JPH04132026A - 情報記録媒体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 ［発明の分野］ 本発明は、レーザ光による情報の記録及び／又は再生が
可能な情報記録媒体、及びその製造方法に関するもので
ある。

［発明の技術的背景］ 近年において、レーザ光等の高エネルギー密度のビーム
を用いる情報記録媒体が開発され、実用化されている。

この情報記録媒体は光ディスクと称され、ビデオ・ディ
スク、オーディオ・ディスク、さらには大容量静止画像
ファイルおよび大容量コンピュータ用ディスク・メモリ
ーとして使用され得るものである。

情報の書き込み（記録）が可能なり　ＲＡＷ（Ｄｉｒｅ
ｃｔ　Ｒｅａｄ　Ａｆｔｅｒ　Ｗｒｉｔｅ　）型の情報
記録媒体が開発され一部実用化されている。このような
りＲＡＷ型の情報記録媒体（光ディスク）は、基本構造
として、プラスチック、ガラス等からなる円盤状の透明
基板と、この上に設けられたＢｉ、Ｓｎ、Ｉｎ、Ｔｅ等
の金属または半金属からなる記録層又は色素からなる記
録層とを有する。光ディスクへの情報の記録は、例えば
、レーザビームを光ディスクに照射する−ことにより行
なわれ、記録層の照射部分がその光を吸収して局所的に
温度上昇する結果、ピット形成等の物理的変化あるいは
相変化等の化学的変化を生じてその光学的特性を変える
ことにより情報が記録される。光ディスクからの情報の
読み取り（再生）もまた、レーザビームを光ディスクに
照射することなどにより行なわれ、記録層の光学的特性
の変化に応じた反射光または透過光を検出することによ
り情報が再生される。

上記光ディスクへの情報の記録及び再生のためのレーザ
ビームの照射は、通常ディスク表面の所定の位置に行わ
れる。レーザビームを案内して照射予定位置に正確にた
どる（一般にトラッキングと呼ばれる）ようにするため
、凹溝のトラッキングガイド（プリグルーブ）が基板の
表面に設けられることが一般的である。

ところで、色素を含む記録層は、一般にプリグルーブが
形成された基板上に色素を含む溶液を塗布し乾燥するこ
とによって形成されているが、その場合、グルーブ底部
の色素記録層膜厚はランド部の色素記録層膜厚よりも厚
くなる。そのため、基板のプリグルーブ溝の形状を反映
して形成された色素記録層の表面の溝の深さは、基板の
プリグルーブ溝の深さよりも浅くなり、記録層に情報を
記録してプリグルーブに記録ピットを形成させたとき、
色素記録層の表面の溝の上部（基板のランド部を反映し
た部分）と溝の底部との位相差が小さくなるために、記
録ビットの変調度が小さくなるという問題点がある。

、そのために、基板のプリグルーブの深さを大きくして
色素記録層の表面に形成゛される溝の深さを相対的に深
くすることによフて記録ビットの変調度を大きくするこ
とが考えられるが、その場合は一般に反射率が低下する
傾向にある。

基板のグルーブ底部の色素記録層膜厚とランド部の色素
記録層膜厚とがほぼ同じになると、基板のプリグルーブ
の深さを小さくすることができ、これらの問題点を同時
に解決した変調度及び反射率が共に大きい情報記録媒体
になる。

また、基板上に予めピットが形成されたＲＯＭ領域と、
レーザ光の照射によりデータ再生用のピットが形成され
る記録可能領域とを有する情報記録媒体が提案されてい
る（特開平２−４２６５２号公報参照）。この情報記録
媒体においては、色素からなるレーザ吸収層が記録可能
領域にのみ設けられ、プリピットが形成されたＲＯＭ領
域には色素からなるレーザ吸収層は設けられていない。

その理由は、プリピットが形成された領域に色素からな
るレーザ吸収層を設けると、プリピット信号の変調度が
小さくなりＲＯＭ領域の情報を実用的に再生することが
できなくなるためである。

即ち、色素からなるレーザ吸収層は一般に色素の溶液を
塗布し乾燥することによって形成されるものであり、プ
リピット形成領域に色素溶液を塗布すると、前記のプリ
グルーブ形成領域への色素溶液の塗布の場合と同様に、
ピット部（穴部）のレーザ吸収層の膜厚がピット間部（
ピットとピットとの間の部分で、前記ランド部に相当す
る）のレーザ吸収層の膜厚よりも大きくなり、そのため
に、基板のピット部の形状を反映して形成されたレーザ
吸収層の表面の穴の深さは、基板のピットの深さよりも
浅くなり、ピット部とピット間部との位相差が小さくな
るために、プリピットの変調度が小さくなるのである。

しかしながら、特開平２−４２６５２号公報に記載され
ているような、プリピット部（ＲＯＭ領域）に色素層を
設けず、記録可能領域にのみ色素層を設けた情報記録媒
体においては、色素層が設けられた部分と色素層が設け
られていない部分との境界部において、境界を再現性よ
く形成することが困難であるとか、色素層のエツジ部で
膜厚が不均一になり易いとかの問題があり、円環状の色
素層の偏心が生じ易いなどの問題がある。更に、実際上
、ＲＯＭ領域とその外周側の記録可能領域との二つの領
域に分かれた情報記録媒体しか製造することができず、
ＲＯＭ領域の内周側にも追加して記録可能領域を設けた
り、ＲＯＭ＠域と記録可能領域を混在させて設けたりす
ることが極めて困難であり、ＲＯＭ領域へ予め記録して
おくアプリケーションソフトやその利用方法などが制限
され、実用上不便であるという問題点もある。

基板のプリピット部の色素層膜厚とピット間部の色素層
膜厚とがほぼ同じになると、プリピットの位相差が大き
くなり従ってプリピットの変調度の大きい情報記録媒体
になる。

プリピット部に色素からなるレーザ光吸収層を形成して
もプリピットの変調度が大きいと、プリピット形成領域
（ＲＯＭ領域）及びプリグルーブ形成領域（記録可能領
域）の両方に、色素を含む光吸収層を形成することが可
能になり、上記のような問題点が解消される。

［発明の目的］ 本発明は、レーザ光を照射して情報を記録した後、変調
度の高い再生信号を得ることができ、トラッキング特性
が良好な情報記録媒体を提供することを目的とする。

また、本発明は、プリピットが形成された領域にも色素
を含む光吸収層が形成されており、しかもプリピットが
形成された領域から変調度の高い再生信号を得ることが
できる情報記録媒体を提供することを目的とする。

更に、本発明は、上記のような優れた特長を有する情報
記録媒体の製造方法を提供することを目的とする。

［発明の要旨コ 本発明は、プリグルーブが形成された円盤状の基板上に
、レーザ光を照射して再生用のピットを形成することに
より情報の記録が可能な色素を含む光吸収層が設けられ
てなる情報記録媒体であって、グルーブ底部の光吸収層
の光学的膜厚とランド部の光吸収層の光学的膜厚との差
がλ／８（但し、λは再生用レーザ光の波長）以下であ
ることを特徴とする情報記録媒体である。

また、本発明は、プリピット及びプリグルーブが形成さ
れた円盤状の基板上に、レーザ光を照射して再生用のピ
ットを形成することにより情報の記録が可能な色素を含
む光吸収層が設けられてなる情報記録媒体であって、ピ
ット部の光吸収層の光学的膜厚とピット間部の光吸収層
の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λは再生用レーザ
光の波長）以下であり、グルーブ底部の光吸収層の光学
的膜厚とランド部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／
８（但し、λは再生用レーザ光の波長）以下であること
を特徴とする情報記録媒体である。

また、本発明は、プリグルーブ又はプリピット及びプリ
グルーブが形成された円盤状の基板上に、色素を溶剤に
溶解して調製した色素溶液であって、該色素溶液の塗布
温度において該色素溶液から該溶剤を蒸発させることに
より色素の析出が始まったときの色素懸濁溶液の体積の
、該色素溶液の元の体積に対する比率として定義される
濃縮限界が９９〜２０％である色素溶液を、スピンコー
ト法により塗布し乾燥することによって、グルーブ底部
の光学的膜厚とランド部の光学的膜厚との差がλ／８（
但し、λは再生用レーザ光の波長）以下であり、プリピ
ットが形成された基板の場合にはビット部の光学的膜厚
とビット間部の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λは
再生用レーザ光の波長）以下である、レーザ光を照射し
て再生用のビットを形成することにより情報の記録が可
能な光吸収層を、該基板のプリグルーブ又はプリピット
及びプリグルーブが形成された面上に形成することを特
徴とする情報記録媒体の製造方法である。

上記本発明の情報記録媒体の好ましい態様は以下の通り
である。

１）上記グルーブ底部の光吸収層の光学的膜厚とランド
部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／１６（但し、λ
は再生用レーザ光の波長）以下であることを特徴とする
上記情報記録媒体。

２）上記ビット部の光吸収層の光学的膜厚とピット間部
の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／１６（但し、λは
再生用レーザ光の波長）以下であることを特徴とする上
記情報記録媒体。

３）上記光吸収層の、上記ランド部及び上記ピット間部
の膜厚が、４０〜４００ｎｍであることを特徴とする上
記情報記録媒体。

４）上記プリグルーブが０．２〜１．４μｍの半値幅と
、５〜８０ｎｍの深さを有することを特徴とする上記情
報記録媒体。

５）上記プリピットが０．２〜１．４μｍの半値幅と、
６０〜３００ｎｍの深さを有することを特徴とする上記
情報記録媒体。

６）上記プリグルーブの深さが、上記プリピットの深さ
よりも、光路長で表わしてλ／１６以上短いことを特徴
とする上記情報記録媒体。

７）ミラ一部の反射率に対するグルーブ底部の反射率の
比率が、７０％以上であることを特徴とする上記情報記
録媒体。

８）上記光吸収層の上に、更に保護層が形成されている
ことを特徴とする上記情報記録媒体。

上記本発明の情報記録媒体の製造方法の好ましい態様は
以下の通りである。

１）上記グルーブ底部の光吸収層の光学的膜厚とランド
部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／１６（但し、λ
は再生用レーザ光の波長）以下であることを特徴とする
上記情報記録媒体の製造方法。

２）上記ビット部の光吸収層の光学的膜厚とピット間部
の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／１６（但し、λは
再生用レーザ光の波長）以下であることを特徴とする上
記情報記録媒体の製造方法。

３）上記光吸収層の、上記ランド部及び上記ピット間部
の膜厚が、４０〜４００ｎｍであることを特徴とする上
記情報記録媒体の製造方法。

４）上記プリグルーブが０．２〜１．４μｍの半値幅と
、５〜８０ｎｍの深さを有することを特徴とする上記情
報記録媒体の製造方法。

５）上記プリピットが０．２〜１．４μｍの半値幅と、
６０〜３００ｎｍの深さを有することを特徴とする上記
情報記録媒体の製造方法。

６）上記プリグルーブの深さが、上記プリピットの深さ
よりも、光路長で表わしてλ／１６以上短いことを特徴
とする上記情報記録媒体の製造方法。

７）上記色素溶液の濃縮限界が、９０〜５０％であるこ
とを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

８）上記溶剤が単一の溶剤であることを特徴とする上記
情報記録媒体の製造方法。

９）上記溶剤が、使用する色素の良溶剤（好ましくは、
色素溶液の塗布温度において使用する色素を２重量％以
上溶解し得る溶剤）と、該良溶剤と相溶性である使用す
る色素の貧溶剤（好ましくは、色素溶液の塗布温度にお
いて使用する色素を２重量％以上溶解しない溶剤）との
混合物であることを特徴とする上記情報記録媒体の製造
方法。

１０）上記色素溶液中の上記色素の濃度が０゜５〜１５
重量％であることを特徴とする上記情報記録媒体の製造
方法。

１１）上記色素溶液を、０〜１００℃の温度で、３００
〜１０．０００ｒ、ｐ、ｍ、の上記基板の回転数で塗布
することを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

１２）ミラ一部の反射率に対するプリグルーブ部の反射
率の比率が、７０％以上である情報記録媒体を製造する
ことを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

１３）上記光吸収層の上に、更に保護層を形成させるこ
とを特徴とする上記情報記録媒体の製造方法。

［発明の効果］ 本発明の情報記録媒体は、色素を含む光吸収層の光学的
膜厚が、グルーブ底部とランド部とで差が少ないので、
プリグルーブの深さを浅くしても光吸収層の表面の溝の
深さが十分大きく、感度が高く、レーザ光を照射して情
報を記録した後、変調度の高い再生信号を得ることがで
き、トラッキング特性が良好であるという顕著に優れた
情報記録媒体である。

また、本発明の情報記録媒体は、プリピットが形成され
た領域にも色素を含む光吸収層が形成されており、しか
もプリピットが形成された領域力１ら変調度の高い再生
信号を得ることができるので、上記光吸収層の膜厚を情
報！己録媒体の全面に亙って均一にすることができ、プ
リピットが形成されたＲＯＭ領域と、プリグルーブが形
成された記録可能領域とを、例えば両領域を混在させる
など任意の場所に設けることが可能であり、アプリケー
ションソフトの種類や利用方法に制限がなく広範囲の用
途に使用できるという顕著に優れた情報記録媒体である
。

更に、本発明の情報記録媒体の製造方法は、溶剤の種類
及び色素の濃度を制御して調製した特定の性質を有する
光吸収層形成用塗布液を使用する他は従来採用されてい
る手段を使用して、上記のような優れた特長を有する情
報記録媒体を容易に製造することができるという顕著に
優れた効果を奏する情報記録媒体の製造方法である。

［発明の詳細な記述］ 本発明の情報記録媒体は、プリグルーブ又はプレピット
とプリグルーブとを有する基板上に、色素を含む光吸収
層設けられた基本構成を有する。

本発明における円盤状の基板の材料としては、従来の情
報記録媒体の基板として用いられている各種の材料から
任意に選択することができる。基板の光学的特性、平面
性、加工性、取扱い性、経時安定性および製造コストな
どの点から、基板材料の例としては、ガラス、ポリメチ
ルメタクリレート等のアクリル樹脂：ポリ塩化ビニル、
塩化ビニル共重合体等の塩化ビニル系樹脂：エポキシ樹
脂：ポリカーボネート樹脂：アモルファスポリオレフィ
ンおよびポリエステルを挙げることができる。好ましく
は、ポリカーボネート、ポリオレフィン、ガラスおよび
ポリメチルメタクリレートを挙げることができる。

光吸収層が設けられる側の基板表面には、平面性の改善
、接着力の向上、基板の耐溶剤性の改善および記録層の
変質の防止の目的で、下塗層が設けられてもよい。下塗
層の材料としては例えば、ポリメチルメタクリレート、
アクリル酸・メタクリル酸共重合体、スチレン・無水マ
レイン酸共重合体、ポリビニルアルコール、Ｎ−メチロ
ールアクリルアミド、スチレン・スルホン酸共重合体、
スチレン・ビニルトルエン共重合体、クロルスルホン化
ポリエチレン、ニトロセルロース、ポリ塩化ビニル、塩
素化ポリオレフィン、ポリエステル、ポリイミド、酢酸
ビニル・塩化ビニル共重合体、エチレン・酢酸ビニル共
重合体、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネ
ート、エポキシ樹脂等の高分子物質ニジランカップリン
グ剤、チタネート系カップリング剤などの有機物質二部
よび無機誘電体（Ｓｉｎ、、２ｎＳ、ＡＩＮ。

５１３Ｎ４等）、無機フッ化物（ＭｇＦ２）などの無機
物質を挙げることができる。

下塗層は、例えば上記物質を適当な溶剤に溶解または分
散して塗布液を調製したのち、この塗布液をスピンコー
ト、デイツプコート、エクストルージョンコートなどの
塗布法により基板表面に塗布することにより形成するこ
とがてきる。下塗層の層厚は一般にｏ、ｏｏｓ〜２０μ
ｍの範囲にあり、好ましくは０．０１〜１０μｍの範囲
である。

本発明においては、上記基板表面（または下塗層表面）
に、記録又は再生時のトラッキングを良好に行なうため
に、プリグルーブ（トラッキング用溝）が形成されてい
る。プリグルーブの形状は、グルーブの深さ（添付する
第１図のｄＩ）が５〜８０ｎｍの範囲にあり且つグルー
ブの半値幅（グルーブの深さの１／２の深さにおけるグ
ルーブの幅）が０．２〜１．４μｍであるものが好まし
く、グルーブの深さが１５〜６０ｎｍの範囲にあり且つ
グルーブの半値幅が０．３〜０．７μｍであるものが更
に好ましく、グルーブの深さが２０〜５０ｎｍの範囲に
あり且つグルーブの半値幅が０．３５〜０．６μｍであ
るものが最も好ましい。アドレッシング、或は線速制御
用にグルーブをウオブリングさせても良い。

本発明においては、更に、上記基板表面（または下塗層
表面）に、種々のアプリケーションソフト、アドレス信
号などの情報を予め記録したプリピット（ＲＯＭ領域）
が形成されていてもよい。

プリピットの形状は、ピットの深さ（添付する第２図の
ｄ２）が６０〜３００ｎｍの範囲にあり且つピットの半
値幅（ピットの深さの１／２の深さにおけるピットの幅
）が０．２〜１．４μｍであるものが好ましく、ピット
の深さが７０〜２５０ｎｍの範囲にあり且つピットの半
値幅が０．３〜１．０μｍであるものが更に好ましく、
ピットの深さが９０〜２００ｎｍの範囲にあり且つピッ
トの半値幅が０．４〜０．７μｍであるものが最も好ま
しい。

また、プリピットが形成される場合、プリグルーブの深
さは、プリピットの深さよりも光路長で表わしてλ／１
６（但し、λは再生用レーザ光の波長であって、以下の
記載において同じである）以上短いことが好ましく、λ
／１４以上短いことが更に好ましく、λ／１２以上短い
ことが特に好ましい。その理由は、プリグルーブの深さ
を、変調度が十分太きくなるプリピットの深さと同じよ
うに大きくすると、プリグルーブの反射率が低くなり過
ぎるからである。

基板材料がプラスチックの場合は、射出成形あるいは押
出成形などにより基板表面に上記プリグルーブ又はプリ
グルーブとプリピットとを直接設けてもよい。また、基
板の表面上に、上記プリグルーブ又はプリグルーブとプ
リピットとを形成するためのプリグルーブ層を設けても
よい。

プリグルーブ層の材料としては、アクリル酸のモノエス
テル、ジエステル、トリエステルおよびテトラエステル
のうちの少なくとも一種の千ツマ−（またはオリゴマー
）と光重合開始剤との混合物を用いることができる。

プリグルーブ層の形成は、まず精密に作られた母型（ス
タンパ−）上に上記のアクリル酸エステルおよび重合開
始剤からなる混合液を塗布し、さらにこの塗布液層上に
基板を載せたのち、基板または母型を介して紫外線の照
射により液層を硬化させて基板と液相とを固着させる。

次いで、基板を母型から剥離することによりプリグルー
ブ層の設けられた基板が得られる。プリグルーブ層の層
厚は一般に０．１〜１００μｍの範囲にあり、好ましく
は０．１〜５０μｍの範囲である。

プリグルーブ又はプリピットを形成した基板（またはプ
リグルーブ層）上に、前記下塗層を形成する材料と同様
の材料を使用して、光吸収層を形成するための塗布液中
の溶剤がら保護するための耐溶剤層を設けてもよい。

基板（または下塗層）上には、色素を含む光吸収層が設
けられている。基板側からレーザ光を照射して光吸収層
に再生用のピットを形成することにより、光吸収層に情
報を記録する。従って、基板のプリグルーブが形成され
た領域の光吸収層は、記録層として機能する。

本発明に使用される色素は特に限定されるものではなく
、どのようなものでも良い。例えば、シアニン系色素、
フタロシアニン系色素、ナフタロシアニン系色素、ピリ
リウム系色素、チオピリリウム系色素、アズレニウム系
色素、スクワリリウム系色素、Ｎｉ、Ｃｒなどの金属錯
塩系色素、ナフトキノン系色素、アントラキノン系色素
、インドフェノール系色素、インドアニリン系色素、ト
リフェニルメタン系色素、トリアリルメタン系色素、ア
ミニウム系色素、ジインモニウム系色素、ニトロソ系色
素、ロイコ系色素、クロコニウム系色素、等々の色素を
挙げることができる。

これらの色素は、ライト・ワンス（ＷＯ）型に限らず、
リライタブル（ＲＷ）型（又は可逆型）のものであって
もよい。

こわらの色素のうちでも記録再生用レーザーとして近赤
外光を発振する半導体レーザーの利用が実用化されてい
る点から、７００〜９００ｎｍの近赤外領域の光に対す
る吸収率が高い色素が好ましい。

特に、シアニン系色素、アズレニウム系色素及びスクワ
リリウム系色素が好ましく、シアニン系色素の中でも、
ナフトインドレニン系色素及びイミダゾキノキサリン系
色素が好ましい。

これらの色素は単独でもあるいは二種以上の混合物とし
て用いてもよい。また、シアニン系色素を用いる場合に
、上記金属錯塩系色素またはアミニウム系色素又はシイ
ンモニウム系色素をクエンチャ−として−緒に用いるこ
とが好ましい。その場合、クエンチャ−として金属錯塩
系色素などを全色素１モルに対して０．００１〜０．３
モルの割合で含むことが好ましい。

本発明の情報記録媒体においては、光吸収層のグルーブ
底部の光学的膜厚とランド部の光学的膜厚との差が、λ
／８以下であることを特徴とする。また、本発明の情報
記録媒体が基板上に更にプリピットを有する場合には、
光吸収層のビット部の光学的膜厚とピット間部の光学的
膜厚との差が、λ／８以下であることを特徴とする。

本発明の情報記録媒体における光吸収層の光学的膜厚に
ついて、添付する図面を参照して詳細に説明する。

第１図は、本発明の情報記録媒体の一実施例の、プリグ
ルーブ領域における断面の一部を模式的に示す断面図で
ある。第２図は、本発明の情報記録媒体の一実施例の、
プリピット領域における断面の一部を模式的に示す断面
図である。第３図は、従来公知の情報記録媒体の、プリ
グルーブ領域における断面の一部を模式的に示す断面図
である。

第３図において、プラスチックからなる基板３１の表面
に色素からなる光吸収層３２が形成されている。基板３
１には、プリグルーブ３３が形成されている。光吸収層
３２は色素をその溶剤に溶解して調製した光吸収層形成
用溶液をスピンコート法により塗布し乾燥することによ
って形成されたものである。プリグルーブ３３のグルー
ブ底部３５の光吸収層３２の膜厚ｔ６は、基板３１のラ
ンド部３４の光吸収層３２の膜厚ｔ５よりも大きくなっ
ている。その結果、光吸収層３２の空気と接触する外表
面における溝形状の深さがグルーブ３４の深さｄ３より
も小さくなり、情報を記録するためにレーザ光を照射し
てプリグルーブ３３に記録ビットを形成したとき、光吸
収層３２の溝の上部（基板のランド部に対応する部分）
と底部との位相差が小さくなるために、記録ピットの変
調度が小さくなるという問題があった。この問題を解消
するために、グルーブの深さを大きくしている。しかし
、グルーブの深さを大きくし過ぎるとグルーブ部の反射
率が低下するという問題が生じる。

第１図において、プラスチックからなる基板１１の表面
に色素からなる光吸収層１２が形成されている。基板１
１には、プリグルーブ１３が形成されている。光吸収層
１２は色素を溶剤に溶解して調製した前記のように特定
の性状を有する光吸収層形成用溶液を、スピンコート法
により塗布し乾燥することによフて形成されたものであ
る。プリグルーブ１３のグルーブ底部１５の光吸収層１
２の光学的膜厚（ｎ、−ｔ２）（但し、ｎ、は光吸収層
の屈折率であり、ｔ２はグルーブ底部１５の光吸収層１
２の膜厚である）と、基板１１のランド部１４の光吸収
層１２の光学的膜厚（ｎ　ｒｔｌ）（但し、ｎ、は光吸
収層の屈折率であり、ｔ、はランド部１４の光吸収層１
２の膜厚である）との差は、λ／８以下であるように形
成されている。その結果、光吸収層１２の空気と接触す
る外表面における溝形状の深さはグルーブ１３の深さｄ
、と同じか又は光学的膜厚でλ／８以下はど小さ”〈な
っ−ており、光吸収層１２のグルーブ部とランド部とで
位相差が大きく記録ビットの変調度が大きいものである
。更にｎｒａｔ、とｎ。

ｔ２と・の差を上記のようにすることにより、グルーブ
１３の深さｄ、を小さくすることが可能となりグルーブ
部の反射率が大きくなる。

上記のｎ、・ｔｌとｎ、、・ｔ２との差は、λ／１１以
下であることが好ましく、λ／１３以下であることが更
に好ましく、λ／１６以下であることがより一層好まし
い。

また、ミラ一部の反射率に対するグルーブ底部の反射率
の比率が、７０％以上、特に８０％以上、更に特に９０
％以上にすることが好ましい。

ミラ一部の反射率に対するグルーブ底部の反射率の比率
を増大させるためには、グルーブ部の光路長とランド部
の光路長との差を小さくすればよい。

第２図において、プラスチックからなる基板２１の表面
に色素からなる光吸収層２２が形成されている。基板２
１には、プリピット２３が形成されている。光吸収層２
２は色素を溶剤に溶解して調製した前記のように特定の
性状を有する光吸収層形成用溶液を、スピンコート法に
より塗布し乾燥することによって形成されたものである
。プリピット２３のビット部２５の光吸収層２２の光学
的膜厚（ｎｒ−ｔ４）（但し、ｎ、は光吸収層の屈折率
であり、ｔ４はビット部２５の光吸収層２２の膜厚であ
る）と、基板２１のビット間部２４の光吸収層２２の光
学的膜厚（ｎｒ”ｔ３）（但し、ｎ、は光吸収層の屈折
率であり、ｔ３はビット間部２４の光吸収層２２の膜厚
である）との差は、λ／８以下であるように形成されて
いる。その結果、光吸収層２２の空気と接触する外表面
にあける穴形状の深さはビット２４の深さｄ２と同じか
又は光学的膜厚でλ／８以下はど小さくなっており、光
吸収層２２のビット部とビット間部とで位相差が大きく
ビットの変調度が大きいものである。その結果、基板の
ビット形成領域に光吸収層が形成されていても、基板の
ビットを高い変調度で再生することが可能となる。

上記のｎ、、・ｔ３とｎ、・ｔ４との差は、λ／１１以
下であることが好ましく、λ／１３以下であることが更
に好ましく、λ／１６以下であることがより一層好まし
い。

基板にプリグルーブとプリピットとの両方が形成されて
いる場合は、グルーブの深さｄ、はビット部の深さｄ２
よりも、光路長（ｎ　−ｄ　：　ｎは基板の屈折率で、
ｄａ深さ寸法である）で表わして１７１６以上、特にλ
／１４以上、更に特にλ／１２以上小以上−とが好まし
い。

上記光吸収層の、上記ランド部及び上記ビット間部の膜
厚は、４０〜４００ｎｍ、特に６０〜３００ｎｍ、更に
特に８０〜２５０ｎｍであることが好ましい。

本発明の情報記録媒体における特定の光学的膜厚を有す
る光吸収層、即ち、グルーブ底部の光吸収層の光学的膜
厚とランド部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／８以
下であり、ビット部の光吸収層の光学的膜厚とビット間
部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／８以下である光
吸収層は、本発明の情報記録媒体の製造方法によって形
成することができる。

本発明の製造方法において光吸収層の形成は、前記のよ
うな色素を溶剤釘溶解して色素溶液を調製し、次いでこ
の色素溶液を基板の表面にスピンコート法により塗布し
て塗膜を形成した後乾燥することにより行なう。

本発明の製造方法において使用される上記の色素溶液は
、特定の性状を有するもの、即ち、濃縮限界が９９〜２
０％である色素溶液である。本明細書において、「濃縮
限界」の用語は、色素溶液の塗布温度ｒおいて該色素溶
液から該溶剤を蒸発させることにより色素の析出が始ま
ったときの色素懸濁溶液の体積の、該色素溶液の元の体
積に対する比率と意味するものとして定義される。例え
ば、色素を溶剤に溶解した色素溶液を光吸収層を形成す
るための塗布温度に維持して溶剤を蒸発させたとき、溶
剤の蒸発に伴なってその体積が減少し、やがて溶解して
いた色素が析出してくるが、色素の析出が始まったとき
の色素溶液（厳密には色素懸濁溶液である）の体積が、
元の色素溶液の体積の９０％である色素溶液を、濃縮限
界が９０％の色素溶液という。

従って、色素溶液の濃縮限界は、色素と溶剤（単一溶剤
又は混合溶剤）と辺組合せ、溶剤を二種以上の溶剤の組
合せとしたときその種類と比率、色素溶液中の色素の濃
度、塗布温度、等々によって変化する。そのために、特
定の濃縮限界を有する色素溶液を特定の色素について一
律に定めることはできないが、上記のような条件を種々
変えて所望の濃縮限界を有する色素溶液を調製すること
は、当業者が容易になし得ることである。

本発明の製造方法において使用する色素溶液は、濃縮限
界が９９〜２０％である色素溶液であるが、濃縮限界が
９９〜３０％、特に９５〜４０％、更に特に９０〜５０
％である色素溶液であることが好ましい。色素溶液の濃
縮限界が、上記範囲よりも大きいと光吸収層の膜厚が全
体的に不均一になり、また上記範囲よりも小さいとグル
ーブ底部とランド部との光吸収層の光学的膜厚の差及び
ビット部とビット間部との光吸収層の光学的膜厚の差が
大きくなる。

上記色素溶液を調製するために使用する溶剤は、色素溶
液の濃縮限界を満足するものである限り、単一の溶剤で
あってもよく、二種以上の溶剤の混合溶剤であってもよ
い。上記溶剤が混合溶剤である場合、使用する色素の良
溶剤（好ましくは、色素溶液の塗布温度において使用す
る色素を２重量％以上溶解し得る溶剤）と、使用する色
素の貧溶剤（好ましくは、色素溶液の塗布温度において
使用する色素を２重量％以上溶解しない溶剤）との混合
物であることが好ましい。その際に、該良溶剤と該貧溶
剤とは相溶性であり、上記塗布温度において該貧溶剤の
蒸発速度が該良溶剤の蒸発速度よりも大きくないことが
必要である。

一般に該貧溶剤の混合割合を増大させるほど濃縮限界は
大きくなる。

上記の溶剤としては、ベンゼン、トルエン、キシレン、
エチルベンゼンなどのような芳香族炭化水素系溶剤；ヘ
キサン、オクタン、ノナン、シクロヘキサンなどのよう
な脂肪族炭化水素系溶剤；酢酸のような有機酸系溶剤；
酢酸エチル、酢酸ブチル、酢酸アミル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテルアセテート、セロソルブアセテ
ートなどのようなエステル系溶剤；アセトン、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノ
ンなどのようなケトン系溶剤；ジクロルメタン、１，２
−ジクロルエタン、クロロホルム、メチルクロロホルム
、トリクレン、四塩化炭素、テトラクロロエチレンなど
のようなハロゲン化炭化水素系溶剤；テトラヒドロフラ
ン、エチルエーテル、イソプロピルエーテル、ジオキサ
ン、ダイグライムなどのようなエーテル系溶剤：エタノ
ール、ｎ−プロパツール、イソプロパツール、ｎ−ブタ
ノール、アミルアルコール、ジアセトンアルコール、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノブチルエーテル、−プロピレングリコールモノ
メチルエーテル、ベンジルアルコールなどのようなアル
コール系溶剤ニジメチルホルムアミドのようなアミド系
溶剤；２．２．３．３、テトラフロロプロパツールなど
のようなフッ素化アルコール、フッ素置換ケトン、フッ
素置換エステル、フッ素置換アミド、フッ素置換エーテ
ル、フッ素置換芳香族炭化水素、フッ素置換詣肪族炭化
水素などのようなフッ素系溶剤などを挙げることができ
る。

本発明の製造方法において、上記色素溶液が上記限界濃
度を満足するものである限り特に限定されるものではな
いが、その取扱いの便宜上及びスピンコート法により基
板状の全体的に均一な膜厚の光吸収層を形成させるため
に、上記色素溶液中の上記色素の濃度は０．５〜１４重
量％、特に１〜１０重量％、更に特に１．５〜８重量％
であることが好ましい。

上記色素溶液中には、さらに酸化防止剤、ＵＶ吸収剤、
可塑剤、潤滑剤など各種の添加剤を目的に応じて添加し
てもよい。

結合剤を使用する場合に結合剤としては、例えばゼラチ
ン、ニトロセルロース、酢酸セルロース等のセルロース
誘導体、デキストラン、ロジン、ゴムなどの天然有機高
分子物質；及びポリエチレン、ポリプロピレン、ポリス
チレン、ポリイソブチレン等の炭化水素系樹脂、ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル・ポリ
酢酸ビニル共重合体等のビニル系樹脂、ポリアクリル酸
メチル、ポリメタクリル酸メチル等のアクリル樹脂、ポ
リビニルアルコール、塩素化ポリオレフィン、エポキシ
樹脂、ブチラール樹脂、ゴム誘導体、フェノール・ホル
ムアルデヒド樹脂等の熱硬化性樹脂の初期縮合物などの
合成有機高分子物質を挙げることができる。

上記色素溶液をスピンコート法により基板上に塗布する
に際しては、それ自体公知の装置及び方法を使用して行
なうことができる。上記色素溶液を、一般に０〜１００
℃、特に５〜８０℃、更に特に１０〜６０℃の温度で塗
布することが好ましい。基板の回転数はＪ色素溶液を塗
布するときは、２般に１０〜１０００ｒ、ｐ、＋ａ、、
特に１００〜５００　ｒ、ｐ、ｍ、にすることが好まし
く、色素塗膜を乾燥するときは、一般に３００〜ｔｏｏ
ｏ。

ｒ、ｐ、ａ＋、、特に５００〜７０００ｒ、ｐ、ｍ、、
更に特に７００〜４０００　ｒ、ｐ、ｍ、にすることが
好ましい。

この光吸収層の上に、情報記録媒体全体、特に光吸収層
を物理的及び化学的に保護する目的で保護層を設けても
よい。また、この保護層は、基板の光吸収層が設けられ
ていない側にも耐傷性、耐湿性を高めるために設けても
よい。

保護層に用いられる材料の例としては、無機物質として
は、５ｉＯ１ＳｉＯ２，５ｉｓＮ４、ＭｇＦ２、ＳｎＯ
，等を挙げることができる。また、有機物質としては、
熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、ＵＶ硬化性樹脂等を挙げ
ることができ、好ましくはＵＶ硬化性樹脂である。

保護層は、例えば熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂などを適
当な溶剤に溶解して塗布液を調製したのち、この塗布液
を塗布し、乾燥することによって形成することができる
。ＵＶ硬化性樹脂の場合には、そのままもしくは適当な
溶剤に溶解して塗布液を調製したのちこの塗布液を塗布
し、ＵＶ光を照射して硬化させることによフて保護層を
形成することができる。ＵＶ硬化性樹脂としては、ウレ
タン（メタ）アクリレート、エポキシ（メタ）アクリレ
ート、ポリエステル（メタ）アクリレート等の（メタ）
アクリレートのオリゴマー類、（メタ）アクリル酸エス
テル等の千ツマー類等と光重合開始剤等との通常のＵＶ
硬化性樹脂を使用することができる。これらの塗布液中
には、更に帯電防止剤、酸化防止剤、ＵＶ吸収剤等の各
種添加剤を目的に応じて添加してもよい。保護層の材料
としてＵＶ硬化性樹脂を用いることが好ましい。

保護層の層厚は一般には０．１〜１００μｍ、好ましく
は０．５〜２０μｍの範囲にある。

上記以外にも、保護層は、たとえばプラスチックの押出
加工で得られたフィルムを接着層を介して色素記録層の
上にラミネートすることにより形成することができる。

あるいは真空蒸着、スパッタリング、塗布等の方法によ
り設けられても−よい。

また、本発明の情報記録媒体の二枚を、それらの光吸収
層が内側になるように対面させ、二枚の情報記録媒体の
間に空間が形成されるようにリング状内側スペーサとリ
ング状外側スペーサとを介在させて二枚の情報記録媒体
を接合して、エアーサンドイッチ構造の情報記録媒体に
することができる。このエアーサンドイッチ構造の情報
記録媒体は、光吸収層は直接外気に接することがなく、
情報の記録、再生は基板を透過するレーザ光で行なわれ
るために、光吸収層が物理的又は化学的な損傷を受けた
り、或いはその表面に塵埃が付着して情報の記録、再生
の障害となることがない。エアーサンドイッチ構造の情
報記録媒体の片方の情報記録媒体は光吸収層が設けられ
ていない基板（プリピットが膜材られていてもよい）で
あってもよく、また、情報記録媒体は光吸収層の上に及
び／又は基板の光吸収層が設けられていない面に保護層
が設けられたものであってもよい。

本発明の情報記録媒体への情報の記録は、情報記録媒体
を定線速度（好ましくは１．２〜２．８ｍ／秒、特に好
ましくは１．２〜１．４ｍ／秒）にて回転させながら、
基板側から該ブレグルーブの底部にレーザー光を照射し
てグルーブ上にある光吸収層に再生用のピットを形成し
て信号を記録することにより行なう。信号としてはＣＤ
フォーマットのＥＦＭ信号を記録することが本発明の効
果を得る上で好ましい。一般に、記録光としては７００
〜９００ｎｍの範囲の発振波長を有する半導体レーザー
ビームが用いられる。本発明の情報記録媒体では、１０
ｍＷ以下のレーザーパワーで記録することができる。

上記の記録後のピットは、基板及び／又は色素がレーザ
光の照射により発熱し、溶融、蒸発、昇華、変形成るい
は変質することにより、基板−色素間に凸状、波状、凹
状等の変化が起こったり、色素内で変化が起こったり、
色素−金属反射層間で変化が起こったりするなどの形態
のものである。

上記記録方法により、本発明の情報記録媒体にＣＤフォ
ニマット信号などを定線速度で記録を行うことにより、
信号の変調度、再生Ｃ／Ｎなどの優れた記録再生特性を
得ることができ、さらに記録時のトラッキング性、特に
プッシュプル法によるトラッキング性が優れたものとな
る。更にＲＯＭ領域が設けられた本発明の情報記録媒体
の場合は、ＲＯＭ領域においても高い変調度の再生信号
を得ることができる。

以下に、本発明の実施例及び比較例を記載する。ただし
、これらの各側は本発明を制限するものではない。

［実施例１］ はぼ全面にプリグルーブが設けられた円盤状のポリカー
ボネート基板（外径：１２０ｍｍ、内径：１５ｍｍ、厚
さ：１．２ｍｍ、トラックピッチ：１．６μｍ、グルー
ブの半値幅：０．５５μｍ、グルーブの深さ：４０ｎｍ
）を用意した。

一方、下記構造式： を有する色素（Ａ）を、プロピレングリコールモノエチ
ルエーテルに溶解して、色素（Ａ）を２゜３重量％含有
する色素溶液を調製した。この色素溶液の２３℃におけ
る限界濃度は６０％であった。

この色素溶液を２３℃に維持し、２３℃の上記基板のプ
リグルーブ形成面上に、上記色素溶液をスピンコート法
により基板回転数２００　ｒ、ｐ、ｍ、の速度で４秒間
塗布した後、回転数７００　ｒ、ｐ、ｍ、で３０秒間乾
燥して光吸収層を形成した。

このようにして、基板に光吸収層が設けられた情報記録
媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について、グルーブ底部の光吸収
層の光学的膜厚、ランド部の光吸収層の光学的膜厚、ミ
ラ一部反射率、グルーブ反射率、記録後グルーブ反射率
、及びトラッキングサーボゲインを、下記の評価方法に
より測定した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例２］ 実施例１において、プレグルーブのグルーブの半値幅が
０．４５μｍ、グルーブの深さが３０ｎｍである他は実
施例１で使用した基板と同じ基板を使用し、光吸収層を
実施例１におけると同様にして基板上に形成して情報記
録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例１におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［比較例１コ 実施例１で使用した基板と同じ基板を使用し、色素溶液
を調製するための溶剤としてプロピレングリコールモノ
エチルエーテルの代わりに２゜２．３．３−テトラフロ
ロプロパツールを使用して調製した、色素（Ａ）を２．
３重量％含有する色素溶液（この色素溶液の２３℃にお
ける限界濃度は２０％未満であった）を使用した他は実
施例１におけると同様にして光吸収層を形成して情報記
録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例１におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例３］ 直径４６ｍｍ〜８０ｍｍの習域にＥＦＭ信号を記録した
プリピット（ビットの半値幅＝０．６μｍ、ピットの深
さ：１０１００ｎが形成され、直径８０ｎｍ〜１１８ｍ
ｍの領域にプリグルーブ（トラックピッチ＝１．６μｍ
、グルーブの半値幅：０．５５μｍ、グルーブの深さ：
４０ｎｍ）が形成された円盤状のポリカーボネート基板
（外径：１２０ｍｍ、内径：　１５ｍｍ、厚さ：１．２
ｍｍ）を用意した。

上記の基板を使用し、光吸収層を実施例１におけると同
様にして形成して情報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について、プリピット形成領域で
は、ビット部の光吸収層の光学的膜厚、ビット間部の光
吸収層の光学的膜厚、及びＩＩＴ変調度を下記の評価方
法により測定し、プリグルーブ形成領域では、実施例１
におけると同様にして各項目に関して評価した。評価結
果を第１表に記載する。

［実施例４］ 実施例３で使用した基板と同じ基板を使用し、色素溶液
として、下記構造式： を有する色素（Ｂ）を、２，２，３．３−テトラフロロ
プロパツールとプロピレングリコールモノエチルエーテ
ルとの９２＝８の体積比の混合溶剤に溶解して調製した
、色素（Ｂ）を２．３重量％含有する色素溶液（この色
素溶液の２３℃における限界濃度は９０％であった）を
使用した他は実施例３にあけると同様にして光吸収層を
形成して情報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例３にお番すると同
様にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例５］ 実施例３で使用した基板と同じ基板を使用し、色素溶液
として、色素（Ｂ）を、２，２，３．３−テトラフロロ
プロパツールとブタノールとの７０　：　３０の体積比
の混合溶剤に溶解して調製した、色素（Ｂ）を２．３重
量％含有する色素溶液（この色素溶液の２３℃における
限界濃度は９０％であった）を使用した他は実施例３に
おけると同様にして光吸収層を形成して情報記録媒体を
製造した。

得られた情報記録媒体について実施例３におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例６］ プリピットのビットの半値幅が０，５μｍ、ビットの深
さが１２０ｎｍである他は実施例３で使用した基板と同
じ基板を使用し、これに光吸収層を実施例３にあけると
同様にして形成して情報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例３におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例７］ プリピットのビットの半値幅が０．５μｍ１ピツトの深
さが９０ｎｍである他は実施例３で使用した基板と同じ
基板を使用し、これに光吸収層を実施例３におけると同
様にして形成して情報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例３におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表釘記載する。

［実施例８］ 実施例３で使用した基板と同じ基板を使用し、色素溶液
として、色素（Ｂ）を、２，２，３．３−テトラフロロ
プロパツールとエチルセロソルブとの９０：１０の体積
比の混合溶剤に溶解して調製した、色素（Ｂ）を２．３
重量％含有する色素溶液（この色素溶液の２３℃にあけ
る限界濃度は７０％であった）を使用した他は実施例３
にあけると同様にして光吸収層を形成して情報記録媒体
を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例３におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例９］ 実施例３で使用した基板と同じ基板を使用し、色素溶液
として、色素（Ｂ）を、２，２，３．３−テトラフロロ
プロパツールとイソアミルアルコールとの７０　：　３
０の体積比の混合溶剤に溶解して調製した、色素（Ｂ）
を２．３重量％含有する色素溶液（この色素溶液の２３
℃における限界濃度は５５％であった）を使用した他は
実施例３におけると同様にして光吸収層を形成して情報
記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例３におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［実施例１０コ 色素（Ｂ）を、下記構造式： を有する色素（Ｃ）に変えた他は実施例４におけると同
様にして（色素溶液の２３℃における限界濃度は９０％
であった）、情報記録媒体を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例３におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［比較例２］ 実施例３で使用した基板と同じ基板を使用し、色素溶液
を比較例１で使用した色素溶液に変えた他は実施例３に
おけると同様にして光吸収層を形成して情報記録媒体を
製造した。

得られた情報記録媒体について実施例３におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［比較例３］ 実施例３で使用した基板と同じ基板を使用し、色素溶液
として色素（Ｂ）を２．２，３．３−テトラフロロプロ
パツールに溶解して調製した、色素（Ｂ）を２．３重量
％含有する色素溶液（この色素溶液の２３℃における限
界濃度は２０％未満であった）を使用した他は実施例３
におけると同様にして光吸収層を形成して情報記録媒体
を製造した。

得られた情報記録媒体について実施例３におけると同様
にして評価した。評価結果を第１表に記載する。

［情報記録媒体の評価］ 上記で得られた情報記録媒体を、ディスク評価装置（Ｎ
Ａ：０．５、レーザー波長ニア８０ｎｍ）及びＥＦＭエ
ンコーダ（にＥＮ−１ｆ００Ｄ）を用いて、記録する際
のレーザーパワー（記録パワー）を４ｍＷ、定線速度：
１．３ｍ／秒にてプレグルーブの底部に記録を行なった
。

１）グルーブ底部の光吸収層の光学的膜厚光吸収層の絶
対膜厚を、断面部の超高分解能電子顕微鏡（株式会社日
立製作所製５９００）観察によって測定し、光吸収層の
屈折率を、別に形成した色素薄膜の反射率、透過率、及
び絶対膜厚を測定した結果から求め、これらの絶対膜厚
と屈折率とから光学的膜厚を算出した。

２）ランド部の光吸収層の光学的膜厚 上記１）の方法と同様にして求めた。

３）ビット部の光吸収層の光学的膜厚 上記１）の方法と同様にして求めた。

４）ビット間部の光吸収層の光学的膜厚上記１）の方法
と同様にして求めた。

５）トラックエラー信号振幅（ＴＥ） ディスク評価装置のＰＰトラックエラー信信号幅幅Ｖ） ６）ＩＩＴ変調度 上記記録されたＣＤフォーマット信号のうち記録長１１
Ｔの直流再生信号について、信号部分とミラ一部（信号
の無い部分）の信号強度を測定し、その変調度（Ｃ）を
次式により求めた。

５Ｈ−ＳＬ Ｃ＝ ×　１００ Ｈ （ＳＲ：信号の最大強度、ｓＬ：信号の最小強度）以下
余白 第１表より明らかなように、実施例の情報記録媒体は、
プリグルーブ形成領域（情報記録領域）でトラックエラ
ー信号振幅が大きく、プリピット形成領域（ＲＯＭ領域
）でもトラックエラー信号振幅及びＩＩＴ変調度が大き
く優れた性能を有するものである。

これに対して、比較例の情報記録媒体は、プリグルーブ
形成領域でトラックエラー信号振幅が小さくトラッキン
グが極めて不安定であった。また、プリピット形成領域
（ＲＯＭ領域）でもトラックエラー信号振幅が小さくト
ラッキングが極めて不安定であフた。トラッキングが不
安定であったためにプリピットの変調度を測定すること
ができなかったが、トラッキングをはずして変調度を測
定したところ、ＩＩＴ変調度は何れも５０％以下であっ
た。

【図面の簡単な説明】

第１図は、本発明の情報記録媒体の一実施例のプリグル
ーブ領域における断面の一部を模式的に示す断面図であ
る。 第２図は、本発明の情報記録媒体の一実施例のプリピッ
ト領域における断面の一部を模式的に示す断面図である
。 第３図は、従来公知の情報記録媒体のプリグルーブ領域
における断面の一部を模式的に示す断面図である。 １１．２１．３１：基板、 １２．２２．３２：光吸収層、 １３．３３ニブリグルーブ、 ２３：プリピット、 １４．３４：ランド部、 ２４：ビット間部、 １５．３５ニゲル一プ底部、 ２５：ビット部。 特許出願人　富士写真フィルム株式会社代　理　人　弁
理士　　柳　川　秦　男手続補正書（自発） 平成３年　８月２０日 明細書の「発明の詳細な説明」の欄を下記の通り補正す
る。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、プリグルーブが形成された円盤状の基板上に、レー
   ザ光を照射して再生用のピットを形成することにより情
   報の記録が可能な色素を含む光吸収層が設けられてなる
   情報記録媒体であって、グルーブ底部の光吸収層の光学
   的膜厚とランド部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／
   ８（但し、λは再生用レーザ光の波長）以下であること
   を特徴とする情報記録媒体。 ２、プリピット及びプリグルーブが形成された円盤状の
   基板上に、レーザ光を照射して再生用のピットを形成す
   ることにより情報の記録が可能な色素を含む光吸収層が
   設けられてなる情報記録媒体であって、ピット部の光吸
   収層の光学的膜厚とピット間部の光吸収層の光学的膜厚
   との差がλ／８（但し、λは再生用レーザ光の波長）以
   下であり、グルーブ底部の光吸収層の光学的膜厚とラン
   ド部の光吸収層の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λ
   は再生用レーザ光の波長）以下であることを特徴とする
   情報記録媒体。 ３、プリグルーブ又はプリピット及びプリグルーブが形
   成された円盤状の基板上に、色素を溶剤に溶解して調製
   した色素溶液であって、該色素溶液の塗布温度において
   該色素溶液から該溶剤を蒸発させることにより色素の析
   出が始まったときの色素懸濁溶液の体積の、該色素溶液
   の元の体積に対する比率として定義される濃縮限界が９
   ９〜２０％である色素溶液を、スピンコート法により塗
   布し乾燥することによって、グルーブ底部の光学的膜厚
   とランド部の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λは再
   生用レーザ光の波長）以下であり、プリピットが形成さ
   れた基板の場合にはピット部の光学的膜厚とピット間部
   の光学的膜厚との差がλ／８（但し、λは再生用レーザ
   光の波長）以下である、レーザ光を照射して再生用のピ
   ットを形成することにより情報の記録が可能な光吸収層
   を、該基板のプリグルーブ又はプリピット及びプリグル
   ーブが形成された面上に形成することを特徴とする情報
   記録媒体の製造方法。