JPH06312495A - 板体のシボ形成構造 - Google Patents
板体のシボ形成構造Info
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- JPH06312495A JPH06312495A JP12311993A JP12311993A JPH06312495A JP H06312495 A JPH06312495 A JP H06312495A JP 12311993 A JP12311993 A JP 12311993A JP 12311993 A JP12311993 A JP 12311993A JP H06312495 A JPH06312495 A JP H06312495A
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Abstract
(57)【要約】
【目的】基体の表面に所望のシボを形成することのでき
るシボ形成構造を提供することを目的とする。 【構造】基体の表面に紫外線硬化樹脂を被着し、同紫外
線硬化樹脂に３００ｎｍ以下の紫外線を選択して照射
し、所望のシボを形成する。また紫外線硬化樹脂に時間
に差を有して紫外線を照射し、前段の紫外線でシボを形
成し、後段の紫外線で紫外線硬化樹脂を硬化して構成す
る。
るシボ形成構造を提供することを目的とする。 【構造】基体の表面に紫外線硬化樹脂を被着し、同紫外
線硬化樹脂に３００ｎｍ以下の紫外線を選択して照射
し、所望のシボを形成する。また紫外線硬化樹脂に時間
に差を有して紫外線を照射し、前段の紫外線でシボを形
成し、後段の紫外線で紫外線硬化樹脂を硬化して構成す
る。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は板体のシボ形成構造の改
良に関する。
良に関する。
【０００２】
【従来の技術】従来、制御機のパネルの拡散板又は窓ガ
ラス等の表面に文字、模様あるいは絵柄を表示したステ
ンドガラスが広く用いられている。一般に、拡散板、ス
テンドガラスを作るには、機械的に文字、模様あるいは
絵柄を表示する構造が実施されている。また近年は、基
板の表面に紫外線硬化樹脂を被着し、同紫外線硬化樹脂
に紫外線硬化光源により、紫外線を照射し硬化すること
が実施されている。また紫外線硬化光源により、基板の
表面の紫外線硬化樹脂を硬化するには、窒素ガス雰囲気
の中で紫外線を照射し、硬化を促進することが実施され
ている。
ラス等の表面に文字、模様あるいは絵柄を表示したステ
ンドガラスが広く用いられている。一般に、拡散板、ス
テンドガラスを作るには、機械的に文字、模様あるいは
絵柄を表示する構造が実施されている。また近年は、基
板の表面に紫外線硬化樹脂を被着し、同紫外線硬化樹脂
に紫外線硬化光源により、紫外線を照射し硬化すること
が実施されている。また紫外線硬化光源により、基板の
表面の紫外線硬化樹脂を硬化するには、窒素ガス雰囲気
の中で紫外線を照射し、硬化を促進することが実施され
ている。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】しかし、上記した紫外
線硬化装置において、窒素ガス雰囲気をつくると、窒素
ガスが高価であるために、コスト高となる。また基板の
表面のシボは所定範囲の紫外線強度と、窒素ガス濃度に
より、影響される。しかし、紫外線照射装置において、
窒素ガス濃度を均一にすることは困難であり、基体の表
面に構成されるシボが不均一になる欠点がある。
線硬化装置において、窒素ガス雰囲気をつくると、窒素
ガスが高価であるために、コスト高となる。また基板の
表面のシボは所定範囲の紫外線強度と、窒素ガス濃度に
より、影響される。しかし、紫外線照射装置において、
窒素ガス濃度を均一にすることは困難であり、基体の表
面に構成されるシボが不均一になる欠点がある。
【０００４】本発明は上記の点に鑑み発明したものであ
って、窒素ガスを使用することなく、基体の表面に所望
のシボを形成することのできる板体のシボ形成構造を提
供することを目的とする。
って、窒素ガスを使用することなく、基体の表面に所望
のシボを形成することのできる板体のシボ形成構造を提
供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明は上記課題を解決
するために次の構成とする。つまり、請求項１では、基
板の表面に、紫外線硬化樹脂を被着し、同紫外線硬化樹
脂に３００ｎｍ以下の紫外線を照射し、シボを形成す
る。
するために次の構成とする。つまり、請求項１では、基
板の表面に、紫外線硬化樹脂を被着し、同紫外線硬化樹
脂に３００ｎｍ以下の紫外線を照射し、シボを形成す
る。
【０００６】請求項２では、基板の表面に被着してなる
紫外線硬化樹脂に、時間に差を有して複数灯の紫外線硬
化光源の紫外線を照射する。そして、前段の紫外線硬化
光源でシボを形成し、後段の紫外線硬化光源で紫外線硬
化樹脂を硬化するように構成してある。
紫外線硬化樹脂に、時間に差を有して複数灯の紫外線硬
化光源の紫外線を照射する。そして、前段の紫外線硬化
光源でシボを形成し、後段の紫外線硬化光源で紫外線硬
化樹脂を硬化するように構成してある。
【０００７】請求項３では、基板の所望の個所に紫外線
硬化樹脂を被着し、同紫外線硬化樹脂に紫外線を照射
し、所望の個所に所望の模様のシボを形成するように構
成してある。
硬化樹脂を被着し、同紫外線硬化樹脂に紫外線を照射
し、所望の個所に所望の模様のシボを形成するように構
成してある。
【０００８】請求項４では、基板の所望の個所に紫外線
硬化樹脂を被着し、ワークを搬送するコンベアースピー
ド、紫外線硬化光源の出力、遮光板およびフィルターの
少なくとも一つの構造を調整することにり、ワーク表面
のシボの模様を調整するように構成してある。
硬化樹脂を被着し、ワークを搬送するコンベアースピー
ド、紫外線硬化光源の出力、遮光板およびフィルターの
少なくとも一つの構造を調整することにり、ワーク表面
のシボの模様を調整するように構成してある。
【０００９】
【作用】上記した請求項１における構造によると、紫外
線硬化樹脂に３００ｎｍ以下の紫外線を照射するので、
紫外線の波長を変えることにより任意の大きさのシボが
形成される。
線硬化樹脂に３００ｎｍ以下の紫外線を照射するので、
紫外線の波長を変えることにより任意の大きさのシボが
形成される。
【００１０】請求項２における構造によると、紫外線硬
化樹脂に、時間に差を有して複数灯の紫外線硬化光源の
紫外線が照射されるので、前段の紫外線硬化光源でシボ
を形成し、後段の紫外線硬化光源で紫外線硬化樹脂が硬
化される。
化樹脂に、時間に差を有して複数灯の紫外線硬化光源の
紫外線が照射されるので、前段の紫外線硬化光源でシボ
を形成し、後段の紫外線硬化光源で紫外線硬化樹脂が硬
化される。
【００１１】請求項３における構造によると、紫外線硬
化樹脂に紫外線を照射し、所望の個所に所望の模様のシ
ボを形成するように構成したので、所望の個所にシボが
形成される。
化樹脂に紫外線を照射し、所望の個所に所望の模様のシ
ボを形成するように構成したので、所望の個所にシボが
形成される。
【００１２】請求項４における構造によると、ワークを
搬送するコンベアースピード、紫外線硬化光源の出力、
遮光板およびフィルターの少なくとも一つの構造を調整
するので、ワーク表面のシボ模様が調整される。
搬送するコンベアースピード、紫外線硬化光源の出力、
遮光板およびフィルターの少なくとも一つの構造を調整
するので、ワーク表面のシボ模様が調整される。
【００１３】
【実施例】以下本発明を図１ないし図６について説明す
る。先ず請求項１を図１および図４について説明する。
図１において、１は板体にシボ形成するための紫外線硬
化用照射装置、２は照射装置本体１の内部に装着してな
る反射体であって、紫外線を反射し熱線を透過するいわ
ゆるコールドミラー、３は反射体２の内部に位置して装
着してなる紫外線硬化光源であつて、例えば４キロワッ
トまたは６キロワット程度の高圧放電ランプを用いて構
成してある。４は照射装置本体１を冷却するための排気
ダクトである。
る。先ず請求項１を図１および図４について説明する。
図１において、１は板体にシボ形成するための紫外線硬
化用照射装置、２は照射装置本体１の内部に装着してな
る反射体であって、紫外線を反射し熱線を透過するいわ
ゆるコールドミラー、３は反射体２の内部に位置して装
着してなる紫外線硬化光源であつて、例えば４キロワッ
トまたは６キロワット程度の高圧放電ランプを用いて構
成してある。４は照射装置本体１を冷却するための排気
ダクトである。
【００１４】５は開閉自在に構成してなる遮光板であっ
て、２枚のシャッターを用いて構成し、間隔を調整する
ことにより、紫外線量をコントロールするように構成し
てある。６は遮光板５とベルトコンベアー７の間に配置
してなるフィルターであって、紫外線硬化光源３の波長
をコントロールするように構成してある。図４におい
て、１０は樹脂あるいはガラスで構成してなる基板であ
って、制御機のパネルの拡散板あるいは窓ガラス等であ
って、表面には例えば文字、模様等の絵柄を表示して構
成してある。また同基板１０の表面に、紫外線硬化樹脂
を被着し、３００ｎｍ以下の紫外線を照射し、シボに形
成する。フィルター６としては、図６に示すように、大
略３００ｎｍ以下の紫外線分光透過率を有するものを用
いる。
て、２枚のシャッターを用いて構成し、間隔を調整する
ことにより、紫外線量をコントロールするように構成し
てある。６は遮光板５とベルトコンベアー７の間に配置
してなるフィルターであって、紫外線硬化光源３の波長
をコントロールするように構成してある。図４におい
て、１０は樹脂あるいはガラスで構成してなる基板であ
って、制御機のパネルの拡散板あるいは窓ガラス等であ
って、表面には例えば文字、模様等の絵柄を表示して構
成してある。また同基板１０の表面に、紫外線硬化樹脂
を被着し、３００ｎｍ以下の紫外線を照射し、シボに形
成する。フィルター６としては、図６に示すように、大
略３００ｎｍ以下の紫外線分光透過率を有するものを用
いる。
【００１５】次に請求項２を図２について説明する。図
２に示す紫外線硬化用照射装置においては、コンベアー
の上部に、紫外線硬化用照射装置を例えば２台配置して
構成してある。図２の中左側の紫外線硬化用照射装置は
図１に示す構造と同一である。また図２の中右側の紫外
線硬化用照射装置は、図１に示す紫外線硬化用照射装置
から遮光板５と、フィルター６を取り除いた構造として
ある。
２に示す紫外線硬化用照射装置においては、コンベアー
の上部に、紫外線硬化用照射装置を例えば２台配置して
構成してある。図２の中左側の紫外線硬化用照射装置は
図１に示す構造と同一である。また図２の中右側の紫外
線硬化用照射装置は、図１に示す紫外線硬化用照射装置
から遮光板５と、フィルター６を取り除いた構造として
ある。
【００１６】図２に示す板体のシボ形成構造によると、
１台目の紫外線硬化用照射装置では、図１に示す構造の
紫外線硬化用照射装置と同様に、３００ｎｍ以下の紫外
線が照射され、かかる後遮光板５と、フィルター６を取
り除いた２台目の紫外線硬化用照射装置で、４５０ｎｍ
以下の紫外線が照射される。同構造によると、前段の１
台目の紫外線硬化用照射装置でシボが形成され、後段２
台目の紫外線硬化用照射装置の紫外線硬化光源で紫外線
硬化樹脂が硬化される。なお、前段の１台目の紫外線硬
化用照射装置における遮光板５の間隔を調整することに
より、紫外線量をコントロールし、シボは形成される
が、紫外線硬化樹脂は硬化せず、２台目の紫外線硬化用
照射装置の紫外線で硬化する。なおコンベアースピード
が５ｍ／ｍｉｍのとき、１灯目の紫外線硬化用照射装置
と２灯目の紫外線硬化用照射装置の間隔は約５０センチ
メートル程度に構成してある。
１台目の紫外線硬化用照射装置では、図１に示す構造の
紫外線硬化用照射装置と同様に、３００ｎｍ以下の紫外
線が照射され、かかる後遮光板５と、フィルター６を取
り除いた２台目の紫外線硬化用照射装置で、４５０ｎｍ
以下の紫外線が照射される。同構造によると、前段の１
台目の紫外線硬化用照射装置でシボが形成され、後段２
台目の紫外線硬化用照射装置の紫外線硬化光源で紫外線
硬化樹脂が硬化される。なお、前段の１台目の紫外線硬
化用照射装置における遮光板５の間隔を調整することに
より、紫外線量をコントロールし、シボは形成される
が、紫外線硬化樹脂は硬化せず、２台目の紫外線硬化用
照射装置の紫外線で硬化する。なおコンベアースピード
が５ｍ／ｍｉｍのとき、１灯目の紫外線硬化用照射装置
と２灯目の紫外線硬化用照射装置の間隔は約５０センチ
メートル程度に構成してある。
【００１７】上記した請求項２のシボ形成構造におい
て、モノマーと、プレポリマーと、光集合開始剤とで構
成された紫外線硬化樹脂を厚さ１２０ミクロンに設定し
被着し、コンベアースピードを５ｍ／ｍｉｍないし３０
ｍ／ｍｉｍの範囲で可変すると、図２に示すように、５
ｍ／ｍｉｍないし２０ｍ／ｍｉｍでは、ないしに示
すように、シボは形成されるが、３０ｍ／ｍｉｍになる
と紫外線が少なくなりシボは形成されないことが実験に
より確認されている。
て、モノマーと、プレポリマーと、光集合開始剤とで構
成された紫外線硬化樹脂を厚さ１２０ミクロンに設定し
被着し、コンベアースピードを５ｍ／ｍｉｍないし３０
ｍ／ｍｉｍの範囲で可変すると、図２に示すように、５
ｍ／ｍｉｍないし２０ｍ／ｍｉｍでは、ないしに示
すように、シボは形成されるが、３０ｍ／ｍｉｍになる
と紫外線が少なくなりシボは形成されないことが実験に
より確認されている。
【００１８】またモノマーと、プレポリマーと、光集合
開始剤とで構成された紫外線硬化樹脂を厚さ６０ミクロ
ンに設定し被着し、コンベアースピードを５ｍ／ｍｉｍ
ないし３０ｍ／ｍｉｍの範囲で可変すると、図２に示す
ように、５ｍ／ｍｉｍと、２０ｍ／ｍｉｍでは、と
に示すように、シボは形成されず、１０ｍ／ｍｉｍに設
定すると、シボが形成されることが実験により確認され
ている。
開始剤とで構成された紫外線硬化樹脂を厚さ６０ミクロ
ンに設定し被着し、コンベアースピードを５ｍ／ｍｉｍ
ないし３０ｍ／ｍｉｍの範囲で可変すると、図２に示す
ように、５ｍ／ｍｉｍと、２０ｍ／ｍｉｍでは、と
に示すように、シボは形成されず、１０ｍ／ｍｉｍに設
定すると、シボが形成されることが実験により確認され
ている。
【００１９】次に請求項３を図５について説明する。図
５に示すように、基板の所望の個所に紫外線硬化樹脂を
被着する。そして、請求項１と請求項２に示す構造で、
紫外線を照射すると、所望の個所に所望の模様のシボが
形成される。
５に示すように、基板の所望の個所に紫外線硬化樹脂を
被着する。そして、請求項１と請求項２に示す構造で、
紫外線を照射すると、所望の個所に所望の模様のシボが
形成される。
【００２０】次に請求項４を説明する。請求項４におい
ては、図１と図２に示す紫外線硬化用照射装置における
コンベアースピードを可変する構造、紫外線硬化光源の
出力を可変する構造、２枚の遮光板の間隔を調整する構
造、フィルターで波長をコントロールする構造、のうち
少なくとも一つの構造を調整することにり、ワーク表面
のシボの模様を調整する。
ては、図１と図２に示す紫外線硬化用照射装置における
コンベアースピードを可変する構造、紫外線硬化光源の
出力を可変する構造、２枚の遮光板の間隔を調整する構
造、フィルターで波長をコントロールする構造、のうち
少なくとも一つの構造を調整することにり、ワーク表面
のシボの模様を調整する。
【００２１】請求項４に示す構造において、コンベアー
スピードは、例えばスピード可変式モータを使用し、ボ
リュームにより調整する。
スピードは、例えばスピード可変式モータを使用し、ボ
リュームにより調整する。
【００２２】請求項４に示す構造において、紫外線硬化
光源の出力を可変するには、例えば減光スイッチにより
１ｃｍ当りの出力を８０Ｗ／ｃｍ、１２０Ｗ／ｃｍ、１
６０Ｗ／に切り換える。
光源の出力を可変するには、例えば減光スイッチにより
１ｃｍ当りの出力を８０Ｗ／ｃｍ、１２０Ｗ／ｃｍ、１
６０Ｗ／に切り換える。
【００２３】請求項４に示す構造において、２枚の遮光
板の間隔を調整する構造としては、例えばモータを用い
てスライドさせ、所定の幅にセットする。
板の間隔を調整する構造としては、例えばモータを用い
てスライドさせ、所定の幅にセットする。
【００２４】請求項４に示す構造において、フィルター
で波長をコントロールする構造としては、例えばガラス
に金属の多層膜を蒸着したものを複数用意し、必要によ
り交換して構成する。
で波長をコントロールする構造としては、例えばガラス
に金属の多層膜を蒸着したものを複数用意し、必要によ
り交換して構成する。
【００２５】
【発明の効果】上記した請求項１における構造による
と、紫外線硬化樹脂に３００ｎｍ以下の範囲の紫外線を
選択し照射することにより、任意の大きさのシボを形成
することができる特有な効果を有する。
と、紫外線硬化樹脂に３００ｎｍ以下の範囲の紫外線を
選択し照射することにより、任意の大きさのシボを形成
することができる特有な効果を有する。
【００２６】請求項２における構造によると、紫外線硬
化樹脂に、時間に差を有して複数灯の紫外線硬化光源の
紫外線を照射するので、前段の紫外線硬化光源でシボを
形成し、後段の紫外線硬化光源で紫外線硬化樹脂を硬化
し、シボを形成することができる特有な効果を有する。
化樹脂に、時間に差を有して複数灯の紫外線硬化光源の
紫外線を照射するので、前段の紫外線硬化光源でシボを
形成し、後段の紫外線硬化光源で紫外線硬化樹脂を硬化
し、シボを形成することができる特有な効果を有する。
【００２７】請求項３における構造によると、基体の所
望の個所に、紫外線硬化樹脂を被着することにより、所
望の個所に所望の模様のシボを形成することができる特
有な効果を有する。
望の個所に、紫外線硬化樹脂を被着することにより、所
望の個所に所望の模様のシボを形成することができる特
有な効果を有する。
【００２８】請求項４における構造によると、ワークを
搬送するコンベアースピード、紫外線硬化光源の出力、
遮光板およびフィルターの少なくとも一つの構造を調整
するすることにより、ワーク表面に所望のシボを形成す
ることができる特有な効果を有する。
搬送するコンベアースピード、紫外線硬化光源の出力、
遮光板およびフィルターの少なくとも一つの構造を調整
するすることにより、ワーク表面に所望のシボを形成す
ることができる特有な効果を有する。
【図１】本発明の板体のシボ形成構造に使用する紫外線
硬化照射装置の断面図。
硬化照射装置の断面図。
【図２】本発明の板体のシボ形成構造に使用する紫外線
硬化照射装置の他の断面図。
硬化照射装置の他の断面図。
【図３】基体の表面に紫外線硬化樹脂を被着したときの
平面図。
平面図。
【図４】基体の表面にシボを形成したときの断面図。
【図５】基体の表面に所望のシボを形成したときの平面
図。
図。
【図６】板体のシボ形成構造に使用するフィルターの分
光透過率。
光透過率。
１ 紫外線硬化用照射装置 ２ 反射体 ３ 紫外線硬化光源 ５ 遮光板 ６ フィルター １０ 基板
Claims (4)
- 【請求項１】基板の表面に、紫外線硬化樹脂を被着し、
同紫外線硬化樹脂に３００ｎｍ以下の紫外線を照射し、
シボを形成するように構成したことを特徴とする板体の
シボ形成構造。 - 【請求項２】基板の表面に被着してなる紫外線硬化樹脂
に、時間に差を有して複数灯の紫外線硬化光源の紫外線
を照射し、前段の紫外線硬化光源でシボを形成し、後段
の紫外線硬化光源で紫外線硬化樹脂を硬化するように構
成したことを特徴とする板体のシボ形成構造。 - 【請求項３】基板の所望の個所に紫外線硬化樹脂を被着
し、同紫外線硬化樹脂に紫外線を照射し、所望の個所に
所望の模様のシボを形成するように構成したことを特徴
とする板体のシボ形成構造。 - 【請求項４】基板の所望の個所に紫外線硬化樹脂を被着
し、ワークを搬送するコンベアースピード、紫外線硬化
光源の出力、遮光板およびフィルターの少なくとも一つ
の構造を調整することにり、ワーク表面のシボの模様を
調整するように構成したことを特徴とする板体のシボ形
成構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12311993A JP3629687B2 (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 板体のシボ形成構造 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP12311993A JP3629687B2 (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 板体のシボ形成構造 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH06312495A true JPH06312495A (ja) | 1994-11-08 |
| JP3629687B2 JP3629687B2 (ja) | 2005-03-16 |
Family
ID=14852658
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP12311993A Expired - Fee Related JP3629687B2 (ja) | 1993-04-28 | 1993-04-28 | 板体のシボ形成構造 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3629687B2 (ja) |
Cited By (11)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2002296407A (ja) * | 2001-03-30 | 2002-10-09 | Hitachi Chem Co Ltd | 凹凸形成方法及びそれを用いた光学フィルム及びその用途 |
| JP2009233539A (ja) * | 2008-03-26 | 2009-10-15 | Dainippon Printing Co Ltd | パターン形成装置 |
| WO2013145497A1 (ja) * | 2012-03-29 | 2013-10-03 | オリジン電気株式会社 | 紫外線硬化性樹脂組成物及び意匠性塗膜 |
| JP2019151739A (ja) * | 2018-03-02 | 2019-09-12 | 岩崎電気株式会社 | 樹脂硬化方法、及び樹脂硬化装置 |
| WO2021149480A1 (ja) * | 2020-01-22 | 2021-07-29 | 凸版印刷株式会社 | 化粧シート、化粧板及び化粧シートの製造方法 |
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-
1993
- 1993-04-28 JP JP12311993A patent/JP3629687B2/ja not_active Expired - Fee Related
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