JPH04314541A - 表面に凹凸模様を有する化粧タイルの製造方法 - Google Patents

表面に凹凸模様を有する化粧タイルの製造方法

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JPH04314541A
JPH04314541A JP3082569A JP8256991A JPH04314541A JP H04314541 A JPH04314541 A JP H04314541A JP 3082569 A JP3082569 A JP 3082569A JP 8256991 A JP8256991 A JP 8256991A JP H04314541 A JPH04314541 A JP H04314541A
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decorative
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tile
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Norinaga Nakamura
典永 中村
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は耐擦傷性、耐汚染性を持
ち、表面に凹凸模様を有する化粧タイルの製造方法に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、表面保護層を有する化粧タイルの
表面を艶消し等の凹凸模様を形成するには、表面保護層
にマット剤を入れて凹凸模様を形成していたが、表面保
護層にマット剤が混入しているため表面保護層を通して
、その下層の絵柄層、着色層等の透視が十分ではなくな
り、化粧タイルの模様が曇って不鮮明になっていた。 また、表面保護層の樹脂とマット剤との界面に汚染物質
が侵入し、耐汚染性が低下するという問題があった。
【0003】このマット剤を使用した化粧タイルの問題
点を解決するものとして、エンボス板を使用して表面に
凹凸模様を形成した化粧タイルの製造方法があった。こ
の方法は、裏打層に着色層、絵柄層、透明層を順次重ね
ておき、予め積層成型した化粧タイルを、エンボス版に
より表面加工するか、あるいは積層成型時にエンボス版
を同時に重ねて表面加工するものであった。
【0004】このような従来技術として、例えば、特開
昭62−127225号公報に記載されたものがある。 該公報に記載の技術は、基材塩ビシート上に着色塩ビシ
ート、模様層を必要に応じて順次積層し、予め張り合わ
せておくか、または成形と同時にラミネートするもので
あり、その凹凸模様形成方法は、表面に透明塩ビシート
を重ね、この上に天然の石や木等を原稿として高周波成
形用シリコン樹脂でおす型、めす型取りをすることによ
って作製されたエンボス型を被せ、高周波成型機で高周
波を照射してエンボスを形成した後、エンボス型を離型
して、表面に凹凸模様を有する化粧タイルを得たもので
ある。
【0005】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、化粧タ
イル等の積層によるプレス成形品は、プレス後に反りが
生じるので、この反りが発生しないようにするためにプ
レス成形後に熱間ゾーンを通す、いわゆるアニール処理
をおこなっていた。このようなプレス成形により形成さ
れた表面に凹凸を有する化粧タイルにアニール処理を行
なうと、凹凸模様にシボ戻り現象が発生し、せっかく形
成された凹凸模様が鈍いものとなり、エンボス版の凹凸
模様が忠実に再現できなかった。また、シボ戻り現象の
ために形成された凹凸模様の形状も一定でなく安定して
いなかった。
【0006】そこで、本発明は、化粧タイルの表面に形
成された凹凸模様が熱を受けても変化せず、表面に凹凸
模様を有する化粧タイルの製造方法を提供することを目
的とする。さらに、本発明は、特殊なエンボス版を用い
ることなく、また、通常の鏡面板を用いたプレス成形で
も表面の凹凸模様は破壊されることのない、表面に凹凸
模様を有する化粧タイルの製造方法を提供することを目
的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明は、上記した問題
点を解決するために、電離放射線硬化性樹脂をロール凹
版の少なくとも凹部に充填させ、該ロール凹版に透明基
材シートを接触させ、該樹脂が該基材シートと該ロール
凹版の間に未だ保持されている状態で、電離放射線を放
射して該樹脂を硬化させ、該基材シートを凹版から剥離
することにより、表面が凹凸状の化粧シートを得、次に
、裏打層上に絵柄着色層を形成したタイル基材に、前記
工程で得られた表面が凹凸状の化粧シートを積層するこ
とにより、表面に凹凸模様を有する化粧タイルを製造す
るものである。
【0008】また、電離放射線硬化性樹脂をロール凹版
の少なくとも凹部に充填するのに、ノズル塗工装置によ
り行なうものである。また、前記凹凸状の賦形シートは
、凸部と凹部の高低差が0.001μm及至900μm
であり、凸部と凸部もしくは、凹部と凹部のピッチ巾が
0.001μm及至1000μmである砂目状とした。
【0009】また、裏打層上に形成した絵柄着色層は、
着色層と絵柄層とからなるとした。本発明により製造さ
れた、表面に凹凸模様を有する化粧タイルを図1および
図2に基づいて、さらに詳細に説明する。図1は、本発
明により製造された表面が凹凸状の化粧タイルの、製造
工程中および製造後の、断面概略図を示している。図1
に示すように、本発明により製造された化粧タイルは、
裏打層1上に、着色層2、絵柄層3、透明基材シート4
、凹凸状表面の電離放射線硬化性樹脂層5の順に積層さ
れている。裏打層1、着色層2、絵柄層3とからタイル
基材部6が構成され、透明基材シート4と電離放射線硬
化性樹脂層5とから化粧シート部7が構成されており、
本発明により製造された化粧タイルは、このタイル基材
部6と化粧シート部7とから構成されている。前記着色
層2および絵柄層3はいずれか一方を省略してもかまわ
ない。
【0010】図2は、本発明の製造方法に使用される、
化粧シート部7の製造方法を示し、ドラムプリンティン
グシステム(DPS)により、透明基材シート4に電離
放射線硬化性樹脂を凹凸模様状に塗布する方法を示して
いる。まず、ロール凹板10の凹部11に電離放射線硬
化性樹脂12をノズル塗工装置13により充填する。こ
のノズル塗工装置13はTダイ型のノズルを持つ塗工装
置であり、そのノズルはロール凹板10の回転周面の接
線に対して垂直に設けられている。つぎに、押圧ロール
21が透明基材シート4とロール凹版10を押圧するこ
とによって、透明基材シート4がロール凹版10に接触
し、さらにロール凹版10の回転とともに透明基材シー
ト4がロール凹版10上を接触して走行する。
【0011】この透明基材シート4がロール凹版10上
を接触している間(具体的には図2中の押圧ロール21
と送りロール22との間に位置している時期)に、電離
放射線照射装置17により電離放射線を照射してロール
凹版10と透明基材シート4の間の電離放射線硬化性樹
脂12を硬化させて、透明基材シート4上に表面が凹凸
状となった電離放射線硬化性樹脂層5を形成し、化粧シ
ート部7を得る。
【0012】本発明の製造方法に使用されるロール凹板
10の模様は、前記砂目状のものに限らず、種々の模様
が適用できる。例えば、凹凸模様のパターンは各種木目
、石目、布目の天然物の凹凸形状を模写したもの、文字
記号、万線、抽象模様、各種艶消し表面、鏡面、および
それらの模様を組み合わせたものが挙げられる。また、
前記のロール凹版10の模様を、更に細かく限定し、凹
凸の平均間隔が20〜50μm、凹凸の平均表面粗さR
aが0.7〜2.0μm、および表面の60°グロス値
が2.0以下である砂目状とすることにより、触った感
じが、しっとりとしたヌメリ感のある艶消し表面を得る
ことができる。この感触は、ツルツル、またはテカテカ
したものではなく、それでいて、ザラザラした感じとは
異なり、スウェードのような或種の高級感を漂わせるも
のである。
【0013】本発明に使用するロール凹版10は、クロ
ムメッキした銅、鉄等の金属、ガラス、石英等のセラミ
ックス、シリコン樹脂等の合成樹脂を用い、光腐食法、
電鋳法、ミル加工法等の公知の方法により凹部を形成す
る。また、本発明で使用するロール凹版10は、ロール
表面上に凹凸模様を形成した合成樹脂等のシートを被着
したものを用いてもよい。このようなシートは、例えば
、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、ポリ
エチレン、ポリアミドなどの合成樹脂フィルム、紙、合
成紙などに、凹凸模様を付与したものである。これらの
シートにエンボス加工する方法は、公知の方法によって
行なうことができ、例えば、エンボス版として、エッチ
ング法、ミル押し出し法、電鋳法などにより製作された
ものを使用したエンボスロールを加熱して行なうか、あ
るいは同様にして製作されたエンボス版を用いて、高周
波エンボス法により行なうことができる。
【0014】つぎに、本発明に用いられる、前記化粧シ
ート部7、すなわち、透明基材シート4および電離放射
線硬化性樹脂層5について説明する。本発明で使用する
透明基材シート4の材料は、セロファン、アセテート、
ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエステル、ポリ塩
化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチレン、ポリカ
ーボネート、ポリビニルアルコール、ポリアミドなどの
熱可塑性合成樹脂を用いることができるが、中でも、可
塑剤、例えばリン酸トリブチル、リン酸トリフェニル、
フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フタル酸オクチ
ル、アジピン酸ブチル、アジピン酸n−ヘキシル、アジ
ピン酸n−オクチル、セバシン酸ジブチル、塩素化ジフ
ェニル等の可塑剤を含むポリ塩化ビニル樹脂が、加工の
容易さ、難燃性等の点で適している。この透明基材シー
ト4の成形方法は、プレス加工、押出加工、ロール加工
、ペースト加工、溶液加工、エマルジョン加工、コーテ
ィング等の公知の全ての方法が適用できる。
【0015】本発明で使用する電離放射線硬化性塗料に
ついて説明する。電離放射線硬化性塗料には電子線硬化
塗料と紫外線硬化塗料とがあり、紫外線硬化塗料が光重
合開始剤や増感剤を含有することを除いて両者の成分は
ほぼ同じである。電離放射線硬化性塗料は、一般的には
被膜形成成分としてその溶液中にラジカル重合性の二重
結合を有するポリマー、オリゴマー、モノマー等を主成
分とし、その他必要に応じて非反応性のポリマー、有機
溶剤、ワックスその他の添加剤を含有するものである。
【0016】本発明で使用する電離放射線硬化性塗料に
用いられる皮膜形成成分は、好ましくは、アクリレート
系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポ
リエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エ
ポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロア
セタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリ
エン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の(メタ)
アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーおよび
反応性希釈剤として、エチル(メタ)アクリレート、エ
チルヘキシル(メタ)アクリレート、スチレン、メチル
スチレン、N−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並
びに多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパン
トリ(メタ)アクリレート、ヘキサンジオール(メタ)
アクリレート、トリプロピレングリコールジ(メタ)ア
クリレート、ジエチレングリコールジ(メタ)アクリレ
ート、ペンタエリスリトールトリ(メタ)アクリレート
、ジペンタエリスリトールヘキサ(メタ)アクリレート
、1、6−ヘキサンジオールジ(メタ)アクリレート、
ネオペンチルグリコールジ(メタ)アクリレート等を比
較的多量に含有するものである。
【0017】また上記の電離放射線硬化性塗料を紫外線
硬化性塗料とするには、この中に光重合開始剤として、
アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾ
イルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラ
メチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類や
、光増感剤としてn−ブチルアミン、トリエチルアミン
、トリーn−ブチルホスフィン等を混合して用いること
ができる。特に本発明では、ポリエステルアクリレート
にジアリルフタレートを添加したものが好ましい。
【0018】これらの電離放射線硬化性塗料の硬化方法
は通常の硬化方法、即ち、電子線または紫外線の照射に
よって硬化することができる。例えば、電子線硬化の場
合にはコックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振
変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型
、高周波型等の各種電子線加速器から放出される50〜
1000KeV、好ましくは100〜300KeVのエ
ネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場
合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボ
ンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の
光線から発する紫外線等が利用できる。
【0019】つぎに、裏打層1、着色層2、絵柄層3か
らなるタイル基材部6を説明する。裏打層1は、化粧タ
イルの最下層となって施工する床と接触したり、化粧タ
イル全体の伸び縮みを少なくし、また、所要の厚みを化
粧タイルに付与するためのものである。裏打層1は原則
的には着色層2、絵柄層3や透明基材シート4と同様な
材料で構成してよいが、寸法安定性、耐熱性を考慮する
とポリ塩化ビニル樹脂(しばしば再生品が用いられる)
やビチューメン等の熱可塑生樹脂に充填剤、例えば重炭
酸カルシウムもしくは軽炭酸カルシウム等を添加したも
のを用いることが好ましい。また、裏打層1に寸法安定
性を特に付与するためにはアスベストやガラス繊維等の
無機質繊維を添加するとよい。これらの充填剤および/
または無機質繊維は上記した熱可塑生樹脂と共に混練し
、カレンダー法もしくは押出し法によりシート化したも
のを用いることができる。
【0020】さらに、必要によっては裏打層の裏側にガ
ラスクロス、不織布、もしくはその他の織物をラミネー
トしたものを用いると、施工面(例えば床面)との接着
剤による接着が容易になる。なお裏打層1を1枚のシー
トで構成しようとするときに厚みが不足する場合がある
ので、必要に応じてシートを2枚以上重ねて積層しても
よい。複数のシートを重ねて裏打層1とするときはシー
トの延伸方向を直交させると寸法の安定性の点で有利に
なる。裏打層1の厚みは化粧タイル全体の厚みや個々の
部分の厚みにもよるが1〜3mm程度である。
【0021】着色層2は、ポリ塩化ビニル等の樹脂製の
シート材料を用い、すでに着色剤を混入して製造された
シートか、或いはシート上に着色塗料等を塗布したもの
を、1枚または2枚以上重ねて用いる。絵柄層3は、着
色層2と同様にポリ塩化ビニル等の樹脂製のシート材料
を用い、該シート上に絵柄を形成して用いる。該シート
は着色されているものでも、透明なものでもよい。印刷
方法としては、グラビア印刷法、オフセットグラビア印
刷法、シルクスクリーン印刷法、オフセット印刷法、静
電印刷法、ジェットプリント法などの公知の印刷方法を
、シートの材質、性状、形態等を考慮してシートの片面
または量面に、選択して用いて行なえばよい。被印刷体
は通常、非常に長い原反の巻き取られた状態で供給され
るから、輪転印刷機を用い、また、印刷方式としてはグ
ラビア印刷方式を用いると多少の原反表面の粗さがあっ
ても、それを克服して忠実な印刷が可能となり好ましい
【0022】つぎに、印刷に用いるインキ組成物として
は通常のものを用いることができ、ビヒクルに顔料もし
くは染料の着色剤、可塑剤、安定剤、その他の添加剤、
活剤もしくは希釈剤を混合して用い、ビヒクルとしては
、例えば、エチルセルロース、エチルヒドロキシエチル
セルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢
酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリスチレン、ポ
リα−メチルスチレンなどのスチレン樹脂およびスチレ
ン共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリ
ル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブ
チルなどのアクリルまたはメタクリル樹脂の単独または
共重合樹脂、ロジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジ
ン変性フェノール樹脂、重合ロジンなどのロジンエステ
ル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹脂、ビニルト
ルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、ブチラール樹脂等のうち1種ないしは2
種以上を選択して使用し、以上のような通常のインキ組
成物を用いて印刷模様を形成する。
【0023】本発明により製造された、表面に凹凸模様
を有する化粧タイルを製造するための、各層の積層方法
は、裏打層1、着色層2、および絵柄層3からなるタイ
ル基材部6の各層と、透明基材シート4上に形成された
表面が凹凸模様を有する電離放射線硬化性樹脂層5から
なる化粧シート部7とを、ロールプレスもしくは平プレ
スを用いて熱融着し一体化させるか、あるいは熱融着に
よらず積層すべき部分に接着剤を塗布し、重ねて加圧し
、必要により加熱することにより一体化してもよい。 例えば印刷模様を施した透明合成樹脂フィルムを2枚以
上の着色フィルム、および裏打層1を重ねて各材料を3
0〜100℃程度に加熱し、さらに120℃〜200℃
のヒートドラムに沿わせ、シリコンゴムロール等でニッ
プすることにより各層を一体化することができる。ある
いは上記とほぼ同様に、各層を一定サイズに裁断して供
給し、120〜180℃の熱板のプレスを使用して一体
化させてもよい。
【0024】
【実施例1】■表面に凹凸模様を有する化粧シート: 
 透明PVCフィルム(三菱化成ビニル製:厚さ0.3
m/m,23phr(樹脂100に対する可逆剤の量)
)の表面に紫外線硬化性樹脂(大日精化工業(株)製P
−ウレタンアクリレート系)を下記の条件でロール凹版
を用いたドラムプリンティングシステム法により塗工し
て、表面に凹凸模様を有する化粧シートを得た。
【0025】   凹版:凸部と凹部の高低差           
       :      40μ        
凸部と凸部または凹部と凹部のピッチ幅:      
10μ        電離放射線照射条件:オゾン含
有高圧水銀灯(160W/cm)1灯、       
                     基材送り
速度  20m/min■裏打層:  ポリ塩化ビニル
(再生品)100重量部、可塑剤(ジオクチルフタレー
ト)30重量部、顔料(カーボンブラック)2重量部、
熱安定剤(AC−113,アデカアーガス製)2重量部
からなる成形材料を用いカレンダー成形によりシート状
に成形して得た。
【0026】■着色層:  既に着色されているポリ塩
化ビニルシート(理研ビニル工業製,0.1m/m厚,
10phr)を用意した。 ■絵柄層:  透明のポリ塩化ビニルシート(理研ビニ
ル工業製,R−205,0.2m/m厚,10phr)
上に、ポリ塩化ビニル系のインキ(昭和インク工業製,
化X)を用いてグラビア版で絵柄を印刷した。
【0027】前記■の裏打層となるシート上に、前記■
の着色層となるシート、続いて前記■の絵柄層となるシ
ートを積層し、この最上層に前記■の表面に凹凸模様を
有する化粧シートを載置した。化粧タイルの表面となる
部分にクッション材を介して鏡面板で、130℃、プレ
ス圧力18kg/cm2 、15時間の熱プレスにより
各層を一体化させた。続いて、プレスを持続して加圧し
たまま、10〜20℃に冷却し、その後プレスを開放し
て、表面に凹凸を有する化粧タイルを得た。
【0028】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、表面に凹凸模様を有する化粧シートの凹凸部分の層
が電離放射線硬化性樹脂で形成されているため、凹凸模
様部分の硬度が高く、鏡面板を用いた熱プレスによって
も、その凹凸部の模様が変形することがない。
【0029】また、電離放射線硬化性樹脂で形成された
凹凸模様をすでに有する化粧シートを用いて化粧タイル
を製造するので、加圧によって成形された凹凸とは異な
り応力は存在せず、その後、熱を受けても凹凸部のシボ
戻り現象が発生しない。さらに、化粧タイル表面層が電
離放射線硬化性樹脂で形成されているため、表面硬度が
高く、耐擦傷性がある。
【0030】さらにまた、化粧タイルの凹凸表面がマッ
ト材の混入による方法で形成されていないので、マット
材と表面シート材との界面に汚れが溜まることがなく、
耐汚染性がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の表面が凹凸状の化粧タイルの断面概略
図を示す。
【図2】透明基材シートの塗工に用いられるロール凹版
を用いたドラムプリンティングシステムを示す。
【符号の説明】
1      裏打層 2      着色層 3      絵柄層 4      透明基材シート 5      電離放射線硬化性塗料層6      
タイル基材部 7      化粧シート部 10    ロール凹版 12    電離放射線硬化性樹脂 13    ノズル塗工装置 17    電離放射線照射装置 21    押圧ロール

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  次の(A)〜(C)工程からなること
    を特徴とする表面に凹凸模様を有する化粧タイルの製造
    方法。(A)電離放射線硬化性樹脂をロール凹版の少な
    くとも凹部に充填させ、該ロール凹版に透明基材シート
    を接触させる工程、(B)該樹脂が該基材シートと該ロ
    ール凹版の間に未だ保持されている状態で、電離放射線
    を放射して該樹脂を硬化させ、該基材シートを凹版から
    剥離することにより、表面が凹凸状の化粧シートを得る
    工程、(C)裏打層上に絵柄着色層を形成したタイル基
    材に、前記(B)工程で得られた表面が凹凸状の化粧シ
    ートを積層する工程。
  2. 【請求項2】  前記(A)の電離放射線硬化性樹脂を
    ロール凹版の少なくとも凹部に充填するのに、ノズル塗
    工装置により行なうことを特徴とする請求項1記載の表
    面に凹凸模様を有する化粧タイルの製造方法。
  3. 【請求項3】  前記凹凸模様の賦形シートが、凸部と
    凹部の高低差が0.001μm及至900μmであり、
    凸部と凸部もしくは、凹部と凹部のピッチ巾が0.00
    1μm及至1000μmの砂目状であることを特徴とす
    る請求項1記載の表面に凹凸模様を有する化粧タイルの
    製造方法。
  4. 【請求項4】  絵柄着色層が、着色層と絵柄層とから
    なる請求項1記載の表面に凹凸模様を有する化粧タイル
    の製造方法。
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