JP3629687B2 - 板体のシボ形成構造 - Google Patents
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Description
【産業上の利用分野】
本発明は基板の表面にシボを形成させたシボ構造を有する板体の改良に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来、制御機のパネルの拡散板又は窓ガラス等の表面に文字や模様あるいは絵柄を表示したステンドガラスが広く用いられている。
一般に、拡散板、ステンドガラスを作るには、機械的に文字や模様あるいは絵柄を表示する構造が実施されている。
また近年は、基板の表面に紫外線硬化樹脂を被着し、同紫外線硬化樹脂に紫外線硬化光源により、紫外線を照射し硬化することが実施されている。
また紫外線硬化光源により、基板の表面の紫外線硬化樹脂を硬化するには、窒素ガス雰囲気の中で紫外線を照射し硬化することが実施されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、上記した紫外線硬化装置において、窒素ガス雰囲気をつくると、窒素ガスが高価であるためにコスト高となる。
また基板の表面のシボは所定範囲の紫外線強度と、窒素ガス濃度により影響される。
また紫外線硬化装置において、窒素ガス濃度を均一にすることは実際上困難であり、基板の表面に構成されるシボが不均一になる欠点がある。
【0004】
本発明は上記の点に鑑み発明したものであって、窒素ガスを使用することなく、基板の表面に所望のシボを形成することができるシボ形成させたシボ構造を有する板体を提供することを目的とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】
本発明は上記課題を解決するために次の構成とする。つまり、請求項1では、基板の表面に被着してなる紫外線硬化樹脂に、時間に差を有して複数灯の紫外線硬化光源により紫外線を照射するように構成してある。そして前段の紫外線硬化光源で、300nm以下の紫外線を照射してシボを形成し、後段の紫外線硬化光源で450nm以下の紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させ、シボ構造を有する板体を構成してある。
【0006】
請求項2は、請求項1に記載の発明において、基板の所望の個所に紫外線硬化樹脂を被着し、基板を搬送するコンベアースピード、紫外線硬化光源の出力、遮光板およびフィルターの少なくとも一つの構造を調整することにより、基板表面のシボの模様を調整し、基板の表面にシボを形成して、シボ構造を有する板体を構成してある。
【0007】
【作用】
上記した請求項1に記載の板体のシボ形成構造によると、前段の紫外線硬化光源でシボを形成し、後段の紫外線硬化光源で紫外線硬化樹脂を硬化することにより、任意の大きさのシボを任意の個所に構成することができる。
【0008】
上記した請求項2に記載の板体のシボ形成構造によると、基板を搬送するコンベアースピード、紫外線硬化光源の出力、遮光板およびフィルターの少なくとも一つの構造を調整することにより、基板の表面のシボ模様を調整することができる。
【0009】
【実施例】
以下本発明を図1乃至図6について説明する。先ず請求項1を図1及び図4について説明する。図1において、1は板体にシボを形成するための紫外線硬化用照射装置、2は紫外線硬化用照射装置本体1の内部に装着してなる反射体であって、紫外線を反射し熱線を透過するいわゆるコールドミラー、3は反射体2の内部に装着してなる紫外線硬化光源であって、例えば4キロワットまたは6キロワット程度の高圧放電ランプを用いて構成してある。4は紫外線硬化用照射装置1を冷却するための排気ダクトである。
【0010】
5は開閉自在に構成してなる遮光板であって、2枚のシャッターを用いて構成し、間隔を調整することにより、紫外線量をコントロールするように構成してある。6は遮光板5とベルトコンベアー7の間に配置してなるフィルターであって、紫外線硬化光源3の波長をコントロールするように構成してある。図4において、10は樹脂あるいはガラスで構成してなる基板であって、制御機のパネルの拡散板あるいは窓ガラス等であって、表面には例えば文字、模様等の絵柄を表示して構成してある。
また同基板10の表面に、紫外線硬化樹脂を被着し、300nm以下の紫外線を照射し、シボを形成する。フィルター6としては、図6に示すように、大略300nm以下の紫外線分光透過率を有するものを用いる。
【0011】
次に請求項2を図2について説明する。図2に示すシボ構造を有する板体においては、コンベアーの上部に、紫外線硬化用照射装置を例えば2台配置して構成してある。図2の中、左側の紫外線硬化用照射装置は図1に示す構造と同一である。また図2の中、右側の紫外線硬化用照射装置は、図1に示す紫外線硬化用照射装置から遮光板5と、フィルター6を取り除いた構造としてある。
【0012】
図2に示すシボ構造を有する板体によると、1台目の紫外線硬化用照射装置では、図1に示す構造の紫外線硬化用照射装置と同様に、300nm以下の紫外線が照射され、かかる後遮光板5と、フィルター6を取り除いた2台目の紫外線硬化用照射装置で、450nm以下の紫外線が照射される。
同構造によると、前段の1台目の紫外線硬化用照射装置でシボが形成され、後段の2台目の紫外線硬化用照射装置における紫外線硬化光源3で紫外線硬化樹脂が硬化される。
また前段の1台目の紫外線硬化用照射装置における遮光板5の間隔を調整することにより、紫外線量をコントロールし、シボは形成される。さらに2台目の紫外線硬化用照射装置からの紫外線で硬化される。
なおコンベアースピードが5m/minのとき、1台目の紫外線硬化用照射装置と2台目の紫外線硬化用照射装置の間隔は約50センチメートル程度に構成してある。
【0013】
上記した請求項1に記載のシボ構造を有する板体において、モノマーと、プレポリマーと、光重合開始剤とで構成された紫外線硬化樹脂を厚さ120ミクロンに設定して被着し、コンベアースピードを5m/min乃至30m/minの範囲で可変すると、図3に示すように、5m/min乃至20m/minでは、丸1乃至丸3に示すように、シボは形成されるが、30m/minになると紫外線の照射量が少なくなりシボは形成されないことが実験の結果確認されている。
【0014】
またモノマーと、プレポリマーと、光重合開始剤とで構成された紫外線硬化樹脂を厚さ60ミクロンに設定し被着し、コンベアースピードを5m/min乃至30m/minの範囲で可変すると、図3に示すように、5m/min乃至20m/minでは、丸5と丸7に示すように、シボは形成されず、10m/minに設定すると、シボが形成されることが実験により確認されている。
【0015】
次に基板の一部にシボ構造を有する板体を図5について説明する。基板の所望の個所に紫外線硬化樹脂を被着する。かかる後、前段の1台目の紫外線硬化用照射装置からの紫外線を照射することによりシボを形成し、後段の2台目の紫外線硬化用照射装置からの紫外線を照射することにより紫外線硬化樹脂が硬化し、所望の個所に所望の模様のシボを形成する。
【0016】
次に請求項2について説明する。図1と図2に示す紫外線硬化用照射装置におけるコンベアーコンベアースピードを可変する構造、紫外線硬化光源の出力を可変する構造、2枚の遮光板の間隔を調整する構造、フィルターで波長をコントロールする構造、のうち少なくとも一つの構造を調整することにより、基板の表面のシボ模様を調整する。
コンベアーコンベアースピードは、例えばスピード可変式モータを使用し、ボリュームにより調整する。
また紫外線硬化光源の出力を可変するには、例えば減光スイッチにより1cm当たりの出力を80W/cm、120W/cm、160W/cmに切り換える。
また2枚の遮光板の間隔を調整する構造としては、例えばモータを用いて遮光板をスライドさせ、所定の幅にセットする。
またフィルターで波長をコントロールする構造としては、例えばガラスに金属の多層膜を蒸着したものを複数容易して、必要により交換して構成する。
【0017】
【発明の効果】
上記した請求項1に記載の板体のシボ形成構造によると、前段の紫外線硬化光源でシボを形成し、後段の紫外線硬化光源で紫外線硬化樹脂を硬化することにより、任意の大きさのシボを任意の個所に構成することができる特有な効果がある。
【0018】
また上記した請求項2に記載のシボ構造を有する板体によると、基板を搬送するコンベアースピード、紫外線硬化光源の出力、遮光板およびフィルターの少なくとも一つの構造を調整することにより、基板の表面のシボ模様を調整することができる特別な効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の板体のシボ形成構造に使用する紫外線硬化照射装置の断面図。
【図2】本発明の板体のシボ形成構造に使用する紫外線硬化照射装置の他の断面図。
【図3】基体の表面に紫外線硬化樹脂を被着したときの平面図。
【図4】基体の表面にシボを形成したときの断面図。
【図5】基体の表面に所望のシボを形成したときの平面図。
【図6】板体のシボ形成構造に使用するフィルターの分光透過率。
【符号の説明】
1 紫外線硬化用照射装置
2 反射体
3 紫外線硬化光源
5 遮光板
6 フィルター
10 基板
Claims (2)
- 基板の表面に被着してなる紫外線硬化樹脂に、時間に差を有して複数灯の紫外線硬化光源により紫外線を照射し、前段の紫外線硬化光源で、300nm以下の紫外線を照射してシボを形成し、後段の紫外線硬化光源で450nm以下の紫外線を照射して紫外線硬化樹脂を硬化させたことを特徴とするシボ構造を有する板体。
- 基板の所望の個所に紫外線硬化樹脂を被着し、基板を搬送するコンベアースピード、紫外線硬化光源の出力、遮光板およびフィルターの少なくとも一つの構造を調整することにより、基板表面のシボの模様を調整し、基板の表面にシボを形成させたことを特徴とする請求項1記載のシボ構造を有する板体。
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