JP3083316B2 - 液晶表示素子の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子の製造方法Info
- Publication number
- JP3083316B2 JP3083316B2 JP02323932A JP32393290A JP3083316B2 JP 3083316 B2 JP3083316 B2 JP 3083316B2 JP 02323932 A JP02323932 A JP 02323932A JP 32393290 A JP32393290 A JP 32393290A JP 3083316 B2 JP3083316 B2 JP 3083316B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- insulating film
- liquid crystal
- light
- crystal display
- manufacturing
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
Description
本発明は、透明電極付き基板上に短絡防止用の絶縁層
を有する液晶表示素子の製造方法、特にその絶縁層形成
工程の改良に関するものである。
を有する液晶表示素子の製造方法、特にその絶縁層形成
工程の改良に関するものである。
透明電極付きのガラス基板を対向配置し、その間に液
晶を注入した液晶表示素子においては、対向基板との短
絡を防止するために、透明電極上に絶縁層を形成する場
合がある。その絶縁層形成工程の一例を説明する。 まず、第４図（Ａ）に示すようにガラス基板11に形成
された透明電極12上に絶縁材料13′を塗布、仮乾燥した
後、第４図（Ｂ）に示すようにUV光を均一に照射し、続
いて第４図（Ｃ）に示すように本焼成を行って絶縁膜13
を形成している。 この後、基板上に垂直配向用の配向膜を形成する工程
に移行する。 上述の工程Ｂにおいて絶縁材料13′にUV光を照射した
場合、絶縁膜の厚みが照射強度に応じて減少する。この
膜厚の減少度合は、全面均一に照射しているため、同一
となり、絶縁膜13の表面も平滑となる。
晶を注入した液晶表示素子においては、対向基板との短
絡を防止するために、透明電極上に絶縁層を形成する場
合がある。その絶縁層形成工程の一例を説明する。 まず、第４図（Ａ）に示すようにガラス基板11に形成
された透明電極12上に絶縁材料13′を塗布、仮乾燥した
後、第４図（Ｂ）に示すようにUV光を均一に照射し、続
いて第４図（Ｃ）に示すように本焼成を行って絶縁膜13
を形成している。 この後、基板上に垂直配向用の配向膜を形成する工程
に移行する。 上述の工程Ｂにおいて絶縁材料13′にUV光を照射した
場合、絶縁膜の厚みが照射強度に応じて減少する。この
膜厚の減少度合は、全面均一に照射しているため、同一
となり、絶縁膜13の表面も平滑となる。
【発明が解決しようとする課題】 しかし、このような方法では、絶縁膜13の表面が平滑
となり、その後に形成する配向膜の表面も平滑となっ
て、垂直配向ではチルト角が略０度となるので、ラビン
グなどの処理を施してチルト角を制御する場合、その制
御がかなり難しくなる。 本発明の目的は、基板間短絡防止用絶縁膜を後工程の
チルト角制御に有利な形で形成できる液晶表示素子の製
造方法を提供することにある。
となり、その後に形成する配向膜の表面も平滑となっ
て、垂直配向ではチルト角が略０度となるので、ラビン
グなどの処理を施してチルト角を制御する場合、その制
御がかなり難しくなる。 本発明の目的は、基板間短絡防止用絶縁膜を後工程の
チルト角制御に有利な形で形成できる液晶表示素子の製
造方法を提供することにある。
本発明は、透明電極付き基板に対向電極との短絡を防
止するための絶縁膜をUV光の照射強度に応じて厚みが変
化する材料を用いて形成する際、絶縁膜の塗布、仮乾燥
後、可変幅のスリット、グレースケールなどのマスクを
用い照射量を部分的に変化させながら一定の強度でUV光
の照射を行って、絶縁膜表面を鋸歯状とすることを特徴
とするものである。
止するための絶縁膜をUV光の照射強度に応じて厚みが変
化する材料を用いて形成する際、絶縁膜の塗布、仮乾燥
後、可変幅のスリット、グレースケールなどのマスクを
用い照射量を部分的に変化させながら一定の強度でUV光
の照射を行って、絶縁膜表面を鋸歯状とすることを特徴
とするものである。
以下、本発明を図面に示す実施例に基づいて詳細に説
明する。 第１図（Ａ）〜（Ｃ）、第２図及び第３図は本発明の
一実施例を示すもので、第１図（Ａ）のようにガラス基
板１に形成された透明電極２上に絶縁材料３′を塗装、
仮乾燥した後、第１図（Ｂ）のようにUV光を照射する。
この時、可変幅のスリット板、微細ピッチのグレースケ
ールなどのマスク４（第１図（Ｂ）、第３図参照）を光
源と基板１の間に介在させる。この後、本焼成を行う
と、第１図（Ｃ）のように表面が鋸歯状の基板間短絡防
止用の絶縁膜３が形成される。 上記のUV光の照射に際し、可変幅のスリット板をマス
ク４として用いた場合には、UV光を照射しながらマスク
４のスリット幅を徐々に拡大すると、UV光の照射量が位
置によって異なるようになり、それに伴って絶縁膜３の
厚みに相違が生じる。即ち、表面が鋸歯状となる。 絶縁膜形成工程の後に配向膜形成工程に移行し、絶縁
膜３上に垂直配向用配向膜５を形成する（第２図）。こ
の場合、配向膜５は、その表面が絶縁膜３の表面と同様
に鋸歯状となる。このため、液晶を注入した場合、液晶
が傾斜の度合に対応して、ある角度で並ぶようになり、
チルト角の制御が容易となる。
明する。 第１図（Ａ）〜（Ｃ）、第２図及び第３図は本発明の
一実施例を示すもので、第１図（Ａ）のようにガラス基
板１に形成された透明電極２上に絶縁材料３′を塗装、
仮乾燥した後、第１図（Ｂ）のようにUV光を照射する。
この時、可変幅のスリット板、微細ピッチのグレースケ
ールなどのマスク４（第１図（Ｂ）、第３図参照）を光
源と基板１の間に介在させる。この後、本焼成を行う
と、第１図（Ｃ）のように表面が鋸歯状の基板間短絡防
止用の絶縁膜３が形成される。 上記のUV光の照射に際し、可変幅のスリット板をマス
ク４として用いた場合には、UV光を照射しながらマスク
４のスリット幅を徐々に拡大すると、UV光の照射量が位
置によって異なるようになり、それに伴って絶縁膜３の
厚みに相違が生じる。即ち、表面が鋸歯状となる。 絶縁膜形成工程の後に配向膜形成工程に移行し、絶縁
膜３上に垂直配向用配向膜５を形成する（第２図）。こ
の場合、配向膜５は、その表面が絶縁膜３の表面と同様
に鋸歯状となる。このため、液晶を注入した場合、液晶
が傾斜の度合に対応して、ある角度で並ぶようになり、
チルト角の制御が容易となる。
以上のように本発明によれば、透明電極付き基板に対
向電極との短絡を防止するための絶縁膜をUV光の照射強
度に応じて厚みが変化する材料を用いて形成する際、絶
縁膜の塗布、仮乾燥後、可変幅のスリット、グレースケ
ールなどのマスクを用い照射量を部分的に変化させなが
ら一定の強度でUV光の照射を行って、絶縁膜表面を鋸歯
状とすることを特徴とするので、絶縁膜表が後工程の配
向膜形成工程でのチルト角制御に適した鋸歯状とするこ
とが可能となり、チルト角制御を容易に行うことができ
る。
向電極との短絡を防止するための絶縁膜をUV光の照射強
度に応じて厚みが変化する材料を用いて形成する際、絶
縁膜の塗布、仮乾燥後、可変幅のスリット、グレースケ
ールなどのマスクを用い照射量を部分的に変化させなが
ら一定の強度でUV光の照射を行って、絶縁膜表面を鋸歯
状とすることを特徴とするので、絶縁膜表が後工程の配
向膜形成工程でのチルト角制御に適した鋸歯状とするこ
とが可能となり、チルト角制御を容易に行うことができ
る。
第１図（Ａ）〜（Ｃ）は本発明に係る液晶セルの製造方
法の一実施例を示す基板間短絡防止用絶縁膜形成工程説
明用の断面図、第２図は同実施例の配向膜形成工程説明
用の断面図、第３図は絶縁膜形成用のマスク、第４図
（Ａ）〜（Ｃ）は従来の絶縁膜形成工程を説明するため
の断面図である。 １……ガラス基板、２……透明電極 ３……絶縁膜、３′……絶縁材料 ４……マスク、５……配向膜
法の一実施例を示す基板間短絡防止用絶縁膜形成工程説
明用の断面図、第２図は同実施例の配向膜形成工程説明
用の断面図、第３図は絶縁膜形成用のマスク、第４図
（Ａ）〜（Ｃ）は従来の絶縁膜形成工程を説明するため
の断面図である。 １……ガラス基板、２……透明電極 ３……絶縁膜、３′……絶縁材料 ４……マスク、５……配向膜
Claims (1)
- 【請求項１】透明電極付き基板に対向電極との短絡を防
止するための絶縁膜をUV光の照射強度に応じて厚みが変
化する材料を用いて形成する際、絶縁膜の塗布、仮乾燥
後、可変幅のスリット、グレースケールなどのマスクを
用い照射量を部分的に変化させながら一定の強度でUV光
の照射を行って、絶縁膜表面を鋸歯状とすることを特徴
とする液晶表示素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02323932A JP3083316B2 (ja) | 1990-11-27 | 1990-11-27 | 液晶表示素子の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP02323932A JP3083316B2 (ja) | 1990-11-27 | 1990-11-27 | 液晶表示素子の製造方法 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04191822A JPH04191822A (ja) | 1992-07-10 |
| JP3083316B2 true JP3083316B2 (ja) | 2000-09-04 |
Family
ID=18160240
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP02323932A Expired - Fee Related JP3083316B2 (ja) | 1990-11-27 | 1990-11-27 | 液晶表示素子の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP3083316B2 (ja) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0690102B2 (ja) * | 1988-01-26 | 1994-11-14 | 株式会社サンケイ製作所 | 油圧検出装置 |
| JP2005279918A (ja) | 2004-03-04 | 2005-10-13 | Seiko Epson Corp | 微細構造素子の製造方法、この方法により製造された微細構造素子、空間光変調装置及びプロジェクタ |
| CN100463775C (zh) * | 2004-03-04 | 2009-02-25 | 精工爱普生株式会社 | 微细结构元件的制造方法及其应用 |
-
1990
- 1990-11-27 JP JP02323932A patent/JP3083316B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH04191822A (ja) | 1992-07-10 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US4181563A (en) | Process for forming electrode pattern on electro-optical display device | |
| US5116704A (en) | Barrier rib forming method of PDP | |
| JPH10232303A (ja) | 反射体の製造方法およびその反射体を備えた液晶表示装置 | |
| JP3083316B2 (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| US20020001057A1 (en) | Method and apparatus for making a crystal alignment layer | |
| JPS55148423A (en) | Method of pattern formation | |
| JPH02309321A (ja) | 配向処理装置 | |
| EP0159850A3 (en) | Process for making polarizer | |
| JPS6327815A (ja) | 液晶表示素子の製造方法 | |
| JP2529141B2 (ja) | 液晶基板の製造方法 | |
| JPH0720472A (ja) | 液晶表示装置の製造方法 | |
| JP3041399B2 (ja) | 電気光学装置の製造方法 | |
| US20020064895A1 (en) | Method for fabricating protrusion of liquid crystal display | |
| JP2881475B2 (ja) | 模様入り調光材の製造法 | |
| JP3058385B2 (ja) | 配向膜溶液転写版 | |
| JP3058382B2 (ja) | 配向膜溶液転写版 | |
| JPS5688319A (en) | Method for forming film pattern | |
| JPS61210360A (ja) | レジストパタ−ン処理装置 | |
| JPH01277819A (ja) | 液晶表示パネル及びその製造方法 | |
| JP2006028468A (ja) | 光学フィルムの製造方法 | |
| JP3058383B2 (ja) | 配向膜溶液転写版 | |
| JP3058384B2 (ja) | 配向膜溶液転写版 | |
| JPS57161836A (en) | Manufacture of liquid-crystal cell substrate having patterned orientation-treated film | |
| JPH04107530A (ja) | 液晶パネルの製造方法 | |
| JPH05347108A (ja) | 透明導電膜及びその製造方法 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |