JPH04314540A

JPH04314540A - 表面に凹凸模様を有する化粧タイルの製造方法

Info

Publication number: JPH04314540A
Application number: JP3082568A
Authority: JP
Inventors: Norinaga Nakamura; 典永中村
Original assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Current assignee: Dai Nippon Printing Co Ltd
Priority date: 1991-04-15
Filing date: 1991-04-15
Publication date: 1992-11-05

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は耐擦傷性、耐汚染性を持
ち、表面に凹凸模様を有する化粧タイルの製造方法に関
する。

【０００２】

【従来の技術】従来、表面保護層を有する化粧タイルの
表面を艶消し等の凹凸模様を形成するには、表面保護層
にマット剤を入れて凹凸模様を形成していたが、表面保
護層にマット剤が混入しているため表面保護層を通して
、その下層の絵柄層、着色層等の透視が十分ではなくな
り、化粧タイルの模様が曇って不鮮明になっていた。また、表面保護層の樹脂とマット剤との界面に汚染物質
が侵入し、耐汚染性が低下するという問題があった。

【０００３】このマット剤を使用した化粧タイルの問題
点を解決するものとして、エンボス板を使用して表面に
凹凸模様を形成した化粧タイルの製造方法があった。こ
の方法は、裏打層に着色層、絵柄層、透明層を順次重ね
ておき、予め積層成型した化粧タイルを、エンボス版に
より表面加工するか、あるいは積層成型時にエンボス版
を同時に重ねて表面加工するものであった。

【０００４】このような従来技術として、例えば、特開
昭６２−１２７２２５号公報に記載されたものがある。該公報に記載の技術は、基材塩ビシート上に着色塩ビシ
ート、模様層を必要に応じて順次積層し、予め張り合わ
せておくか、または成形と同時にラミネートするもので
あり、その凹凸模様形成方法は、表面に透明塩ビシート
を重ね、この上に天然の石や木等を原稿として高周波成
形用シリコン樹脂でおす型、めす型取りをすることによ
って作製されたエンボス型を被せ、高周波成型機で高周
波を照射してエンボスを形成した後、エンボス型を離型
して、表面に凹凸模様を有する化粧タイルを得たもので
ある。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、化粧タ
イル等の積層によるプレス成形品は、プレス後に反りが
生じるので、この反りが発生しないようにするためにプ
レス成形後に熱間ゾーンを通す、いわゆるアニール処理
をおこなっていた。このようなプレス成形により形成さ
れた表面に凹凸を有する化粧タイルにアニール処理を行
なうと、凹凸模様にシボ戻り現象が発生し、せっかく形
成された凹凸模様が鈍いものとなり、エンボス版の凹凸
模様が忠実に再現できなかった。また、シボ戻り現象の
ために形成された凹凸模様の形状も一定でなく安定して
いなかった。

【０００６】そこで、本発明は、化粧タイルの表面に形
成された凹凸模様が熱を受けても変化せず、表面に凹凸
模様を有する化粧タイルの製造方法を提供することを目
的とする。さらに、本発明は、特殊なエンボス版を用い
ることなく、通常の鏡面板を用いたプレス成形でも表面
の凹凸模様は破壊されることのない、表面に凹凸模様を
有する化粧タイルの製造方法を提供することを目的とす
る。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明は、上記した問題
点を解決するために、透明基材シート上に電離放射線硬
化性樹脂を塗布し、該電離放射線硬化性樹脂の塗膜上に
表面が凹凸状の賦形シートを積層し、電離放射線を照射
して該電離放射線硬化性樹脂を硬化し、該賦形シートを
除去して表面が凹凸状の化粧シートを得、つぎに裏打層
上に絵柄着色層を形成したタイル基材上に、前記工程で
得られた表面が凹凸状の化粧シートを積層して、表面に
凹凸模様を有する化粧タイルを製造するものである。

【０００８】また、前記凹凸状の賦形シートは、凸部と
凹部の高低差が０．００１μｍ及至９００μｍであり、
凸部と凸部もしくは、凹部と凹部のピッチ巾が０．００
１μｍ及至１０００μｍである砂目状とした。また、裏
打層上に形成した絵柄着色層は、着色層と絵柄層とから
なるとした。さらに、本発明を図１に基づいて詳細に説
明する。

【０００９】図１は、本発明により製造された、表面が
凹凸状の化粧タイルの製造工程中および製造後の断面概
略図を示している。図１に示すように、本発明の化粧タ
イルは、裏打層１上に、着色層２、絵柄層３、透明基材
シート４、凹凸状表面の電離放射線硬化性樹脂層５の順
に積層されている。裏打層１、着色層２、絵柄層３とか
らタイル基材部６が構成され、透明基材シート４と電離
放射線硬化性樹脂層５とから化粧シート部７が構成され
ており、本発明の表面が凹凸状の化粧タイルは、このタ
イル基材部６と化粧シート部７とから構成されている。前記着色層２および絵柄層３はいずれか一方を省略して
もかまわない。

【００１０】本発明の製造方法に使用される賦型シート
の模様は、前記砂目状のものに限らず、種々の模様が適
用できる。例えば、凹凸模様のパターンは各種木目、石
目、布目の天然物の凹凸形状を模写したもの、文字記号
、万線、抽象模様、各種艶消し表面、鏡面、およびそれ
らの模様を組み合わせたものが挙げられる。また、前記
賦型シートの模様を、更に細かく限定し、凹凸の平均間
隔が２０〜５０μｍ、凹凸の平均表面粗さＲａが０．７
〜２．０μｍ、および表面の６０°グロス値が２．０以
下である砂目状とすることにより、触った感じが、しっ
とりとしたヌメリ感のある艶消し表面を得ることができ
る。この感触は、ツルツル、またはテカテカしたもので
はなく、それでいて、ザラザラした感じとは異なり、ス
ウェードのような或種の高級感を漂わせるものである。

【００１１】本発明に使用する賦型シートは、裏打層１
に用いた合成樹脂シートと同様な材質のものを用いるこ
とができる。また、ポリエチレンテレフタレート、ポリ
プロピレン、ポリエチレン、ポリアミドなどの合成樹脂
フィルム、紙、合成紙などである。これらは必要により
ラミネートして使用できる。すなわち、合成樹脂フィル
ムを積層したものでもよく、さらには、紙等を積層した
ものでもよい。これらのシートに凹凸模様を付与する方
法には主としてエンボス加工を用いる。エンボス加工は
公知の方法によって行なうことができ、例えば、エンボ
ス版として、エッチング法、ミル押し出し法、電鋳法な
どにより製作されたものを使用したエンボスロールを加
熱して行なうか、あるいは同様にして製作されたエンボ
ス版を用いて、高周波エンボス法により行なうことがで
きる。さらに、このほかに、マット剤を樹脂に充填して
賦型シートを製造することにより、またシートをサンド
ブラスト加工またはケミカルエッチングすることにより
、艶の状態が調整された、表面が凹凸状の賦型シートが
得られる。

【００１２】また、本発明で使用する賦型シートの厚み
は、通常、５〜２００μｍが好ましく、さらに好ましく
は１２〜５０μｍである。つぎに、本発明に用いられる
、前記化粧シート部７、すなわち、透明基材シート４お
よび電離放射線硬化性樹脂層５について説明する。本発
明で使用する透明基材シート４の材料は、セロファン、
アセテート、ポリエチレン、ポリプロピレン、ポリエス
テル、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリスチ
レン、ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリ
アミドなどの熱可塑性合成樹脂を用いることができるが
、中でも、可塑剤、例えばリン酸トリプチル、リン酸ト
リフェニル、フタル酸ジメチル、フタル酸ジエチル、フ
タル酸オクチル、アジピン酸ブチル、アジピン酸ｎ−ヘ
キシル、アジピン酸ｎ−オクチル、セバシン酸ジブチル
、塩素化ジフェニル等の可塑剤を含むポリ塩化ビニル樹
脂が、加工の容易さ、難燃性等の点で適している。この
透明基材シート４の成形方法は、プレス加工、押出加工
、ロール加工、ペースト加工、溶液加工、エマルジョン
加工、コーティング等の公知の全ての方法が適用できる
。

【００１３】本発明で使用する電離放射線硬化性塗料に
ついて説明する。電離放射線硬化性塗料には電子線硬化
塗料と紫外線硬化塗料とがあり、紫外線硬化塗料が光重
合開始剤や増感剤を含有することを除いて両者の成分は
ほぼ同じである。電離放射線硬化性塗料は、一般的には
被膜形成成分としてその溶液中にラジカル重合性の二重
結合を有するポリマー、オリゴマー、モノマー等を主成
分とし、その他必要に応じて非反応性のポリマー、有機
溶剤、ワックスその他の添加剤を含有するものである。

【００１４】本発明で使用する電離放射線硬化性塗料に
用いられる皮膜形成成分は、好ましくは、アクリレート
系の官能基を有するもの、例えば、比較的低分子量のポ
リエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、アクリル樹脂、エ
ポキシ樹脂、ウレタン樹脂、アルキッド樹脂、スピロア
セタール樹脂、ポリブタジエン樹脂、ポリチオールポリ
エン樹脂、多価アルコール等の多官能化合物の（メタ）
アクリレート等のオリゴマーまたはプレポリマーおよび
反応性希釈剤としてエチル（メタ）アクリレート、エチ
ルヘキシル（メタ）アクリレート、スチレン、メチルス
チレン、Ｎ−ビニルピロリドン等の単官能モノマー並び
に多官能モノマー、例えば、トリメチロールプロパント
リ（メタ）アクリレート、ヘキサンジオール（メタ）ア
クリレート、トリプロピレングリコールジ（メタ）アク
リレート、ジエチレングリコールジ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールトリ（メタ）アクリレート、
ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレート、
１、６−ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレート、ネ
オペンチルグリコールジ（メタ）アクリレート等を比較
的多量に含有するものである。

【００１５】また上記の電離放射線硬化性塗料を紫外線
硬化性塗料とするには、この中に光重合開始剤として、
アセトフェノン類、ベンゾフェノン類、ミヒラーベンゾ
イルベンゾエート、α−アミロキシムエステル、テトラ
メチルチウラムモノサルファイド、チオキサントン類や
、光増感剤としてｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン
、トリーｎ−ブチルホスフィン等を混合して用いること
ができる。特に本発明では、ポリエステルアクリレート
にジアリルフタレートを添加したものが好ましい。

【００１６】これらの電離放射線硬化性塗料の硬化方法
は通常の硬化方法、即ち、電子線または紫外線の照射に
よって硬化することができる。例えば、電子線硬化の場
合にはコックロフトワルトン型、バンデグラフ型、共振
変圧型、絶縁コア変圧器型、直線型、ダイナミトロン型
、高周波型等の各種電子線加速器から放出される５０〜
１０００ＫｅＶ、好ましくは１００〜３００ＫｅＶのエ
ネルギーを有する電子線等が使用され、紫外線硬化の場
合には超高圧水銀灯、高圧水銀灯、低圧水銀灯、カーボ
ンアーク、キセノンアーク、メタルハライドランプ等の
光線から発する紫外線等が利用できる。

【００１７】つぎに、裏打層１、着色層２、絵柄層３か
らなるタイル基材部６を説明する。裏打層１は、化粧タ
イルの最下層となって施工する床と接触したり、化粧タ
イル全体の伸び縮みを少なくし、また、所要の厚みを化
粧タイルに付与するためのものである。裏打層１は原則
的には着色層２、絵柄層３や透明基材シート４と同様な
材料で構成してよいが、寸法安定性、耐熱性を考慮する
とポリ塩化ビニル樹脂（しばしば再生品が用いられる）
やビチューメン等の熱可塑生樹脂に充填剤、例えば重炭
酸カルシウムもしくは軽炭酸カルシウム等を添加したも
のを用いることが好ましい。また、裏打層１に寸法安定
性を特に付与するためにはアスベストやガラス繊維等の
無機質繊維を添加するとよい。これらの充填剤および／
または無機質繊維は上記した熱可塑生樹脂と共に混練し
、カレンダー法もしくは押出し法によりシート化したも
のを用いることができる。

【００１８】さらに、必要によっては裏打層の裏側にガ
ラスクロス、不織布、もしくはその他の織物をラミネー
トしたものを用いると、施工面（例えば床面）との接着
剤による接着が容易になる。なお裏打層１を１枚のシー
トで構成しようとするときに厚みが不足する場合がある
ので、必要に応じてシートを２枚以上重ねて積層しても
よい。複数のシートを重ねて裏打層１とするときはシー
トの延伸方向を直交させると寸法の安定性の点で有利に
なる。裏打層１の厚みは化粧タイル全体の厚みや個々の
部分の厚みにもよるが１〜３ｍｍ程度である。

【００１９】着色層２は、ポリ塩化ビニル等の樹脂製の
シート材料を用い、すでに着色材を混入して製造された
シートか、或いはシート上に着色塗料等を塗布したもの
を、１枚または２枚以上重ねて用いる。絵柄層３は、着
色層２と同様にポリ塩化ビニル等の樹脂製のシート材料
を用い、該シート上に絵柄を形成して用いる。該シート
は着色されているものでも、透明なものでもよい。印刷
方法としては、グラビア印刷法、オフセットグラビア印
刷法、シルクスクリーン印刷法、オフセット印刷法、静
電印刷法、ジェットプリント法などの公知の印刷方法を
、シートの材質、性状、形態等を考慮してシートの片面
または量面に、選択して用いて行なえばよい。被印刷体
は通常非常に長い原反の巻き取られた状態で供給される
から、輪転印刷機を用い、また、印刷方式としてはグラ
ビア印刷方式を用いると多少の原反表面の粗さがあって
も、それを克服して忠実な印刷が可能となり好ましい。

【００２０】つぎに、印刷に用いるインキ組成物として
は通常のものを用いることができ、ビヒクルに顔料もし
くは染料の着色剤、可塑剤、安定剤、その他の添加剤、
活剤もしくは希釈剤を混合して用い、ビヒクルとしては
、例えば、エチルセルロース、エチルヒドロキシエチル
セルロース、セルロースアセテートプロピオネート、酢
酸セルロース等のセルロース誘導体、ポリスチレン、ポ
リα−メチルスチレンなどのスチレン樹脂およびスチレ
ン共重合樹脂、ポリメタクリル酸メチル、ポリメタクリ
ル酸エチル、ポリアクリル酸エチル、ポリアクリル酸ブ
チルなどのアクリルまたはメタクリル樹脂の単独または
共重合樹脂、ロジン、ロジン変性マレイン酸樹脂、ロジ
ン変性フェノール樹脂、重合ロジンなどのロジンエステ
ル樹脂、ポリ酢酸ビニル樹脂、クマロン樹脂、ビニルト
ルエン樹脂、塩化ビニル樹脂、ポリエステル樹脂、ポリ
ウレタン樹脂、ブチラール樹脂等のうち１種ないしは２
種以上を選択して使用し、以上のような通常のインキ組
成物を用いて印刷模様を形成する。

【００２１】表面に凹凸模様を有する化粧タイルを製造
するための、各層の積層方法は、裏打層１、着色層２、
および絵柄層３からなるタイル基材部６の各層と、透明
基材シート４上に形成された表面が凹凸模様を有する電
離放射線硬化性樹脂層５からなる化粧シート部７とを、
ロールプレスもしくは平プレスを用いて熱融着し一体化
させるか、あるいは熱融着によらず積層すべき部分に接
着剤を塗布し、重ねて加圧し、必要により加熱すること
により一体化してもよい。例えば印刷模様を施した透明
合成樹脂フィルムを２枚以上の着色フィルム、および裏
打層１を重ねて各材料を３０〜１００℃程度に加熱し、
さらに１２０℃〜２００℃のヒートドラムに沿わせ、シ
リコンゴムロール等でニップすることにより各層を一体
化することができる。あるいは上記とほぼ同様に、各層
を一定サイズに裁断して供給し、１２０〜１８０℃の熱
板のプレスを使用して一体化させてもよい。

【００２２】

【実施例１】■表面に凹凸模様を有する化粧シート：　
　透明ＰＶＣフィルム（三菱化成ビニル製：０．３ｍ／
ｍ，２３ｐｈｒ（樹脂１００に対する可逆剤の量））の
一方の表面に紫外線硬化性樹脂（大日精化工業（株）製
Ｐ−ウレタンアクリレート系）をロールコーティング法
により３０μｍの厚みに塗布し、その塗布面に熱ロール
エンボス法により得た凹凸を有するポリプロピレンフィ
ルム（厚さ２５μｍ）を積層した。つぎに、ポリプロピ
レンフィルム側から出力１６０Ｗ／ｃｍ２　のオゾン発
生型紫外線ランプ３灯の下を２０ｍ／ｍｉｎの速度で通
過させて紫外線を照射して塗布層を硬化させた。その後
、ポリプロピレンフィルムを剥離して表面に凹凸模様を
有する化粧シートを得た。

【００２３】■裏打層：　　ポリ塩化ビニル（再生品）
１００重量部、可塑剤（ジオクチルフタレート）３０重
量部、顔料（カーボンブラック）２重量部、熱安定剤（
ＡＣ−１１３，アデカアーガス製）２重量部からなる成
形材料を用いカレンダー成形によりシート状に成形して
得た。 ■着色層：　　既に着色されているポリ塩化ビニルシー
ト（理研ビニル工業製，０．１ｍ／ｍ厚，１０ｐｈｒ）
を用意した。

【００２４】■絵柄層：　　透明のポリ塩化ビニルシー
ト（理研ビニル工業製，Ｒ−２０５，０．２ｍ／ｍ厚，
１０ｐｈｒ）上に、ポリ塩化ビニル系のインキ（昭和イ
ンク工業製，化Ｘ）を用いてグラビア版で絵柄を印刷し
た。前記■の裏打層となるシート上に、前記■の着色層とな
るシート、続いて前記■の絵柄層となるシートを積層し
、この最上層に前記■の表面に凹凸模様を有する化粧シ
ートを載置した。化粧タイルの表面となる部分にクッシ
ョン材を介して鏡面板で、１３０℃、プレス圧力１８ｋ
ｇ／ｃｍ２　、１５時間の熱プレスにより各層を一体化
させた。続いて、プレスを持続して加圧したまま、１０
〜２０℃に冷却し、その後プレスを開放して、表面に凹
凸を有する化粧タイルを得た。

【００２５】

【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、表面に凹凸模様を有する化粧シートの凹凸部分の層
が電離放射線硬化性樹脂で形成されているため、凹凸模
様部分の硬度が高く、鏡面板を用いた熱プレスによって
も、その凹凸部の模様が変形することがない。

【００２６】また、電離放射線硬化性樹脂で形成された
凹凸模様をすでに有する化粧シートを用いて化粧タイル
を製造するので、加圧によって成形された凹凸とは異な
り応力は存在せず、その後、熱を受けても凹凸部のシボ
戻り現象が発生しない。さらに、化粧タイル表面層が電
離放射線硬化性樹脂で形成されているため、表面硬度が
高く、耐擦傷性がある。

【００２７】さらにまた、化粧タイルの凹凸表面がマッ
ト材の混入による方法で形成されていないので、マット
材と表面シート材との界面に汚れが溜まることがなく、
耐汚染性がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明により製造される表面が凹凸状の化粧タ
イルの断面概略図を示す。

【符号の説明】

１　　　　　　裏打層２　　　　　　着色層３　　　　　　絵柄層４　　　　　　透明基材シート５　　　　　　電離放射線硬化性塗料層６　　　　　　
タイル基材部７　　　　　　化粧シート部

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】　　次の（Ａ）〜（Ｄ）工程からなること
を特徴とする表面に凹凸模様を有する化粧タイルの製造
方法。（Ａ）透明基材シート上に電離放射線硬化性樹脂
を塗布する工程、（Ｂ）該電離放射線硬化性樹脂の塗膜
上に表面が凹凸模様の賦形シートを積層する工程、（Ｃ
）電離放射線を照射して該電離放射線硬化性樹脂を硬化
し、該賦形シートを除去して表面が凹凸模様の化粧シー
トを得る工程、（Ｄ）裏打層上に絵柄着色層を形成した
タイル基材に、前記（Ｃ）工程で得られた表面が凹凸模
様の化粧シートを積層する工程。
【請求項２】　　前記凹凸模様の賦形シートが、凸部と
凹部の高低差が０．００１μｍ及至９００μｍであり、
凸部と凸部もしくは、凹部と凹部のピッチ巾が０．００
１μｍ及至１０００μｍの砂目状であることを特徴とす
る請求項１記載の表面に凹凸模様を有する化粧タイルの
製造方法。
【請求項３】　　絵柄着色層が、着色層および／または
絵柄層からなる請求項１記載の表面に凹凸模様を有する
化粧タイルの製造方法。