JPH04201389A - ファインパターンメタルマスク - Google Patents

ファインパターンメタルマスク

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JPH04201389A
JPH04201389A JP2330347A JP33034790A JPH04201389A JP H04201389 A JPH04201389 A JP H04201389A JP 2330347 A JP2330347 A JP 2330347A JP 33034790 A JP33034790 A JP 33034790A JP H04201389 A JPH04201389 A JP H04201389A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
area
metal mask
solder paste
openings
pad
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2330347A
Other languages
English (en)
Inventor
Atsushi Ishikawa
敦 石川
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
TOTSUPUROSESU KK
Daisho Denshi Co Ltd
Original Assignee
TOTSUPUROSESU KK
Daisho Denshi Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by TOTSUPUROSESU KK, Daisho Denshi Co Ltd filed Critical TOTSUPUROSESU KK
Priority to JP2330347A priority Critical patent/JPH04201389A/ja
Publication of JPH04201389A publication Critical patent/JPH04201389A/ja
Pending legal-status Critical Current

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Classifications

    • HELECTRICITY
    • H05ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H05KPRINTED CIRCUITS; CASINGS OR CONSTRUCTIONAL DETAILS OF ELECTRIC APPARATUS; MANUFACTURE OF ASSEMBLAGES OF ELECTRICAL COMPONENTS
    • H05K3/00Apparatus or processes for manufacturing printed circuits
    • H05K3/10Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern
    • H05K3/12Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns
    • H05K3/1216Apparatus or processes for manufacturing printed circuits in which conductive material is applied to the insulating support in such a manner as to form the desired conductive pattern using thick film techniques, e.g. printing techniques to apply the conductive material or similar techniques for applying conductive paste or ink patterns by screen printing or stencil printing

Landscapes

  • Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
  • Electric Connection Of Electric Components To Printed Circuits (AREA)
  • Manufacturing Of Printed Wiring (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 産業上の利用分野 この発明はIC(集積回路)やその他の電子部品を回路
基板上に取り付ける実装工程で用いるファインパターン
メタルマスクに(以下、単にメタルマスクという)に関
する。
従来の技術 電子部品の実装工程では電子部品のリード等を回路基板
に形成されているパット上に半田付けする。そして、メ
タルマスクスクリーン印刷法では、半田付けに当たり、
まず、第10図のように完成された回路基板1上にファ
インパターンメタルマスク2をセットし、その上から半
田ペースト3をスキージングする。メタルマスク2には
回路基板1上のパット4位置およびその形状に対して開
孔5が形成されているから、スキージング後メタルマス
ク2を上方へ引き上げるとパット4上面にのみメタルマ
スク2の厚さに相当する厚みの半田ペースト3が残り、
基板1全面のパット4上に半田ペースト3がプリントさ
れる(第11図)。ついで、電子部品のリードを半田ペ
ースト3の上からパット4上にセットし、リフロー等で
加熱して半田ペースト3を熔融し、半田付けを完了する
この場合に、メタルマスク2を均一な厚さのステンレス
板など、金属薄板へ単に開孔を設けただけのものにする
と、パット4上にプリントされる半田ペースト3の厚み
はどのパット4に対しても同じになり、−枚のメタルマ
スク2のプリンタ領域内に位置する種々の電子部品のリ
ードに対して必要な量を調整できず、ある部品のリード
とパット4の半田付けに関しては半田ペースト3の量が
過剰で熔融時に周囲に流れだし隣接するパット4をブリ
ッジしてしまったり、あるいは他の部品のリードに対し
ては半田ペーストが過少なためリードとパット4を充分
に接続することができず、少しの振動で接続が破壊され
たり、伝達信号にノイズ等が混入するなどの事故を起こ
すことがある。
また、回路基板1上の銅メツキ法などで形成されたパッ
ト4の周囲にはレジスト層6が高く形成されており、こ
の上にメタルマスク2をセットしても、第8図のように
半田ペースト3がプリントされるべきパット4の表面と
の間には大きな空間7があって、スキージングさらた半
田ペースト3が第9図のように、パット4の上面へ正確
にプリントされないことがある。
上記のうち、パット4の上面にプリントされる半田ペー
スト3の量についてはメタルマスク2における開孔5の
周辺をスキージ面Sにおいて設定された範囲に、かつ、
設定された深さの凹面部に形成することで解決されてい
る。しかし、第9図の様に半田ペースト3がパット4の
上面へ正確にプリントされない点については未だ解決さ
れていない。
発明が解決しようとする課題 この発明は、回路基板上のパットにそれぞれに適正な量
の半田ペーストを常に正確にプリントすることができる
メタルマスクの提供を課題とする。
課題を解決するための手段 基材となるステンレスなどの金属薄板に、回路基板上の
パット位置およびその形状に対応した開孔を設ける。
スキージ面において選定された開孔の周辺を設定された
範囲に設定された深さの凹面部に形成する。
プリント面において上記開孔の周辺を設定された範囲に
設定された厚さの凸面部に形成する。
作用 開孔LL半田ペーストがプリントされるべき位置を定め
る。
スキージ面の凹面部はパットにプリントされる半田ペー
ストの量を適正なものとする。
プリント面の凸面部はメタルマスクの開孔をパットの上
面に接近させる。
実施例 第1図はメタルマスク2を示し、ステンレスの薄板(厚
さ200μ)に多数の開孔5が形成されている。これら
の開孔5は回路基板1上におけるパット4にそれぞれ対
応してエツチング法で形成されたものであり、大きさや
形状および配列のパターンは回路基板1に実装される電
子部品に応じて定まっている。この実例では、三種類の
ICに関するクォーターフラットパッケージ型(QFP
)のA、  B、  C三種類のパット形態に対応する
ものが示され、A域のパット4に取り付けられるICの
リードは固定に際して、比較的多量の半田を必要とし、
B域のICはこの中では最も少ない半田で固定される。
なお、第1図はスキージ面Sを示し、第2図はプリント
面p(基板側面)を示している。また、図示の開孔5は
分かり易くするために実際よりもかなり大きく表示して
いる。実際にはここに装着するICのピン数は図示した
開孔5の数の数倍であり、各パット4の大きさはもっと
小さく各パット4の間隔も小さい。
符号8はスキージ面Sに形成された凹面部で、設計上設
定された範囲にハーフエツチングにより形成されている
。この実施例ではB域、C域のパターンにおける開孔5
の周辺が選定され、第1図(ロ)のようにB域では50
μの深さで、また、第3図のようにC域では20μの深
さでそれぞれ平らな凹面部に形成されている。なお、A
域は第4図のように凹面部8が形成されていない。
一方、メタルマスク2のプリント面pはすべての開孔5
の設計上で設定された範囲の周辺を除いて他の部分がハ
ーフエツチングにより一段低く形成され、結果的にすべ
ての開孔5の上記した周辺が80μの厚さで平らな凸面
部9に形成されている。
したがって、開孔5の深さdは、A域200μ。
B域で150μ、C域で180μである。
凹面部8の深さおよび凸面部9の厚さは上記した開孔5
の深さを決定し、後述のようにパット4の上面にプリン
トされる半田ペースト3の量を決定するので所定寸法が
あらかじめ設定され、さらに、凸面部9の範囲(平面形
状)は回路基板1上でレジスト層6がパット4を避けて
形成している空域部より小さく設定される。
このように形成されたメタルマスク2をアルミ。
鋳物製等の枠に張った弾性被膜の裏面に張りつけてメタ
ルマスクスクリーンを構成し、これを完成された回路基
板1にセットし、メタルマスク2をそのプリント面pを
下面として回路基板1にセットする。このセット状態を
詳しくみるとメタルマスク2の開孔5を含むプリント面
pは凸面部9に形成されているので、両側のレジスト層
6の上面がパット4の上面より高いにもかかわらず、第
5゜6図のように開孔5の下面はパット4の上面にきわ
めて近接した状態となる。
そして、この状態でスキージ面Sに載せた半田ペースト
3を第6図矢印のようにスキージングすると半田ペース
ト3は開孔5に埋まった後、直接パット4の上面に到着
する。そして、第7図のようにメタルマスク2を上方へ
引き上げると各パット4の上面に半田ペースト3がプリ
ントされており、印刷作業が終了する。
このようにして半田ペーストがプリントされた回路基板
1にICなどの電子部品を実装しりフロー等で加熱する
と、半田ペースト3が熔融し、電子部品が保持される。
この場合、各パット4における半田ペースト3の厚みは
、開孔5の深さdに応じ、A域に対応したパット4では
厚く、B域では薄いからA域に取り付けられる電子部品
のリード(半田ペーストを比較的多量に必要とする)も
、B域に取り付けられる電子部品のリード(半田ペース
トは比較的少量ですむ)もそれぞれが過不足のない適正
な量の半田で確実に保持される。
以上はひとつの実施例である。
メタルマスク2を形成する金属薄板等の素材。
厚さなどは限定されない。ただし、半田ペーストに対し
耐腐食性があり、加工が容易であると共にスキージング
時に柔軟な可撓性を発揮するものであることが好ましい
メタルマスク2の大きさ、形状およびこれに形成する開
孔5の配置、凹面部8の深さ、凸面部9の厚みなどは設
計事項であり、変動する。
発明の効果 回路基板のパットに対し半田ペーストのプリントが確実
に行われる。
回路基板に対しどの電子部品も適量の半田で確実に保持
される。
この結果、実装時に余剰の半田が流れ出して回路をブリ
ッジしたり、逆に半田が不足して電子部品が不安定にな
るなどのことがない。
【図面の簡単な説明】
第1図(イ)は表面(スキージ面)から見た平面図、同
図(ロ)は上記(イ)図のa−a線に沿った断面図、第
2図は裏面(プリント面)から見た平面図、第3図は上
記(イ)図におけるb−b線に沿った断面図、第4図は
上記(イ)図におけるc−c線に沿った断面図、第5図
は第6図の円内を拡大して示す断面図、第6図は印刷時
の使用状態を示す断面図、第7図はプリント完了状態を
示す断面図、第8図は従来例の印刷時使用状態を示す断
面図、第9図は従来例のプリント完了状態を示す断面図
、第10図は従来基板例の印刷時使用状態を示す断面図
、第11図は従来基板例のプリント完了状態を示す断面
図である。 1・・・回路基板、2・・・メタルマスク、3・・・半
田ペースト、4・・・パット、5・・・開孔、6・・・
レジスト層、7・・・空間、8・・・凹面部、9・・・
凸面部。 特許出願人  株式会社トップ口セス 手続補正書(方式) 平成3年4月 1日

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 回路基板上のパット位置およびその形状に対応する開孔
    を有し、その開孔のうち選定された開孔の周辺がスキー
    ジ面において設定された範囲に、設定された深さの凹面
    部に形成され、たま、プリント面(基板側面)において
    開孔の周辺が設定された範囲に、設定された厚さの凸面
    部に形成されていることを特徴としたファインパターン
    メタルマスク。
JP2330347A 1990-11-30 1990-11-30 ファインパターンメタルマスク Pending JPH04201389A (ja)

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JP2330347A JPH04201389A (ja) 1990-11-30 1990-11-30 ファインパターンメタルマスク

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Cited By (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6310780B1 (en) 1997-11-05 2001-10-30 Nec Corporation Surface mount assembly for electronic components
JP2010143227A (ja) * 2010-02-05 2010-07-01 Bonmaaku:Kk スクリーン印刷版
JP2011091182A (ja) * 2009-10-22 2011-05-06 Panasonic Corp 半田印刷機及び半田印刷方法
JP2014024314A (ja) * 2012-07-30 2014-02-06 Samsung Electro-Mechanics Co Ltd 印刷用マスク
DE102013114044A1 (de) * 2013-12-13 2015-06-18 Endress + Hauser Gmbh + Co. Kg Druckschablone zum Bedrucken von Leiterplatten

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