WO2021199556A1

WO2021199556A1 - 化粧シート、化粧板、転写用原版の製造方法及び化粧シートの製造方法

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Publication number: WO2021199556A1
Application number: PCT/JP2021/000233
Authority: WO
Inventors: 野乃花大島
Original assignee: 凸版印刷株式会社
Priority date: 2020-04-02
Filing date: 2021-01-06
Publication date: 2021-10-07
Also published as: US20230114526A1; EP4129660A4; JP2021160316A; KR20220145872A; CN115397660A; CN117863542A; AU2021245418A1; AU2021245418B2; AU2023274167A1; EP4129660A1

Abstract

化粧シート表面の耐指紋性に優れた化粧シート、化粧板、転写用原版の製造方法及び化粧シートの製造方法を得る。化粧シートは、原反層と、原反層の一方の表面に設けられた着色絵柄層と、着色絵柄層の原反層とは反対側の面に設けられ、表面に凹凸形状を有する第一表面保護層と、を備える。化粧シートは、塗布された電離放射線硬化型樹脂の表面に対して該電離放射線硬化型樹脂の高分子鎖を切断可能なエネルギーを有する第一電離放射線を照射して電離放射線硬化型樹脂の表面を収縮させ、電離放射線硬化型樹脂の表面に原版用凹凸形状を形成し、収縮させた電離放射線硬化型樹脂に電離放射線硬化型樹脂を硬化させる第二電離放射線を照射して該電離放射線硬化型樹脂を硬化させることにより形成された、表面に原版用凹凸形状を有する樹脂材である転写用原版を用いて形成される。

Description

化粧シート、化粧板、転写用原版の製造方法及び化粧シートの製造方法

　本開示は、化粧シート、化粧板、転写用原版の製造方法及び化粧シートの製造方法に関する。

　従来、化粧シートは、意匠性の観点等から、化粧シートの表面保護層に艶調整剤（艶消し添加剤）を添加して、化粧シート表面のマット感を調整していた（例えば、特許文献１参照）。

特開２００１－１２９９５９号公報

　しかしながら、艶調整剤は、樹脂材料により形成した層の撥油性を低下させる。このため、艶調整剤を含む表面保護層を有する化粧シートは、指紋が付きやすくなるという問題があった。
　本開示は、このような問題に鑑みてなされたもので、その目的とするところは、化粧シート表面の耐指紋性に優れた化粧シート、化粧板、転写用原版の製造方法及び化粧シートの製造方法を得ることにある。

　上記課題を解決するために、本開示の一態様に係る化粧シートは、原反層と、前記原反層の一方の表面に設けられた着色絵柄層と、前記着色絵柄層の前記原反層とは反対側の面に設けられ、表面に凹凸形状を有する第一表面保護層と、を備えることを特徴とする。

　また、本開示の一態様に係る化粧板は、上述した化粧シートと、原反層の着色絵柄層とは反対側の面に設けられた基材層と、を備えることを特徴とする。

　また、本開示の一態様に係る転写用原版の製造方法は、塗布された電離放射線硬化型樹脂の表面に対して該電離放射線硬化型樹脂の高分子鎖を切断可能なエネルギーを有する第一電離放射線を照射して電離放射線硬化型樹脂の表面を収縮させ、電離放射線硬化型樹脂の表面に原版用凹凸形状を形成し、収縮させた電離放射線硬化型樹脂に電離放射線硬化型樹脂を硬化させる第二電離放射線を照射して該電離放射線硬化型樹脂を硬化させることにより、表面に原版用凹凸形状を有する樹脂材である転写用原版を形成することを特徴とする。

　また、本開示の他の態様に係る転写用原版の製造方法は、塗布された電離放射線硬化型樹脂の表面に対して該電離放射線硬化型樹脂の高分子鎖を切断可能なエネルギーを有する第一電離放射線を照射して電離放射線硬化型樹脂の表面を収縮させ、電離放射線硬化型樹脂の表面に原版用凹凸形状を形成し、収縮させた電離放射線硬化型樹脂に電離放射線硬化型樹脂を硬化させる第二電離放射線を照射して該電離放射線硬化型樹脂を硬化させることにより、表面に原版用凹凸形状を有する樹脂材である転写用原版を形成することを特徴とする。

　また、本開示の一態様に係る化粧シートの製造方法は、原反層の一方の表面に樹脂材料を塗布し、上述した転写用原版の製造方法により形成された転写用原版を用いて、樹脂材料に対して転写用原版の表面に設けられた原版用凹凸形状を転写し、樹脂材料を硬化させることにより、原反層の一方の表面に、樹脂材料の表面に原版用凹凸形状に対応する凹凸形状が設けられた第一表面保護層を形成することを特徴とする。

　本開示の態様によれば、化粧シート表面のマット感と耐指紋性とを両立可能な化粧シート、化粧板、転写用原版の製造方法及び化粧シートの製造方法を得ることができる。

本開示の第一実施形態に係る化粧シートの一構成例を示す断面図である。本開示の第一実施形態に係る化粧シートの第一表面保護層の一構成例を示す断面写真である。本開示の第一二実施形態に係る化粧シートの製造方法の一例を示す模式図である。本開示の第二実施形態に係る化粧シートの一構成例を示す断面図である。本開示の第二実施形態に係る化粧シートの第一表面保護層の表面の一構成例を示す平面写真である。本開示の第二実施形態に係る化粧シートの第一表面保護層の一構成例を示す断面写真である。本開示の第二実施形態に係る化粧シートの一構成例を示す拡大断面図である。本開示の第二実施形態に係る化粧シートの製造に用いる転写用原版の製造方法の一例を示す工程図である。本開示の第二実施形態に係る化粧シートの製造方法の一例を示す模式図である。本開示の第一実施形態に係る化粧シートの変形例である第三実施形態に係る化粧シート一構成例を示す断面図である。本開示の第一実施形態に係る化粧シートの変形例である第三実施形態に係る化粧シートの一構成例を示す断面図である。本開示の第一実施形態に係る化粧シートの変形例である第三実施形態に係る化粧シートの一構成例を示す断面図である。本開示の第一実施形態に係る化粧シートの変形例である第三実施形態に係る化粧シートの一構成例を示す断面図である。本開示の第四実施形態に係る化粧板の一構成例を示す断面図である。

　以下、実施形態を通じて本開示を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではない。また、実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。また、図面は特許請求の範囲にかかる発明を模式的に示すものであり、各部の幅、厚さ等の寸法は現実のものとは異なり、これらの比率も現実のものとは異なる。

　本開示の化粧シートについて説明する。本開示に係る化粧シートは、例えば、壁面、建具、家具等に施工される化粧シートである。なお、以下の説明では、化粧シートの下地に接触する側を「下」、化粧シートの下地に接触する側と反対側（表面）を「上」として説明する場合がある。
　以下、図１から図１４を参照して本開示の各実施形態の各態様について説明する。

１．第一実施形態
　本開示の第一実施形態に係る化粧シート１について、図１から図３を用いて説明する。
（１．１）化粧シートの基本構成
　本開示の第一実施形態に係る化粧シートの基本構成について、図１を用いて説明する。図１は、本開示の第一実施形態に係る化粧シート１の一構成例を説明するための断面図である。図１に示すように、化粧シート１は、原反層１１と、着色絵柄層１２と、第一表面保護層１３と、を備えている。化粧シート１は、原反層１１、着色絵柄層１２及び第一表面保護層１３がこの順に積層されて構成されている。

　原反層１１は、化粧シート１の基材となる層であり、貼り付け面の凹凸や段差などを吸収して化粧シート１の施工仕上がりを良好にするとともに、貼り付け面の色・模様を隠蔽するための層である。着色絵柄層１２は、化粧シート１に色彩及び絵柄の少なくとも一方を付与する層である。第一表面保護層１３は、原反層１１及び着色絵柄層１２を傷等から保護するための層である。
　以下、原反層１１、着色絵柄層１２及び第一表面保護層１３の各層について詳細に説明する。

＜原反層＞
　原反層１１は、化粧シート１の基材となる層（シート）である。
　原反層１１は、例えば、パルプやセルロース繊維を主体とする紙素材又は樹脂材料により形成された樹脂層又は樹脂シートである。
　原反層１１が紙素材である場合、紙力剤や隠蔽改善を目的とした添加剤、セルロースナノファイバー、着色剤等の添加剤が添加されていても良い。

　また、原反層１１が樹脂材料である場合、樹脂材料としてはポリプロピレン、ポリエチレン及びポリエステル等に代表されるような熱可塑性樹脂が用いられることが好ましい。熱可塑性樹脂には、例えば酸化チタンや炭酸カルシウム等の無機材料を添加剤として含んでいても良い。熱可塑性樹脂として、ポリプロピレン、ポリエチレン及びポリエステルの少なくとも１種を使用することで、無機材料の分散性が向上する。また、熱可塑性樹脂として、ポリプロピレンを使用することで、無機材料の分散性がさらに向上する。

　さらに、原反層１１が樹脂フィルムである場合、樹脂フィルムとしてはポリエチレンテレフタレートを主とするフィルム素材であることが好ましい。樹脂フィルムには、上述した無機材料を添加剤として含んでいても良い。また、原反層１１が樹脂フィルムである場合、原反層１１は１軸もしくは２軸に延伸された樹脂フィルムであっても良い。１軸もしくは２軸に延伸された樹脂フィルムにより形成された原反層１１は、内部に空隙を含んでいても良い。

　原反層１１が樹脂材料又は樹脂フィルムである場合、原反層１１に対する無機材料の含有量を１質量％以上９０質量％以下の範囲内とすることが好ましく、５質量％以上８０質量％以下の範囲内とすることがより好ましく、２０質量％以上８０質量％以下の範囲内とすることがさらに好ましい。無機材料の含有量を上述した範囲内とすることにより、十分な不燃性または十分な難燃性を確実に得つつ、印刷適性やラミネート適性を確実に向上させ、且つシートの折り曲げ部に発生する割れを確実に低減することができる。

　原反層１１の厚みは、２０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲内であることが好ましく、２５μｍ以上２５０μｍ以下の範囲内であることがより好ましく、７０μｍ以上２００μｍ以下の範囲内であることがさらに好ましい。原反層１１の厚みが上述の範囲内である場合、ラミネート適性を向上させ、且つシートの折り曲げ部に発生する割れを低減することができる。

　原反層１１の表面には、例えばコロナ処理やプラズマ処理等の表面処理を施してもよい。これにより、原反層１１と着色絵柄層１２との接着性（密着性）が向上する。

＜着色絵柄層＞
　着色絵柄層１２は、原反層１１の一方の表面上に設けられている。着色絵柄層１２は、例えば原反層１１上に設けられた着色層１２Ａと、着色層１２Ａ上に設けられた絵柄層１２Ｂとを有している。なお、着色絵柄層１２は、所望の意匠性に応じて、着色層１２Ａ又は絵柄層１２Ｂの少なくとも一方を有していればよい。

　着色層１２Ａは、化粧シート１に所望の色彩による意匠性を付与するとともに、化粧シート１が貼りつけられる下地材の色・模様を隠蔽するための層である。着色層１２Ａは、例えば、インクのベタ塗り等により形成される。
　絵柄層１２Ｂは、着色層１２Ａよりも化粧シート１の表面側に設けられ、化粧シート１に所望の絵柄による意匠性を付与するための層である。絵柄層１２Ｂは、着色層１２Ａの上面に形成され、例えば、木目模様、石目模様、砂目模様、タイル貼模様、煉瓦積模様、布目模様、皮絞模様、幾何学図形等の柄模様が印刷により形成されている。

　着色層１２Ａ及び絵柄層１２Ｂは、例えばインキを用いたスクリーン印刷等により形成される。着色層１２Ａ及び絵柄層１２Ｂを形成する為のインキとしては、例えば、イソインドリノンイエロー、ポリアゾレッド、フタロシアニンブルー、カーボンブラック、酸化鉄、酸化チタンのいずれかを単独で、または、これらの混合物を顔料として用いる事が可能である。また、これらのインキは、水性溶剤であっても有機溶剤であってもよく、有機溶剤としては例えば、酢酸エチル、酢酸ｎブチル、イソブタノール、メチルイソブチルケトンなどを用いる事が可能である。

　着色絵柄層１２の着色層１２Ａ及び絵柄層１２Ｂの厚さは、所望の意匠性が十分に発現する程度の厚みであれば良い。着色層１２Ａの厚さは、例えば２μｍ以上２０μｍ以下の範囲とすることが好ましい。着色層１２Ａの厚さを上述の範囲内とすることにより、例えば白色や淡色に着色する場合であっても原反層１１の色や汚れに対して十分な隠蔽性を発現でき、また、着色層１２Ａを構成するインキ層間の密着強度の低下を防止して、十分な耐久性を得ることができる。また、絵柄層１２Ｂの厚さは、例えば０．１μｍ以上１０μｍ以下の範囲とすることが好ましい。ここで、「絵柄層１２Ｂの厚さ」とは、インキが印刷された部分の厚さをいう。絵柄層１２Ｂは、着色層１２Ａの全面に設けられていなくても良く、絵柄層１２Ｂから着色層１２Ａが露出していても良い。絵柄層１２Ｂの厚さを上述の範囲内とすることにより、絵柄を鮮明に表現したり、絵柄に階調をつける事で意匠性を高めることができ、また、複数色を重ねて印刷した際に上層の色と下層の色とが重なることで限られた色で表現可能な色彩幅を増やすことができる。

＜第一表面保護層＞
　第一表面保護層１３は、着色絵柄層１２の原反層１１とは反対側の面に設けられており、表面に凹凸形状を有している。第一表面保護層１３は、層内の下層（裏面側）の領域であるコア部１３Ａと、層内の上層（表面側）の領域である突状部１３Ｂ（凸状突起の一例）とを含み、表面に凹凸形状を有している。第一表面保護層１３は、コア部１３Ａとコア部１３Ａの一方の面から畝状に突出して設けられた突状部１３Ｂとを有している。これにより、第一表面保護層１３の表面には、凹凸形状が形成されている。

　図２は、第一表面保護層１３の表面（上面）の構成を示す断面写真である。図２は、突状部１３Ｂの幅方向の断面を示す断面写真及び断面図である。ここで、図２は、光学式顕微鏡（デジタルマイクロスコープ、キーエンス（ＫＥＹＥＮＣＥ）製ＶＨＸ－６０００）により得た平面写真及び断面写真である。
　突状部１３Ｂは、図２の断面写真に示すように、エンボス加工等の機械的な加工により形成された凹凸形状となっている。このような突状部１３Ｂの高さは、例えば１５μｍ超となっていることが好ましい。また、隣接する突状部１３Ｂの周期（例えば突状部１３Ｂの頂点同士の間隔）ｐは、５０μｍ超となっていることが好ましい。

　第一表面保護層１３は、樹脂材料により形成される。樹脂材料としては、電離放射線硬化型樹脂、熱硬化樹脂又は熱可塑性樹脂等のいずれであっても良い。
　例えば、電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、紫外線硬化型樹脂を用いることができる。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂を使用できる。紫外線硬化型樹脂は、水系樹脂又は非水系（有機溶剤系）樹脂の何れであっても良い。

　第一表面保護層１３は、無機粒子を含んでいてもよい。無機粒子としては、例えばシリカ、ガラス、アルミナ、チタニア、ジルコニア、炭酸カルシウム、硫酸バリウム等の無機材料により形成された微粒子が挙げられる。第一表面保護層１３における無機粒子の添加量は、電離放射線硬化型樹脂１００質量部に対して０質量％超５質量％以下、好ましくは０質量％超３質量％未満、より好ましくは０質量％超１質量％以下、さらに好ましくは０．１質量％超０．５質量％以下の範囲内であることが好ましい。第一表面保護層１３は、上述した添加量の無機粒子を含有することにより、耐摩耗性、耐傷性が向上するため好ましい。また、第一表面保護層１３に無機粒子を含む場合、無機粒子を含まない場合と比較して耐傷性が向上するが、無機粒子の含有量が多すぎると第一表面保護層１３の表面から無機粒子が脱落したり、指紋が付着する等の耐指紋性への弊害が生じることとなる。このため、無機粒子の添加量は、０質量％超３質量％未満とすることが好ましい。

　第一表面保護層１３には、必要に応じて、例えば、着色剤、マット剤、充填剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、抗菌剤、防黴剤、減摩剤及び光散乱剤等の各種の添加剤から選ばれる１種以上が添加されていてもよい。しかしながら、第一表面保護層１３は、撥油性を低下させて指紋をつきやすくする艶調整剤は含まない。

　第一表面保護層１３は、着色絵柄層１２を完全に覆っていればよく、表面保護層としての機能を化粧シート１の全面に亘って発現することができる。また、第一表面保護層１３の密度は、目的とする艶や性能に応じて調整可能である。

　第一表面保護層１３の厚さは、２０μｍ以上５０μｍ以下の範囲とすることが好ましい。第一表面保護層１３の厚さを上述の範囲内とすることにより、原反層１１及び着色絵柄層１２を保護することにより意匠性が損なわれることを抑制できる。第一表面保護層１３の厚さが２０μｍ以上である場合、表面保護層として必要な耐摩耗性等の機能を十分に有することができる。また、第一表面保護層１３の厚さが５０μｍ以下である場合、第一表面保護層１３が不要に厚くなりすぎず、製造コストが増加しすぎないという効果を有する。

（１．２）化粧シートの製造方法
　図３は、化粧シート１の製造方法を説明する概略図である。図３に示すように、化粧シート１は、表面が平坦な金属ロール１０１及び１０２、表面に所望の凹凸形状が付与された金属ロール１１０、Ｔダイ１０４並びに紫外線ランプ１０５を用いた押し出し成形により形成される。化粧シート１の第一表面保護層１３を構成する樹脂材料は、電離放射線硬化型樹脂、熱硬化樹脂又は熱可塑性樹脂等のいずれであっても良いが電離放射線硬化型樹脂である紫外線硬化樹脂を用いる場合について説明する。

　まず、原反層１１として樹脂フィルムを用い、原反層１１上に所望の色彩のインクを印刷して着色層１２Ａを形成する。次に、着色層１２Ａ上に、所望の色彩のインクを所望の絵柄で印刷することにより、絵柄層１２Ｂを形成する。これにより、積層体５０を形成する。
　続いて、図３に示すように、積層体５０に対して例えばＴダイ１０４を用いて紫外線硬化樹脂１３’を吐出する。このとき、紫外線硬化樹脂１３’は、表面に所望の凹凸形状が付与された金属ロール１１０側となるように吐出される。

　積層体５０上に吐出された紫外線硬化樹脂１３’には、金属ロール１１０表面の凹凸形状が転写される。続いて、紫外線硬化樹脂１３’は、紫外線ランプ１０５により波長が４００ｎｍ以下の紫外線が照射されて硬化される。
　これにより、凹凸形状を有し、コア部１３Ａとコア部１３Ａの一方の面から畝状に突出して設けられた突状部１３Ｂとを有する第一表面保護層１３を備えた化粧シート１が形成される。
　なお、このようにして形成された第一表面保護層１３は、第一表面保護層１３の全体が組成が略均一の樹脂材料によって形成されている。

　以上、突状部１３Ｂを有する第一表面保護層１３を備えた化粧シート１について説明したが、このような構成に限られない。
　例えば、第一表面保護層１３は、表面に突状部（凸状突起の一例）の代わりに凹状溝が設けられることにより形成された凹凸形状を有していても良い。この場合、凹状溝の深さは本実施形態に記載した突状部１３Ｂの高さに相当し、凹状溝のピッチは突状部１３Ｂのピッチに相当する。

＜第一実施形態の効果＞
　本実施形態に係る化粧シート１は、以下の効果を有する。
（１）本実施形態の化粧シート１は、表面に凹凸形状が形成された第一表面保護層１３を備えている。
　この構成によれば、第一表面保護層１３に艶調整剤（艶消し添加剤）を含まなくても、第一表面保護層１３の艶（光沢度）を調整することができる。艶調整剤は、樹脂材料により形成した層の撥油性を低下させるため、指紋が付きやすくなる。第一表面保護層１３は、艶調整剤を含まないため、油を吸収せず相対的に撥油性が向上する。このため、現場施工時や家具組立て時、居住者の日常生活時の様々な場面において、第一表面保護層１３を有する化粧シート１には、指紋が付着しにくくなる。

（２）本実施形態の化粧シート１は、表面に凹凸形状が形成された第一表面保護層１３を備えている。
　この構成によれば、第一表面保護層１３の撥油性が向上し、化粧シート１表面への油染みや汚染物質の吸着を抑制することが可能となる。

２．第二実施形態
　本開示の第二実施形態に係る化粧シート２について、図４から図９を用いて説明する。
　第二実施形態に係る化粧シート２は、第一実施形態に係る化粧シート１と同様の構成である。第二実施形態に係る化粧シート２は、第一実施形態に係る化粧シート１の製造に用いる転写用原版の製造方法と異なる方法により製造された転写用原版を用いて形成される点で、第一実施形態に係る化粧シート１と相違する。
　以下、第二実施形態に係る化粧シート２の構成、転写用原版の製造方法及び化粧シート２の製造方法について説明する。なお、化粧シート２の基本構成は、第一実施形態に係る化粧シート１と同様であるが、相違する部分について説明する。

（２．１）化粧シートの基本構成
　図４に示すように、化粧シート２は、原反層１１と、着色絵柄層１２と、第一表面保護層２３とを備えている。原反層１１及び着色絵柄層１２は、第一実施形態に係る化粧シート１の原反層１１及び着色絵柄層１２と同様であるため説明を省略する。

＜第一表面保護層＞
　第一表面保護層２３は、着色絵柄層１２の原反層１１とは反対側の面に設けられている。第一表面保護層２３は、層内の下層（裏面側）の領域であるコア部２３Ａと、層内の上層（表面側）の領域である畝状部２３Ｂ（凸状突起の一例）とを含んでいる。
　図５は、第一表面保護層２３の表面（上面）の構成を示す平面写真であり、図６は、第一表面保護層２３の表面（上面）の構成を示す断面写真である。また、図７は、第一表面保護層２３の表面（上面）の構成を模式的に示す断面図である。図６及び図７は、畝状部２３Ｂの幅方向の断面を示す断面写真及び断面図である。ここで、図５及び図６は、光学式顕微鏡（デジタルマイクロスコープ、キーエンス（ＫＥＹＥＮＣＥ）製ＶＨＸ－６０００）により得た平面写真及び断面写真である。

　畝状部２３Ｂは、図５に示すように、細長く盛り上がり、平面視で線状に連なった形状となっている。畝状部２３Ｂは、後述するように、電離放射線硬化型樹脂の表面に対して特定波長の電離放射線を照射して、電離放射線硬化型樹脂の表面を収縮させることにより形成された転写用原版を用いて形成される。
　ここで、本実施形態に係る化粧シート１において、「畝状」とは、細長く盛り上がり、平面視で線状に連なった形状であることをいう。畝状部２３Ｂは、平面視で曲線状であっても直線状であっても良いが、図６及び図７に示すように、化粧シート２表面の耐指紋性の観点から曲線状であることが好ましい。また、本開示において、畝状部２３Ｂは、例えば、第一表面保護層２３の表面に設けられた凹凸形状の最も低い部分から先端までの部分であり、コア部２３Ａは第一表面保護層１３の畝状部２３Ｂを除く部分をいうものとする。

　このような畝状部２３Ｂの高さは、例えば１５μｍ超となっていることが好ましく、８μｍ以下となっていることがより好ましい。また、隣接する畝状部２３Ｂの周期（例えば畝状部２３Ｂの頂点同士の間隔）ｐは、５０μｍ超となっていることが好ましく、１０μｍ以下となっていることが好ましく、６．５μｍ以下となっていることがより好ましい。高エネルギーの電離放射線を電離放射線硬化型樹脂に照射して形成された転写用原版を用いて製造された第一表面保護層２３表面の凹凸形状（畝状部２３Ｂ）は、表面保護層の表面にエンボス加工等の機械的な加工により形成された凹凸形状と比較して、微細な構造となっている。第一表面保護層２３の表面にこのような微細な凹凸形状が形成されることにより、化粧シート２表面のマット感を維持しながら耐指紋性を向上させることが可能となる。

　電離放射線硬化型樹脂としては、例えば、紫外線硬化型樹脂を用いることができる。紫外線硬化型樹脂としては、例えば、（メタ）アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂、エポキシ系樹脂を使用できる。紫外線硬化型樹脂は、水系樹脂又は非水系（有機溶剤系）樹脂の何れであっても良い。

　第一表面保護層２３は、第一表面保護層１３と同様の無機粒子を含んでいてもよい。
　また、第一表面保護層２３は、第一表面保護層１３と同様に、必要要に応じて、例えば、着色剤、マット剤、充填剤、紫外線吸収剤、光安定剤、熱安定剤、酸化防止剤、帯電防止剤、滑剤、難燃剤、抗菌剤、防黴剤、減摩剤及び光散乱剤等の各種の添加剤から選ばれる１種以上が添加されていてもよい。しかしながら、第一表面保護層２３は、撥油性を低下させて指紋をつきやすくする艶調整剤は含まない。

　第一表面保護層２３の厚さは、１．０μｍ以上５０μｍ以下の範囲とすることが好ましい。第一表面保護層２３の厚さを上述の範囲内とすることにより、原反層１１及び着色絵柄層１２を保護することにより意匠性が損なわれることを抑制できる。第一表面保護層２３の厚さが１．０μｍ以上である場合、表面保護層として必要な耐摩耗性等の機能を十分に有することができる。また、第一表面保護層２３の厚さが５０μｍ以下である場合、第一表面保護層２３が不要に厚くなりすぎず、製造コストが増加しすぎないという効果を有する。

　このような化粧シート２は、艶調整剤（艶消し添加剤）を含有していないにも拘らず、光沢度が５．０以下となり、光沢度が極めて低い化粧シートとなる。従来の化粧シートにおいて、表面保護層を有する化粧シートの光沢度が８以下程度となった場合、表面保護層内における艶調整剤の含有率が高く、表面保護層が白濁してしまう。このため、着色絵柄層の色彩、絵柄が鮮明に発現しなかったり、化粧シートの意匠性が低下してしまうおそれがあった。さらに、光沢度が０に近い化粧シートを得ようとする場合、表面保護層内における艶調整剤の含有率がさらに高いため、表面保護層の形成時にスジやムラ等を発生させずに表面が平滑な表面保護層を形成することが困難であった。
　化粧シート２は、２０±３以上の光沢度を有する化粧シートと同程度の性能を維持したまま、光沢度が５．０以下、好ましくは２．０以下の低光沢度の化粧シートを得ることができる。ここで、「光沢度」は、光沢計グロスチェッカーを用いて入射角６０度で測定した場合の測定値である。このため、化粧シート２として必要な性能を維持しつつ、撥油性が高く、指紋が付きにくい化粧シート２が得られる。

（２．２）化粧シートの製造方法
＜転写用原版の製造方法＞
　図８及び図９を参照して、転写用原版の製造方法及び転写用原版を用いた化粧シートの製造方法を説明する。図８は、第二実施形態に係る転写用原版の製造方法を示す断面工程図であり、図９は、第二実施形態に係る化粧シートの製造方法を示す断面工程図である。

　図８（Ａ）に示すように、基材２０１として樹脂フィルムを用い、原反層１１上に電離放射線硬化型樹脂２０３Ａを塗布する。このとき、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの塗布量は、所望の凹凸高さが得られる程度の厚さとなるように調整する。
　続いて、図８（Ｂ）に示すように、塗布された電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの表面に対してカルボニル結合及び炭素－炭素結合の少なくとも一方を切断可能なエネルギーを有する第一電離放射線を照射して電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの表面を収縮させる。第一電離放射線は、所定の波長を有する一種類の電離放射線であってもよく、互いに異なる波長を有する複数種類の電離放射線であっても良い。第一電離放射線としては、例えば高いエネルギーを有するエキシマレーザが挙げられる。エキシマレーザの媒質は、カルボニル結合及び炭素－炭素結合の少なくとも一方を切断可能なエネルギーを有していれば、従来用いられたいずれの媒質（放電用ガス）であっても良い。放電用ガスとしては、Ｘｅ，Ａｒ，Ｋｒ等の希ガスや、ＡｒＢｒ、ＡｒＦ，ＫｒＣｌ，ＸｅＩ，ＸｅＣｌ，ＸｅＢｒ，ＫｒＢｒ，ＫｒＦ等の希ガスとハロゲンガスの混合ガスを用いることができる。エキシマレーザは、媒質によって波長（中心波長）が異なり、例えば約１７２ｎｍ（Ｘｅ）、約１２６ｎｍ（Ａｒ）、約１４６ｎｍ（Ｋｒ）、約１６５ｎｍ（ＡｒＢｒ）、約１９３ｎｍ（ＡｒＦ）、約２２２ｎｍ（ＫｒＣｌ）、約２５３ｎｍ（ＸｅＩ）、約３０８ｎｍ（ＸｅＣｌ）、約２８３ｎｍ（ＸｅＢｒ）、約２０７ｎｍ（ＫｒＢｒ）、約２４８ｎｍ（ＫｒＦ）等の波長を有する。

　高いエネルギーを有する電離放射線を電離放射線硬化型樹脂２０３Ａに照射することにより、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの表面に凹凸形状を形成する。このとき、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの樹脂塗布量及び電離放射線照射時間を調整することにより、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの収縮率を調整する。これにより、凹凸形状を転写した化粧シート２の仕上げの艶を調整することが可能となる。

　凹凸形状を形成する際に、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａに照射する第一電離放射線の種類を変えることにより、凹凸形状を転写した化粧シート２の表面の触感や視覚的に得られる効果を変化させることができる。例えば、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａに対して波長が約２５０ｎｍの第一電離放射線を照射後、波長が約１７２ｎｍの第一電離放射線を照射して凹凸形状を形成し、そのあと電離放射線硬化型樹脂２０３Ａを硬化させる。これにより、化粧シート１の触感（手触り）を調整することができる。また、例えば、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａに対して波長が約１７２ｎｍの第一電離放射線を照射して凹凸形状を形成し、そのあと電離放射線硬化型樹脂２０３Ａを硬化させてもよい。これにより、凹凸形状を転写した化粧シート２の表面を平滑で低光沢に調整したり、化粧シート２の表面にグロスマット効果（視覚的エンボス感）を付与することができる。

　続いて、図８（Ｃ）に示すように、表面を収縮させた電離放射線硬化型樹脂２０３Ａに第二電離放射線を照射して、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａを硬化させる。これにより、表面に凹凸形状２０３Ｂを有する樹脂層２０３が形成される。第二電離放射線としては、例えば、波長が４００ｎｍ以下の紫外線等が挙げられる。電離放射線硬化型樹脂２０３Ａを硬化させる電離放射線は、４００ｎｍ以下の範囲で広い波長範囲帯（すなわち、ブロードなスペクトル）を有する。
　以上により、表面に凹凸形状２０３Ｂを有する転写用原版２００が得られる。

　ここで、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａが収縮して形成された凹凸形状２０３Ｂは、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの収縮していない部分と異なる組成となっている。具体的には、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａが収縮して形成された凹凸形状２０３Ｂは、深層にある電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの収縮していない部分と比較して、樹脂中に含有されるカルボニル結合（Ｃ＝Ｏ）や炭素－炭素結合（炭素と炭素との二重結合（Ｃ＝Ｃ）、三重結合（Ｃ≡Ｃ））の比率が低下した組成となっている。例えば、凹凸形状２０３Ｂは、深層にある電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの収縮していない部分と比較して、樹脂中に含有されるカルボニル結合及び炭素－炭素結合の比率が１０％以上低下していることが好ましく、２０％以上低下していることがより好ましい。これは、高いエネルギーの電離放射線を電離放射線硬化型樹脂２０３Ａに照射することで、樹脂中に含有される高分子鎖（カルボニル結合や炭素－炭素結合（二重結合、三重結合））が切れるためである。高いエネルギーの電離放射線が照射された電離放射線硬化型樹脂２０３Ａでは、結合が切れた部分で新たな結合（再結合、再架橋）が生じ、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの表面が収縮して凹凸形状２０３Ｂが形成される。このような電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの収縮していない部分と凹凸形状２０３Ｂとの組成の相違は、電離放射線を照射して凹凸形状２０３Ｂを形成した際の特徴である。

　また、高いエネルギーの電離放射線を電離放射線硬化型樹脂２０３Ａに照射することで、樹脂中に含有される高分子鎖の切断と、水素原子の引き抜きが起こった状態での再結合及び再架橋とが行われる。このため、高分子鎖の切断と再結合及び再架橋とにより形成された凹凸形状２０３Ｂは、深層にある電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの収縮していない部分と比較して、高い架橋密度を有する構成となっている。このため、転写用原版２００の最表層となる凹凸形状２０３Ｂを構成する樹脂中の空隙率が低下して、転写用原版２００の表面硬度が向上する。

　このような凹凸形状２０３Ｂは、断面視で曲線形状となっている。凹凸形状２０３Ｂは、特定波長の電離放射線が照射された電離放射線硬化型樹脂２０３Ａのアブレーションにより収縮して形成される。すなわち、強いレーザ光が電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの表面に照射されることで、局所的に高温となった表面の電離放射線硬化型樹脂２０３Ａが蒸発し、原子、分子、プラズマ、およびそれらのクラスターが飛散することで、凹凸形状２０３Ｂが形成される。このように断面視で曲線形状となった凹凸形状２０３Ｂは、表面保護層の表面にエンボス加工等の機械的な加工により形成された凹凸形状である畝状部２３Ｂ（図２参照）と明らかに異なる形状となる。

　このため、樹脂層２０３の表面には、表面張力により滑らかな形状の凹凸形状２０３Ｂが形成される。具体的には、上述した電離放射線のラジカルが、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａを構成する樹脂のうち、カルボニル結合や炭素と炭素との間の二重結合もしくは三重結合を直接切断する。また、真空紫外光等の高エネルギーの電離放射線の照射により、酸素分子からオゾンや酸素ラジカル等が発生し、このようにして生じたラジカルが、カルボニル結合や炭素と炭素との間の二重結合もしくは三重結合を切断する場合もある。この場合、真空雰囲気環境下で例えば２０００ｐｐｍ、好ましくは１０００ｐｐｍ以下、より好ましくは４００ｐｐｍ以下の濃度に制限された酸素分子からオゾンや酸素ラジカル等が発生する。切断された結合が、近接する炭素、酸素、窒素、等の原子や、雰囲気中に存在するラジカルと再結合する事で、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａ表面の収縮を生じ、なだらかな曲線形状を形成する。このような凹凸形状２０３Ｂのなだらかな形状は、電離放射線を照射して表面に凹凸を形成した転写用原版２００の特徴である。

　このような転写用原版２００表面の凹凸形状２０３Ｂの高さは、例えば１５μｍ以下となっていることが好ましく、８μｍ以下となっていることがより好ましい。また、隣接する凹凸形状２０３Ｂの周期（例えば凹凸形状２０３Ｂの頂点同士の間隔）ｐは、５０μｍ以下となっていることが好ましく、１０μｍ以下となっていることが好ましく、６．５μｍ以下となっていることがより好ましい。高エネルギーの電離放射線を電離放射線硬化型樹脂２０３Ａに照射して形成された転写用原版２００表面の凹凸形状２０３Ｂは、表面保護層の表面にエンボス加工等の機械的な加工により形成された凹凸形状と比較して、微細な構造となっている。転写用原版２００を用いて第一表面保護層２３の表面にこのような微細な凹凸形状２０３Ｂが転写されることにより、化粧シート２表面のマット感を維持しながら耐指紋性を向上させることが可能となる。

　以下、第一電離放射線照射によって凹凸形状２０３Ｂが形成されるメカニズムについてより詳細に説明する。
　真空紫外光（ＶＵＶ：Vacuum Ultra Violet）は、光子エネルギーを用いて当該光子エネルギーより小さい結合エネルギーを切断する事が可能である。したがって、真空紫外光を電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの表面に照射することにより、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａ中の有機物の分子結合が切断され、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａ表面の高分子の結合状態が変化して表面が改質（収縮）される。
　第一電離放射線の媒質として希ガス、ハロゲンガス及び水銀等を組み合わせると、波長１００ｎｍ以上５００ｎｍ以下の範囲において、２０ｎｍ～３０ｎｍの波長間隔で単色光に近い光源が得られる。凹凸形状２０３Ｂを形成するために用いる第一電離放射線として、これら光源のうちのどの光源を用いても構わない。しかしながら、得られる光子エネルギーの大きさ、波長と、有機物の結合エネルギーとの差を考慮すると、中心波長が１７２ｎｍのエキシマレーザを発光するキセノンランプを光源として用いることが最も好ましい。低波長でエネルギーの強い第一電離放射線ほど、有機物の分子結合を切断して表面収縮を起こしやすいため好ましい。一方、設備維持にかかるコストや材料の入手等も併せて考慮すると、キセノンランプを光源として用いることが最も好ましい。

　ここで、３８０ｎｍ以下の波長の光は紫外線（ＵＶ）と呼ばれているが、その中でも波長２００ｎｍ以下の光は真空紫外光（ＶＵＶ）と呼ばれ、大気中の酸素に光が吸収され減衰する。このため、第一電離放射線照射環境下の酸素を除去することにより、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの表面改質効果をより高めることができる。また、必要な反応ガス（例えば窒素ガス）を導入して反応雰囲気を制御したり、酸素濃度が２０００ｐｐｍ以下に抑えられるチャンバーシステムを用いたり、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａに紫外線（特に、２５０ｎｍ以下の光）を照射することが好ましい。光エネルギーが電離放射線硬化型樹脂２０３Ａ中の有機物質の分子結合を切断し、水素原子の引き抜きが起こって分子の構成が変わりやすくなり、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの表面改質（収縮）が起きやすくなる。

　樹脂表面において例えば手油や指紋等の汚れが付着しないようにする為には、撥油性を持たせる必要がある。このために、可能な限り電離放射線照射雰囲気中の酸素濃度を低くして（理想的には４００ｐｐｍ以下の条件下で）電離放射線を照射する事で、本願が目的とする化粧シートの性能を発現させる事が出来る。光照射時の酸素濃度を調整する事で、求める表面性能を発現出来る。

　エキシマレーザの照射により励起された光子は、化粧シート表面の表面保護層となる電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの高分子鎖に強く吸収され、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの数十～数百ｎｍ程度の深さまで到達し、高分子ラジカルを発生させる。この高分子ラジカルにより、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの高分子鎖の切断と再結合及び再架橋が生じる。これにより、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの表面において、分子量の増加が起こり、また高分子中の自由体積（空隙率）が減少して、折畳みシワの様な波状に連なる微細な凹凸形状２０３Ｂが生じる。

　電離放射線硬化型樹脂２０３Ａにエキシマレーザを照射して生じる収縮の微細構造の周期（凹凸のピッチ）Ｉは、以下の式（１）で示すポラニーの式及び式（２）で示す０次回折光と１次回折光とに着目したポラニーの式から得ることができる。
　ｌ・ｓｉｎφ＝ｍλ　　　・・・（１）
　ｌ・ｓｉｎ［ａｒｃｔａｎ（ｘ／ｄ）］＝λ　　　・・・（２）
　ここで、式（１）中、ｌは微細構造の周期、φはエキシマレーザの回折光の角度、ｍは０以上の整数、λはエキシマレーザの波長である。また、式（２）中、ｘはスクリーン上の０次回折光と１次回折光との距離、ｄは回折光を投影させるスクリーンとサンプルである電離放射線硬化型樹脂２０３Ａとの距離である。また、式中、である。

　電離放射線硬化型樹脂２０３Ａに照射するレーザの入射角度θを変えることで、電離放射線硬化型樹脂２０３Ａに生じる収縮の微細構造のパターンを制御する事が出来る。エキシマレーザの入射角が０度に近い場合、微細構造のパターンはレーザ照射部分に対して等方性を示し、ランダムな微細構造が生じる。一方、レーザの入射角度θが大きくなる程、微細構造のパターンはレーザ照射部分に対して大きい異方性を示す。入射角度０度のレーザによって収縮した電離放射線硬化型樹脂２０３Ａの表面形状は、例えば耐指紋性や耐汚染性、耐傷性の向上に有効である。等方的に並ぶランダムな微細構造により、汚染物質の付着や傷、艶変化等が目立ちにくくなる為である。入射角度０度のレーザを照射して形成された微細構造の間隔（周期）ｌは、照射するエキシマレーザの波長λと略同じとなる。また、入射角度θを変えた場合、微細構造の形状は縦縞模様のままで間隔ｌが変化する。間隔ｌは、レーザの入射角度θに基づき、以下の式（３）により得られる。
　ｌ＝λ／ｃｏｓθ　　　・・・（３）

＜化粧シートの製造方法＞
　図９（Ａ）に示すように、原反層１１として樹脂フィルムを用い、原反層１１上に所望の色彩のインクを印刷して着色層１２Ａを形成する。次に、着色層１２Ａ上に、所望の色彩のインクを所望の絵柄で印刷することにより、絵柄層１２Ｂを形成する。
　続いて、図９（Ｂ）に示すように、絵柄層１２Ｂを形成した着色層１２Ａ（着色絵柄層１２）上に電離放射線硬化型樹脂２３’を塗布する。このとき、電離放射線硬化型樹脂２３’の塗布量は、少なくとも着色絵柄層１２が完全に覆われる程度で、かつ目的とする艶及び性能に合せて調整する事が可能であるが、例えば２．０ｇ／ｍ^２以上２０ｇ／ｍ^２以下程度とすることが好ましい。

　続いて、図９（Ｃ）に示すように、転写用原版２００を用いて凹凸形状２０３Ｂを電離放射線硬化型樹脂２３’に転写する。最後に、図９（Ｄ）に示すように、表面に転写用原版２００の凹凸形状２０３Ｂが転写された電離放射線硬化型樹脂２３’に第二電離放射線を照射して、電離放射線硬化型樹脂２３’を硬化させる。ここで、第二電離放射線は、転写用原版２００の製造時に用いた電離放射線硬化型樹脂硬化用の第二電離放射線と同様の放射線を用いることができる。
　以上により、表面にコア部２３Ａとコア部２３Ａの一方の面（上面）から畝状に突出して設けられた畝状部２３Ｂとで形成された凹凸形状を有する第一表面保護層２３を備える化粧シート２が形成される。
　なお、このようにして形成された第一表面保護層２３は、第一表面保護層２３の全体が組成が略均一の樹脂材料によって形成されている。

（２．３）化粧シートの製造方法の変形例
　第二実施形態では、高いエネルギーを有する電離放射線を電離放射線硬化型樹脂２０３Ａに照射して表面を収縮させた後硬化することにより、表面に凹凸形状２０３Ｂを有する樹脂層２０３を含む転写用原版２００を形成したが、このような構成に限られない。
　例えば、樹脂層２０３の表面に形成された凹凸形状２０３Ｂを３次元形状測定装置により測定して、凹凸形状２０３Ｂを示す凹凸形状データを取得し、凹凸形状データに基づいて形成された凹凸形状を有する転写用原版を形成しても良い。この場合、凹凸形状データに基づいて金属板、金属ロール等の金属材の表面に凹凸形状２０３Ｂに対応する原版用凹凸形状をレーザ彫刻等により形成することで、原版用凹凸形状を有する金属材である転写用原版を形成することができる。

＜第二実施形態の効果＞
　本実施形態に係る化粧シート２は、第一実施形態に記載の効果に加えて、以下の効果を有する。
（３）本実施形態に係る化粧シート２は、艶調整剤を含まない第一表面保護層２３を備えている。
　この構成によれば、化粧シート２の表面を引っ掻いた際に艶調整剤の粒子が脱落せず、化粧シート２表面の艶変化や引っ掻き傷を生じにくくすることが可能である。

（４）本実施形態に係る化粧シート２は、艶調整剤を含まない第一表面保護層２３を備えている。
　この構成によれば、第一表面保護層２３における添加剤の含有量を低くできるため、第一表面保護層２３の白濁を防ぐことができ、かつ第一表面保護層２３の形成が容易となる。
（５）本実施形態に係る化粧シート２の製造方法は、転写用原版として金属材を用いるため、樹脂材料で形成された転写用原版を用いる場合と比較して化粧シートの生産性を向上させることができる。

３．第三実施形態
　本開示の第三実施形態に係る化粧シートについて、図１０から図１３を用いて説明する。以下、第三実施形態として、第一から第三実施形態のいずれかに係る製造方法で製造される化粧シートの第一構成例から第五構成例を説明する。図１０から図１３は、本開示の第三実施形態に係る化粧シートの第二構成例で説明する化粧シート３Ｂ、第三構成例で説明する化粧シート３Ｃ、第四構成例で説明する化粧シート３Ｄ及び第五二構成例で説明する化粧シート３Ｅの構成をそれぞれ示す断面図である。
　以下、第一構成例から第五構成例の化粧シートについて順に説明する。

（３．１）構成例１
　第三実施形態の構成例１では、第一表面保護層１３を多層とした化粧シート３Ａ（不図示）について説明する。
　化粧シート３Ａは、同一の電離放射線硬化型樹脂が複数層積層された第一表面保護層１３や、異なる電離放射線硬化型樹脂が複数層積層された第一表面保護層１３を有しており、かつ第一表面保護層１３の最表層の表面に凹凸形状が設けられている。

（３．２）構成例２
　本開示の第三実施形態の構成例２に係る化粧シート３Ｂについて、図１０を用いて説明する。
　図１０に示すように、化粧シート３Ｂは、多層構造の原反層１１、着色絵柄層１２及び第一表面保護層１３がこの順に積層されて構成されている。すなわち、化粧シート３Ｂは、一層の原反層１１に代えて、第一フィルム層１１Ａと第二フィルム層１１Ｂとが設けられる点で、第一実施形態に係る化粧シート１と相違する。
　以下、化粧シート３Ｂの原反層１１について詳細に説明する。なお、原反層１１以外の各層（着色絵柄層１２及び第一表面保護層１３）については、化粧シート１の各層と同様の構成であるため説明を省略する。

＜原反層＞
　原反層１１は第一フィルム層１１Ａと第二フィルム層１１Ｂとが積層された構成とされている。
　第一フィルム層１１Ａ及び第二フィルム層１１Ｂは、同じ樹脂材料で形成された樹脂フィルムであっても良く、異なる樹脂材料で形成された樹脂フィルムであっても良い。例えば、第一フィルム層１１Ａがポリエチレンフィルム、第二フィルム層１１Ｂがポリプロピレンフィルムであっても良い。この場合、第一フィルム層１１Ａの上に着色絵柄層１２を設け、着色絵柄層１２の上に接着性樹脂層１４及び第二フィルム層１１Ｂを積層することが好ましい。また、第一表面保護層１３は、第二フィルム層１１Ｂ上に設けることが好ましい。このような積層構成とすることにより、着色絵柄層１２が剥き出しとなって耐摩耗性、耐傷性、耐汚染性及び耐候性が低下することを防止することができる。着色絵柄層１２が剥き出しの場合、耐候性が特に低下しやすい。このため、化粧シートに高い耐候性が求められる場合は、原反層としてフィルム（第一フィルム層１１Ａ及び第二フィルム層１１Ｂ）を用い、フィルム間に着色絵柄層１２を挟み込んだ化粧シート３Ｂを用いることが好ましい。

　第一フィルム層１１Ａ及び第二フィルム層１１Ｂは、二層で原反層としての機能を有する。原反層として機能する第一フィルム層１１Ａ及び第二フィルム層１１Ｂの合計の厚みは、５０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲内であることが好ましく、７０μｍ以上２００μｍ以下の範囲内であることがより好ましい。第一フィルム層１１Ａ及び第二フィルム層１１Ｂの合計の厚みの厚みが上述の範囲内である場合、ラミネート適性を向上させ、且つシートの折り曲げ部に発生する割れを低減することができる。
　なお、原反層１１として機能するフィルム層は、三層以上の層であっても良い。

（３．３）構成例３
　本開示の第三実施形態の構成例３に係る化粧シート３Ｃについて、図１１を用いて説明する。
　第三実施形態の構成例３では、図１１を参照して、原反層１１’を多層とした化粧シート３Ｃについて説明する。
　図１１に示すように、化粧シート３Ｃは、多層構造の原反層１１’、着色絵柄層１２及び第一表面保護層１３がこの順に積層されて構成されている。すなわち、化粧シート３Ｃは、一層の原反層１１に代えて、第一紙素材１１Ｃと、防湿樹脂層１１Ｄと、第二紙素材１１Ｅとが順に積層された原反層１１’が設けられる点で、第一実施形態に係る化粧シート１と相違する。
　以下、化粧シート３Ｃの原反層１１’について詳細に説明する。なお、原反層１１’以外の各層（着色絵柄層１２及び第一表面保護層１３）については、化粧シート１の各層と同様の構成であるため説明を省略する。

＜原反層＞
　原反層１１’は、第一紙素材１１Ｃと、防湿樹脂層１１Ｄと、第二紙素材１１Ｅとが順に積層された構成とされている。
　防湿樹脂層１１Ｄは、例えばポリエチレン樹脂等により形成される。この場合、防湿樹脂層１１Ｄを構成する樹脂材料の種類や防湿樹脂層１１Ｄの厚みによって、透湿性能を微調整することができ、また、防湿樹脂層１１Ｄの反りを抑制する等の効果を得ることができる。

　第一紙素材１１Ｃ、防湿樹脂層１１Ｄ及び第二紙素材１１Ｅは、三層で原反層としての機能を有する。原反層として機能する第一紙素材１１Ｃ、防湿樹脂層１１Ｄ及び第二紙素材１１Ｅの合計の厚みは、５０μｍ以上２５０μｍ以下の範囲内であることが好ましく、７０μｍ以上２００μｍ以下の範囲内であることがより好ましい。第一紙素材１１Ｃ及び第二紙素材１１Ｅの合計の厚みが上述の範囲内である場合、ラミネート適性を向上させ、且つシートの折り曲げ部に発生する割れを低減することができる。
　なお、原反層として機能する紙素材は、防湿樹脂層を介して積層された三層以上の層であっても良い。

（３．４）構成例４
　本開示の第三実施形態の構成例４に係る化粧シート３Ｄについて、図１２を用いて説明する。
　図１２に示すように、化粧シート３Ｄは、原反層１１、着色絵柄層１２、透明層１５、第一表面保護層１３及び第二表面保護層２６がこの順に積層されて構成されている。すなわち、化粧シート２Ｄは、着色絵柄層１２と第一表面保護層１３との間に透明層１５が設けられている点で、第一実施形態に係る化粧シート１と相違する。
　以下、化粧シート３Ｂの原反層１１について詳細に説明する。なお、透明層１５以外の各層（原反層１１、着色絵柄層１２及び第一表面保護層１３）については、化粧シート１の各層と同様の構成であるため説明を省略する。

＜透明層＞
　透明層１５は、樹脂材料により構成されている。透明層１５を構成する樹脂材料は、例えば熱硬化型樹脂を用いても良く、アクリル系樹脂、シリコーン系樹脂、ポリエステル系樹脂、ウレタン系樹脂、アミド系樹脂又はエポキシ系樹脂等を用いてもよい。また、透明層１５の下層に、接着性樹脂層が設けられていても良い。
　また、原反層１１は、ポリエチレンフィルム、ポリプロピレンフィルム等のポリオレフィンフィルムを用いても良い。
　このような化粧シート３Ｄは、着色絵柄層１２が剥き出しとなることを防止し、耐摩耗性、耐傷性、耐汚染性及び耐候性の低下が抑制される。

（３．５）構成例５
　本開示の第三実施形態の構成例５に係る化粧シート３Ｅについて、図１３を用いて説明する。
　化粧シート３Ｅは、原反層１１と、着色絵柄層１２と、第一表面保護層１３と、第二表面保護層２６とを備えている。化粧シート３Ｅは、原反層１１、着色絵柄層１２、第一表面保護層１３及び第二表面保護層２６がこの順に積層されて構成されている。すなわち、化粧シート２は、第一表面保護層１３の上面に第二表面保護層２６が設けられている点で、第一実施形態に係る化粧シート１と相違する。

　以下、第二表面保護層２６について説明する。なお、第二表面保護層２６以外の各層（原反層１１、着色絵柄層１２及び第一表面保護層１３）については、化粧シート１の各層と同様の構成であるため説明を省略する。

（３．５．１）化粧シートの基本構成
＜第二表面保護層＞
　第二表面保護層２６は、第一表面保護層１３の凹凸形状形成面の一部に設けられている。第二表面保護層２６は、第一表面保護層１３上に部分的に形成されることで、第一表面保護層１３との艶差を生じさせ、グロスマット効果による視覚的エンボス感を表現するための層である。

　第二表面保護層２６は、電離放射線硬化型樹脂又は熱硬化型樹脂等の樹脂材料により形成されており、電離放射線硬化型樹脂により形成されることが好ましい。
　電離放射線硬化型樹脂としては、第一表面保護層１３と同様の材料を用いることができる。
　熱硬化型樹脂としては、第一表面保護層１３との艶差の観点から、例えば２液硬化型ウレタン樹脂等のウレタン結合を有する熱硬化型樹脂を用いるのが好ましい。
　２液硬化型ウレタン樹脂としては、例えば、ポリオールを主体とし、イソシアネートを架橋剤（硬化剤）とするウレタン樹脂を用いることができる。
　ポリオールとしては、分子中に２個以上の水酸基を有するものであって、例えば、ポリエチレングリコール、ポリプロピレングリコール、アクリルポリオール、ポリエステルポリオール、ポリエーテルポリオール、ポリカーボネートポリオール、ポリウレタンポリオールを用いることができる。

　また、イソシアネートとしては、分子中に２個以上のイソシアネート基を有する多価イソシアネートを用いることができる。多価イソシアネートとしては、例えば、２，４－トリレンジイソシアネート、キシレンジイソシアネート、４，４′－ジフェニルメタンジイソシアネート等の芳香族イソシアネート、或いは、１，６－ヘキサメチレンジイソシアネート、イソホロンジイソシアネート、水素添加トリレンジイソシアネート、水素添加ジフェニルメタンジイソシアネート等の脂肪族（乃至は脂環式）イソシアネートを用いることができる。また、上記各種イソシアネートの付加体又は多量体を用いることができる。例えば、トリレンジイソシアネートの付加体、トリレンジイソシアネート３量体（ｔｒｉｍｅｒ）等がある。なお、上記イソシアネートにおいて脂肪族（乃至は脂環式）イソシアネートは、耐候性、耐熱黄変性も良好にできる点で好ましく、例えば１，６－ヘキサメチレンジイソシアネートを使用できる。

　第二表面保護層２６は、第一表面保護層１３上に部分的に形成されており、意匠性及び目的とする性能に応じて被覆される面積を調整することが可能である。第二表面保護層２６は、第一表面保護層１３の表面の１０％以上９０％以下を覆うように設けられることが好ましく、グロスマット効果（視覚的エンボス感）を表現する場合には第一表面保護層１３の表面の１０％以上８０％以下を覆うように設けられることが好ましい。また、化粧シート２としての耐スクラッチ性や耐汚染性、撥油性の向上が求められる場合、第二表面保護層２６は、第一表面保護層１３の表面の１０％以上８０％以下を覆うように設けられることが好ましく、１０％以上３０％以下を覆うように設けられることがより好ましい。

　化粧シート２の原反層１１、着色絵柄層１２及び第一表面保護層１３は、化粧シート１と同様にして形成される。
　第二表面保護層２６は、第一表面保護層１３の上面に、例えばスクリーン印刷、オフセット印刷、グラビア印刷等により樹脂材料が塗布され、硬化されることにより形成される。
　これにより、化粧シート２が形成される。

　化粧シート３Ｅは、低光沢な第一表面保護層１３の凹凸形状形成面の一部に、光沢度が比較的高い第二表面保護層２６を有している。
　この構成によれば、第一実施形態に記載の効果に加えて、第一表面保護層１３及び第二表面保護層２６の白濁を生じることなく、グロスマット効果（視覚的エンボス感）を有する化粧シート２を得ることができる。

（３．５．２）変形例
　化粧シート２は、着色絵柄層１２の絵柄層１２Ｂと、第一表面保護層１３及び第二表面保護層２６の光沢差で作り出すグロスマット効果（視覚的エンボス感）とが同調していてもよい。絵柄層１２Ｂと視覚的エンボス感とが同調した化粧シート１は、第一表面保護層１３と第二表面保護層２６との光沢差のみでグロスマット効果を表現するよりも、更に優れた視覚的エンボス感を作り出すことができる。

４．第四実施形態
　本開示の第四実施形態に係る化粧板について、図１４を用いて説明する。
　図１４は、本開示の第三実施形態に係る化粧板３０の一構成例を説明するための断面図である。
　化粧板３０は、化粧シート１と基材３１とを備えている。化粧板３０は、基材３１、原反層１１、着色絵柄層１２及び第一表面保護層１３がこの順に積層されて構成されている。
　なお、化粧板３０は、化粧シート１に代えて化粧シート２を有していても良い。また、化粧板３０は、化粧シート１に代えて、化粧シート１の変形例である化粧シート３Ａ～３Ｄを有していても良い。

　以下、基材３１について説明する。なお、基材３１以外の各層（原反層１１、着色絵柄層１２及び第一表面保護層１３を含む化粧シートの各層）については、第１実施形態及び第二実施形態に記載の各層と同様の構成であるため説明を省略する。

（４．１）化粧シートの基本構成
＜基材＞
　基材３１は、例えば木質基板、中密度繊維板（ＭＤＦ：Medium Density Fiberboard）。パーティクルボード、金属基板、不燃基板、複数の材料により構成された複合基板等でもよく、フラッシュ基材等であっても良い。また、基材３１としては、合板とＭＤＦとの練り合わせでもよい。
　また、基材３１上の化粧シート１と対向する面には、プライマー層や隠蔽層等を設けてもよい。

　本開示の範囲は、図示され記載された例示的な実施形態に限定されるものではなく、本開示が目的とするものと均等な効果をもたらす全ての実施形態をも含む。さらに、本開示の範囲は、請求項により画される発明の特徴の組み合わせに限定されるものではなく、全ての開示されたそれぞれの特徴のうち特定の特徴のあらゆる所望する組み合わせによって画されうる。

１，２，３Ａ～３Ｅ　化粧シート
１１，１１’　原反層
１１Ａ　第一フィルム層
１１Ｂ　第二フィルム層
１１Ｃ　第一紙素材
１１Ｄ　防湿樹脂層
１１Ｅ　第二紙素材
１２　着色絵柄層
１２Ａ　着色層
１２Ｂ　絵柄層
１３，２３　第一表面保護層
１３’　紫外線硬化樹脂
１３Ａ　コア部
１３Ｂ　突状部
１４　接着性樹脂層
１５　透明層
２３’　電離放射線硬化型樹脂
２３Ａ　コア部
２３Ｂ　畝状部
２６　第二表面保護層
３０　化粧板

Claims

　原反層と、
　前記原反層の一方の表面に設けられた着色絵柄層と、
　前記着色絵柄層の前記原反層とは反対側の面に設けられ、表面に凹凸形状を有する第一表面保護層と、
を備える化粧シート。
　前記第一表面保護層は、表面に凸状突起又は凹状溝が設けられることにより前記凹凸形状が形成されている
請求項１に記載の化粧シート。
　前記第一表面保護層は、組成が均一の樹脂材料によって形成されている
請求項１又は２に記載の化粧シート。
　前記凹凸形状は、断面視で曲線形状に形成されている
請求項１から３のいずれか１項に記載の化粧シート。
　前記第一表面保護層の前記凹凸形状形成面の一部に設けられた第二表面保護層を備える請求項１から４のいずれか１項に記載の化粧シート。
　前記第二表面保護層は、前記第一表面保護層の表面の１０％以上８０％以下を覆うように設けられている
請求項５に記載の化粧シート。
　前記第一表面保護層は、艶調整剤を含有せず、
　前記第一表面保護層の光沢度は、５．０以下である
請求項１から６のいずれか１項に記載の化粧シート。
　請求項１から７のいずれか１項に記載の化粧シートと、
　前記原反層の前記着色絵柄層とは反対側の面に設けられた基材層と、
を備える化粧板。
　塗布された電離放射線硬化型樹脂の表面に対して該電離放射線硬化型樹脂の高分子鎖を切断可能なエネルギーを有する第一電離放射線を照射して前記電離放射線硬化型樹脂の表面を収縮させ、前記電離放射線硬化型樹脂の表面に原版用凹凸形状を形成し、収縮させた前記電離放射線硬化型樹脂に前記電離放射線硬化型樹脂を硬化させる第二電離放射線を照射して該電離放射線硬化型樹脂を硬化させることにより、表面に前記原版用凹凸形状を有する樹脂材である転写用原版を形成する
転写用原版の製造方法。
　前記第一電離放射線は、カルボニル結合及び炭素－炭素結合の少なくとも一方を切断可能なエネルギーを有する
請求項９に記載の転写用原版の製造方法。
　前記転写用原版は、前記電離放射線硬化型樹脂で形成されたコア部及び前記コア部の一方の面から畝状に突出して設けられた畝状部を有し、
　前記畝状部は、前記コア部と異なる組成となっている
請求項９又は１０に記載の転写用原版の製造方法。
　前記畝状部及び前記コア部は、一体に形成されており、
　前記畝状部は、前記コア部と比較して、前記電離放射線硬化型樹脂中に含有されるカルボニル結合及び炭素－炭素結合の比率が低下した組成となっている
請求項１１に記載の転写用原版の製造方法。
　前記畝状部は、前記コア部と比較して、前記電離放射線硬化型樹脂中に含有されるカルボニル結合及び炭素－炭素結合の比率が１０％以上低下した組成となっている
請求項１２に記載の転写用原版の製造方法。
　前記畝状部は、前記コア部と比較して高い架橋密度を有する
請求項１１から１３のいずれか１項に記載の転写用原版の製造方法。
　前記電離放射線硬化型樹脂は、基材の表面に塗布される
請求項９から１４のいずれか１項に記載の転写用原版の製造方法。
　前記電離放射線硬化型樹脂は、基材の表面に塗布され、
　前記電離放射線硬化型樹脂の硬化後に、前記基材が剥離される
請求項９から１４のいずれか１項に記載の転写用原版の製造方法。
　塗布された電離放射線硬化型樹脂の表面に対して該電離放射線硬化型樹脂の高分子鎖を切断可能なエネルギーを有する第一電離放射線を照射して前記電離放射線硬化型樹脂の表面を収縮させ、前記電離放射線硬化型樹脂の表面に転写用凹凸形状を形成し、収縮させた前記電離放射線硬化型樹脂に前記電離放射線硬化型樹脂を硬化させる第二電離放射線を照射して該電離放射線硬化型樹脂を硬化させることにより、表面に前記転写用凹凸形状を有する樹脂層を形成し、
　前記樹脂層の表面に形成された前記転写用凹凸形状を３次元形状測定装置により測定して、前記転写用凹凸形状を示す凹凸形状データを取得し、
　前記凹凸形状データに基づいて、金属材の表面に前記転写用凹凸形状に対応する原版用凹凸形状を形成して、表面に前記原版用凹凸形状を有する金属材である転写用原版を形成する
転写用原版の製造方法。
　原反層の一方の表面に樹脂材料を塗布し、
　請求項９から１７のいずれか１項に記載の転写用原版の製造方法により形成された前記転写用原版を用いて、前記樹脂材料に対して前記転写用原版の表面に設けられた前記原版用凹凸形状を転写し、
　前記樹脂材料を硬化させることにより、前記原反層の一方の表面に、前記樹脂材料の表面に前記原版用凹凸形状に対応する凹凸形状が設けられた第一表面保護層を形成する
化粧シートの製造方法。