JPH0381275A - 複素環含有フェニルピラゾール誘導体又はその塩類及びその製造方法並びに除草剤 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は新規な複素環含有フェニルピラゾール誘導体及
びその製造方法並びに除草剤に関するものである。

更に詳しくは、一般式（Ｉ） （式中、Ｋｌは低級アルキル基、低級）・ロアルキル基
、フェニル基又は１〜５個の同−又は異なっても良い置
換基を有するフェニル基を示し、ｗＦｉハロゲン原子、
低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキシ
基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキルチオ基、低級
ハロアルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、低
級ハロアルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホニ
ル基又は低級ハロアルキルスルホニル基を示し、ｌ（＋
３は水素原子又はハロゲン原子を示し、Ｒ４及びＲ５は
同−又は異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子又は
低級アルキル基を示し、Ｗは水素原子、低級アルキル基
、低級ハロアルキル基、低級アルケニル基、低級ハロア
ルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキニル基
、ハロゲン原子によって置換されても良い低級アルコキ
シアルキル基、ハロゲン原子によって置換されても良い
低級アルキルチオアルキル基、シアノアルキル基、低級
アルコキシアルコキシアルキル基、低級アシル基、ベン
ジル基、ピリジルメチル基、−ＣＨ（Ｒ７）ＧＯ−Ｙ−
Ｒ”（式中、Ｒ７は水素原子又は低級アルキル基を示し
、Ｂ＋８は水素原子、低級アルキル基、低級）・ロアル
キル基、低級アルケニル基、低級ノ・ロアルケニル基、
低級アルキニル基、低級ハロアルキニル基、低級アルコ
キシアルキル基又は低級アルキルチオアルキル基を示し
、ｙ龜ｏ、ｓ又は−ＪｈＪ−Ｃ式中、Ｒ９は水素原子、
低級アルキル基、低級アルケニル基又は低級アルキニル
基を示す。）を示し、ＹがＯ又はＳの場合、Ｒ８はアル
カリ金楓原子又は第四級アンモニウム塩を示すこともで
きる。）を示し、Ｘは水素原子又はハロゲン原子を示し
、人はＯ、Ｓ又は−ＮＨ−を示す。）で表される複素環
含有フェニルピラゾール誘導体又はその塩類及びその製
造方法並びに除草剤に関するものである。

本発明者等は作物類に対して薬害が少なく、且つ低薬量
で除草効果を有する新規な化合物を創出すべく、鋭意研
究を重ねた結果、一般式（Ｉ）で表される複素環含有フ
ェニルピラゾール誘導体又はその塩類が文献未記載の新
規化合物であり、且つ低薬量で多くの雑草に対して優れ
ｆｃ除草効果を示し、作物類に対しては薬害の少ない化
合物であることを見出し、本発明を完成させたものであ
る。

特開昭５０−１１７９３６号、同５２−９１８１号、同
５４−７０２７０号及び同５５−９０６２号公報にピラ
ゾール誘導体が除草剤として開示されているが、本発明
の一般式（１）で表される複葉環含有７工二ルビラゾー
ル誘導体又はその塩類は全く開示されてからす、しかも
これら公報類に開示の化合物に比して低薬量で優れた除
草効果を示し、且つ作物類に対して薬害の少ないもので
ある。

本発明の一般式（Ｉ）で表わされる複素環含有フェニル
ピラゾール誘導体は、例えば下記に図示する製法によシ
製造することができる。

Ａ。

ｔ （ＩＩ−１） （Ｉ−１） （Ｉ−２） （式中、）Ｌｌ、Ｒ２，Ｒ３，Ｒ４Ｊ５．Ａ、Ｘ及ヒＺ
ｉ前記に同じクシ、比は低級アルキル基を示し、凡’−
’　Ｆｉ前記Ｒ６（但し水素原子を除く）と同じものを
示す。） 即ち、一般式（Ｉｆ−Ｉ　）で表されるピラゾール類を
不活性溶媒の存在下に、又は不存在下及び還元剤の存在
下に還元的に環化反応を行い、一般式（ｉ−ｔ）で表さ
れる複葉環含有７工二ルビラゾール誘導体とし、該複素
環含有フェニルピラゾール誘導体を単離し、又は単離せ
ずして一般式（１０で表されるハライド類とを塩基及び
不活性溶媒の存在下に反応させ、一般式（Ｉ−２）で表
される複素環含有フェニルピラゾール誘導体を製造する
ことができる。

Ａ−１一般式（１−１）→−一般式１−１）本反応で使
用できる不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻
害しないものであれば良く、例えばジクロロメタン、ク
ロロホルム、四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族炭化水素類、酢
酸エチル等のエステル類、アセトニトリル、ベンゾニト
リル等のニトリル類、メチルセロンルブ、ジエチルエー
テル等の鎖状エーテル類、ジオキサン、テトラハイドロ
フラン等の環状エーテル類、スルホラン、ジメチルスル
ホン、ジメチルスルホキシド、水等を例示することがで
きるが本反応はこれらの不活性溶媒に限定されるもので
はなく、これらの不活性溶媒は単独で若しくは混合して
使用することもできる。

本反応は還元剤の存在下に還元的に環化反応を行い、還
化剤としては例えば電解鉄、還元鉄等の鉄粉を使用する
ことができる。還元剤の使用量は一般式（ｎ−１）で表
されるピラゾール類１モルに対して、１〜８０モルの範
囲から適宜選択して使用することが出来、好筐しくは５
〜２０モルの範囲から適宜選択して使用するのが好まし
い。

反応温度は室温乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲
から選択すれば良い。

反応時間は反応規模、反応温度によシ一定しないが、数
分乃至４８時間の範囲である。

反応終了後、反応液から目的物を常法により、例えば減
圧下に不活性溶媒を留去し、必要によシ再結晶法、カラ
ムクロマトグラフィー法等で精製を行うことによシ一般
式（Ｉ−１）で表される複素環含有フェニルビラゾール
誘導体を製造することができる。

又、一般式（ＩＩ−Ｉ）で表されるピラゾール類のフェ
ニル環上５位のニトロ基を還元反応し、アミノ基とした
化合物を単離し、該アミノ基を有するピラゾール類を環
化反応に付して一般式Ｃｌ−１）で表される複素環含有
フェニルピラゾール誘導体を製造することもできる。

Ａ−２，一般式（Ｉ−１）→−一般式Ｉ−２）本反応で
使用できる不活性溶媒としては、本反応の進行を著しく
阻害しないものであれば良く、例えばＡ−１に例示の不
活性溶媒等を使用することができ、これらの不活性溶媒
は単独で若しくは混合して使用することもできる。又、
水及び有機溶媒の混合溶媒を使用する場合、相関移動触
媒の使用も可能である。

本反応は等モル反応であるので、反応試剤を等モル使用
すれば良いが、一般式（Ｋｌで表されるハライド類を過
剰に使用しても良い。

本反応で使用できる塩基としては、無機塩基又は有機塩
基を使用することができ、無機塩基としでは、例えばナ
トリウム、カリウム（マグネシウム若しくはカルシウム
等のアルカリ金属又はアルカリ土類金属の水素化物、水
酸化物、炭ｉ！！塩若しくはアルコラード等を、有機塩
基としては、例えばトリエチルアミン、ピリジン等を使
用することができる。

塩基の使用量は、一般式（Ｉ−１）で表される複素環含
有フェニルピラゾール誘導体に対して等モル乃至過剰モ
ルの範囲で使用すれば良い。

反応温度は０℃乃至使用する不活性溶媒の沸点域の範囲
から選択すれば良い。

反応時間は反応規模、反応温度によシ一定しないが、数
分乃至４８時間の範囲である。

反応終了後、反応液から目的物を常法によや、例えば溶
媒抽出等の操作を行い、必要により再結晶法、カラムク
ロマトグラフィー法等で精製を行うことによう一般式（
Ｉ−２）で表される複葉環含有フェニルピラゾール誘導
体を製造することができる。

Ａ−五 一般式（１）で表される複素環含有フェニルビラゾール
誘導体でＲＩ２が低級アルキルスルフィニルｉ、ａ級ア
ルキルスルホニルＸ、ａ級ハロアルキルスルフィニル基
又り低級ハロアルキルスルホニル基の場合、Ｗが低級ア
ルキルチオ基又は低級ハロアルキルチオ基を有する一般
式（１）で表される複素環含有フェニルピラゾール誘導
体をメタクロロ過安息香酸等の酸化剤にょう酸化するこ
とによう製造することができる。

一般式（Ｉ）で表される複素環含有フェニルピラゾール
誘導体の代表的な化合物を第１表に示す。

一般式（１）で表される複素環含有フェニルピラゾール
誘導体の塩類としては、例えば塩酸、硫酸等の鉱酸の他
、例えばパラトルエンスルホン酸等の有機酸等の塩類を
例示することができ、これらの塩類は一般式（Ｉ）で表
される複素環含有フェニルピラゾール誘導体を適当な鉱
酸、有機酸等で処理することにより製造することができ
る。

本発明で一般式（Ｉ）で表される複素環含有フェニルピ
ラゾール誘導体又はその塩類を製造するための原料であ
る一般式（ＩＩ−１）で表されるピラゾール類は、以下
に図示する方法により製造することができる。

（ＩＩ−１） （式中、Ｒ，Ｒ，’、　Ｒ”、Ｒ”、Ｒ’、Ｒ’、　ｘ
及ヒｚｈｍｖに同じ＜ｔ、、ｆｔ’″″１はハロゲン原
子を示し、Ｗは水素原子又は−・ロゲン原子を示し、Ｒ
ｌＧ　は低級アルキル基又は低級−ロアルキル基を示し
　Ｒ１１は低級アルキル基を示す。） 即ち、Ｒ３が・・ロゲン原子の場合、−紋穴□□□）で
表される化合物と一般式（１）で表される化合物とを反
応させ一般式（■−１）で表されるピラゾール類とする
か、Ｒが低級アルキル基又は低級ハロアルキル基の場合
、−紋穴＜ｘｍ＞で表される化合物と一般式（ＭＤで表
されるヒドラジン類とを反応させ一般式（■−１）で表
されるピラゾール類とするか、Ｒが低級ア九コキシ基又
は低級ハロアルコキシ基の場合、−紋穴（ＸＲ／）で表
される化合物と炭酸ジアルキルとを反応逃せ、−紋穴（
■）で表される化合物とし、−紋穴（■）で表される化
合物を一般式（■）で表されるヒドラジン類及び−紋穴
（ＸＩ）で表されるハライド類と反応させ一般式（■−
１）で表されるピラゾール類とするか、又はＲが低級ア
ルキルチオ基又は低級ハロアルキルチオ基の場合、−紋
穴（■）で表される化合物とローノン試薬及び−紋穴（
ＸＩ）で表されるハライド類と反応させ一般式１−１）
で表されるピラゾール類とするか、若しくは一般式（Ｘ
ｌ’ｌ／）で表される化合物と二硫化炭素と反応させ、
次いで一般式（Ｘりで表されるハライド類と反応させ、
−紋穴（ＩＸ）で表される化合物とし、該化合物（ＩＸ
）　’に一般式（■）で表されるヒドラジン類と反応さ
せることによう、−紋穴１−１）で表されるピラゾール
類とし、該−紋穴（■−１）で表されるピラゾール類を
ハロゲン化することにより一般式（Ｖｌ−２）で表され
るピラゾール類を製造することができる。

上記の製法によシ得られた一般式１−ｆ）又は−紋穴１
−２）で表されるピラゾール類’に＝トロ化することに
よう、−紋穴（７）で表されるピラゾール類とし、該ピ
ラゾール類と一般式（■）で表されるエステル類とを反
応させることにより、−紋穴（■−１）で表されるピラ
ゾール類を製造することができる。

以下に本発明の一般式（Ｉ）で表される複素環含有フェ
ニルピラゾール誘導体又はその塩類の代表的な実施例′
ｆ、あげるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。

実施例１．４−クロロ−３−（７−クロロ−２゜３−ジ
ヒドロ−１，４−ベンゾチアジン−３−オン−６−イル
）−１−メチル−５−メチルチオピラゾールの製造（化
合物Ａ　Ｉ　）４−クロロ−５−（２−クロロ−４−エ
トキシカルボニルメチルチオ−５−ニトロフェニｋ）−
１−）ｆルー５−メチルスルフィニルピラゾール（１４
３ｆ　（０，９５ミリモル）を氷酢酸５−に溶解した溶
液を、電解鉄粉ＣＬ５３ｆ（９−５ミリモル）と５優酢
ｒＭ５ｄの混合液中へ還流下に滴下し、１時間反応を行
った。

反応終了後、反応混合液を熱時濾過し、濾液から目的物
を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗し、芒硝で乾燥後
、溶媒を減圧留去し、残渣をエーテルで洗浄して目的物
α２５ｆｉ得た。

物性　ｍ、ｐ、　２２Ａ１℃　収率　７［ＬＯ％。

実施例２．　５−（７−クロロ−４−（２−プロペニル
）　−２，５−ジヒドロ−１，４−ベンゾチアジン−３
−オン−６−イル）−４−クロロ−１−メチル−５−メ
チルチオピラゾールの製造（化合物層５） １ ４−クロロ−５−（７−クロロ−２，３−ジヒドロ−１
，４−ベンゾチアジン−３−オン−６−イル）−１−メ
チル−５−メチルチオピラゾール（Ｌ４ｆ（１，０６ミ
リモル）をジメチルスルホキシド１５ｔ／に溶解し、室
温下に水酸化カリウム粉末０．０９　Ｆ　（１，５８ミ
リモ／’）とＡ化アリルα１９ｆ（ｔ５９ミリモル）を
加え、室温下に１時間反応を行った。

反応終了後、目的物を含む反応ｇを冷希塩酸中に注ぎ、
酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗及び無水芒硝で乾燥
し、溶媒を減圧留去し、残渣をエーテル及びｎ−へキサ
ンから再結晶して目的物０．２７　ｔを得た。

物ｎ　　ｍ、ｐ。１４４．２℃収率　６ｔ２％実施例五
　４−クロロ−５−ジフルオロメトキシー３−（７−フ
ルオロ−２，３−ジヒドロ−１，４−ベンゾオキサジン
−３−オン−６−イル）−６−メチルピラゾールの製造
（化合物Ａ１９） ４−クロロ−５−ジフルオロメトキシ−３−（４−エト
キシカルボニルメトキシ−２−フルオｏ　−５−二トロ
フェニル）−１−メチルピラゾールｔｓｓｔ（五１９ミ
リモル）１ｒ、氷酢酸２０ｄに溶解した溶液を、電解鉄
粉１７８Ｆ（３ｔ９ミリモル）と５嘩酢酸２０　ｍの混
合液中へ還流下に滴下し、１時間反応を行った。

反応終了後、反応混合液を熱時濾過し、濾液から目的吻
合酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗し、芒硝で乾燥後
、溶媒を減圧留去し、残渣をエーテルで洗浄して目的物
α？６ｆを得た。

物性　ｒｌ、ｐ、１５８℃　収率８ムロ鳴。

実施例４４−クロロ−５−ジフルオロメトキシ−５〜（
６−フルオロ−２−オキシー１，２゜３．４−テトラヒ
ドロキノキサリン−７−イル）−１−メチル−ピラゾー
ルの製造（化合物慮４−クロロー５−ジフルオロメトキ
シ−５−（４−エトキシカルボニルメチルアミノ−２−
フルオロ−５−二トロフェニル）−１−メチルピラゾー
ル１．４５９　（Ａ３８ミリモル）を氷酢ｔＲ２２！Ｌ
ｔに溶解した溶液を、電解鉄粉ｔｓ９ｆ（３五８ミリモ
ル）と５％酢酸２２ｍの混合液中へ還流下に滴下し、１
時間反応を行った０ 反応終了後、反応混合液を熱時濾過し、濾液から目的物
を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗し、芒硝で乾燥後
、溶媒を減圧留去し、残渣をエーテルで洗浄して目的物
（Ｌ７７　ｔ　ｆ得た。

物性　油状物　　　　　収率６！Ｌ７優。

ＮＭＲデータ（ＣＤＣｌ１／ＴＭｓ、δ値、ｐｐｍ）五
７７（ｊＨ，３）、五９Ｂ（２Ｈ，Ｓ）、５．０５（１
１−１゜ｂｒｓ）、１ｂ４９（２Ｈ，ｄ、Ｊ＝ｊｊｋ４
ｚ）。

４７３（１）ｉ、　ｔ、Ｊ＝７２Ｈｚ）、＆９６（２Ｈ
，ｄ。

Ｊ＝６Ｈｚ　）　、　９．５２　（１）ｌ、　ｂｒｓ　
）。

本発明の一般式（Ｉ）で表される複素環含有フェニルピ
ラゾール誘導体又はその塩類は、例えばノビエ（タイヌ
ビエの俗称、イネ科−年生草、水田の代表的強害草）、
タマガヤツリ（カヤツリグサ科−年生草、水田の香草）
、マツバイ（カヤツリグサ科多年生草、湿地、水路、水
田に発生、水田の代表的多年生香草）、ウリカワ（オモ
ダカ科、湿地、溝、水田に発生する多年生香草）、ホタ
ルイ（カヤツリグサ科多年生草、湿地、水路、水田に発
生）、エンバク（イネ科−年生卓、山野、畑地に発生）
、メヒシバ（イネ科−年生草、畑、樹園地の代表的強害
草）、ギシギシ（タデ科多年生草、畑地、道端に発生）
、コゴメカヤツリ（カヤツリグサ科−年生草、畑地、道
端に発生）、アオビユ（ヒュ科−年生草、畑地、道端、
空地に発生）等の水田、畑地、樹園地、湿地等に発生す
る一年生草及び多年生雑草を防除する作用を有する。

本発明の一般式（１）で表とれる複素環含有フェニルピ
ラゾール誘導体又はその塩類は、出芽前及び出芽後にあ
る雑草に対して優れた防除作用を示すことから、有用植
物の植え付予定地に予め処理するとか、有用植物の植え
付は後（有用植物が樹園の如く既に定植されている場合
を含む。）雑草の発生前期から生育期に処理することに
より本発明除草剤の有する特徴ある生理活性を効果的に
発現させることができる。しかし本発明除草剤はこのよ
うな態様にかいてのみ使用されねばならないというもの
ではなく、例えば本発明除草剤は水田用除草剤として使
用することができるばかうでなく、一般雑草の除草剤と
しても使用することができ、例えば刈り取り跡、休耕田
畑、畦畔、農道、水路、牧草造成地、墓地、公園、道路
、運動場、建物の周辺の空き地、開墾地、線路、森林等
の一般雑草の駆除の為に使用することもできる。この場
合、雑草の発生始期までに処理するのが紅済的にも最も
効果的であるが、必ずしもこれに限定されるものではな
く、生育期にある雑草を防除することが可能である。

本発明の一般式（１）で表される複素環含有フェニルピ
ラゾール誘導体又はその塩類を除草剤として使用する場
合、農薬製剤上の常法に従い、使用上都合の良り形状に
製剤して使用するのが一般的である。即ち、本発明の一
般式（１）で表される複素環含有フェニルピラゾール誘
導体又はその塩類は、これらを適当な不活性担体に、又
は必要に応じて補助剤と一緒に、適当な割合に配合して
溶解、分離、懸濁、混合、含浸、吸着若しくは付着させ
、適宜の剤形、例えば懸濁剤、乳剤、液剤、水利剤−１
粒剤、粉剤、錠剤等に製剤して使用すれば良い。本発明
で使用できる不活性担体としては固体又は液体の何れで
あっても良く、固体の担体になりうる材料としては、例
えばダイズ粉、穀物粉、木粉、樹皮粉、鉱粉、タバコ茎
粉、クルミ殻粉、ふすま、繊維素粉末、植物エキス抽出
後の残渣、粉砕合成樹脂等の合成重合体、粘土類（例え
ばカオリン、ベントナイト、酸性白土等）、メルク類（
例えばメルク、ピロフィライト等）、シリカ類（例えば
珪藻土、珪砂、雲母、ホワイトカーボン〔含水微粉珪素
、含水珪酸ともいわれる合成高分散珪酸で、製品によシ
珪醒カルシウムを主成分として含むものもある。〕）、
活性炭、イオウ粉末、軽石、焼成珪藻土、レンガ粉砕物
、フライアッシュ、砂、炭酸カルシウム、燐酸カルシウ
ム等の無機鉱物性粉末、硫安、燐安、硝安、尿素、塩安
等の化学肥料、堆肥等を挙げることができる。これらは
単独で若しくは二種以上の混合物の形で使用される。

液体の担体になりうる材料としては、それ自体溶媒能を
有するものの他、溶媒能を有さすとも補助剤の助けによ
シ有効成分化合物を分散させうろこととなるものから選
択され、例えば代表例として次に挙げる担体を例示でき
るが、これらは単独で若しくは２種以上の温合物の形で
使用され、例えば水、アルコール類（例えばメタノール
、エタノール、インプロパツール、ブタノール、エチレ
ングリコール等）、ケトン類（例えばアセトン、メチル
エチルケトン、メチルイソブチルケトン、ジイソプチル
ク゛トン、シクロヘキサノ７等）、エーテル類（例えば
エチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、ジプロピル
エーテル、テトラヒドロフラン等）、脂肪族炭化水素類
（例えばガソリン、鉱油等）、芳香族炭化水素類（例え
ばベンセン、トルエン、キシレン、ソルベントナフサ、
アルキルナフタレン等）、ハロゲン化炭化水素類（例え
ばジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭素等）、エ
ステル類（例えば酢酸エチル、ジインプロピル７タレー
ト、ジブチルツメレート、ジオクチル７タレート等）、
アミド類（例えばジメチルホルムアミド、ジエチルホル
ムアミド、ジメチルアセトアミド等）、ニトリル類（例
えばアセトニトリル等）、ジメチルスルホキシド類等金
挙げることができる。

他の補助剤としては次に例示する代表的な補助剤をあげ
ることができ、これらの補助剤は目的に応じて使用され
、単独で、ある場合は二種以上の補助剤金併用し、又あ
る場合には全く補助剤を使用しないことも可能である。

有効成分化合物の乳化、分散、可溶化及び／又ｔよ湿潤
の目的のために界面活性剤が使用され、例えばポリオキ
シエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエチレンアル
キルアリールエーテル、ポリオキシエチレン高級血肪酸
エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステル、ポリオ
キシエチレンソルビタンモノラウレート、ポリオキシエ
チレンソルビタンモノオレエート、アルキルアリールス
ルホ／酸塩、ナフタレンスルホン酸縮合物、リグニンス
ルホン酸塩、高級アルコール硫酸エステル等の界面活性
剤を例示することができる。

又有効成分化合物の分散安定化、粘看及び／又は結合の
目的のために、次に例示する補助剤を使用することもで
き、例えばガゼイン、ゼラチン、澱粉、メチルセルロー
ス、カルボキシメチルセルロース、アラビアゴム、ポリ
ビニルアルコール、松根油、種油、ベントナイト、リグ
ニンスルホンは塩等の補助剤を使用することもできる。

固体製品の流動性改良のために次に挙げる補助剤を使用
することもでき、例えばワックス、ステアリン酸塩、燐
酸アルキルエステル等の補助剤を使用できる。

懸濁性製品の解こう剤として、例えばナフタレンスルホ
７［縮合物、縮合燐酸塩等の補助剤を使用することもで
きる。

消泡剤としては、例えばシリコーン油等の補助剤を使用
することもできる。

有効成分化合物の配合割合は必要に応じ加減することが
でき、例えば粉剤或いは総則とする場合はα０１〜５ｏ
ｘｉｓ、又乳剤式いは水利剤とする場合も同様ＣＬＯ１
〜５０重量囁が適当である。

本発明の一般式（１）で表される複素環含有ピラゾール
誘導体又はその塩類全有効取分とする除草剤は、各種雑
草を枯殺し若しくは生育を抑制するために、そのまま、
又は水等で適宜希釈し、若しくは懸濁させた形で、ｌ草
若しくは生育抑制に有効な量を、当該雑草に、又は当該
雑草の発生若しくは生育が好ましくない場所に′Ｊ？い
て、茎葉又は土壌に適用して使用する。

本発明の一般式（１）で表される複素環含有ピラゾール
誘導体又はその塩類を有効成分とする除草剤の使用量は
種々の因子、例えば目的、対象雑草、雑草又は作物の発
生／生育状況、雑草の発生傾向、天候、環境条件、剤型
、施用方法、施用場所、施用時期等によシ変動するが、
有効成分化合物としてヘクタール当たシ１Ｆ−１０梅の
範囲から目的に応じて適宜選択すれば良い。

本発明の一般式（１）で表される複素環含有ピラゾール
誘導体又はその塩類を有効取分とする除草剤を更に防除
対象草種、防除適期の拡大のため、或いは薬量の低減を
はかる目的で他の除草剤と混合して使用することも可能
である。

以下に本発明の代表的な試験例及び処方例を示すが、本
発明はこれらに限定されるものではない。

試験例ｔ　出芽前の水田雑草に対する除草効果１万分の
１７−ルポツトに床±金詰め、子指したノビエの種子を
播種し、その上に子指したホタルイとコナギの種子を混
和した土ＩＩを覆土（１ｃｍ　）　Ｌ、湛水した。これ
に本発明化合物（第１表記載の化合物）を有効成分とす
る薬剤を所定濃度の散布液として処理した。処理２１日
後に除草効果を調査し、無処理と比較して殺草率を算出
し、以下の基準で判定を行った。

除草活性の判定基準 ５・・・９５％以上殺草 ４・・・７０％以上９５係未満殺草 ５・・・５０４以上７０囁未満殺草 ２・・・３０％以上５０％未満殺草 １−・１０嘩以上３０優未満殺草 ０・・・１０囁未満殺草 結果を第２表に示す。

第 ２ 表 尚、比較対照化合物Ａは特開昭５２−９１８６１号公報
第５頁記載の３−フェニル−５−メチルチオピラゾール
ｋ、ＢＦｉ同公報第４頁の例１に記載の化合物を、Ｃは
特開昭５４−７０２７０号公報に記載のＡ８を、セして
ＤＦｉ特開昭５５−９０６２号公報第９頁に記載の化合
物＆１５９を比較対照化合物として使用した。

化合物人、　　　　　　化合物Ｂ。

化合物Ｃ１ 化合物υ。

試験例２　出芽後の水田雑草に対する除草効果１万分の
１アールポツトに土＠金詰め、水田状態にし、水田雑草
であるノビエ、ホタルイの種子、ミズガヤツリ及びウリ
カフの塊茎を一ビニになるよう調整した。

これに本発明化合物（第１表記載の化合物）を有効成分
とする薬剤全所定濃度の散布液として処理した。処理２
１日後に除草効果を調食し、試験例１と肉様にして殺草
率を算出し、判定を行った。同時に水稲に対する薬害を
調査し下記の基準で薬害を判定した。

薬害の判定基準 Ｈ・・・薬害穴（枯死を含む） Ｍ・・・薬害中 Ｌ・・・薬害小 Ｎ・−・薬害熱 結果金弟５表に示す。

第　　３ 試験例ム 出芽前の畑地雑草に対する除草効果 酸１ ０５Ｉ×横２ ０ｃｒＭ×高さ５ののポリエチレ ン製バットに土＠を詰め、これに畑作作物（ダイズ及び
コムギ）及び畑地有害雑草（ノビエ、イチビ、オナモミ
、オオイヌノフグリ、ヤエムグラ）の種子を播種覆土し
た。

これに本発明化合物（第１表記載の化合物）を有効成分
とする薬剤を所定濃度の散布液として処理した。処理１
４日後に除草効果を調査し、試験例１と同様にして殺草
率全算出し、判定を行った。同時にダイズ及びコムギに
対する薬害を調査し試験例２の基準に従って薬害を判定
した。

結果ｆｔ第４表に示す。

第　　４　　表 試験例４．　出芽後の畑地雑草に対する除草効果縦１０
ｃｒｎ×横２０ｃｒｎ×高さ５ｃＷＩのポリエチレン製
バクトに±ｉＪＩを詰め、これに下記に示す畑作作物（
夕′イズ及びコムギ）及び畑地有害雑草（ノビエ、イチ
ビ、オナモミ、オオイヌノフグリ、ヤエムグラ）の種子
を播種覆土し、各々下記のビニになる筐で生育させ、こ
れに本発明化合物（第１表記戦の化合物）を有効成分と
する薬剤を所定濃度の散布液として処理した。処理１４
日後に除草効果を調査し、試験例１と同様にして殺草率
全真出し、判定を行った。ｌｈＪ時にダイス及びコムギ
に対する薬害ｔｍ査し試験例２の基準に従って薬害を判
定した。

供試雑草種及びその業期並びにダイス及びコムギのビニ コムキ ダイス ノビエ イチビ オナモミ ２葉期 １葉期 ２葉期 ２葉期 １來期 オオイヌノフグリ ヤエムグラ 結果を第５表に示す。

第　５ 表 １葉期 ２葉期 処方例り 化合物層１ ５０部 ＝　／′ｘ−チル　　　　　　　　　　　　５部以上を
均一に混合粉砕して水利剤とする。

処方例２ 化合物層１０　　　　　　　　　　　　５部クレー・ベ
ントナイトの混合物　　　　９０部リすニ／スルホン敵
カルシウム　　　　　５部以上を均一に混合粉砕し、適
量の水を加えて混練し、造粒して粒剤とする。

処方例五 化合物＆２５　　　　　　　　　　　　５０部キシレン
　　　　　　　　　　　　　　４０部ポリオキシエチレ
ンノニにフェ ニルエーテルとアルキルベンゼンス ルホン酸カルシウムとの混合物、　　　１０部以上を均
一に混合俗解して、乳剤とする。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. （１）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼ （式中、Ｒ＾１は低級アルキル基、低級ハロアルキル基
   、フェニル基又は１〜５個の同一又は異なっても良い置
   換基を有するフェニル基を示し、Ｒ＾２はハロゲン原子
   、低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキ
   シ基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキルチオ基、低
   級ハロアルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、
   低級ハロアルキルフィニル基、低級アルキルスルホニル
   基又は低級ハロアルキルスルホニル基を示し、Ｒ＾３は
   水素原子又はハロゲン原子を示し、Ｒ＾４及びＲ＾５は
   同一又は異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子又は
   低級アルキル基を示し、Ｒ＾６は水素原子、低級アルキ
   ル基、低級ハロアルキル基、低級アルケニル基、低級ハ
   ロアルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキニ
   ル基、ハロゲン原子によって置換されても良い低級アル
   コキシアルキル基、ハロゲン原子によって置換されても
   良い低級アルキルチオアルキル基、シアノアルキル基、
   低級アルコキシアルコキシアルキル基、低級アシル基、
   ベンジル基、ピリジルメチル基、−ＣＨ（Ｒ＾７）ＣＯ
   −Ｙ−Ｒ＾８（式中、Ｒ＾７は水素原子又は低級アルキ
   ル基を示し、Ｒ＾８は水素原子、低級アルキル基、低級
   ハロアルキル基、低級アルケニル基、低級ハロアルケニ
   ル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキニル基、低級
   アルコキシアルキル基又は低級アルキルチオアルキル基
   を示し、ＹはＯ、Ｓ又は−Ｎ（Ｒ＾９）−（式中、Ｒ＾
   ９は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基又は
   低級アルキニル基を示す。）を示し、ＹがＯ又はＳの場
   合、Ｒ＾８はアルカリ金属原子又は第四級アンモニウム
   塩を示すこともできる。）を示し、Ｘは水素原子又はハ
   ロゲン原子を示し、ＡはＯ、Ｓ又は−ＮＨ−を示す。）
   で表される複素環含有フェニルピラゾール誘導体又はそ
   の塩類。
2. （２）一般式（ I −１） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I −１） （式中、Ｒ＾１は低級アルキル基、低級ハロアルキル基
   、フェニル基又は１〜５個の同一又は異なっても良い置
   換基を有するフェニル基を示し、Ｒ＾２はハロゲン原子
   、低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキ
   シ基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキルチオ基、低
   級ハロアルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、
   低級ハロアルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホ
   ニル基又は低級ハロアルキルスルホニル基を示し、Ｒ＾
   ３は水素原子又はハロゲン原子を示し、Ｒ＾４及びＲ＾
   ５は同一又は異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子
   又は低級アルキル基を示し、Ｘは水素原子又はハロゲン
   原子を示し、ＡはＯ、Ｓ又は −ＮＨ−を示す。）で表される複素環含有フェニルピラ
   ゾール誘導体と一般式（III） Ｒ＾６＾−＾１・Ｚ（III） （式中、Ｒ＾６＾−＾１は低級アルキル基、低級ハロア
   ルキル基、低級アルケニル基、低級ハロアルケニル基、
   低級アルキニル基、低級ハロアルキニル基、ハロゲン原
   子によって置換されても良い低級アルコキシアルキル基
   、ハロゲン原子によって置換されても良い低級アルキル
   チオアルキル基、シアノアルキル基、低級アルコキシア
   ルコキシアルキル基、低級アシル基、ベンジル基、ピリ
   ジルメチル基、 −ＣＨ（Ｒ＾７）ＣＯ−Ｙ−Ｒ＾８（式中、Ｒ＾７は水
   素原子又は低級アルキル基を示し、Ｒ＾８は水素原子、
   低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルケニル
   基、低級ハロアルケニル基、低級アルキニル基、低級ハ
   ロアルキニル基、低級アルコキシアルキル基又は低級ア
   ルキルチオアルキル基を示し、ＹはＯ、Ｓ又は−Ｎ（Ｒ
   ＾９）−（式中、Ｒ＾９は水素原子、低級アルキル基、
   低級アルケニル基又は低級アルキニル基を示す。）を示
   し、ＹがＯ又はＳの場合、Ｒ＾８はアルカリ金属原子又
   は第四級アンモニウム塩を示すこともできる。）を示し
   、Ｚはハロゲン原子を示す。） で表されるハライド類とを反応させることを特徴とする
   一般式（ I −２） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I −２） （式中、Ｒ＾１、Ｒ＾２、Ｒ＾３、Ｒ＾４、Ｒ＾５、Ｒ
   ＾６＾−＾１、Ｘ及びＡは前記に同じ。）で表される複
   素環含有フェニルピラゾール誘導体の製造方法。
3. （３）一般式（ I ） ▲数式、化学式、表等があります▼（ I ） （式中、Ｒ＾１は低級アルキル基、低級ハロアルキル基
   、フェニル基又は１〜５個の同一又は異なっても良い置
   換基を有するフェニル基を示し、Ｒ＾２はハロゲン原子
   、低級アルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルコキ
   シ基、低級ハロアルコキシ基、低級アルキルチオ基、低
   級ハロアルキルチオ基、低級アルキルスルフィニル基、
   低級ハロアルキルスルフィニル基、低級アルキルスルホ
   ニル基又は低級ハロアルキルスルホニル基を示し、Ｒ＾
   ３は水素原子又はハロゲン原子を示し、Ｒ＾４及びＲ＾
   ５は同一又は異なっても良く、水素原子、ハロゲン原子
   又は低級アルキル基を示し、Ｒ＾６は水素原子、低級ア
   ルキル基、低級ハロアルキル基、低級アルケニル基、低
   級ハロアルケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアル
   キニル基、ハロゲン原子によって置換されても良い低級
   アルコキシアルキル基、ハロゲン原子によって置換され
   ても良い低級アルキルチオアルキル基、シアノアルキル
   基、低級アルコキシアルコキシアルキル基、低級アシル
   基、ベンジル基、ピリジルメチル基、−ＣＨ（Ｒ＾７）
   ＣＯ−Ｙ−Ｒ＾８（式中、Ｒ＾７は水素原子又は低級ア
   ルキル基を示し、Ｒ＾８は水素原子、低級アルキル基、
   低級ハロアルキル基、低級アルケニル基、低級ハロアル
   ケニル基、低級アルキニル基、低級ハロアルキニル基、
   低級アルコキシアルキル基又は低級アルキルチオアルキ
   ル基を示し、ＹはＯ、Ｓ又は−Ｎ（Ｒ＾９）−（式中、
   Ｒ＾９は水素原子、低級アルキル基、低級アルケニル基
   又は低級アルキニル基を示す。）を示し、ＹがＯ又はＳ
   の場合、Ｒ＾８はアルカリ金属原子又は第四級アンモニ
   ウム塩を示すこともできる。）を示し、Ｘは水素原子又
   はハロゲン原子を示し、ＡはＯ、Ｓ又は−ＮＨ−を示す
   。） で表される複素環含有フェニルピラゾール誘導体又はそ
   の塩類を有効成分として含有することを特徴とする除草
   剤。