JPH04111211A - 薄膜磁気ヘッド - Google Patents
薄膜磁気ヘッドInfo
- Publication number
- JPH04111211A JPH04111211A JP23005990A JP23005990A JPH04111211A JP H04111211 A JPH04111211 A JP H04111211A JP 23005990 A JP23005990 A JP 23005990A JP 23005990 A JP23005990 A JP 23005990A JP H04111211 A JPH04111211 A JP H04111211A
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- Japan
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- patterns
- gap
- layer
- substrate
- magnetic core
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- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野〕
本発明は、磁気ヘッドに関し、特に磁気ディスク装置用
の薄膜磁気ヘッドに関する。
の薄膜磁気ヘッドに関する。
従来、この種の薄膜磁気ヘッドは、第２図に示すよう構
成になっていた。即ち基板１０の上に鉄ニツケル合金の
薄膜で下部コア１３を形成し、その上に酸化アルミ（Ａ
Ｉ！、、 ０３ ）等のギャップ１４層で被覆する。さ
らに、その上にはポジティブフォトレジストを加熱硬化
させた楕円形状の下部絶縁層１５と、導電体のコイル１
６と、前述した下部絶縁層１５と同じ材料の上部絶縁層
１７と、前述した下部コア１３と同一パターンの上部コ
ア１８とを順次積層する。
成になっていた。即ち基板１０の上に鉄ニツケル合金の
薄膜で下部コア１３を形成し、その上に酸化アルミ（Ａ
Ｉ！、、 ０３ ）等のギャップ１４層で被覆する。さ
らに、その上にはポジティブフォトレジストを加熱硬化
させた楕円形状の下部絶縁層１５と、導電体のコイル１
６と、前述した下部絶縁層１５と同じ材料の上部絶縁層
１７と、前述した下部コア１３と同一パターンの上部コ
ア１８とを順次積層する。
また、各パターンの形成にはフォトリソ技術が使用され
ており、フォトマスクと基板１０上面とを接触させ、紫
外線露光により、フォトレジストパターンを形成する。
ており、フォトマスクと基板１０上面とを接触させ、紫
外線露光により、フォトレジストパターンを形成する。
その後電気メツキ法等でコイル１６と上部及び下部コア
１８．１３を付ける。
１８．１３を付ける。
上述した従来の薄膜ヘッドは、図２に示すようにコイル
、絶縁層と積層するに従い、基板１０とフォトマスクと
の隙間９が大きくなる。このため、フォトリソでの解像
度が悪くなる。
、絶縁層と積層するに従い、基板１０とフォトマスクと
の隙間９が大きくなる。このため、フォトリソでの解像
度が悪くなる。
薄膜ヘッドが高密度化になるに従い、コイル１６、上部
コア１８の各パターンも微細化されており、解像度の悪
化はパターン形成を困難にするという不都合がある。
コア１８の各パターンも微細化されており、解像度の悪
化はパターン形成を困難にするという不都合がある。
また、隙間９を小さくする方法として、基板１０上に溝
をいれ、その上に絶縁層、コイルを形成する方法がある
。しかし、段差部のスロープ形状形成は、加工方法が複
雑になるという欠点がある。
をいれ、その上に絶縁層、コイルを形成する方法がある
。しかし、段差部のスロープ形状形成は、加工方法が複
雑になるという欠点がある。
本発明は、少なくとも一層のコイルパターンと、このコ
イルパターンを挟む第１及び第２の絶縁パターンと、こ
の第１及び第２の絶縁パターンの全体を挟む第１及び第
２の磁気コアと、第２の磁気コアの外面側に装備された
基板とを備え、第１及び第２の磁気コアは、その一端部
であるコイルパターンの中心部側が連結されると共に、
その他端部であるコイルパターンの外周部側の一部に書
き込み読み出し用のギャップが形成されてなる薄膜磁気
ヘッドにおいて、ギャップ側に位置する基板と第２の磁
気コアとの間に、段差解消層を装備する、という構成を
採っている。これによって前述した目的を達成しようと
するものである。
イルパターンを挟む第１及び第２の絶縁パターンと、こ
の第１及び第２の絶縁パターンの全体を挟む第１及び第
２の磁気コアと、第２の磁気コアの外面側に装備された
基板とを備え、第１及び第２の磁気コアは、その一端部
であるコイルパターンの中心部側が連結されると共に、
その他端部であるコイルパターンの外周部側の一部に書
き込み読み出し用のギャップが形成されてなる薄膜磁気
ヘッドにおいて、ギャップ側に位置する基板と第２の磁
気コアとの間に、段差解消層を装備する、という構成を
採っている。これによって前述した目的を達成しようと
するものである。
［発明の実施例］
以下、本発明の一実施例を第１図ないし第２図に基づい
て説明する。
て説明する。
第１図において、本実施例は、少なくとも一層のコイル
パターン１と、このコイルパターン１を挟む第１及び第
２の絶縁パターン２．３と、この第１及び第２の絶縁パ
ターン２．３の全体を挟む第１及び第２の磁気コア４．
５と、第２の磁気コア５の外面側に装備された基板６と
を備えている。
パターン１と、このコイルパターン１を挟む第１及び第
２の絶縁パターン２．３と、この第１及び第２の絶縁パ
ターン２．３の全体を挟む第１及び第２の磁気コア４．
５と、第２の磁気コア５の外面側に装備された基板６と
を備えている。
第１及び第２の磁気コア４．５は、その一端部であるコ
イルパターンの中心部側が連結されると共に、その他端
部であるコイルパターンの外周部側の一部に、書き込み
読み出し用のギャップ７が形成されている。そして、ギ
ャップ７側に位置する基板６と第２の磁気コア５との間
に、段差解消層８が装備されている。符号２０は保護膜
を示し、符号３０は記録媒体を示す。
イルパターンの中心部側が連結されると共に、その他端
部であるコイルパターンの外周部側の一部に、書き込み
読み出し用のギャップ７が形成されている。そして、ギ
ャップ７側に位置する基板６と第２の磁気コア５との間
に、段差解消層８が装備されている。符号２０は保護膜
を示し、符号３０は記録媒体を示す。
これを更に詳述すると、基板６上にノボラック／ナフト
キノンジアジド系のポジティブフォトレジストを５〜１
０〔μｍ］の厚さにスピンコードし、段差解消層８をパ
ターニングする。
キノンジアジド系のポジティブフォトレジストを５〜１
０〔μｍ］の厚さにスピンコードし、段差解消層８をパ
ターニングする。
次に、オーブン又はホットプレートで１１０〜１４０°
Ｃに加熱して流動を起こすことにより、パターンの角部
に丸みを帯びさせる。次に２００°Ｃ以上に加熱するこ
とによりフォトレジストを硬化させ、段差解消層８を形
成する。その上に第２の磁気コア５．ギャップ７、第２
の絶縁パターン３．コイ／Ｌ／ パターン１．第１の絶
縁層パターン２．第１の磁気コア４を通常の薄膜ヘッド
の製造方法で順次形成する。
Ｃに加熱して流動を起こすことにより、パターンの角部
に丸みを帯びさせる。次に２００°Ｃ以上に加熱するこ
とによりフォトレジストを硬化させ、段差解消層８を形
成する。その上に第２の磁気コア５．ギャップ７、第２
の絶縁パターン３．コイ／Ｌ／ パターン１．第１の絶
縁層パターン２．第１の磁気コア４を通常の薄膜ヘッド
の製造方法で順次形成する。
段差解消層８は、第１及び第２の絶縁パターンとポジネ
ガの関係、すなわち絶縁層の形をぬいたパターン８（第
２図参照）になっており、第１及び第２の絶縁パターン
層２．３が段差解消層８の凹部に入るようになっている
。
ガの関係、すなわち絶縁層の形をぬいたパターン８（第
２図参照）になっており、第１及び第２の絶縁パターン
層２．３が段差解消層８の凹部に入るようになっている
。
（発明の効果〕
以上説明したように、本発明によると、段差解消にフォ
トレジストを用いることにより、段差解消膜層の膜厚の
均一化および段差解消層の側壁のスロープを形成するこ
とができる。また、段差解消により高段差部を小さくし
、フォトリソの解像度を上げることにより、第１の磁気
コア、コイルパターン等の微細パターン形成が可能とな
る、という従来にない優れた薄膜磁気ヘッドを提供する
ことができる。
トレジストを用いることにより、段差解消膜層の膜厚の
均一化および段差解消層の側壁のスロープを形成するこ
とができる。また、段差解消により高段差部を小さくし
、フォトリソの解像度を上げることにより、第１の磁気
コア、コイルパターン等の微細パターン形成が可能とな
る、という従来にない優れた薄膜磁気ヘッドを提供する
ことができる。
第１図は本発明の一実施例の断面図、第２図は第１図の
段差解消層のパターンを示す説明図、第３図は従来例を
示す断面図である。 １・・・・・・段差解消層、２，３・・・・・・絶縁パ
ターン、５・・・・・・磁気コア、 ６・・・・・・基板、 ７・・・・・・ギャッ ８・・・・・・段差解消層。
段差解消層のパターンを示す説明図、第３図は従来例を
示す断面図である。 １・・・・・・段差解消層、２，３・・・・・・絶縁パ
ターン、５・・・・・・磁気コア、 ６・・・・・・基板、 ７・・・・・・ギャッ ８・・・・・・段差解消層。
Claims (1)
- （１）、少なくとも一層のコイルパターンと、このコイ
ルパターンを挟む第１及び第２の絶縁パターンと、この
第１及び第２の絶縁パターンの全体を挟む第１及び第２
の磁気コアと、前記第２の磁気コアの外面側に装備され
た基板とを備え、前記第１及び第２の磁気コアは、その
一端部である前記コイルパターンの中心部側が連結され
ると共に、その他端部である前記コイルパターンの外周
部側の一部に書き込み読み出し用のギャップが形成され
てなる薄膜磁気ヘッドにおいて、前記ギャップ側に位置
する基板と第２の磁気コアとの間に、段差解消層を装備
したことを特徴とする薄膜磁気ヘッド。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23005990A JPH04111211A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 薄膜磁気ヘッド |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23005990A JPH04111211A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 薄膜磁気ヘッド |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04111211A true JPH04111211A (ja) | 1992-04-13 |
Family
ID=16901911
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23005990A Pending JPH04111211A (ja) | 1990-08-31 | 1990-08-31 | 薄膜磁気ヘッド |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04111211A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0546930A (ja) * | 1991-08-12 | 1993-02-26 | Alps Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| US6549370B1 (en) | 1999-12-09 | 2003-04-15 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head having a magnetic layer that defines throat height and includes a sloped portion |
Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57189321A (en) * | 1981-05-18 | 1982-11-20 | Fujitsu Ltd | Manufacture of thin film magnetic head |
| JPS61131215A (ja) * | 1984-11-29 | 1986-06-18 | Olympus Optical Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS62229512A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-08 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 |
-
1990
- 1990-08-31 JP JP23005990A patent/JPH04111211A/ja active Pending
Patent Citations (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS57189321A (en) * | 1981-05-18 | 1982-11-20 | Fujitsu Ltd | Manufacture of thin film magnetic head |
| JPS61131215A (ja) * | 1984-11-29 | 1986-06-18 | Olympus Optical Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| JPS62229512A (ja) * | 1986-03-31 | 1987-10-08 | Hitachi Ltd | 薄膜磁気ヘツド及びその製造方法 |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0546930A (ja) * | 1991-08-12 | 1993-02-26 | Alps Electric Co Ltd | 薄膜磁気ヘツド |
| US6549370B1 (en) | 1999-12-09 | 2003-04-15 | Tdk Corporation | Thin-film magnetic head having a magnetic layer that defines throat height and includes a sloped portion |
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