JPH041025A - エンボス版及び該エンボス版を用いた異なる艶部を有するエンボスシートの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明はエンボス版及び該エンボス版を用いた異なる艶
部を有するエンボスシートの製造方法に関する。

［従来の技術］ 従来から、表面に凹凸模様による意匠性を付与したエン
ボスシートが化粧シート等に用いられている。これらの
凹凸模様を付与する方法として例えば、鋼板等のエンボ
ス版基材に化粧シートの凹凸模様に対応する凹凸を電鋳
やエツチング等の方法で形成したエンボス版を製造して
、該エンボス版を熱可塑性樹脂シートのような化粧シー
ト基材の表面に密着し加圧転写してエンボスを付与する
方法が用いられていた。

（発明が解決しようとする課題〕 しかしながら従来のエンボス版を用いて製造したエンボ
スシートは、単なる凹凸模様が付与されただけであり、
これらの凹凸模様により得られる表面は、艷の変化がな
く単調なものであり、意匠性に乏しいものであった。

例えば、タイル壁模様の場合にタイルの部分は凸面で艶
が有り、目地の部分は凹面で艷のない状態になっている
。このタイル壁模様の化粧シートを従来の凹凸模様だけ
のエンボス版を用いて製造しようとすると、凹凸は付与
出来るが、タイルに相当する部分と目地に相当する部分
の艷の違いを付与することは困難であった。

またエンボス版を用いない方法でこれらの化粧シートを
製造することは、生産性の点で非常におとるために実用
的ではなかった。

本発明は上記従来の欠点を解決しようとするものであっ
て、表面に艷の変化のある意匠性に優れたエンボスシー
トの製造方法を提供するとともに、そのエンボスシート
を再現性と効率良く製造するためのエンボス版を提供す
ることを目的とする。

〔課題を解決するための手段］ 本発明は、基材表面の一部に微細凹凸が形成されている
ことを特徴とするエンボスシート製造用エンボス版であ
る。

また表面に凹凸模様を設けた基材を用いたり、凹凸模様
と微細凹凸を同調して設けることもできる。

また本発明方法は、基材表面の所定部分以外を被覆して
マスク層を形成した後に基材表面に研削粒子を吹きつけ
てブラスト処理して、表面のマスク層非形成部分に微細
凹凸を設けたエンボス版を形成し、該エンボス版又は該
エンボス版をマスター版として用いて形成したエンボス
版をシート基材に密着加圧して微小凹凸模様を転移させ
、シートの所定部分に微細凹凸による艶消し部を形成す
ることを特徴とするエンボスシートの製造方法であり、
本発明の方法ではブラスト処理工程の前又は／及び後に
、基材表面に凹凸模様を形成することもできる。

また本発明方法は基材表面に凹凸模様を設けた後に基材
表面の全面に研削粒子を吹きつけてブラスト処理して微
細凹凸を形成した後に、該凹凸模様の凸部を研磨して平
滑化し凹部のみに微細凹凸を設けてエンボス版を形成し
、該エンボス版又は該エンボス版をマスター版として用
いて形成したエンボス版をシート基材に密着加圧して微
小凹凸模様を転移させ、シートの所定部分に微細凹凸に
よる艶消し部を形成することもできる。

〔実施例〕

本発明を図面に基き詳細に説明する。

第１図に本発明のエンボス版を示す。第１図に示すよう
にエンボス版１は、基材２表面にブラスト処理による微
細凹凸３が形成されている。

基材２の材質は、従来のエンボス版に用いられている公
知の鋼板、銅板等の材質の金属板や金属円筒、エポキシ
樹脂、ジアリルフタレート樹脂等の材質からなる樹脂板
又は樹脂円筒等が用いられる。

微細凹凸３の形状は、従来公知のブラスト処理で、基材
表面が艶消し状になるように形成することができ、ブラ
スト処理の条件により、艶消しの程度は目的に応した所
望のものを用いることができる。微細凹凸３を設ける位
置は、エンボス版１の表面（エンボス面）ならば何処で
もよい。

本発明のエンボス版ｌは平版状でも円筒形でもどちらの
形状でもよいが、エンボス版は円筒形の形状がエンボス
シートを連続的に製造する場合、エンボス版を回転させ
ながら連続したシート基材にエンボスを連続的に付与で
き、エンポスシ一トの生産性を上げることができるため
に好ましい。

本発明のエンボス版１は、基材２表面に凹凸模様４を設
けたものを用いることができ、さらに凹凸模ＩＩｊ４と
微細凹凸３を同調して設けることもできる。

尚、上記の同調して設けるということは凹凸模様４の凹
部又は凸部の上に微細凹凸３が設けられていることをい
う。

凹凸模様４の形状は、公知の各種凹凸が使用でき、例え
ば、木目、布目、砂目等の天然物やタイル目地等の人工
物の凹凸形状を模写したもの、文字、記号、万線等各種
の抽象模様などがあげられる。

上記の凹凸模様の大きさは、特に限定されないが、通常
凹部又は凸部の大きさが１０〜５０００μｍ程度に形成
でき、好ましくは３０〜１００μｍである。

凹凸模１４がエンボス版に設けられていると、微細凹凸
３の艶消しの意匠に凹凸模様４の深さの意匠が加わり、
意匠性が向上する。更に微細凹凸３と凹凸模様４が同調
して設けられていると、凹凸模様を微細凹凸の艶消しが
強調されて立体感がより発現して、エンボス版を使用し
たエンボスシートの意匠性がより向上する。

次に本発明のエンボスシートの製造方法について説明す
る。

第２図（ａ）、い）は、エンボス版の製造方法について
示し、５はマスク層で、６はエンボス版基材、７はエン
ボス版原版である。

本発明エンボス版ｌは、第２図（ａ）に示すように、エ
ンボス版基材６表面の所定部分以外を被覆してマスク層
５を形成した後、基材表面全体に研削粒子を吹きつけブ
ラスト処理し、基材表面のマスク層非形成部分に微細凹
凸３を設けたエンボス版原版７を製造しく第２図ら））
、該エンボス版原版７を別のエンボス版基材６に転写す
る方法により得ることができる。

第３図にエンボスシートを示す、８はエンボスシート、
９はシート基材、１０は印刷層、１１はエンボス模様で
ある。このエンボスシート８は上記のエンボス版１をシ
ート基材９の表面にエンボス面が合わさるように積層さ
せ、機械的に加圧密着してエンボス模様を転移すること
により、エンボスシート８を得ることができる。

本発明の方法ではエンボスシート８を製造する際、エン
ボス版原版７をエンボス版として使用することもできる
が、上記したように別のエンボス版基材にエンボス版原
版７の表面意匠を転写して、反転した凹凸を形成したエ
ンボス版を用いてエンボスシート製造用に用いることが
好ましい。

このように、−旦エンボス版原版７を作成し、この原版
よりエンボス版１を作成して用いることにより、エンボ
ス版原版から全く同一のエンボス版が多数製造できるた
めに、多数のエンボスシートを製造する場合等に途中で
エンボス版が摩耗して交換しても、はじめに製造したシ
ートと最後に製造したシートの意匠が相違することはな
い、更にエンボス版が破損しても最初からエンボス版を
製造する手間が省け、微細凹凸による艷の安定したもの
が得られる。

本発明において、エンボス版原版の基材に凹凸模様を付
与する方法としては、従来公知のミル加工、電鋳法、腐
食法等の方法を用いることができる。

マスク層５は凹部及び／又は凸部の全体に形成しても部
分的に形成してもよく、或いは凸部と凹部の部分に形成
してもよい。

マスク層５の厚みは、ブラスト処理の際に研削粒子が基
材にまで到達しない程度あればよく、通常はマスクの材
質によっても異なるが５０〜１５０μｍ程度に形成され
る。

マスク層５を形成する樹脂は、ブラストを施しても摩耗
し難い樹脂が好ましく、これらの樹脂として具体的には
、ポリウレタン、エポキシ、ポリエステル等の熱硬化性
樹脂、アクリル、セルロース系、塩化ビニル等の熱可塑
性樹脂、固層反応型電離放射線硬化型樹脂等が挙げられ
る。

固層反応型電離放射線硬化型樹脂は、未硬化の状態では
常温で固体であり、熱可塑性、溶剤溶解性を有していな
がら、乾燥によって見かけ上、または手で触った状態で
非流動性（指触乾燥性）であり、かつ非粘着性である塗
膜を与える電離放射線硬化性樹脂を主成分として構成さ
れ、ガラス転移温度が０〜２５０°Ｃのポリマー中にラ
ジカル重合性不飽和基を有するものや、融点が２０〜２
５０°Ｃでありラジカル重合性不飽和基を有する化合物
があり、これらを混合して用いることもできる。

さらに、それらに対してエチレングリコールジ（メタ）
アクリレート等のラジカル重合性不飽和単量体を希釈側
として加えて使用することもでき、樹脂硬化物の可とう
性を得るために、セルロース樹脂、ウレタン樹脂、ブチ
ラール樹脂等の非架橋型の熱可塑性樹脂を添加してもよ
い、これらの樹脂はベンゾフェノン類、アセトフェノン
類、ビアセチル類、チオキサントン類やアミン類等やそ
の他公知の光重合開始剤や増感側を添加して光又は紫外
線硬化性にすることができる。

上記のガラス転移温度が０〜２５０°Ｃのポリマー中に
ラジカル重合性不飽和基を有するものとして、具体的に
はＮ−メチロール（メタ）アクリルアミド等の水酸基を
有する単量体、メタアクリル酸等のカルボキシル基を有
する単量体、グリシジル（メタ）アクリレート等のエポ
キソ基を有する単量体、２−アジリジニルエチル（メタ
）アクリレート等のアジリジニル基を有する単量体、（
メタ）アクリルアミド等のアミノ基を有する単量体、２
−（メタ）アクリルアミド−２−メチルプロパンスルフ
ォン酸等のスルフォン基を有する単量体、２．４−トル
エンジイソシアネート等のジイソシアネートと活性水素
を有するラジカル重合性単量体の付加物等のイソシアネ
ート基を有する単量体等を重合または共重合体させ、ラ
ジカル重合性不飽和基と上記の重合体と反応する管能基
の両者を有する単量体を上記の重合体と縮合反応や重付
加反応させて得られたものが挙げられる。

さらにメチル（メタ）アクリレート等のように上記の重
合体と重合してガラス転移点を調節したり硬化膜の物性
を調節するための共重合可能な単量等を重合もしくは共
重合したものも用いることができる。

又融点が２０〜２５０°Ｃでありラジカル重合性不飽和
基を有する化合物は、具体的にはステアリルアクリレー
ト、ステアリル（メタ）アクリレート、トリアクリルイ
ソシアヌレート、シクロヘキサンジオールジ（メタ）ア
クリレート、シクロヘキサンジオールジアクリレート、
スピログリコールジアクリレート、スピログリコール（
メタ）アクリレート等が挙げられる。

マスク層５の形成方法は、ブラスト処理する場所以外の
場所に上記の材料で被覆すればよく、例えば、上記の樹
脂を基材上に塗工して乾燥しくこの時点では、硬化性樹
脂の場合まだ未硬化の状態）だ後に不要部（ブラスト処
理を施す部分）を手作業等の方法で除去し、加熱又は光
及び電離性放射線照射などの方法で完全に硬化させる方
法がある。

またマスク層５は、上記の樹脂シート等を基材上の必要
な部分に粘着側等で貼り付けて形成してもよい。

好ましいマスク層５の形成方法としては、例えば基材の
表面全体に電離放射線硬化型樹脂を塗工して乾燥した後
に、所望の被覆部のみをパターン状に光又は電離性放射
線を照射して所望部分のみ樹脂を硬化させた後に、未硬
化部分の樹脂を洗い出して除去して所望の部分のみマス
ク層を形成することができるレジスト法等が挙げられる
。

マスク層５は、ブラスト後にはエンボス版から剥離せず
に用いることができるが、機械的剥離や溶剤洗浄等の方
法を用いて基材から剥離することもできる。

凹凸模様の凹部又は／及び凸部を粗面化する場合のブラ
ストは、従来公知の方法で行うことができ、例えば研削
粒子には、粒子径１〜１００μｍの鉄、炭化珪素、アル
ミナ、酸化クロム（ＣｒｚＯ：＋）、酸化鉄（Ｆｅｚｅ
ｓ）等の無機質粒子を用いて、圧縮空気等の力で吹きつ
ける方法を用いることができる。

エンボス版原版７からエンボス版１を製造する場合の、
エンボス版基材６は銅板、鋼板等の平版又は円筒等が用
いられる。又このエンボス版１の表面強度向上の目的で
表面にクロムメツキを施したりして表面処理を行うこと
ができる。これらのエンボス版ｌの処理は、微細凹凸３
及び凹凸模様４を付与する前後のいずれでもよい。

本発明は、凹凸模様４をエンボス版基材６に形成した後
にマスク層５を形成してブラスト処理を行い微細凹凸３
を設けてもよいが、微細凹凸３を平坦な表面のエンボス
版基材６に形成した後にマスク層５を形成してブラスト
処理を行い凹凸模様４を設ける方法を採用することもで
き、後者の方法が凹部又は凸部のマスク層を除去する必
要がないためマスキングが容品であることから好ましい
。

また、ブラスト処理ば凹部でも凸部でもどちらに行って
もよいが、ブラスト処理する部分の大きさが小さい場合
、凹部にブラスト処理を行なうようにすると、ブラスト
処理によって凸部の基板が摩耗して欠損したりする虞れ
がなくなり好ましい。

エンボスシート８は第３図に示すように、シート基材９
と該シート基材にエンボス版１の意匠を転写付与して形
成される。またエンボスシート８は、第３図に示すよう
に印刷層１０や蒸着層等の装飾層を設けることもできる
。

シート基材９は、通常のエンボスシートに用いられる従
来公知の材料が用いられ、例えばポリエチレン、ポリプ
ロピレン等のポリオレフィン系樹脂、ポリ塩化ビニル、
ポリ塩化ビニリデン、ポリビニルアルコール等のビニル
系樹脂、ポリエチレンテレフタレート等のポリエステル
樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリアクリル酸ブチル
等のアクリル系樹脂、ポリスチレン、ポリアクリロニト
リルブタジェンスチレン等のスチレン系樹脂、ポリカー
ボネート、ナイロン、エチレン酢酸ビニル共重合体、エ
チレンビニルアルコール共重合体、アイオノマー等のプ
ラスチックの、フィルム、シート及び板や木、合板、バ
ーチクルボード等の木質系板、鉄、アルミニウム、銅等
の金属箔、シート及び板、並びに上記の材料の複合体や
上記のシートやフィルムをその他の基材に貼着したもの
でもよく、例えば塩化ビニルゾル被覆鋼板等が挙げられ
る。

シート基材９にエンボス版ｌを用いてエンボスを付与す
る方法は、従来公知の平板プレス機、ロールエンボス機
等の各種のプレス機械に意匠を付与したエンボス版を装
着して、例えばエンボス版の意匠付与するために熱可塑
性樹脂のシート基材９を用いた場合は、該熱可塑性樹脂
の軟化温度又は熱変形温度と溶融温度の間の適当な温度
に加熱し、エンボス版１を押圧して賦型し、冷却してエ
ンボス形状を固定する。この場合の加熱方式としては、
赤外線照射、温風吹きつけ、加熱ローラーからの伝導熱
、誘電加熱等の公知の方法を用いることができる。

本発明は凹凸模様４を設けないで、微細凹凸３のみでも
よく、この場合凹凸模様のないエンボス版基材に微細凹
凸３を直接設ければよい。

本発明は、エンボス版１の形状が凹凸模様４の凹部にの
み微細凹凸３を有し凸部が平滑である場合は、マスク層
５を用いずにエンボス版１を製造することもできる。第
４図（ａ）に示すように、エンボス版基材６表面に凹凸
模様を設け、次いでエンボス版基材６表面金体に研削粒
子を吹きつけてブラスト処理し、微細凹凸３をエンボス
版基材６表面金体に形成しく同図（ｂ））、次いでエン
ボス版基材６表面の凹凸模様４の凸部１２を研磨して平
滑化し、エンボス版基材６の凹部１３のみに微細凹凸３
を設けてエンボス版１を形成することもできる（同図（
Ｃ）） 上記の方法において、基材１の材質や凹凸模様４と微細
凹凸３の形成方法等は、第２図で説明した材質や方法と
同様に行うことができる。またエンボス版基材６表面の
凹凸模様４の凸部１２を研磨して平滑化する方法は、公
知の研磨方法が用いられ具体的には砥石研磨、凹部１３
のみにレジスト樹脂を充填した後に電解研磨を行う等の
方法が挙げられる。上記の方法で形成したエンボス版１
は第２図で説明したように、マスター版として用いて別
のエンボス版基材にエンボスを転写して用いることもで
き、該エンボス版１又はマスター版より形成したエンボ
ス版を用いて第３図のエンボスシートの説明で述べた方
法と同様にしてエンボスシートを形成することができる
。

このようにエンボス版１の凹部にのみ微細凹凸３を有し
凸部が平滑である場合は、マスク層５を用いずにエンボ
ス版１を形成することにより、エンボス版１の製造工程
においてレジストの形成や除去等のマスク層に係わる複
雑な作業が不要となりエンボスシート製造の作業性が向
上する。

本発明を具体的実施例を挙げて更に詳細に説明する。

実施例１ 導管部を有する木材板表面から、シリコン樹脂で木目模
様を型取りし、電鋳により鉄製の円筒上に幅Ｏ，ＯＳ腸
、深さ０，０８腸の寸法で、木目導管の凹部形状を間隔
１．０〜３．０−で木目模様に設け、凹凸形状を有する
エンボス版のマスターロール（ミルロール）を作成し、
該凹部ヘシリコーン樹脂（ＲＥ−２００：信越化学類）
を充填した０次に凹部にシリコーン樹脂を充填した該マ
スターロールの表面にウレタン樹脂（ワイピングＮｏ１
８：昭和インク製）をスプレーして１００μｍの厚みに
コーティングした。マスターロール凹部に充填したシリ
コーン樹脂をその上面側のウレタン樹脂とともに金属棒
を用いて除去した。次いで粒子径１０μｍの鉄粒子を速
度Ｌｏｏｍ／分で１分間上記のマスターロール版に吹き
つけて凹部の研削を行い、ウレタン樹脂を剥離して凹部
内部の表面が粗面化して艶消し状態になったエンボス版
原版を得た。厚さ１５ＩＩａ１１の鉄板のロールに上記
エンボス版原版を押しあて油圧で圧力を加えロール表面
にエンボス形状を転移させ、さらに表面にクロムメンキ
を施してエンボス版を得た。

次ムこ上記エンボス版を用いて、表面に木目印刷を施し
た厚さ０，２閣の塩化ビニル樹脂シートにエンボス形状
を付与した。尚、エンボス加工の条件は、エンボス版の
温度６０’Ｃ，シート加熱温度１７０°Ｃ、エンボス圧
力３０ｋｇ／ｃｄ、速度１５ｍ／分で行なった。

得られたエンボスシートは、木目導管の凹部が艶消しで
、その他の部分が艷のある意匠変化に優れたものであっ
た。

（発明の効果） 以上説明したように、本発明エンボス版は、基材表面の
一部に微細凹凸模様が形成されているために、本発明の
エンボス版によれば艷の変化に富んだエンボスシートが
得られる。

表面に凹凸模様を設けた基材を用いる事により凹凸模様
による立体効果と微細凹凸による艶消しの効果とが複合
した意匠を付与でき凹凸模様と微細凹凸ｊｌＡ欅を同調
して設けた場合には、より意匠効果に優れたエンボスシ
ートを得ることができる。

また本発明の方法では、基材表面の所定部分以外を被覆
してマスク層を形成した後に基材表面全体に研削粒子を
吹きつけてブラスト処理して、表面の所定部分に微細凹
凸模様を設けたエンボス版を形成し、該エンボス版をシ
ート基材に密着加圧して微小凹凸模様を転移させ、所定
部分が微小凹凸による艶消し部を有するエンボスシート
を製造する方法を採用しているために、シートの所定部
分のみに正確に艶消し模様を付与することができス ブラスト処理工程の前又は／及び後に、基材表面に凹凸
模様を形成することにより、凹凸形状に応してより最適
な加工方法を選択することができるために、エンボスシ
ートの製造効率を向上させることができる。

エンボス版をエンボス版原版とし、該エンボス版原版の
表面を別体の基材表面に転移させたものをエンボス版と
して用いることにより、エンボス版が破損した場合でも
全く同一のエンボス版の複製が可能であり、より安定し
たエンボスシートの生産が可能となる。

またエンボス版の凹部にのみ微細凹凸がある場合は、基
材表面に凹凸模様を設けた後に基材表面の全面に研削粒
子を吹きつけてブラスト処理して微細凹凸を形成した後
に、該凹凸模様の凸部を研磨して平滑化し凹部のみに微
細凹凸を設けてエンボス版を形成することにより、マス
ク層を形成する手間が省けるためエンボス版の製造が容
易になりエンボスシート製造の作業性が向上する。

【図面の簡単な説明】

図面は本発明の一実施例を示し、第１図は本発明エンボ
ス版の部分縦断面図、第２図（ａ）〜（ｂ）はエンボス
シートの製造方法の説明図、第３図はエンボスシートの
縦断面図、第４図（ａ）〜（Ｃ）はエンボスシートの製
造方法の他の実施例の説明図である。 １・・・エンボス版、２・・・基材、３・・・微細凹凸
、４・・・凹凸模様、５・・・マスク層、６・・・エン
ボス版基材、７・・・エンボス版原版、８・・・エンボ
スシート、１２・・・凸部、１３・・・凹部

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. （１）基材表面の一部に微細凹凸が形成されていること
   を特徴とするエンボスシート製造用エンボス版。
2. （２）表面に凹凸模様を設けた基材を用いる請求項１記
   載のエンボスシート製造用エンボス版。
3. （３）凹凸模様と微細凹凸が同調して設けられている請
   求項２記載のエンボスシート製造用エンボス版。
4. （４）基材表面の所定部分以外を被覆してマスク層を形
   成した後に基材表面に研削粒子を吹きつけてブラスト処
   理して、表面のマスク層非形成部分に微細凹凸を設けた
   エンボス版を形成し、該エンボス版又は該エンボス版を
   マスター版として用いて形成したエンボス版をシート基
   材に密着加圧して微小凹凸模様を転移させ、シートの所
   定部分に微細凹凸による艶消し部を形成することを特徴
   とするエンボスシートの製造方法。
5. （５）ブラスト処理工程の前又は／及び後に、基材表面
   に凹凸模様を形成する請求項４記載の異なる艶部を有す
   るエンボスシートの製造方法。
6. （６）基材表面に凹凸模様を設けた後に基材表面の全面
   に研削粒子を吹きつけてブラスト処理して微細凹凸を形
   成した後に、該凹凸模様の凸部を研磨して平滑化し凹部
   のみに微細凹凸を設けてエンボス版を形成し、該エンボ
   ス版又は該エンボス版をマスター版として用いて形成し
   たエンボス版をシート基材に密着加圧して微小凹凸模様
   を転移させ、シートの所定部分に微細凹凸による艶消し
   部を形成することを特徴とするエンボスシートの製造方
   法。