-27 1989-12-26 증착장치

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JP88332888A JPH02175871A (ja) 1988-12-27 1988-12-27 蒸着装置

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JPH02175871A true JPH02175871A (ja) 1990-07-09

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ID=18259922

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JP88332888A Pending JPH02175871A (ja) 1988-12-27 1988-12-27 蒸着装置

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JP (1) JPH02175871A (ja)
KR (1) KR930006121B1 (ja)

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Also Published As

Publication number Publication date
KR930006121B1 (ko) 1993-07-07
KR900010047A (ko) 1990-07-06

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