JP2887701B2 - 3−置換フェニルピラゾール誘導体又はその塩類及びその用途 - Google Patents

3−置換フェニルピラゾール誘導体又はその塩類及びその用途

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JP2887701B2 JP3058114A JP5811491A JP2887701B2 JP 2887701 B2 JP2887701 B2 JP 2887701B2 JP 3058114 A JP3058114 A JP 3058114A JP 5811491 A JP5811491 A JP 5811491A JP 2887701 B2 JP2887701 B2 JP 2887701B2
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Description

【発明の詳細な説明】
【0001】本発明は一般式(I)
【化2】 〔式中、R1 は低級アルキル基を示し、R2 はハロアル
コキシ基を示し、R3 はハロゲン原子を示し、R4 は−
(OCH2 )n−CO−Z1 −R5 (式中、Z1 は−O
−、−S−又は−N(R6 )−を示し、R5 及びR6
同一又は異なっても良く、水素原子、アルキル基、低級
ハロアルキル基、低級アルケニル基、低級ハロアルケニ
ル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、トリアル
キルシリルアルキル基、低級アルキルチオアルキル基、
低級アルコキシアルキル基、低級アルコキシアルコキシ
アルキル基、同一又は異なっても良い低級ジアルキルア
ミノアルキル基、置換基を有しても良いアラルキル基、
置換基を有しても良いアリール基、置換基を有しても良
いピリジル基、低級アルキルスルホニル基、シクロアル
キリデンイミノ基又は−CH(R7 )−CO−Z2 −R
8 (式中、Z2 は−O−、−S−又は−N(R9 )−を
示し、R7 は水素原子又は低級アルキル基を示し、R7
及びR8 は同一又は異なっても良く、水素原子、アルキ
ル基、低級ハロアルキル基、低級アルケニル基、低級ハ
ロアルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル
基、トリアルキルシリルアルキル基、低級アルキルチオ
アルキル基、低級アルコキシアルキル基、低級アルコキ
シアルコキシアルキル基、同一又は異なっても良い低級
ジアルキルアミノアルキル基、置換基を有しても良いア
ラルキル基、置換基を有しても良いアリール基、置換基
を有しても良いピリジル基、低級アルキルスルホニル基
を示す。)を示し、nは0又は1の整数を示す。又、Z
1 若しくはZ2 が−O−を示す場合、R5 又はR8 はア
ルカリ金属原子又は四級アンモニウム塩を示すこともで
きる。)を示し、X及びYは同一又は異なっても良く、
ハロゲン原子を示す。〕で表される3−置換フェニルピ
ラゾール誘導体又はその塩類及び該化合物を有効成分と
する除草剤に関するものである。
【0002】本発明者等は新規な除草剤を創出すべく、
鋭意研究を重ねた結果、一般式(I)で表される3−置
換フェニルピラゾール誘導体又はその塩類が文献未記載
の新規化合物であり、且つ低薬量で雑草に対して強い除
草効果を有することを見出し、本発明を完成させたもの
である。
【0003】本発明の従来技術としては、例えば特開昭
50−117936号,同52−91861号、同54
−70270号及び同55−9062号公報等にピラゾ
ール系化合物が開示されているが、本発明の一般式
(I)で表される3−置換フェニルピラゾール誘導体又
はその塩類は全く開示されておらず、しかも本発明の3
−置換フェニルピラゾール誘導体又はその塩類はこれら
の公報記載の化合物に比較して低薬量で優れた除草効果
を有するものである。
【0004】本発明の一般式(I)で表される3−置換
フェニルピラゾール誘導体又はその塩類は下記に図示す
る構造異性体を有し、これらの構造異性体は本発明の3
−置換フェニルピラゾール誘導体又はその塩類を製造す
る際に、同時に生成し、適当な分離方法、例えば再結晶
法、カラムクロマトグラフィー法等で分離することによ
り製造することができるものであり、本発明はこれらの
構造異性体をも包含するものである。
【化3】 (式中、R1、R2、R3、R4、X及びYは前記に同
じ。) 本発明の一般式(I)で表される3−置換フェニルピラ
ゾール誘導体の塩類としては、例えば塩酸、硫酸等の鉱
酸の塩類の他に、例えばパラトルエンスルホン酸等の有
機酸の塩類を例示することができる。
【0005】本発明の一般式(I)で表される3−置換
フェニルピラゾール誘導体又はその塩類の代表的な製造
方法としては、例えば下記に図示する製造方法を例示す
ることができるが、本発明はこれらに限定されるもので
はない。
【化4】 (式中、R1 、R2 、R3 、R4 、R5 、X、Y及びZ
1 は前記に同じくし、X1 はハロゲン原子又は水酸基を
示し、X2 は水素原子又はハロゲン原子を示す。) 即ち一般式(II)で表されるピラゾール類を不活性溶媒及
び塩基の存在下に一般式(III) で表される化合物と反応
させることにより、一般式(I)で表される3−置換フ
ェニルピラゾール誘導体を製造することができる。
【0006】本反応で使用できる不活性溶媒としては、
本反応の進行を著しく阻害しないものであれば良く、例
えばジクロロメタン、クロロホルム、四塩化炭素等のハ
ロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トルエン、キシレン等
の芳香族炭化水素類、酢酸エチル等のエステル類、アセ
トニトリル、ベンゾニトリル等のニトリル類、メチルセ
ロソルブ、ジエチルエーテル等の鎖状エーテル類、ジオ
キサン、テトラハイドロフラン等の環状エーテル類、ス
ルホラン、ジメチルスルホン、ジメチルスルホキシド等
の不活性溶媒を使用することができ、これらの不活性溶
媒は単独で若しくは混合して使用することもできる。
【0007】本反応で使用できる塩基としては、無機塩
基又は有機塩基を使用することができ、無機塩基として
は、例えばナトリウム、カリウム、マグネシウム、カル
シウム等のアルカリ金属原子若しくはアルカリ土類金属
原子の水酸化物、炭酸塩若しくはアルコラート等を、有
機塩基としてはトリエチルアミン、ピリジン、4−ジメ
チルアミノピリジン、1,8−ジアザビシクロ〔5,
4,0〕−7−ウンデセン(DBU)等の有機塩基を使
用することができる。
【0008】塩基の使用量としては、一般式(II)で表さ
れるピラゾール類に対して等モル乃至過剰モルの範囲か
ら選択すれば良い。
【0009】反応は等モル反応であるので各反応剤は等
モル使用すれば良いが、一般式(III) で表される化合物
を過剰に使用することもできる。反応温度は0℃乃至1
50℃の範囲から選択して使用すれば良く、好ましくは
10℃乃至100℃の範囲から選択されさる。反応時間
は反応規模及び反応温度等により一定しないが、数分乃
至48時間の範囲から選択すれば良い。
【0010】反応終了後、目的物を含む反応液を常法に
より、例えば溶媒抽出法、溶媒留去法等により単離し、
必要により再結晶法、カラムクロマトグラフィー法等に
より精製することにより一般式(I)で表される3−置
換フェニルピラゾール誘導体類を製造することができ
る。
【0011】又、本発明の一般式(I)で表される3−
置換フェニルピラゾール誘導体の塩類としては、例えば
塩酸、硫酸等の鉱酸の塩の他、有機酸、例えばパラトル
エンスルホン酸等の塩を例示することができる。
【0012】以下に本発明の一般式(I)で表される3
−置換フェニルピラゾール誘導体又はその塩類の代表的
な化合物を第1表に例示するが、本発明はこれらの化合
物に限定されるものではない。一般式(Ia)
【化5】
【表1】
【表2】
【表3】
【表4】
【表5】
【表6】
【0013】本発明の一般式(I)で表される3−置換
フェニルピラゾール誘導体又はその塩類を製造するため
の原料化合物である一般式(II)で表されるピラゾール類
は、下記に示す製造方法により製造することができる。
.n =O の場合.
【化6】
【化7】 .n =1 の場合.
【化8】 (式中、R1 、R2 、R3 、X、X1 及びYは前記に同
じくし、R2-1 は低級ハロアルキル基を示し、R10は低
級アルキル基を示し、Wはハロゲン原子を示す。)
【0014】即ち、一般式(III) で表されるピラゾール
類でnが0の整数の場合、一般式(VII)で表される化合
物と炭酸ジエチルを不活性溶媒の存在下に反応させて一
般式(VI)で表される化合物とし、該化合物(VI)を一般式
(V)で表されるヒドラジン類と反応させ、一般式,(I
II−7)で表されるピラゾール類を製造する。該一般式
(III−7)と一般式(III−6)で表されるピラゾール類
とは互変異性体を示す。次いで一般式(III−7)又は(I
II−6)で表されるピラゾール類を一般式(IV)で表され
るハライド類と反応させ、一般式(III−5)で表される
ピラゾール類とし、該(III−5)で表されるピラゾール
類を適当なハロゲン化剤によりハロゲン化反応を行い、
一般式(III−4)で表されるピラゾール類とし、更に該
一般式(III −4)で表されるピラゾール類をソムレッ
ト(Sommelet) 反応及び酸加水分解反応に付すことによ
り、一般式(III−3)で表されるピラゾール類を製造
し、該(III−3)であらわされるピラゾール類を酸化す
ることにより、X1 が水酸基である一般式(III−1)で
表されるピラゾール類を製造することができ、X1 がハ
ロゲン原子である一般式(III−2)で表されるピラゾー
ル類は一般式(III−1)で表されるピラゾール類をハロ
ゲン化することにより製造することができる。
【0015】又、一般式(III) で表されるピラゾール類
でn=1の整数の場合、前記一般式(III−4)と同様の
方法で製造される一般式(III−4’)で表されるピラゾ
ール類をニトロ化剤によりニトロ化し、一般式(III−1
1)で表されるピラゾール類を製造し、次いで該(III−
11)で表されるピラゾール類を還元反応に付して、一
般式(III−10)で表されるピラゾール類とし、該(III
−10)で表されるピラゾール類を更にジアゾ化及び分
解反応することにより、一般式(III−9)で表されるピ
ラゾール類とし、該一般式(III−9)で表されるピラゾ
ール類を一般式(VII) で表される化合物と反応させ、一
般式(III−8)で表されるピラゾール類を製造する。そ
して該(III−8)で表されるピラゾール類を加水分解す
ることにより、一般式(III) で表される化合物でX1
水酸基である一般式(III−1’)で表されるピラゾール
類を製造することができ、X1 がハロゲン原子である一
般式(III−2’)で表されるピラゾール類は一般式(III
−1’)で表されるピラゾール類をハロゲン化すること
により製造することができる。
【0016】以下に本発明の一般式(I)で表される3
−置換フェニルピラゾール誘導体の代表的な実施例を示
すが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【0017】
【実施例1】2−〔2−クロロ−5−(4−クロロ−5
−ジフルオロメトキシ−1−メチル−1H−ピラゾール
−3−イル)−4−フルオロベンゾイルオキシ〕酢酸エ
チル(化合物No.33)
【化9】 2−クロロ−5−(4−クロロ−5−ジフルオロメトキ
シ−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル)−4−
フルオロ安息香酸0.28g(0.8ミリモル)、アセ
トン30ml、ブロモ酢酸エチル0.28g(1.7ミ
リモル)、粉末水酸化カリウム0.12g(2.1ミリ
モル)の混合液を還流下に3時間反応を行った。反応終
了後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水
洗、乾燥後、溶媒を減圧下に留去し、濃縮残渣をカラム
クロマトグラフィーにより精製し、目的物を油状物とし
て0.26g得た。 物性:nD1.5362(23.4℃)、 収率:7
5.0%
【0018】
【実施例2】2−〔5−(4−クロロ−5−ジフルオロ
メトキシ−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル)
−2,4−ジクロロ安息香酸シクロペンチル(化合物N
o.52 )
【化10】 〔5−(4−クロロ−ジフルオロメトキシ−1−メチル
−1H−ピラゾール−3−イル)−2,4−ジクロロ安
息香酸0.28g(0.76ミリモル)、アセトン30
ml、ブロモ酢酸シクロヘキシル0.42g(1.9ミ
リモル)の混合液を還流下に3時間反応を行った。反応
終了後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、水
洗、乾燥後、溶媒を減圧下に留去し、目的物を油状物と
して0.29g得た。 物性:nD1.5477(28.1℃)、 収率:7
7.0%
【0019】
【実施例3】〔5−(4−クロロ−5−ジフルオロメト
キシ−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル)−
2.4−ジクロロ〕安息香酸S−イソプロピル(化合物
No.7)
【化11】 イソプロピルメルカプタン0.13g(1.8ミリモ
ル)、無水テトラヒドロフラン30ml、トリエチルア
ミン0.18(1.8ミリモル)の混合液を氷冷後、該
溶液中に〔5−(4−クロロ−5−ジフルオロメトキシ
−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル)−2, 4
−ジクロロ〕安息香酸クロリド0.35g(0.9ミリ
モル)を無水テトラヒドロフラン3ml中に溶解させて
滴下した。滴下終了後、室温下に3時間反応させた。反
応終了後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、
水洗、乾燥後、溶媒を減圧下に留去し、残渣をカラムク
ロマトグラフィーにて精製し、目的物を結晶物として
0.27g得た。 物性:m.p.69.6℃、収率:70.0%
【0020】
【実施例4】2−〔2−クロロ−5(4−クロロ−5−
ジフルオロメトキシ−1−メチル−1H−ピラゾール−
3−イル)−4−フルオロベンゾイルチオ〕酢酸(化合
物No.85 )
【化12】 チオグリコール酸エチル0.10g(0.8ミリモル)
を無水テトラヒドロフラン20ml中に溶解させ、氷冷
後、該溶液中に2−クロロ−5−(4−クロロ−5−ジ
フルオロメトキシ−1−メチル−1H−ピラゾール−3
−イル)−4−フルオロ安息香酸クロリド0.30g
(0.8ミリモル)を無水テトラヒドロフラン3ml中
に溶解させて滴下した。滴下終了後、室温下に3時間反
応させた。反応終了後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチ
ルで抽出し、水洗、乾燥後、溶媒を減圧下に留去し、目
的物を油状物として0.30g得た。 物性:nD1.5647(16.9℃)、 収率:8
2.9%
【0021】
【実施例5】〔2−クロロ−5−(4−クロロ−5−ジ
フルオロメトキシ−1−メチル−1H−ピラゾール−3
−イル)−4−フルオロ安息香酸N−アリルアミド(化
合物No.92 )
【化13】 アリルアミン0.09g(1.6ミリモル)を無水テト
ラヒドロフラン25ml中に溶解させ、氷冷後、該溶液
中に2−クロロ−5−(4−クロロ−5−ジフルオロメ
トキシ−1−メチル−1H−ピラゾール−3−イル)−
4−フルオロ安息香酸クロリド0.30g(0.8ミリ
モリ)を無水テトラヒドロフラン3ml中に溶解させて
滴下した。滴下終了後、室温下に3時間反応させた。反
応終了後、反応液を水中に注ぎ、酢酸エチルで抽出し、
水洗、乾燥後、溶媒を減圧下に留去し、目的物を結晶物
として0.30g得た。 物性:m.p.99.4℃、 収率:94.0%
【0022】本発明の一般式(I)で表される3−置換
フェニルピラゾール誘導体又はその塩類は、例えばノビ
エ(タイヌビエの俗称、イネ科一年生草、水田の代表的
強害草)、タマガヤツリ(カヤツリグサ科一年生草、水
田の害草)、マツバイ(カヤツリグサ科多年生草、湿
地、水路、水田に発生、水田の代表的多年生害草)、ウ
リカワ(オモダカ科、湿地、溝、水田に発生する多年生
害草)、ホタルイ(カヤツリグサ科多年生草、湿地、水
路、水田に発生)、エンバク(イネ科一年生草、野、畑
地に発生)、メヒシバ(イネ科一年生草、畑、樹園地の
代表的強害草)、ギシギシ(タデ科多年生、畑地、道端
に発生)、コゴメガヤツリ(カヤツリグサ科一年生草、
畑地、道端に発生)、アオビユ(ヒエ科一年生、畑地、
道端、空地に発生)、ヤエムグラ(アカネ科一年生草、
畑地の強害草)、オオイヌノフグリ(ゴマノハグサ科、
畑地、樹園地の強害草)、カミツレ(キク科、畑地の強
害草)、イチビ(アオイ科、畑地の強害草)、オナモミ
(キク科一年生草、畑地の強害草)、マルバアサガオ
(ヒルガオ科、畑地の強害草)等の水田、畑地、樹園
地、湿地等に発生する1年生及び多年生雑草を防除する
作用を有する。
【0023】本発明の一般式(I)で表される3−置換
フェニルピラゾール誘導体又はその塩類は、出芽前及び
出芽後にある雑草に対して優れた防除作用を示すことか
ら、有用植物の植え付け予定地に予め処理するとか、有
用植物の植え付け後(有用植物が樹園の如く既に定植さ
れている場合を含む。)雑草の発生始期から生育期に処
理することにより本発明除草剤の有する特徴ある生理活
性を効果的に発現させることができる。しかし本発明除
草剤はこのような態様においてのみ使用されねばならな
いというものではなく、例えば本発明除草剤は水田用若
しくは畑地用除草剤として使用することができるばかり
でなく、一般雑草の除草剤としても使用することがで
き、例えば刈り取り跡、休耕地田畑、畦畔、農道、水
路、牧草造成地、墓地、公園、道路、運動場、建物の周
辺の空き地、開墾地、線路、森林等の一般雑草の駆除の
為に使用することもできる。この場合、雑草の発生始期
までに処理するのが経済的にも最も効果的であるが、必
ずしもこれに限定されるものではなく、生育期にある雑
草を防除することが可能である。
【0024】本発明の一般式(I)で表される3−置換
フェニルピラゾール誘導体又はその塩類を除草剤として
使用する場合、農薬製剤上の常法に従い、使用上都合の
良い形状に製剤して使用するのが一般的である。即ち、
本発明の一般式(I)で表される3−置換フェニルピラ
ゾール誘導体又はその塩類は、これらを適当な不活性体
に、又は必要に応じて補助剤と一緒に、適当な割合に配
合して溶解、分離、懸濁、混合、含浸、吸着若しくは付
着させ、適宜の剤形、例えば懸濁剤、乳剤、液剤、水和
剤、粒剤、粉剤、錠剤等に製剤して使用すれば良い。本
発明で使用できる不活性担体としては固体又は液体の何
れであっても良く、固体の担体になりうる材料として
は、例えばダイズ粉、穀物粉、木炭、樹皮粉、鋸粉、タ
バコ茎粉、クルミ殻粉、ふすま、繊維素粉末、植物エキ
ス抽出後の残渣、粉砕合成樹脂等の合成重合体、粘土類
(例えばカオリン、ベントナイト、酸性白土等)、タル
ク類(例えばタルク、ピロフィライト等)、シリカ類
(例えば珪藻土、珪砂、雲母、ホワイトカーボン〔含水
微粉珪素、含水珪酸ともいわれる合成高分散珪酸で、製
品により珪酸カルシウムを主成分として含むものもあ
る。〕)、活性炭、イオウ粉末、軽石、焼成珪藻土、レ
ンガ粉砕物、フライアッシュ、砂、炭酸カルシウム、燐
酸カルシウム等の無機鉱物性粉末、硫安、燐安、硝安、
尿素、塩安等の化学肥料、堆肥等を挙げることができ
る。これらは単独で若しくは二種以上の混合物の形で使
用される。
【0025】液体の担体になりうる材料としては、それ
自体溶媒能を有するものの他、溶媒能を有さずとも補助
剤の助けにより有効成分化合物を分散させうることとな
るものから選択され、例えば代表例として次に挙げる担
体を例示できるが、これらは単独で若しくは2種以上の
混合物の形で使用され、例えば水、アルコール類(例え
ばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノ
ール、エチレングリコール等)、ケトン類(例えばアセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等)、エーテル
類(例えばエチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、
ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等)、脂肪族
炭化水素類(例えばガソリン、鉱油等)、芳香族炭化水
素類(例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベン
トナフサ、アルキルナフタレン等)、ハロゲン化炭化水
素類(例えばジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素等)、エステル類(例えば酢酸エチル、ジイソプロピ
ルフタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレ
ート等)、アミド類(例えばジメチルホルムアミド、ジ
エチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等)、ニト
リル類(例えばアセトニトリル等)、ジメチルスルホキ
シド類等を挙げることができる。他の補助剤としては次
に例示する代表的な補助剤をあげることができ、これら
の補助剤は目的に応じて使用され、単独で、ある場合は
二種以上の補助剤を併用し、又ある場合には全く補助剤
を使用しないことも可能である。
【0026】有効成分化合物の乳化、分散、可溶化及び
/又は湿潤の目的のために界面活性剤が使用され、例え
ばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエ
チレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレン
高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステ
ル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポ
リオキシエチレンソルビタンモノオレエート、アルキル
アリールスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸縮合物、
リグニンスルホン酸塩、高級アルコール硫酸エステル等
の界面活性剤を例示することができる。又有効成分化合
物の分散安定化、粘着及び/又は結合の目的のために、
次に例示する補助剤を使用することもでき、例えばカゼ
イン、ゼラチン、澱粉、メチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、アラビアゴム、ポリビニルアルコー
ル、松根油、糠油、ベントナイト、リグニンスルホン酸
塩等の補助剤を使用することもできる。
【0027】固体製品の流動性改良のために次に挙げる
補助剤を使用することもでき、例えばワックス、ステア
リン酸塩、燐酸アルキルエステル等の補助剤を使用でき
る。懸濁性製品の解こう剤として、例えばナフタレンス
ルホン酸縮合物、縮合燐酸塩等の補助剤を使用すること
もできる。消泡剤としては、例えばシリコーン油等の補
助剤を使用することもできる。有効成分化合物の配合割
合は必要に応じて加減することができ、例えば粉剤或い
は粒剤とする場合は0.01〜50重量%、又乳剤或い
は水和剤とする場合も同様0.01〜50重量%が適当
である。
【0028】本発明の一般式(I)で表される3−置換
ピラゾール誘導体又はその塩類を有効成分とする除草剤
は、各種雑草を枯殺し若しくは生育を抑制するために、
そのまま、又は水等で適宜希釈し、若しくは懸濁させた
形で殺草若しくは生育抑制に有効な量を、当該雑草に、
又は当該雑草の発生若しくは生育が好ましくない場所に
おいて、茎葉又は土壌に適用して使用する。
【0029】本発明の一般式(I)で表される3−置換
ピラゾール誘導体又はその塩類を有効成分とする除草剤
の使用量は種々の因子、例えば目的、対象雑草、雑草又
は作物の発生/生育状況、雑草の発生傾向、天候、環境
条件、剤型、施用方法、施用場所、施用時期等により変
動するが、有効成分化合物としてヘクタール当たり0.
1g乃至5kgの範囲から目的に応じて適宜選択すれば
良い。本発明の一般式(I)で表される3−置換ピラゾ
ール誘導体又はその塩類を有効成分とする除草剤を水田
用又は畑地除草剤として使用する場合は、例えば有効成
分量としてヘクタール当たり100g以下の薬量で、作
物に対して薬害をおこさず、且つ目的とする雑草を選択
的に防除できる薬量を選択すれば良く、又、非農耕地用
除草剤として使用する場合は,有効成分量としてヘクタ
ール当たり100g以上の薬量で、目的とする雑草を枯
殺できる薬量を選択すれば良い。
【0030】本発明の一般式(I)で表される3−置換
ピラゾール誘導体又はその塩類を有効成分とする除草剤
を更に防除対象草種、防除適期の拡大のため、或いは薬
量の低減をはかる目的で他の除草剤と混合して使用する
ことも可能である。
【0031】以下に本発明組成物の代表的な試験例及び
処方例を例示する。尚、処方例中、部とあるのは重量部
を示す。
【0032】
【試験例1】出芽後の水稲雑草に対する除草効果 1万分の1アールポットに土壌を詰め、水田状態にし、
水田雑草であるノビエ、ホタルイの種子、ミズガヤツリ
及びウリカワの塊茎を一葉期になるよう調整した。これ
に本発明化合物(第1表記載の化合物)を有効成分とす
る薬剤を所定濃度の散布液として処理した。処理21日
後に除草効果を調査し、無処理と比較して殺草率を算出
し、下記の基準に従って判定を行った。同時に水稲に対
する薬害を調査し下記の基準で薬害を判定した。 除草活性の判定基準 5・・・95%以上殺草. 4・・・70%以上90%未満殺草. 3・・・50%以上70%未満殺草. 2・・・30%以上50%未満殺草. 1・・・10%以上30%未満殺草. 0・・・10%未満殺草. 薬害の判定基準 0・・・薬害なし 1・・・褐変を生じるが、初期に回復し生育抑制は殆ど
なし. 2・・・褐変とともに、明らかな生育抑制が見られる
が、早い段階に回復する. 3・・・褐変及び生育抑制が顕著であり、回復が遅い. 4・・・褐変及び生育抑制が顕著であり、枯死する固体
も見られる. 5・・・全ての固体が殆ど枯死する. 結果を第2表に示す。 尚、比較対照化合物Aは特開昭52−91861号公
報第5頁記載の3−フェニル−5−メチルチオピラゾー
ルを、Bは同公報第4頁の例1に記載の化合物を、Cは
特開昭54−70270号公報に記載のNo.8の化合
物を、そしてDは特開昭55−9062号公報第9頁に
記載の化合物No. 159を比較対照化合物として使用
した。
【化14】
【0033】
【試験例2】出芽前の畑地雑草に対する除草効果 縦10cm×横20cm×高さ5cmのポリエチレン製
バットに土壌を詰め、これに畑地雑草であるノビエ、イ
チビ、オナモミ、オオイヌノフグリ、ヤエムグラ及び畑
作作物としてダイズ及びコムギの種子を播種覆土した。
これに本発明化合物(第1表記載の化合物)を有効成分
とする薬剤を所定濃度の散布液として処理した。処理1
4日後に除草効果を調査し、試験例1と同様にして殺草
率を算出し、判定を行った。同時にダイズ及びコムギに
対する薬害を調査し試験例1の基準に従って薬害を判定
した。結果を第3表に示す。
【0034】
【試験例3】出芽後の畑地雑草に対する除草効果 縦10cm×横20cm×高さ5cmのポリエチレン製
バットに土壌を詰め、これに下記に示す畑地有害雑草の
種子と畑作作物としてダイズ及びコムギの種子を播種覆
土し、各々下記の葉期になるまで生育させ、これに本発
明化合物(第1表記載の化合物)を有効成分とする薬剤
を所定濃度の散布液として処理した。処理14日後に除
草効果を調査し、試験例1と同様にして殺草率を算出
し、判定を行った。同時にダイズ及びコムギに対する薬
害を調査し試験例1の基準に従って薬害を判定した。 供試雑草種及びその葉期並びにダイズ及びコムギの葉期 ノビエ 2葉期 イチビ 2葉期 オオイヌノフグリ 1葉期 オナモミ 1葉期 ヤエムグラ 2葉期 コムギ 2葉期 ダイズ 1葉期 結果を第4表に示す.
【0035】
【処方例1】 本発明化合物 50部 クレー・ホワイトカーボンのクレーを 主とする混合物 45部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル 5部 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
【0036】
【処方例2】 本発明化合物 5部 ベントナイト・クレーの混合物 90部 リグニンスルホン酸カルシウム 5部 以上を均一に混合粉砕し、適量の水を加えて混練し、造
粒して粒剤とする。
【0037】
【処方例3】 本発明化合物 50部 キシレン 40部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル とアルキルベンゼンスルホン酸カルシウムと の混合物 10部 以上を均一に混合溶解して、乳剤とする。

Claims (8)

    (57)【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 一般式(I) 【化1】 (式中、R1 は低級アルキル基を示し、R2 はハロアル
    コキシ基を示し、R3 はハロゲン原子を示し、R4 は−
    (OCH2 )n−CO−Z1 −R5 (式中、Z1 は−O
    −、−S−又は−N(R6 )−を示し、R及びR6 は同
    一又は異なっても良く、水素原子、アルキル基、低級ハ
    ロアルキル基、低級アルケニル基、低級ハロアルケニル
    基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、トリアルキ
    ルシリルアルキル基、低級アルキルチオアルキル基、低
    級アルコキシアルキル基、低級アルコキシアルコキシア
    ルキル基、同一又は異なっても良い低級ジアルキルアミ
    ノアルキル基、置換基を有しても良いアラルキル基、置
    換基を有しても良いアリール基、置換基を有しても良い
    ピリジル基、低級アルキルスルホニル基、シクロアルキ
    リデンイミノ基又は−CH(R7 )−CO−Z2 −R8
    (式中、Z2 は−O−、−S−又は−N(R9 )−を示
    し、R7 は水素原子又は低級アルキル基を示し、R7
    びR8 は同一又は異なっても良く、水素原子、アルキル
    基、低級ハロアルキル基、低級アルケニル基、低級ハロ
    アルケニル基、低級アルキニル基、シクロアルキル基、
    トリアルキルシリルアルキル基、低級アルキルチオアル
    キル基、低級アルコキシアルキル基、低級アルコキシア
    ルコキシアルキル基、同一又は異なっても良い低級ジア
    ルキルアミノアルキル基、置換基を有しても良いアラル
    キル基、置換基を有しても良いアリール基、置換基を有
    しても良いピリジル基、低級アルキルスルホニル基を示
    す。)を示し、nは0又は1の整数を示す。又、Z1
    しくはZ2 が−O−を示す場合、R5 又はR6 はアルカ
    リ金属原子又は四級アンモニウム塩を示すこともでき
    る。)を示し、X及びYは同一又は異なっても良く、ハ
    ロゲン原子を示す。〕で表される3−置換フェニルピラ
    ゾール誘導体又はその塩類。
  2. 【請求項2】 Yが塩素原子を示す請求項第1項記載の
    3−置換フェニルピラゾール誘導体又はその塩類。
  3. 【請求項3】 Xが塩素原子又はフッ素原子を示す請求
    項第2項記載の3−置換フェニルピラゾール誘導体又は
    その塩類。
  4. 【請求項4】 R1 がメチル基を示し、R2 がジフルオ
    ロメトキシ基を示し、R3 が塩素原子を示す請求項第3
    項記載の3−置換フェニルピラゾール誘導体又はその塩
    類。
  5. 【請求項5】 請求項第1項記載の3−置換フェニルピ
    ラゾール誘導体又はその塩類を有効成分として含有する
    ことを特徴とする除草剤。
  6. 【請求項6】 請求項第2項記載の3−置換フェニルピ
    ラゾール誘導体又はその塩類を有効成分として含有する
    ことを特徴とする除草剤。
  7. 【請求項7】 請求項第3項記載の3−置換フェニルピ
    ラゾール誘導体又はその塩類を有効成分として含有する
    ことを特徴とする除草剤。
  8. 【請求項8】 請求項第4項記載の3−置換フェニルピ
    ラゾール誘導体又はその塩類を有効成分として含有する
    ことを特徴とする除草剤。
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