JPH04188811A - 複合セラミックコンデンサ及びその製造方法 - Google Patents
複合セラミックコンデンサ及びその製造方法Info
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- JPH04188811A JPH04188811A JP2319334A JP31933490A JPH04188811A JP H04188811 A JPH04188811 A JP H04188811A JP 2319334 A JP2319334 A JP 2319334A JP 31933490 A JP31933490 A JP 31933490A JP H04188811 A JPH04188811 A JP H04188811A
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Landscapes
- Ceramic Capacitors (AREA)
- Fixed Capacitors And Capacitor Manufacturing Machines (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明はベアチップの接合体の端部に導電性樹脂層とめ
っき層からなる端子電極を設けた複合セラミックコンデ
ンサ及びその製造方法に関するものである。
っき層からなる端子電極を設けた複合セラミックコンデ
ンサ及びその製造方法に関するものである。
[従来の技術]
積層セラミックコンデンサは、内部電極として電極材料
を印刷したセラミック誘電体を積層した後、これを焼成
してベアチップを形成し、このベアチップの外面に内部
電極に導通する外部電極を形成して作製される。
を印刷したセラミック誘電体を積層した後、これを焼成
してベアチップを形成し、このベアチップの外面に内部
電極に導通する外部電極を形成して作製される。
この積層セラミックコンデンサを高容量化するための手
段として、構成するセラミック誘電体を大型にしかつ多
層化する方法、或いは構成するセラミック誘電体を高誘
電率化する方法が試みられている。しかし、前者の方法
は多層化が技術的に困難で歩留りの低下が大きく、後者
の方法は量産に適した高誘電率のセラミック誘電体が開
発されていないため、ともに工業上現実的でない。
段として、構成するセラミック誘電体を大型にしかつ多
層化する方法、或いは構成するセラミック誘電体を高誘
電率化する方法が試みられている。しかし、前者の方法
は多層化が技術的に困難で歩留りの低下が大きく、後者
の方法は量産に適した高誘電率のセラミック誘電体が開
発されていないため、ともに工業上現実的でない。
このため、従来より複数個の積層セラミックコンデンサ
をチップコンデンサの形態で接着剤を介して重合した複
合セラミックコンデンサが高容量化したコンデンサとし
て量産されている。
をチップコンデンサの形態で接着剤を介して重合した複
合セラミックコンデンサが高容量化したコンデンサとし
て量産されている。
この複合セラミックコンデンサは、ベアチップの端部に
外部電極を形成した積層セラミックチップコンデンサを
複数個それぞれ外部電極を揃えて接着剤により重合した
後、第6図に示すように、重合して得られた接合体1の
端部に金属板2をはんだ又は熱硬化型導電性樹脂の導電
性接合剤3により接着して接合体端部に現れる複数の外
部電極4同士を導通するようにしている。
外部電極を形成した積層セラミックチップコンデンサを
複数個それぞれ外部電極を揃えて接着剤により重合した
後、第6図に示すように、重合して得られた接合体1の
端部に金属板2をはんだ又は熱硬化型導電性樹脂の導電
性接合剤3により接着して接合体端部に現れる複数の外
部電極4同士を導通するようにしている。
、[発明が解決しようとする課題]
しかし、上記金属板を基板上に共晶はんたにより230
℃の温度ではんだ付けして複合セラミ・ンクコンデンサ
を基板に実装するときに、導電性接合剤としてはんだを
用いた場合には、金属板のはんだ付けは共晶はんだより
高い、例えば290 ’C以上の高温で行われる。
℃の温度ではんだ付けして複合セラミ・ンクコンデンサ
を基板に実装するときに、導電性接合剤としてはんだを
用いた場合には、金属板のはんだ付けは共晶はんだより
高い、例えば290 ’C以上の高温で行われる。
このため、従来の複合セラミックコンデンサは金属板の
高温のはんだ付は時に接合体に対して熱衝撃が大きいた
め、外部電極内側のベアチップにクラックが生じ易く、
コンデンサの絶縁抵抗か劣化し易い。また高温ではんだ
付けするため、電極のはんだ食われを生じ易い。これを
回避するために、ベアチップの外部電極である焼付は電
極層にPd、Pt等の高価な貴金属材料を用いるか、或
いは焼付は電極層の表面に耐熱性のあるNiめっき層を
形成する必要があり、結果としてコンデンサの製造コス
トを押上げる問題点があった。
高温のはんだ付は時に接合体に対して熱衝撃が大きいた
め、外部電極内側のベアチップにクラックが生じ易く、
コンデンサの絶縁抵抗か劣化し易い。また高温ではんだ
付けするため、電極のはんだ食われを生じ易い。これを
回避するために、ベアチップの外部電極である焼付は電
極層にPd、Pt等の高価な貴金属材料を用いるか、或
いは焼付は電極層の表面に耐熱性のあるNiめっき層を
形成する必要があり、結果としてコンデンサの製造コス
トを押上げる問題点があった。
また導電性接合剤として熱硬化型導電性樹脂を用いた場
合には、接合体の端部に金属板を接着する際に導電性樹
脂が金属板の外側に容易にはみ出るため、第一に接合体
の端部を汚して複合セラミックコンデンサの見栄えを悪
くし、第二に金属板を基板にはんだ付けするときに導電
性樹脂にはんだが乗らず、はんだ乗り不良を起こす問題
点があった。
合には、接合体の端部に金属板を接着する際に導電性樹
脂が金属板の外側に容易にはみ出るため、第一に接合体
の端部を汚して複合セラミックコンデンサの見栄えを悪
くし、第二に金属板を基板にはんだ付けするときに導電
性樹脂にはんだが乗らず、はんだ乗り不良を起こす問題
点があった。
更にいずれの導電性接合剤を用いた場合にも、接合体端
部において金属板の煩雑な接着作業を行わなければなら
ない不具合もあった。
部において金属板の煩雑な接着作業を行わなければなら
ない不具合もあった。
本発明の目的は、高容量で高耐電圧の性能を有し、コン
デンサとして要求される各種特性に優れた複合セラミッ
クコンデンサを提供することにある。
デンサとして要求される各種特性に優れた複合セラミッ
クコンデンサを提供することにある。
また本発明の別の目的は、安価にかつ容易にしかも見栄
えよく製造し得る複合セラミックコンデンサの製造方法
を提供することにある。
えよく製造し得る複合セラミックコンデンサの製造方法
を提供することにある。
[課題を解決するための手段]
本発明者らは、金属板を用いることなく上記熱硬化型導
電性樹脂を端子電極の主体とすることにより、本発明に
到達した。
電性樹脂を端子電極の主体とすることにより、本発明に
到達した。
第1図に示すように、本発明の複合セラミックコンデン
サ10は、内部電極15a(第1図拡大図)を有するベ
アチップ11,12,13,14゜15を複数個接合し
て形成された接合体17の端部に、全ての内部電極15
a(他の4つの内部電極は図示せず、以下同じ。)を電
気的に並列接続する導電性樹脂層18と、この樹脂層を
被覆するめっき層19a、19bとが端子電極20とし
て設けられたものである。
サ10は、内部電極15a(第1図拡大図)を有するベ
アチップ11,12,13,14゜15を複数個接合し
て形成された接合体17の端部に、全ての内部電極15
a(他の4つの内部電極は図示せず、以下同じ。)を電
気的に並列接続する導電性樹脂層18と、この樹脂層を
被覆するめっき層19a、19bとが端子電極20とし
て設けられたものである。
以下、本発明を詳述する。
本発明の複合セラミックコンデンサ10を構成するベア
チップ11〜15は、内部電極15aを有するセラミッ
ク誘電体11b〜15bが複数個積層焼成されて形成さ
れる。本明細書で、ベアチップとは公知の積層セラミッ
クチップコンデンサの外部電極が付いていない構造のも
のをいう。セラミック誘電体には、鉛系、チタン酸バリ
ウム系の誘電体が用いられ、内部電極にはPd、Pt。
チップ11〜15は、内部電極15aを有するセラミッ
ク誘電体11b〜15bが複数個積層焼成されて形成さ
れる。本明細書で、ベアチップとは公知の積層セラミッ
クチップコンデンサの外部電極が付いていない構造のも
のをいう。セラミック誘電体には、鉛系、チタン酸バリ
ウム系の誘電体が用いられ、内部電極にはPd、Pt。
A g/P d等の貴金属、或いはNi、Fe、C。
等の卑金属が用いられる。
本発明の複合セラミックコンデンサ10は、上記ベアチ
ップ11〜15を複数個それぞれチップ端部を揃えて接
着剤16を介して重合して形成される。ベアチップの重
合数は、第1図及び第2図〜第4図では5個の例を示す
が、本発明はこれに限らない。この重合数は2個以上で
あって、要求される静電容量、ベアチップの厚み等に応
じて決められる。接着剤16としてはエポキシ系、シリ
コーン系の樹脂接着剤が使用される。重合して得られた
接合体17の端部には全ての内部電極15aを電気的に
並列接続する導電性樹脂層18が設けられ、この樹脂層
18の表面にめっき層19a。
ップ11〜15を複数個それぞれチップ端部を揃えて接
着剤16を介して重合して形成される。ベアチップの重
合数は、第1図及び第2図〜第4図では5個の例を示す
が、本発明はこれに限らない。この重合数は2個以上で
あって、要求される静電容量、ベアチップの厚み等に応
じて決められる。接着剤16としてはエポキシ系、シリ
コーン系の樹脂接着剤が使用される。重合して得られた
接合体17の端部には全ての内部電極15aを電気的に
並列接続する導電性樹脂層18が設けられ、この樹脂層
18の表面にめっき層19a。
19bが設けられる。導電性樹脂層18及びめっき層1
9a、19bにより端子電極20が形成される。
9a、19bにより端子電極20が形成される。
導電性樹脂層18は熱硬化型導電性合成樹脂からなり、
60〜70μmの厚みを有する。この熱硬化型導電性樹
脂としては導電性があれば特に制限はないが、100〜
250℃の比較的低温で硬化し、しかも230℃程度の
通常のはんだ付は処理では劣化しない材質のものが好ま
しい。例示すれば、フェノール系、キシレン系、ウレタ
ン系樹脂等が挙げられる。
60〜70μmの厚みを有する。この熱硬化型導電性樹
脂としては導電性があれば特に制限はないが、100〜
250℃の比較的低温で硬化し、しかも230℃程度の
通常のはんだ付は処理では劣化しない材質のものが好ま
しい。例示すれば、フェノール系、キシレン系、ウレタ
ン系樹脂等が挙げられる。
まためっき層はNi、Sn又はS n / P bの少
なくとも1種のめっき層により構成される。導電性樹脂
層18の上に厚みが1〜2μmのNiめっき層19aを
形成した後、このNiめっき層19aの上に厚みが4〜
5μmのSn又はS n / P bめっき層19bを
形成することが好ましい。Ni層を内層にしてSn又は
S n / P b層を外層にし、各めっき層の厚みを
上記範囲にするのは、導電性樹脂層を耐熱性のあるNi
でより確実に保護し、かつSn又はS n / P b
層で端子電極のはんだ濡れ性を高め、Niの酸化を防止
するためである。
なくとも1種のめっき層により構成される。導電性樹脂
層18の上に厚みが1〜2μmのNiめっき層19aを
形成した後、このNiめっき層19aの上に厚みが4〜
5μmのSn又はS n / P bめっき層19bを
形成することが好ましい。Ni層を内層にしてSn又は
S n / P b層を外層にし、各めっき層の厚みを
上記範囲にするのは、導電性樹脂層を耐熱性のあるNi
でより確実に保護し、かつSn又はS n / P b
層で端子電極のはんだ濡れ性を高め、Niの酸化を防止
するためである。
これらのめっき層19a、19bは、無電解及び電解め
っき等をバレルめっきで行うことにより形成される。め
っき浴はNi、Sn又はSn/Pbともそれぞれ公知の
ものを使用する。
っき等をバレルめっきで行うことにより形成される。め
っき浴はNi、Sn又はSn/Pbともそれぞれ公知の
ものを使用する。
本発明の複合セラミックコンデンサを製造するには、先
ず複数個のベアチップを作製する。このベアチップは、
内部電極として電極材料を印刷したセラミック誘電体を
積層した後、これを焼成して形成される。
ず複数個のベアチップを作製する。このベアチップは、
内部電極として電極材料を印刷したセラミック誘電体を
積層した後、これを焼成して形成される。
次いで第2図及び第3図に示すように、本発明の複合セ
ラミックコンデンサ10は、複数個のベアチップ11,
12,13,14.15かそれぞれチップ端部を揃えて
接着剤16を介して重合され、所定の圧力でチップコン
デンサ11〜15を圧着して接合体17に形成される。
ラミックコンデンサ10は、複数個のベアチップ11,
12,13,14.15かそれぞれチップ端部を揃えて
接着剤16を介して重合され、所定の圧力でチップコン
デンサ11〜15を圧着して接合体17に形成される。
次に第4図及び第5図に示すように、接合体17の端部
には複数個のベアチップ11〜15の各端部を被包する
ようにペースト状の熱硬化型導電性合成樹脂が塗布され
る。塗布後、合成樹脂の硬化温度で30分間程度加熱し
て導電性樹脂層18を接合体17の端部に固着形成する
。
には複数個のベアチップ11〜15の各端部を被包する
ようにペースト状の熱硬化型導電性合成樹脂が塗布され
る。塗布後、合成樹脂の硬化温度で30分間程度加熱し
て導電性樹脂層18を接合体17の端部に固着形成する
。
更にこの導電性樹脂層18の表面にNiめっき層19a
に形成し、Niめっき層19aの表面にSn又はS n
/ P bめっき層19bを形成すると、第1図に示
す複合セラミックコンデンサ1oが得られる。なお、導
電性樹脂層18の表面にSn又はS n / P bめ
っき層19bだけ形成してもよい。
に形成し、Niめっき層19aの表面にSn又はS n
/ P bめっき層19bを形成すると、第1図に示
す複合セラミックコンデンサ1oが得られる。なお、導
電性樹脂層18の表面にSn又はS n / P bめ
っき層19bだけ形成してもよい。
[作 用]
本発明の複合セラミックコンデンサでは、従来の金属板
の機能を導電性樹脂層が果し、この樹脂層はめっき層に
より耐熱性、はんだ濡れ性が高まる。
の機能を導電性樹脂層が果し、この樹脂層はめっき層に
より耐熱性、はんだ濡れ性が高まる。
[発明の効果]
以上述べたように、従来金属板を接合体の端部に高温は
んだではんだ付けしていたため、積層セラミックチップ
コンデンサの外部電極に熱的損傷が生じていたものを、
本発明によれば、上記金属板に代わりに導電性樹脂層を
接合体の端部に固着形成したので、従来の複合セラミッ
クコンデンサと同等又はそれ以上の高容量で高耐電圧の
コンデンサ特性を具備し得るとともに、はんだ付けに起
因した積層チップコンデンサの外部電極の欠陥を防止す
ることができ、信頼性の高い複合セラミックコンデンサ
が得られる。
んだではんだ付けしていたため、積層セラミックチップ
コンデンサの外部電極に熱的損傷が生じていたものを、
本発明によれば、上記金属板に代わりに導電性樹脂層を
接合体の端部に固着形成したので、従来の複合セラミッ
クコンデンサと同等又はそれ以上の高容量で高耐電圧の
コンデンサ特性を具備し得るとともに、はんだ付けに起
因した積層チップコンデンサの外部電極の欠陥を防止す
ることができ、信頼性の高い複合セラミックコンデンサ
が得られる。
また導電性樹脂層をめっき層で被覆することにより、樹
脂層の耐熱性、はんだ濡れ性を向上させることができる
。
脂層の耐熱性、はんだ濡れ性を向上させることができる
。
また金属板を用いないため、複合セラミックコンデンサ
の端子電極の構成が単純化し、煩雑な金属板の接合作業
が不要となり、コンデンサのコストダウンを実現できる
。
の端子電極の構成が単純化し、煩雑な金属板の接合作業
が不要となり、コンデンサのコストダウンを実現できる
。
更に熱硬化型導電性合成樹脂の接合体端部におけるはみ
出し汚れがなくなり、外観が良好で見栄えのよい複合セ
ラミックコンデンサが得られる。
出し汚れがなくなり、外観が良好で見栄えのよい複合セ
ラミックコンデンサが得られる。
[実施例]
次に本発明の実施例を比較例とともに詳しく説明する。
〈実施例1〉
定格電圧25Vで静電容量4.7μFの特性を有する長
さ5.7mmX幅5.0mmX高さ11mmのベアチッ
プ(EIAコード2220タイプ、三菱鉱業セメント銅
製)を5個用意した。上記ベアチップは、鉛ペロブスカ
イト系のセラミック誘電体にPdの内部電極を有する。
さ5.7mmX幅5.0mmX高さ11mmのベアチッ
プ(EIAコード2220タイプ、三菱鉱業セメント銅
製)を5個用意した。上記ベアチップは、鉛ペロブスカ
イト系のセラミック誘電体にPdの内部電極を有する。
5個のベアチップを各チップ端部を揃えてエポキシ系樹
脂接着剤(ウルトラダイン15111 W−5、四国化
成工業■製)を介して重合した後、120℃の温度で自
重により接着して長さ5.7mmX幅5.0mmX高さ
5.0mmの接合体に形成した。
脂接着剤(ウルトラダイン15111 W−5、四国化
成工業■製)を介して重合した後、120℃の温度で自
重により接着して長さ5.7mmX幅5.0mmX高さ
5.0mmの接合体に形成した。
得られた接合体の端部に端子電極として、厚み60μm
の導電性樹脂層及び厚み6μmのめつき層を形成した。
の導電性樹脂層及び厚み6μmのめつき層を形成した。
導電性樹脂層は接合体の端部を被包するように100〜
150℃の温度で硬化するフェニール系の熱硬化型導電
性樹脂(熱硬化型導電ペーストH9119、北陸塗料社
製)を均一な厚みで塗布した後、150℃で30分間加
熱して導電性樹脂を硬化させて形成した。
150℃の温度で硬化するフェニール系の熱硬化型導電
性樹脂(熱硬化型導電ペーストH9119、北陸塗料社
製)を均一な厚みで塗布した後、150℃で30分間加
熱して導電性樹脂を硬化させて形成した。
めっき層は導電性樹脂層をめっき下地電極として2層を
次のめっき条件で形成した。
次のめっき条件で形成した。
■ Niめっき(内層)
浴組成(スルファミン酸ニッケルNi浴)NiSO4・
6H20500g/見 NiC14・6HtO15g/愛 NiBr、 30g/Ap H4,0 温度 50℃ 上記組成の浴を用い、電解バレルめっき法で導電性樹脂
層の表面に1〜2μm厚のNtめっき層を形成した。
6H20500g/見 NiC14・6HtO15g/愛 NiBr、 30g/Ap H4,0 温度 50℃ 上記組成の浴を用い、電解バレルめっき法で導電性樹脂
層の表面に1〜2μm厚のNtめっき層を形成した。
■ S n / P bめっき(外層)浴組成(カルボ
ン酸はんだめっき浴) 錫(Sn) 15 g/文 鉛CPb) 6g/見 p H4,5 温度 25℃ 上記組成の浴を用い、電解バレルめっき法でNiめっき
層の表面に10〜15μm厚のSn/Pbめっき層を形
成し、複合セラミックコンデンサを作製した。
ン酸はんだめっき浴) 錫(Sn) 15 g/文 鉛CPb) 6g/見 p H4,5 温度 25℃ 上記組成の浴を用い、電解バレルめっき法でNiめっき
層の表面に10〜15μm厚のSn/Pbめっき層を形
成し、複合セラミックコンデンサを作製した。
〈比較例1〉
実施例1と同一のベアチップの端部にガラスフリットを
含んだAgペーストの焼付は電極層を外部電極として形
成した積層セラミックチップコンデンサ(EIAコード
2220タイプ、三菱鉱業セメント銅製)を5個用意し
、実施例1と同様に重合して接合体を得た。この接合体
の端部に、導電性樹脂層及びめっき層の代わりに、端子
電極として、融点290℃の高温クリームはんだを均一
に塗布し、リフロー炉で外部電極同士を電気的に接続し
て複合セラミックコンデンサを得た。
含んだAgペーストの焼付は電極層を外部電極として形
成した積層セラミックチップコンデンサ(EIAコード
2220タイプ、三菱鉱業セメント銅製)を5個用意し
、実施例1と同様に重合して接合体を得た。この接合体
の端部に、導電性樹脂層及びめっき層の代わりに、端子
電極として、融点290℃の高温クリームはんだを均一
に塗布し、リフロー炉で外部電極同士を電気的に接続し
て複合セラミックコンデンサを得た。
く比較例2〉
実施例1と同一の接合体の端部に5個のチップ端部にわ
たるように実施例1と同一の熱硬化型導電性樹脂を塗布
した。次いでこの樹脂の上から表面をS n/P b
(9: 1)のめっき処理した、板厚が0.1 mmの
銅製の金属板を接合体の端部に所定の圧力で押付けた。
たるように実施例1と同一の熱硬化型導電性樹脂を塗布
した。次いでこの樹脂の上から表面をS n/P b
(9: 1)のめっき処理した、板厚が0.1 mmの
銅製の金属板を接合体の端部に所定の圧力で押付けた。
金属板が樹脂を平坦化した状態で150℃で30分間加
熱して金属板を接合体の端部に固着し、複合セラミック
コンデンサを得た。
熱して金属板を接合体の端部に固着し、複合セラミック
コンデンサを得た。
上記実施例1、比較例1及び比較例2で作製した複合セ
ラミックコンデンサに対して、諸特性を次の方法により
調べた。
ラミックコンデンサに対して、諸特性を次の方法により
調べた。
(a)静電容量(μF)及び誘電正接(%)1kHz、
IVrmsで測定した。
IVrmsで測定した。
(b)絶縁抵抗(Ω)
25Vの直流電圧を印加した後、30秒経過後の抵抗を
測定した。
測定した。
(c)直流破壊電圧(V)
昇圧速度70v/秒で直流電圧を印加し、絶縁破壊を生
じたときの電圧を測定した。
じたときの電圧を測定した。
(d)初期不良
定格の2.5倍の電圧を印加したときに破壊したか否か
調べ、破壊した試料数を数えた。
調べ、破壊した試料数を数えた。
(e)外観不良
端部に熱硬化型導電性樹脂のはみ出し汚れがあるか否か
調べ、汚れた試料数を数えた。
調べ、汚れた試料数を数えた。
(f)はんだ乗り不良
端部にはんだ付けした後のはんだの乗り状態を調べ、は
んだの乗らない試料数を数えた。
んだの乗らない試料数を数えた。
実施例1、比較例1及び比較例2の複合セラミックコン
デンサを上記試験項目毎に30個ずつ試験又は確認した
。その結果を第1表に示す。表において、Maxは最大
値、Minは最小値、σニー、は標準偏差をそれぞれ示
す。
デンサを上記試験項目毎に30個ずつ試験又は確認した
。その結果を第1表に示す。表において、Maxは最大
値、Minは最小値、σニー、は標準偏差をそれぞれ示
す。
第1表
第1表より、比較例1及び比較例2のコンデンサに外観
不良が見られ、比較例1のコンデンサに初期不良が見ら
れ、かつ比較例2のコンデンサにはんだ乗り不良が見ら
れたのに対して実施例1のコンデンサには、これらにつ
いて不良なものはなく、実施例1のコンデンサが比較例
1及び比較例2のコンデンサより優れていることが明ら
がとなった。
不良が見られ、比較例1のコンデンサに初期不良が見ら
れ、かつ比較例2のコンデンサにはんだ乗り不良が見ら
れたのに対して実施例1のコンデンサには、これらにつ
いて不良なものはなく、実施例1のコンデンサが比較例
1及び比較例2のコンデンサより優れていることが明ら
がとなった。
また実施例1のコンデンサは比較例1及び比較例2と同
等の高容量で高耐電圧のコンデンサ特性を具備していた
。
等の高容量で高耐電圧のコンデンサ特性を具備していた
。
第1図は本発明の複合セラミックフンデンサの断面図。
第2図、第3図及び第4図はその複合セラミックコンデ
ンサを製造する過程を示す断面図。 第5図はその複合セラミックコンデンサの外観斜視図。 第6図は従来例の金属板を接着する状況を示す斜視図。 10:複合セラミックコンデンサ、 11〜15:ベアチップ、 15a:内部電極、 16:接着剤、 17:接合体、 18:導電性樹脂層、 19a、19b:めっき層、 20:端子電極。 一特許出願人 三菱鉱業セメント株式会社代理人弁理士
須 1)正 義 [7ZZ7Z71℃11 2第2図 第3図 第4図
ンサを製造する過程を示す断面図。 第5図はその複合セラミックコンデンサの外観斜視図。 第6図は従来例の金属板を接着する状況を示す斜視図。 10:複合セラミックコンデンサ、 11〜15:ベアチップ、 15a:内部電極、 16:接着剤、 17:接合体、 18:導電性樹脂層、 19a、19b:めっき層、 20:端子電極。 一特許出願人 三菱鉱業セメント株式会社代理人弁理士
須 1)正 義 [7ZZ7Z71℃11 2第2図 第3図 第4図
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1)内部電極(15a)を有するベアチップ(11〜1
5)を複数個重合して形成された接合体(17)の端部
に、全ての前記内部電極(15a)を電気的に並列接続
する導電性樹脂層(18)と、前記樹脂層(18)を被
覆するめっき層(19a,19b)とが端子電極(20
)として設けられた複合セラミックコンデンサ。 2)めっき層がNi,Sn又はSn/Pbの少なくとも
1種のめっき層により構成された請求項1記載の複合セ
ラミックコンデンサ。 3)めっき層がNiめつき層(19a)とこのNiめっ
き層(19a)の上に形成されたSn又はSn/Pbめ
っき層(19b)により構成された請求項2記載の複合
セラミックコンデンサ。 4)内部電極(15a)を有するセラミック誘電体を積
層焼成したベアチップ(11〜15)を複数個各チップ
端部を揃えて接着剤(16)により重合し、この重合し
て形成された接合体(17)の端部に全ての前記内部電
極(15a)を電気的に並列接続するように熱硬化型導
電性樹脂を塗布し、 この導電性樹脂を熱硬化させて導電性樹脂層(18)を
形成し、 この導電性樹脂層(18)の表面にめっき層(19a,
19b)を形成する複合セラミックコンデンサの製造方
法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2319334A JPH04188811A (ja) | 1990-11-22 | 1990-11-22 | 複合セラミックコンデンサ及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2319334A JPH04188811A (ja) | 1990-11-22 | 1990-11-22 | 複合セラミックコンデンサ及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04188811A true JPH04188811A (ja) | 1992-07-07 |
Family
ID=18109020
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2319334A Pending JPH04188811A (ja) | 1990-11-22 | 1990-11-22 | 複合セラミックコンデンサ及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04188811A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5835338A (en) * | 1995-10-03 | 1998-11-10 | Tdk Corporation | Multilayer ceramic capacitor |
JP2010103559A (ja) * | 2010-01-25 | 2010-05-06 | Kyocera Corp | 電気素子内蔵配線基板の製法 |
JPWO2021049056A1 (ja) * | 2019-09-11 | 2021-03-18 |
-
1990
- 1990-11-22 JP JP2319334A patent/JPH04188811A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5835338A (en) * | 1995-10-03 | 1998-11-10 | Tdk Corporation | Multilayer ceramic capacitor |
JP2010103559A (ja) * | 2010-01-25 | 2010-05-06 | Kyocera Corp | 電気素子内蔵配線基板の製法 |
JPWO2021049056A1 (ja) * | 2019-09-11 | 2021-03-18 | ||
WO2021049056A1 (ja) * | 2019-09-11 | 2021-03-18 | 株式会社村田製作所 | 電解コンデンサ |
US11881360B2 (en) | 2019-09-11 | 2024-01-23 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | Electrolytic capacitor |
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