JPH08217777A - ２−ピラゾリン−５−オン誘導体及びその中間体並びに除草剤 - Google Patents
２−ピラゾリン−５−オン誘導体及びその中間体並びに除草剤Info
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- JPH08217777A JPH08217777A JP4642795A JP4642795A JPH08217777A JP H08217777 A JPH08217777 A JP H08217777A JP 4642795 A JP4642795 A JP 4642795A JP 4642795 A JP4642795 A JP 4642795A JP H08217777 A JPH08217777 A JP H08217777A
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Abstract
(57)【要約】
【構成】 一般式(I)
【化１】
〔式中、R はアルキル基、ハロアルキル基、アルケニル
基、アルキニル基、アルコキシアルキル基、非置換又は
置換フェニル基、フェニルアルキル基、フェノキシアル
キル基、ナフチル基、ピリジル基、非置換又は置換ピリ
ミジル基等、R1及びR2はＨ、アルキル基、ハロアルキル
基、アルコキシ基、アルキルチオアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アルコキシカルボニルアルキル
基、フェニルアルキル基を示し、R1及びR2は(C3-6)アル
キレン基で結合することもできる。X は、ハロゲン、ニ
トロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、非置換
又は置換アミノ基等、又は隣り合った炭素原子と結合し
た(C2-4)アルキレン基を示し、n は０〜５。〕で表され
る２−ピラゾリン−５−オン誘導体及びその中間体並び
に該誘導体を含む除草剤。 【効果】 出芽前及び出芽後にある雑草、例えばイヌビ
エ、ホタルイ、コナギ等の水田雑草に対して、優れた除
草効果を示す。
基、アルキニル基、アルコキシアルキル基、非置換又は
置換フェニル基、フェニルアルキル基、フェノキシアル
キル基、ナフチル基、ピリジル基、非置換又は置換ピリ
ミジル基等、R1及びR2はＨ、アルキル基、ハロアルキル
基、アルコキシ基、アルキルチオアルキル基、アルケニ
ル基、アルキニル基、アルコキシカルボニルアルキル
基、フェニルアルキル基を示し、R1及びR2は(C3-6)アル
キレン基で結合することもできる。X は、ハロゲン、ニ
トロ基、シアノ基、アルキル基、アルコキシ基、非置換
又は置換アミノ基等、又は隣り合った炭素原子と結合し
た(C2-4)アルキレン基を示し、n は０〜５。〕で表され
る２−ピラゾリン−５−オン誘導体及びその中間体並び
に該誘導体を含む除草剤。 【効果】 出芽前及び出芽後にある雑草、例えばイヌビ
エ、ホタルイ、コナギ等の水田雑草に対して、優れた除
草効果を示す。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は一般式(I)
【化３】 〔式中、R は(C1-8)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル
基、(C2-6)アルケニル基、(C2-6)アルキニル基、(C1-6)
アルコキシ(C1-6)アルキル基、フェニル基、同一若しく
は異なっても良く、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ
基、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C1-6)
アルコキシ基、ハロ(C1-6)アルコキシ基、(C1-6)アルキ
ルチオ基、ハロ(C1-6)アルキルチオ基、ピリジル基又は
同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル
基、(C1-6)アルコキシ基、ハロ(C1-6)アルコキシ基、(C
1-6)アルキルチオ基又はハロ(C1-6)アルキルチオ基から
選択される１〜４個の置換基を有するピリジル基、ピリ
ジルオキシ基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原
子、(C1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキルから選択
される１〜４個の置換基を有するピリジルオキシ基から
選択される１〜５個の置換基を有するフェニル基、
基、(C2-6)アルケニル基、(C2-6)アルキニル基、(C1-6)
アルコキシ(C1-6)アルキル基、フェニル基、同一若しく
は異なっても良く、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ
基、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C1-6)
アルコキシ基、ハロ(C1-6)アルコキシ基、(C1-6)アルキ
ルチオ基、ハロ(C1-6)アルキルチオ基、ピリジル基又は
同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル
基、(C1-6)アルコキシ基、ハロ(C1-6)アルコキシ基、(C
1-6)アルキルチオ基又はハロ(C1-6)アルキルチオ基から
選択される１〜４個の置換基を有するピリジル基、ピリ
ジルオキシ基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原
子、(C1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキルから選択
される１〜４個の置換基を有するピリジルオキシ基から
選択される１〜５個の置換基を有するフェニル基、
【０００２】フェニル(C1-6)アルキル基、フェノキシ(C
1-6)アルキル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジル
基、同一又は異なっても良く、(C1-6)アルキル基、ハロ
(C1-6)アルキル基、(C1-6)アルコキシ基又はハロ(C1-6)
アルコキシ基から選択される１〜３個の置換基を有する
ピリミジル基又は１，３−ジオキサン−２−イル(C1-6)
アルキル基を示し、R1及びR2は同一又は異なっても良
く、水素原子、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル
基、(C1-6)アルコキシ基、(C1-6)アルキルチオ(C1-6)ア
ルキル基、(C2-6)アルケニル基、(C2-6)アルキニル基、
(C1-6)アルコキシカルボニル(C1-6)アルキル基、又はフ
ェニル(C1-6)アルキル基を示し、R1及びR2は(C3-6)アル
キレン基で結合することもできる。
1-6)アルキル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジル
基、同一又は異なっても良く、(C1-6)アルキル基、ハロ
(C1-6)アルキル基、(C1-6)アルコキシ基又はハロ(C1-6)
アルコキシ基から選択される１〜３個の置換基を有する
ピリミジル基又は１，３−ジオキサン−２−イル(C1-6)
アルキル基を示し、R1及びR2は同一又は異なっても良
く、水素原子、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル
基、(C1-6)アルコキシ基、(C1-6)アルキルチオ(C1-6)ア
ルキル基、(C2-6)アルケニル基、(C2-6)アルキニル基、
(C1-6)アルコキシカルボニル(C1-6)アルキル基、又はフ
ェニル(C1-6)アルキル基を示し、R1及びR2は(C3-6)アル
キレン基で結合することもできる。
【０００３】X は同一又は異なっても良く、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、(C1-6)アルキル基、ハロ(C
1-6)アルキル基、(C1-6)アルコキシ基、ハロ(C1-6)アル
コキシ基、(C1-6)アルキルチオ基、アルキルスルフィニ
ル基、ハロ(C1-6)アルキルチオ基、シアノ(C1-6)アルコ
キシ基、(C2-6)アルケニル基、(C2-6)アルキニル基、(C
2-6)アルケニルオキシ基、(C2-6)アルキニルオキシ基、
アミノ基、同一又は異なっても良くアルキル基、ハロア
ルキル基, アルキルカルボニル基、ハロアルキルカルボ
ニル基、フェニルカルボニル基又は同一若しくは異なっ
ても良い１〜５個のハロゲン原子により置換されたフェ
ニルカルボニル基から選択される１〜２個の置換基を有
するアミノ基、アミノカルボニル基、同一又は異なって
も良いモノ又はジ(C1-6)アルキルアミノカルボニル基、
(C1-6)アルコキシイミノ(C1-6)アルコキシ基、(C1-6)ア
ルキルカルボニルオキシ基、(C1-6)アルコキシカルボニ
ル基、(C1-6)アルコキシカルボニルオキシ基、(C1-6)ア
ルコキシカルボニル(C1-6)アルコキシ基、フェニル基、
フェノキシ基、
子、ニトロ基、シアノ基、(C1-6)アルキル基、ハロ(C
1-6)アルキル基、(C1-6)アルコキシ基、ハロ(C1-6)アル
コキシ基、(C1-6)アルキルチオ基、アルキルスルフィニ
ル基、ハロ(C1-6)アルキルチオ基、シアノ(C1-6)アルコ
キシ基、(C2-6)アルケニル基、(C2-6)アルキニル基、(C
2-6)アルケニルオキシ基、(C2-6)アルキニルオキシ基、
アミノ基、同一又は異なっても良くアルキル基、ハロア
ルキル基, アルキルカルボニル基、ハロアルキルカルボ
ニル基、フェニルカルボニル基又は同一若しくは異なっ
ても良い１〜５個のハロゲン原子により置換されたフェ
ニルカルボニル基から選択される１〜２個の置換基を有
するアミノ基、アミノカルボニル基、同一又は異なって
も良いモノ又はジ(C1-6)アルキルアミノカルボニル基、
(C1-6)アルコキシイミノ(C1-6)アルコキシ基、(C1-6)ア
ルキルカルボニルオキシ基、(C1-6)アルコキシカルボニ
ル基、(C1-6)アルコキシカルボニルオキシ基、(C1-6)ア
ルコキシカルボニル(C1-6)アルコキシ基、フェニル基、
フェノキシ基、
【０００４】同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、
(C1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキル基から選択さ
れる１〜５個の置換基を有するフェノキシ基、フェニル
チオ基、フェニル(C1-6)アルキルオキシ基、フェニル(C
2-6)アルキニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン
原子、(C1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキル基から
選択される１〜５個の置換基を環上に有するフェニル(C
2-6)アルキニル基、、ピリジルオキシ基、同一又は異な
っても良く，ハロゲン原子、(C1-6)アルキル基又はハロ
(C1-6)アルキル基から選択される１〜４個の置換基を有
するピリジルオキシ基、フタルイミドイル基又は隣り合
った炭素原子と結合した(C2-4)アルキレン基を示し、n
は０〜５の整数を示す。〕で表される２−ピラゾリン−
５−オン誘導体及び該化合物を有効成分とする除草剤並
びに該化合物を製造するための中間体化合物である一般
式(II)
(C1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキル基から選択さ
れる１〜５個の置換基を有するフェノキシ基、フェニル
チオ基、フェニル(C1-6)アルキルオキシ基、フェニル(C
2-6)アルキニル基、同一又は異なっても良く、ハロゲン
原子、(C1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキル基から
選択される１〜５個の置換基を環上に有するフェニル(C
2-6)アルキニル基、、ピリジルオキシ基、同一又は異な
っても良く，ハロゲン原子、(C1-6)アルキル基又はハロ
(C1-6)アルキル基から選択される１〜４個の置換基を有
するピリジルオキシ基、フタルイミドイル基又は隣り合
った炭素原子と結合した(C2-4)アルキレン基を示し、n
は０〜５の整数を示す。〕で表される２−ピラゾリン−
５−オン誘導体及び該化合物を有効成分とする除草剤並
びに該化合物を製造するための中間体化合物である一般
式(II)
【０００５】
【化４】 （式中、R1、R2、X 及びn は前記に同じくし、R'は水素
原子、(C1-8)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C
2-6)アルケニル基、(C2-6)アルキニル基、(C1-6)アルコ
キシ(C1-6)アルキル基、フェニル基、同一若しくは異な
っても良く、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、(C
1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C1-6)アルコ
キシ基、ハロ(C1-6)アルコキシ基、(C1-6)アルキルチオ
基、ハロ(C1-6)アルキルチオ基、ピリジル基又は同一若
しくは異なっても良く、ハロゲン原子、ニトロ基、シア
ノ基、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C
1-6)アルコキシ基、ハロ(C1-6)アルコキシ基、(C1-6)ア
ルキルチオ基又はハロ(C1-6)アルキルチオ基から選択さ
れる１〜４個の置換基を有するピリジル基、ピリジルオ
キシ基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、(C
1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキルから選択される
１〜４個の置換基を有するピリジルオキシ基から選択さ
れる１〜５個の置換基を有するフェニル基、フェニル(C
1-6)アルキル基、
原子、(C1-8)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C
2-6)アルケニル基、(C2-6)アルキニル基、(C1-6)アルコ
キシ(C1-6)アルキル基、フェニル基、同一若しくは異な
っても良く、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、(C
1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C1-6)アルコ
キシ基、ハロ(C1-6)アルコキシ基、(C1-6)アルキルチオ
基、ハロ(C1-6)アルキルチオ基、ピリジル基又は同一若
しくは異なっても良く、ハロゲン原子、ニトロ基、シア
ノ基、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C
1-6)アルコキシ基、ハロ(C1-6)アルコキシ基、(C1-6)ア
ルキルチオ基又はハロ(C1-6)アルキルチオ基から選択さ
れる１〜４個の置換基を有するピリジル基、ピリジルオ
キシ基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原子、(C
1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキルから選択される
１〜４個の置換基を有するピリジルオキシ基から選択さ
れる１〜５個の置換基を有するフェニル基、フェニル(C
1-6)アルキル基、
【０００６】フェノキシ(C1-6)アルキル基、ナフチル
基、ピリジル基、ピリミジル基、同一又は異なっても良
く、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C1-6)
アルコキシ基又はハロ(C1-6)アルコキシ基から選択され
る１〜３個の置換基を有するピリミジル基又は１、３−
ジオキサン−２−イル(C1-6)アルキル基を示し、R1及び
R2は同一又は異なっても良く、水素原子、(C1-6)アルキ
ル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C1-6)アルコキシ基、(C
1-6)アルキルチオ(C1-6)アルキル基、(C2-6)アルケニル
基、(C2-6)アルキニル基、(C1-6)アルコキシカルボニル
(C1-6)アルキル基、又はフェニル(C1-6)アルキル基を示
し、R1及びR2は(C3-6)アルキレン基で結合することもで
きる。
基、ピリジル基、ピリミジル基、同一又は異なっても良
く、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C1-6)
アルコキシ基又はハロ(C1-6)アルコキシ基から選択され
る１〜３個の置換基を有するピリミジル基又は１、３−
ジオキサン−２−イル(C1-6)アルキル基を示し、R1及び
R2は同一又は異なっても良く、水素原子、(C1-6)アルキ
ル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C1-6)アルコキシ基、(C
1-6)アルキルチオ(C1-6)アルキル基、(C2-6)アルケニル
基、(C2-6)アルキニル基、(C1-6)アルコキシカルボニル
(C1-6)アルキル基、又はフェニル(C1-6)アルキル基を示
し、R1及びR2は(C3-6)アルキレン基で結合することもで
きる。
【０００７】X は同一又は異なっても良く、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、(C1-6)アルキル基、ハロ(C
1-6)アルキル基、(C1-6)アルコキシ基、ハロ(C1-6)アル
コキシ基、(C1-6)アルキルチオ基、アルキルスルフィニ
ル基、ハロ(C1-6)アルキルチオ基、シアノ(C1-6)アルコ
キシ基、(C2-6)アルケニル基、(C2-6)アルキニル基、(C
2-6)アルケニルオキシ基、(C2-6)アルキニルオキシ基、
アミノ基、同一又は異なっても良くアルキル基、ハロア
ルキル基, アルキルカルボニル基、ハロアルキルカルボ
ニル基、フェニルカルボニル基又は同一若しくは異なっ
ても良い１〜５個のハロゲン原子により置換されたフェ
ニルカルボニル基から選択される１〜２個の置換基を有
するアミノ基、アミノカルボニル基、同一又は異なって
も良いモノ又はジ(C1-6)アルキルアミノカルボニル基、
(C1-6)アルコキシイミノ(C1-6)アルコキシ基、(C1-6)ア
ルキルカルボニルオキシ基、(C1-6)アルコキシカルボニ
ル基、(C1-6)アルコキシカルボニルオキシ基、(C1-6)ア
ルコキシカルボニル(C1-6)アルコキシ基、フェニル基、
フェノキシ基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原
子、(C1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキル基から選
択される１〜５個の置換基を有するフェノキシ基、フェ
ニルチオ基、フェニル(C1-6)アルキルオキシ基、フェニ
ル(C2-6)アルキニル基、同一又は異なっても良く，ハロ
ゲン原子、
子、ニトロ基、シアノ基、(C1-6)アルキル基、ハロ(C
1-6)アルキル基、(C1-6)アルコキシ基、ハロ(C1-6)アル
コキシ基、(C1-6)アルキルチオ基、アルキルスルフィニ
ル基、ハロ(C1-6)アルキルチオ基、シアノ(C1-6)アルコ
キシ基、(C2-6)アルケニル基、(C2-6)アルキニル基、(C
2-6)アルケニルオキシ基、(C2-6)アルキニルオキシ基、
アミノ基、同一又は異なっても良くアルキル基、ハロア
ルキル基, アルキルカルボニル基、ハロアルキルカルボ
ニル基、フェニルカルボニル基又は同一若しくは異なっ
ても良い１〜５個のハロゲン原子により置換されたフェ
ニルカルボニル基から選択される１〜２個の置換基を有
するアミノ基、アミノカルボニル基、同一又は異なって
も良いモノ又はジ(C1-6)アルキルアミノカルボニル基、
(C1-6)アルコキシイミノ(C1-6)アルコキシ基、(C1-6)ア
ルキルカルボニルオキシ基、(C1-6)アルコキシカルボニ
ル基、(C1-6)アルコキシカルボニルオキシ基、(C1-6)ア
ルコキシカルボニル(C1-6)アルコキシ基、フェニル基、
フェノキシ基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原
子、(C1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキル基から選
択される１〜５個の置換基を有するフェノキシ基、フェ
ニルチオ基、フェニル(C1-6)アルキルオキシ基、フェニ
ル(C2-6)アルキニル基、同一又は異なっても良く，ハロ
ゲン原子、
【０００８】(C1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキル
基から選択される１〜５個の置換基を環上に有するフェ
ニル(C2-6)アルキニル基、、ピリジルオキシ基、同一又
は異なっても良く，ハロゲン原子、(C1-6)アルキル基又
はハロ(C1-6)アルキル基から選択される１〜４個の置換
基を有するピリジルオキシ基、フタルイミドイル基又は
隣り合った炭素原子と結合した(C2-4)アルキレン基を示
し、n は０〜５の整数を示し、Z は酸素原子又はエキソ
メチレン基を示す。）で表されるピラゾリン類に関する
ものである。
基から選択される１〜５個の置換基を環上に有するフェ
ニル(C2-6)アルキニル基、、ピリジルオキシ基、同一又
は異なっても良く，ハロゲン原子、(C1-6)アルキル基又
はハロ(C1-6)アルキル基から選択される１〜４個の置換
基を有するピリジルオキシ基、フタルイミドイル基又は
隣り合った炭素原子と結合した(C2-4)アルキレン基を示
し、n は０〜５の整数を示し、Z は酸素原子又はエキソ
メチレン基を示す。）で表されるピラゾリン類に関する
ものである。
【０００９】
【従来の技術】特開平２−３０４０４３号公報にインダ
ン−１，３−ジオン誘導体が除草剤として有用であるこ
とが開示されている。
ン−１，３−ジオン誘導体が除草剤として有用であるこ
とが開示されている。
【００１０】
【発明が解決しようとする課題】本発明者等は新規な除
草剤を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、一般式(I) で
表される２−ピラゾリン−５−オン誘導体が文献未記載
の新規化合物であり、優れた除草効果を有することを見
いだし、本発明を完成させたものである。
草剤を開発すべく鋭意研究を重ねた結果、一般式(I) で
表される２−ピラゾリン−５−オン誘導体が文献未記載
の新規化合物であり、優れた除草効果を有することを見
いだし、本発明を完成させたものである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明の一般式(I) で表
される２−ピラゾリン−５−オン誘導体の各置換基の定
義で『(C1-8)アルキル基』とは、例えばメチル、エチ
ル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-
ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシル、n-ヘプチ
ル、n-オクチル等の直鎖状又は分岐状の炭素原子数１〜
８個のアルキルをを示し、『ハロ』は塩素原子、フッ素
原子、臭素原子又は沃素原子を示し、例えば『ハロ(C
1-6)アルキル基』とは同一又は異なっても良く、塩素原
子、フッ素原子、臭素原子又は沃素原子から選択される
１個又は複数個のハロゲン原子により置換された炭素原
子数１〜６個のアルキル基を示し、『(C2-6)アルケニル
基』とは直鎖状又は分岐状の炭素原子数２〜６のアルケ
ニル基を示し、『(C2-6)アルキニル基』とは直鎖状又は
分岐状の炭素原子数２〜６のアルキニル基を示す。
される２−ピラゾリン−５−オン誘導体の各置換基の定
義で『(C1-8)アルキル基』とは、例えばメチル、エチ
ル、n-プロピル、i-プロピル、n-ブチル、i-ブチル、s-
ブチル、t-ブチル、n-ペンチル、n-ヘキシル、n-ヘプチ
ル、n-オクチル等の直鎖状又は分岐状の炭素原子数１〜
８個のアルキルをを示し、『ハロ』は塩素原子、フッ素
原子、臭素原子又は沃素原子を示し、例えば『ハロ(C
1-6)アルキル基』とは同一又は異なっても良く、塩素原
子、フッ素原子、臭素原子又は沃素原子から選択される
１個又は複数個のハロゲン原子により置換された炭素原
子数１〜６個のアルキル基を示し、『(C2-6)アルケニル
基』とは直鎖状又は分岐状の炭素原子数２〜６のアルケ
ニル基を示し、『(C2-6)アルキニル基』とは直鎖状又は
分岐状の炭素原子数２〜６のアルキニル基を示す。
【００１２】本発明の一般式(I) で表される２−ピラゾ
リン−５−オン誘導体はその構造中に四種の立体異性体
を有し、本発明は各立体異性体単独及び各立体異性体が
任意の割合で混合した化合物も包含するものであり、一
部の２−ピラゾリン−５−オン誘導体は（Ｅ）又は
（Ｚ）配置の異性体をも有するものもあり、（Ｅ）又は
（Ｚ）配置の異性体及び各異性体が任意の割合で混合し
た異性体をも包含するものである。
リン−５−オン誘導体はその構造中に四種の立体異性体
を有し、本発明は各立体異性体単独及び各立体異性体が
任意の割合で混合した化合物も包含するものであり、一
部の２−ピラゾリン−５−オン誘導体は（Ｅ）又は
（Ｚ）配置の異性体をも有するものもあり、（Ｅ）又は
（Ｚ）配置の異性体及び各異性体が任意の割合で混合し
た異性体をも包含するものである。
【００１３】本発明の一般式(I) で表される２−ピラゾ
リン−５−オン誘導体の代表的な製造方法を下記に例示
する。製造方法１．
リン−５−オン誘導体の代表的な製造方法を下記に例示
する。製造方法１．
【化５】 （式中、R 、R'、R1、R2、X 、Z 及びn は前記に同じく
し、R'' は(C1-12) アルキル基を示し、T - はハロゲン
イオン、過塩素酸イオン又はアルキル硫酸イオンを示
す。但し、R'は水素原子を除く。）
し、R'' は(C1-12) アルキル基を示し、T - はハロゲン
イオン、過塩素酸イオン又はアルキル硫酸イオンを示
す。但し、R'は水素原子を除く。）
【００１４】一般式(IIa) で表されるピラゾリン類と一
般式(III) で表される化合物とを不活性溶媒及び塩基の
存在下に反応させることにより一般式(I) で表される２
−ピラゾリン−５−オン誘導体を製造することができ
る。本反応で使用される不活性溶媒としては本反応の進
行を著しく阻害しないものであれば良く、例えばジメチ
ルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−
メチルピロリドン、アセトニトリル、テトラヒドロフラ
ン等の不活性溶媒を使用することができ、これらの不活
性溶媒は単独で若しくは混合して使用することができ
る。本反応で使用される塩基としては、例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化
カリウム、ｎ−ブチルリチウム、ｔ−ブトキシナトリウ
ム、ｔ−ブトキシカリウム等の無機又は有機塩基を使用
することができ、これらの塩基は一般式(IIa) で表され
るピラゾリン類に対して等モル〜過剰モルの範囲で適宜
選択して使用することができる。
般式(III) で表される化合物とを不活性溶媒及び塩基の
存在下に反応させることにより一般式(I) で表される２
−ピラゾリン−５−オン誘導体を製造することができ
る。本反応で使用される不活性溶媒としては本反応の進
行を著しく阻害しないものであれば良く、例えばジメチ
ルスルホキシド、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ−
メチルピロリドン、アセトニトリル、テトラヒドロフラ
ン等の不活性溶媒を使用することができ、これらの不活
性溶媒は単独で若しくは混合して使用することができ
る。本反応で使用される塩基としては、例えば水酸化ナ
トリウム、水酸化カリウム、水素化ナトリウム、水素化
カリウム、ｎ−ブチルリチウム、ｔ−ブトキシナトリウ
ム、ｔ−ブトキシカリウム等の無機又は有機塩基を使用
することができ、これらの塩基は一般式(IIa) で表され
るピラゾリン類に対して等モル〜過剰モルの範囲で適宜
選択して使用することができる。
【００１５】本反応は等モル反応であるので一般式(II
a) で表されるピラゾリン類及び一般式(III) で表され
る化合物を等モル使用すれば良いが、いずれかの反応剤
を過剰に使用することもできる。反応温度は−２０℃〜
１００℃の範囲で行えば良く、好ましくは０℃〜３０℃
の範囲である。反応時間は反応量及び反応温度等により
一定しないが０．５〜２４時間の範囲で適宜行えば良
い。反応終了後、目的物を含む反応系より常法により単
離し、必要に応じて精製することにより一般式(I) で表
される２−ピラゾリン−５−オンを製造することができ
る。
a) で表されるピラゾリン類及び一般式(III) で表され
る化合物を等モル使用すれば良いが、いずれかの反応剤
を過剰に使用することもできる。反応温度は−２０℃〜
１００℃の範囲で行えば良く、好ましくは０℃〜３０℃
の範囲である。反応時間は反応量及び反応温度等により
一定しないが０．５〜２４時間の範囲で適宜行えば良
い。反応終了後、目的物を含む反応系より常法により単
離し、必要に応じて精製することにより一般式(I) で表
される２−ピラゾリン−５−オンを製造することができ
る。
【００１６】製造方法２．
【化６】 （式中、R 、R'、R1、R2、X 、Z 及びn は前記に同じ。
但し、R'は水素原子を除く。）
但し、R'は水素原子を除く。）
【００１７】一般式(IIb) で表されるピラゾリン類を不
活性溶媒の存在下及び酸化剤の存在下に酸化反応するこ
とにより一般式(I) で表される２−ピラゾリン−５−オ
ン誘導体を製造することができる。本反応で使用する不
活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないも
のであれば良く、例えば塩化メチレン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、n-ヘキサン、シ
クロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセト
ニトリルの不活性溶媒を使用することができる。酸化剤
としては、例えば過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸等の有
機過酸、過酸化水素、t-ブチルハイドロパーオキシド等
の有機過酸化物等を使用することができ、酸化剤の使用
量は一般式(II)で表されるピラゾリン類に対して等モル
乃至過剰モルの範囲から選択して使用すれば良い。
活性溶媒の存在下及び酸化剤の存在下に酸化反応するこ
とにより一般式(I) で表される２−ピラゾリン−５−オ
ン誘導体を製造することができる。本反応で使用する不
活性溶媒としては、本反応の進行を著しく阻害しないも
のであれば良く、例えば塩化メチレン、クロロホルム、
四塩化炭素等のハロゲン化炭化水素類、ベンゼン、トル
エン、キシレン等の芳香族炭化水素類、n-ヘキサン、シ
クロヘキサン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、アセト
ニトリルの不活性溶媒を使用することができる。酸化剤
としては、例えば過酢酸、ｍ−クロロ過安息香酸等の有
機過酸、過酸化水素、t-ブチルハイドロパーオキシド等
の有機過酸化物等を使用することができ、酸化剤の使用
量は一般式(II)で表されるピラゾリン類に対して等モル
乃至過剰モルの範囲から選択して使用すれば良い。
【００１８】反応温度は−２０℃〜１２０℃の範囲で行
えば良く、好ましくは２０℃〜８０℃の範囲である。反
応時間は反応規模、反応温度により一定しないが、０．
５〜４８時間の範囲で行えば良い。反応終了後、目的物
を含む反応系より常法により単離し、必要に応じて精製
することにより一般式(I) で表される２−ピラゾリン−
５−オン誘導体を製造することができる。
えば良く、好ましくは２０℃〜８０℃の範囲である。反
応時間は反応規模、反応温度により一定しないが、０．
５〜４８時間の範囲で行えば良い。反応終了後、目的物
を含む反応系より常法により単離し、必要に応じて精製
することにより一般式(I) で表される２−ピラゾリン−
５−オン誘導体を製造することができる。
【００１９】以下に製造方法１又は２に従って製造され
る２−ピラゾリン−５−オン誘導体の代表的な化合物を
例示するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。尚、第１表、第３表及び第５表中での略号は下記の
定義を有する。 Ｐｈ：フェニル基 Ｑ1 ：ピリジル基 Ｑ2 ：フタルイミドイル基 Ｑ3 ：１，３−ジオキサン−２−イル基 Ｑ4 ：ピリミジニル基 一般式(I)
る２−ピラゾリン−５−オン誘導体の代表的な化合物を
例示するが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。尚、第１表、第３表及び第５表中での略号は下記の
定義を有する。 Ｐｈ：フェニル基 Ｑ1 ：ピリジル基 Ｑ2 ：フタルイミドイル基 Ｑ3 ：１，３−ジオキサン−２−イル基 Ｑ4 ：ピリミジニル基 一般式(I)
【化７】
【００２０】
【表１】
【００２１】
【表２】
【００２２】
【表３】
【００２３】
【表４】
【００２４】
【表５】
【００２５】
【表６】
【００２６】
【表７】
【００２７】
【表８】
【００２８】
【表９】
【００２９】
【表１０】
【００３０】
【表１１】
【００３１】
【表１２】
【００３２】
【表１３】
【００３３】
【表１４】
【００３４】
【表１５】
【００３５】
【表１６】
【００３６】注： 第１表中の異性体の表示は２個の不
斉炭素原子間の相対配置が異なるジアステレオ立体異性
体を便宜的にＬ体及びＳ体として、下記の純度で定義し
た。 Ｌ又はＳ 純度９５％以上のＬ体又はＳ体 Ｌｍ又はＳｍ 純度９５％未満〜７０％以上のＬ体又
はＳ体 Ｌ＋Ｓ 純度７０％未満のＬ体又はＳ体の混合
物 第１表中、物性欄がペ−スト又は空欄の化合物の1H−Ｎ
ＭＲデ−タを第２表に示す。第２表中、ジアステレオ立
体異性体の純度７０％以上のものは、主成分のジアステ
レオ立体異性体のみ1H−ＮＭＲデ−タを示し、純度７０
％未満の混合物は両異性体の1H−ＮＭＲデ−タを列記し
て示す。
斉炭素原子間の相対配置が異なるジアステレオ立体異性
体を便宜的にＬ体及びＳ体として、下記の純度で定義し
た。 Ｌ又はＳ 純度９５％以上のＬ体又はＳ体 Ｌｍ又はＳｍ 純度９５％未満〜７０％以上のＬ体又
はＳ体 Ｌ＋Ｓ 純度７０％未満のＬ体又はＳ体の混合
物 第１表中、物性欄がペ−スト又は空欄の化合物の1H−Ｎ
ＭＲデ−タを第２表に示す。第２表中、ジアステレオ立
体異性体の純度７０％以上のものは、主成分のジアステ
レオ立体異性体のみ1H−ＮＭＲデ−タを示し、純度７０
％未満の混合物は両異性体の1H−ＮＭＲデ−タを列記し
て示す。
【００３７】
【表１７】
【００３８】
【表１８】
【００３９】
【表１９】
【００４０】本発明の一般式(I) で表される２−ピラゾ
リン−５−オン誘導体を製造するための化合物である一
般式(II)で表されるピラゾリン類は、例えば下記の方法
により製造することができる。製造方法３．
リン−５−オン誘導体を製造するための化合物である一
般式(II)で表されるピラゾリン類は、例えば下記の方法
により製造することができる。製造方法３．
【化８】 （式中、R 、R'、R1、R2、X 、n 及びZ は前記に同じく
し、Hal はハロゲン原子を示す。但し、R'は水素原子を
除く。）
し、Hal はハロゲン原子を示す。但し、R'は水素原子を
除く。）
【００４１】一般式(IV)で表される化合物と一般式(V)
で表されるハライド類とを塩基の存在下、不活性溶媒の
存在下又は不存在下に反応させることにより一般式(II)
で表されるピラゾリン類を製造することができる。本反
応で使用する不活性溶媒としては、本反応の進行を著し
く阻害しないものであれば良く、例えばメタノール、エ
タノール、n-プロパノール、n-ブタノール等のアルコー
ル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢
酸エチル等のエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ア
セトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等の非プロトン性溶媒の他、水等を使用することが
できる。
で表されるハライド類とを塩基の存在下、不活性溶媒の
存在下又は不存在下に反応させることにより一般式(II)
で表されるピラゾリン類を製造することができる。本反
応で使用する不活性溶媒としては、本反応の進行を著し
く阻害しないものであれば良く、例えばメタノール、エ
タノール、n-プロパノール、n-ブタノール等のアルコー
ル類、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢
酸エチル等のエステル類、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン等の芳香族炭化水素類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミ
ド、Ｎ−メチルピロリドン、ジメチルスルホキシド、ア
セトン、アセトニトリル、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン等の非プロトン性溶媒の他、水等を使用することが
できる。
【００４２】塩基類としては無機塩基又は有機塩基を使
用することができ、例えば水素化ナトリウム、水素化カ
リウム、水素化リチウム、金属ナトリウム、金属カリウ
ム、t-ブトキシカリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム等を使用することができ、塩基の使用量は一般式(IV)
で表される化合物に対して等モル乃至過剰モルの範囲か
ら選択して使用すれば良い。本反応は等モル反応である
ので各反応剤を等モル使用すれば良いが、いずれかの反
応剤を過剰に使用することもできる。反応温度は−２０
℃〜２００℃の範囲で行えば良く、好ましくは０℃〜２
５℃の範囲である。反応時間は反応規模、反応温度によ
り一定しないが、０．５〜４８時間の範囲で行えば良
い。反応終了後、目的物を含む反応系より常法により単
離し、必要に応じて精製することにより一般式(II)で表
されるピラゾリン類を製造することができる。一般式(I
V)で表される化合物は、例えばThe Chemistry of Heter
ocyclic Compounds, Wiley-Interscience, 20, p13 (19
64) 等に記載の方法により製造することができ、一般式
(V) で表されるハライド類は、例えばR. M. Cowper, L.
H. Davidson, Org. Syn. Coll. Vol. II, P480 、B. J
ousseaume, J. G. Duboudin, J. Organomet. Chem., 91
(1), C1, (1975) 、S. F. Reed, Jr., J. Org. Chem.30
(9), 3258 (1965)等に記載の方法により製造することが
できる。
用することができ、例えば水素化ナトリウム、水素化カ
リウム、水素化リチウム、金属ナトリウム、金属カリウ
ム、t-ブトキシカリウム、水酸化ナトリウム、水酸化カ
リウム、水酸化リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウ
ム等を使用することができ、塩基の使用量は一般式(IV)
で表される化合物に対して等モル乃至過剰モルの範囲か
ら選択して使用すれば良い。本反応は等モル反応である
ので各反応剤を等モル使用すれば良いが、いずれかの反
応剤を過剰に使用することもできる。反応温度は−２０
℃〜２００℃の範囲で行えば良く、好ましくは０℃〜２
５℃の範囲である。反応時間は反応規模、反応温度によ
り一定しないが、０．５〜４８時間の範囲で行えば良
い。反応終了後、目的物を含む反応系より常法により単
離し、必要に応じて精製することにより一般式(II)で表
されるピラゾリン類を製造することができる。一般式(I
V)で表される化合物は、例えばThe Chemistry of Heter
ocyclic Compounds, Wiley-Interscience, 20, p13 (19
64) 等に記載の方法により製造することができ、一般式
(V) で表されるハライド類は、例えばR. M. Cowper, L.
H. Davidson, Org. Syn. Coll. Vol. II, P480 、B. J
ousseaume, J. G. Duboudin, J. Organomet. Chem., 91
(1), C1, (1975) 、S. F. Reed, Jr., J. Org. Chem.30
(9), 3258 (1965)等に記載の方法により製造することが
できる。
【００４３】製造方法４．
【化９】 （式中、R 、R'、R1、R2、X 及びn は前記に同じくし、
R'''は水素原子、アセチル基又は(C1-6)アルキコキシカ
ルボニル基を示す。） 一般式(IV)で表される化合物と一般式(VI)で表される化
合物とを不活性溶媒、パラジウム(Pd)触媒及び塩基の存
在下、配位子の存在下又は不存在下に反応させることに
より一般式(IIb) で表されるピラゾリン類を製造するこ
とができる。本反応で使用できる不活性溶媒としては、
例えばジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等を使用すること
ができる。
R'''は水素原子、アセチル基又は(C1-6)アルキコキシカ
ルボニル基を示す。） 一般式(IV)で表される化合物と一般式(VI)で表される化
合物とを不活性溶媒、パラジウム(Pd)触媒及び塩基の存
在下、配位子の存在下又は不存在下に反応させることに
より一般式(IIb) で表されるピラゾリン類を製造するこ
とができる。本反応で使用できる不活性溶媒としては、
例えばジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキ
サン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等を使用すること
ができる。
【００４４】パラジウム触媒としては、例えば酢酸パラ
ジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジ
ウム等を、配位子としては、例えば、トリアルキルホス
フィン、トリフェニルホスフィン、１，２−ビス（ジフ
ェニルホスフィノ）エタン等を使用することができる。
塩基としては無機塩基又は有機塩基を使用することがで
き、例えば水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチ
ルアミン等の塩基を使用することができる。本反応は−
２０℃〜１５０℃の範囲で行えば良く、好ましくは０℃
〜１００℃の範囲である。反応時間は反応規模、反応温
度により一定しないが、０．５〜４８時間の範囲であ
る。反応終了後、目的物を含む反応系より常法により単
離し、必要に応じて精製することにより一般式(II)で表
されるピラゾリン類を製造することができる。本反応は
π−アリルパラジウム中間体を経由して行われる求核置
換反応であり、例えばB. M. Trost, T. R. Verhoeven,
J. Am. Chem. Soc., 102, 4730 (1980) 、J. Tsuji, I.
Shimizu, I. Minami, Y. Ohashi, T. Sugiura, K. Tak
ahashi, J. Org. Chem., 50, 1523 (1985) 等に記載の
方法に準じて行えば良い。
ジウム、テトラキス（トリフェニルホスフィン）パラジ
ウム等を、配位子としては、例えば、トリアルキルホス
フィン、トリフェニルホスフィン、１，２−ビス（ジフ
ェニルホスフィノ）エタン等を使用することができる。
塩基としては無機塩基又は有機塩基を使用することがで
き、例えば水素化ナトリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カ
リウム、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、トリエチ
ルアミン等の塩基を使用することができる。本反応は−
２０℃〜１５０℃の範囲で行えば良く、好ましくは０℃
〜１００℃の範囲である。反応時間は反応規模、反応温
度により一定しないが、０．５〜４８時間の範囲であ
る。反応終了後、目的物を含む反応系より常法により単
離し、必要に応じて精製することにより一般式(II)で表
されるピラゾリン類を製造することができる。本反応は
π−アリルパラジウム中間体を経由して行われる求核置
換反応であり、例えばB. M. Trost, T. R. Verhoeven,
J. Am. Chem. Soc., 102, 4730 (1980) 、J. Tsuji, I.
Shimizu, I. Minami, Y. Ohashi, T. Sugiura, K. Tak
ahashi, J. Org. Chem., 50, 1523 (1985) 等に記載の
方法に準じて行えば良い。
【００４５】製造方法５．
【化１０】 （式中、R1、R2、X 、n 及びZ は前記に同じくし、R''
は４−(C1-6)アルコキシフェニル基を示す。） 製造方法４に従って製造される一般式(IIc) で表される
ピラゾリン類を不活性溶媒の存在下及び酸化剤の存在下
に反応させることにより一般式(IId) で表されるピラゾ
リン類を製造をすることができる。本反応で使用される
不活性溶媒としては、たとえばメタノール、エタノー
ル、プロパノール等のアルコール類、アセトニトリル等
のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の不活
性溶媒を使用することができ、これらの不活性溶媒は単
独で若しくは混合して使用することができる。酸化剤と
しては、例えば硝酸セリウム(IV)アンモニウム、酸化銀
等を使用することができ、酸化剤の使用量は一般式(II
c) で表されるピラゾリン類に対して等モル乃至過剰モ
ルの範囲から選択して使用すれば良く、好ましくは２倍
モル以上使用するのが良い。
は４−(C1-6)アルコキシフェニル基を示す。） 製造方法４に従って製造される一般式(IIc) で表される
ピラゾリン類を不活性溶媒の存在下及び酸化剤の存在下
に反応させることにより一般式(IId) で表されるピラゾ
リン類を製造をすることができる。本反応で使用される
不活性溶媒としては、たとえばメタノール、エタノー
ル、プロパノール等のアルコール類、アセトニトリル等
のニトリル類、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド等の不活
性溶媒を使用することができ、これらの不活性溶媒は単
独で若しくは混合して使用することができる。酸化剤と
しては、例えば硝酸セリウム(IV)アンモニウム、酸化銀
等を使用することができ、酸化剤の使用量は一般式(II
c) で表されるピラゾリン類に対して等モル乃至過剰モ
ルの範囲から選択して使用すれば良く、好ましくは２倍
モル以上使用するのが良い。
【００４６】本反応は−２０℃〜１００℃の範囲で行わ
れ、好ましくは０℃〜３０℃の範囲で行うのが良く、反
応時間は反応規模、反応温度等により一定しないが０．
５〜２４時間の範囲で行うことができる。反応終了後、
目的物を含む反応系より常法により単離し、必要に応じ
て精製することにより一般式(IId) で表されるピラゾリ
ン類を製造することができる。本反応は、例えばP. Jac
ob, III, P, S, Callery, A. T. Shulgin, N. Castagno
li, jR., J. Org. Chem., 41(22), 3627 (1976) 、E.
A. Najat, B. Chantal,V. Jean, Synthetic Commun.,
18, 2073 (1988), D. R. Kroneuthal, C. Y. Han, M.
R. Taylor, J. Org. Chem.,47, 2765 (1982) 等に記載
の方法に準じて製造することができる。
れ、好ましくは０℃〜３０℃の範囲で行うのが良く、反
応時間は反応規模、反応温度等により一定しないが０．
５〜２４時間の範囲で行うことができる。反応終了後、
目的物を含む反応系より常法により単離し、必要に応じ
て精製することにより一般式(IId) で表されるピラゾリ
ン類を製造することができる。本反応は、例えばP. Jac
ob, III, P, S, Callery, A. T. Shulgin, N. Castagno
li, jR., J. Org. Chem., 41(22), 3627 (1976) 、E.
A. Najat, B. Chantal,V. Jean, Synthetic Commun.,
18, 2073 (1988), D. R. Kroneuthal, C. Y. Han, M.
R. Taylor, J. Org. Chem.,47, 2765 (1982) 等に記載
の方法に準じて製造することができる。
【００４７】製造方法６．
【化１１】 （式中、R1、R2、X 、n 、Z 及びHal は前記に同じく
し、R'''' は(C1-6)アルキル基、(C2-6)アルケニル基、
(C2-6)アルキニル基、(C1-6)アルコキシ(C1-6)アルキル
基、フェニル(C1-6)アルキル基、フェノキシ(C1-6)アル
キル基又は１，３−ジオキサン−２−イル(C1-6)アルキ
ル基を示す。） 一般式(IId) で表されるピラゾリン類と一般式(VI)で表
されるハライド類とを不活性溶媒、塩基の存在下に反応
させることにより一般式(IIc) で表されるピラゾリン類
を製造方法３と同様にして製造することができる。
し、R'''' は(C1-6)アルキル基、(C2-6)アルケニル基、
(C2-6)アルキニル基、(C1-6)アルコキシ(C1-6)アルキル
基、フェニル(C1-6)アルキル基、フェノキシ(C1-6)アル
キル基又は１，３−ジオキサン−２−イル(C1-6)アルキ
ル基を示す。） 一般式(IId) で表されるピラゾリン類と一般式(VI)で表
されるハライド類とを不活性溶媒、塩基の存在下に反応
させることにより一般式(IIc) で表されるピラゾリン類
を製造方法３と同様にして製造することができる。
【００４８】以下に製造方法３〜６に従って製造される
一般式(II)で表される代表的な化合物を第３表及び第５
表に示す。一般式(IIa)
一般式(II)で表される代表的な化合物を第３表及び第５
表に示す。一般式(IIa)
【化１２】
【００４９】
【表２０】
【００５０】
【表２１】
【００５１】
【表２２】
【００５２】
【表２３】
【００５３】
【表２４】
【００５４】
【表２５】
【００５５】
【表２６】
【００５６】
【表２７】
【００５７】
【表２８】
【００５８】第３表中の化合物No.a-100の化合物の1-Ｎ
ＭＲデ−タを第４表に示す。
ＭＲデ−タを第４表に示す。
【表２９】 一般式(IIb)
【化１３】
【００５９】
【表３０】
【００６０】
【実施例】以下に製造方法１〜６の本発明の一般式(I)
で表される２−ピラゾリン−５−オン誘導体及び一般式
(II)で表されるピラゾリン類の実施例を例示する。実施
例１． ４−エチル−３−メチル−１−フェニル−４−
（２−フェニル−２，３−エポキシプロピル）−２−ピ
ラゾリン−５−オン（化合物No３３）の製造
で表される２−ピラゾリン−５−オン誘導体及び一般式
(II)で表されるピラゾリン類の実施例を例示する。実施
例１． ４−エチル−３−メチル−１−フェニル−４−
（２−フェニル−２，３−エポキシプロピル）−２−ピ
ラゾリン−５−オン（化合物No３３）の製造
【化１４】 水素化ナトリウム０．１３ｇ（３．３ミリモル）をジメ
チルスルホキシド３ｍｌに加え、６０〜７０℃で１時間
攪拌した後、テトラヒドロフラン１ｍｌを加えて反応液
を氷冷し、０℃にてトリメチルスルホニウムヨージド
０．６７ｇ（３．３ミリモル）を加えて、添加１０分後
に氷冷下に４−ベンゾイルメチル−４−エチル−３−メ
チル−１−フェニル−２−ピラゾリン−５−オン０．９
６ｇ（３ミリモル）を加えて３時間反応を行った後、一
夜放置した。反応終了後、反応液に氷水を注ぎ、目的物
を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗及び硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下に濃縮して粗生成物を得、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：テトラヒド
ロフラン＝３：１）で分離精製を行うことにより目的物
のＬ体及びＳ体の混合物を０．５５ｇ得た。 物性 nD 1.5852(23.8℃) 収率 ５５％
チルスルホキシド３ｍｌに加え、６０〜７０℃で１時間
攪拌した後、テトラヒドロフラン１ｍｌを加えて反応液
を氷冷し、０℃にてトリメチルスルホニウムヨージド
０．６７ｇ（３．３ミリモル）を加えて、添加１０分後
に氷冷下に４−ベンゾイルメチル−４−エチル−３−メ
チル−１−フェニル−２−ピラゾリン−５−オン０．９
６ｇ（３ミリモル）を加えて３時間反応を行った後、一
夜放置した。反応終了後、反応液に氷水を注ぎ、目的物
を酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗及び硫酸マグネシ
ウムで乾燥後、減圧下に濃縮して粗生成物を得、シリカ
ゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：テトラヒド
ロフラン＝３：１）で分離精製を行うことにより目的物
のＬ体及びＳ体の混合物を０．５５ｇ得た。 物性 nD 1.5852(23.8℃) 収率 ５５％
【００６１】実施例２． ４−エチル−３−メチル−１
−フェニル−４−（２−フェニル−２，３−エポキシプ
ロピル）−２−ピラゾリン−５−オン（化合物No３４及
び３５）の製造
−フェニル−４−（２−フェニル−２，３−エポキシプ
ロピル）−２−ピラゾリン−５−オン（化合物No３４及
び３５）の製造
【化１５】 ４−エチル−３−メチル−１−フェニル−４−（２−フ
ェニル−２−プロペン−１−イル）−２−ピラゾリン−
５−オン０．３２ｇ（１ミリモル）をクロロホルム５ｍ
ｌに溶解し、該溶液にｍ−クロロ過安息香酸０．５２ｇ
（３ミリモル）を加えて３時間加熱還流した。反応終了
後、氷冷下に炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて充分攪
拌し、ジエチルエーテルを加えて目的物を抽出し、抽出
液を炭酸水素ナトリウム水溶液及び硫酸第一鉄水溶液で
順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥を行った。乾燥さ
せた抽出液の溶媒を減圧下に留去して得られた粗生成物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：テ
トラヒドロフラン＝３：１）で分離精製を行うことによ
り目的物のＬ体を０．１１ｇ及びＳ体を０．０８ｇ得
た。 物性 Ｌ体 nD 1.5853(22.9℃) 収率 ３２．７％ Ｓ体 nD 1.5890(22.5℃) ２３．８％
ェニル−２−プロペン−１−イル）−２−ピラゾリン−
５−オン０．３２ｇ（１ミリモル）をクロロホルム５ｍ
ｌに溶解し、該溶液にｍ−クロロ過安息香酸０．５２ｇ
（３ミリモル）を加えて３時間加熱還流した。反応終了
後、氷冷下に炭酸水素ナトリウム水溶液を加えて充分攪
拌し、ジエチルエーテルを加えて目的物を抽出し、抽出
液を炭酸水素ナトリウム水溶液及び硫酸第一鉄水溶液で
順次洗浄し、硫酸マグネシウムで乾燥を行った。乾燥さ
せた抽出液の溶媒を減圧下に留去して得られた粗生成物
をシリカゲルカラムクロマトグラフィー（ヘキサン：テ
トラヒドロフラン＝３：１）で分離精製を行うことによ
り目的物のＬ体を０．１１ｇ及びＳ体を０．０８ｇ得
た。 物性 Ｌ体 nD 1.5853(22.9℃) 収率 ３２．７％ Ｓ体 nD 1.5890(22.5℃) ２３．８％
【００６２】実施例３． ４−（３−クロロベンゾイ
ル）メチル−３，４−ジメチル−１−フェニル−２−ピ
ラゾリン−５−オン（化合物No.a-14 ）の製造
ル）メチル−３，４−ジメチル−１−フェニル−２−ピ
ラゾリン−５−オン（化合物No.a-14 ）の製造
【化１６】 ３，４−ジメチル−１−フェニル−２−ピラゾリン−５
−オン４．０３ｇ（２．１ミリモル）を、水素化ナトリ
ウム０．９１ｇ（２３ミリモル）をテトラヒドロフラン
６０ｍｌに懸濁させた懸濁液に加えて1 時間加熱還流下
に反応を行い、次いで反応液を氷冷下にm-クロロフェナ
シルブロミド５ｇ（２１ミリモルを加えた後、２時間氷
冷下で反応を行い、一夜放置した。反応終了後、反応液
を氷水中に注ぎ目的物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を
水洗及び硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮して
得られた粗生成物をｎ−ヘキサン−エーテルにより結晶
化させることにより目的物４．２ｇを得た。 物性 m.p.167.5 ℃（分解） 収率 ５７％
−オン４．０３ｇ（２．１ミリモル）を、水素化ナトリ
ウム０．９１ｇ（２３ミリモル）をテトラヒドロフラン
６０ｍｌに懸濁させた懸濁液に加えて1 時間加熱還流下
に反応を行い、次いで反応液を氷冷下にm-クロロフェナ
シルブロミド５ｇ（２１ミリモルを加えた後、２時間氷
冷下で反応を行い、一夜放置した。反応終了後、反応液
を氷水中に注ぎ目的物を酢酸エチルで抽出し、抽出液を
水洗及び硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮して
得られた粗生成物をｎ−ヘキサン−エーテルにより結晶
化させることにより目的物４．２ｇを得た。 物性 m.p.167.5 ℃（分解） 収率 ５７％
【００６３】実施例４． １−（３，５−ジクロロフェ
ニル）−４−エチル−３−メチル−４−（２−フェニル
−２−プロペン−１−イル）−２−ピラゾリン−５−オ
ン（化合物Nob-12) の製造
ニル）−４−エチル−３−メチル−４−（２−フェニル
−２−プロペン−１−イル）−２−ピラゾリン−５−オ
ン（化合物Nob-12) の製造
【化１７】 エチレングリコール ジメチルエーテル２０ｍｌに１−
（３，５−ジクロロフェニル）−４−エチル−３−メチ
ル−２−ピラゾリン−５−オン０．７０ｇ（２．６ミリ
モル）、２−フェニル−２−プロペン−１−イル アセ
テート０．５５ｇ（３．１ミリモル）酢酸パラジウム
０．０６ｇ（０．２６ミリモル）、トリフェニルホスフ
ィン０．２７ｇ（１．０４ミリモル）及び炭酸ナトリウ
ム０．５５ｇ（５．２ミリモル）を加え、窒素雰囲気下
に３時間加熱還流して反応を行った。反応終了後、反応
液を放冷して濾過し、得られた濾液を減圧下に濃縮して
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）で生成すること
により目的物１．００ｇを得た。 物性 m.p. 83.7 ℃ 収率 １００％
（３，５−ジクロロフェニル）−４−エチル−３−メチ
ル−２−ピラゾリン−５−オン０．７０ｇ（２．６ミリ
モル）、２−フェニル−２−プロペン−１−イル アセ
テート０．５５ｇ（３．１ミリモル）酢酸パラジウム
０．０６ｇ（０．２６ミリモル）、トリフェニルホスフ
ィン０．２７ｇ（１．０４ミリモル）及び炭酸ナトリウ
ム０．５５ｇ（５．２ミリモル）を加え、窒素雰囲気下
に３時間加熱還流して反応を行った。反応終了後、反応
液を放冷して濾過し、得られた濾液を減圧下に濃縮して
得られた残渣をシリカゲルカラムクロマトグラフィー
（ｎ−ヘキサン：酢酸エチル＝６：１）で生成すること
により目的物１．００ｇを得た。 物性 m.p. 83.7 ℃ 収率 １００％
【００６４】実施例５． ４−ベンゾイルメチル−４−
エチル−３−メチル−１−フェニル−２−ピラゾリン−
５−オン（化合物No.b-1）の製造
エチル−３−メチル−１−フェニル−２−ピラゾリン−
５−オン（化合物No.b-1）の製造
【化１８】 実施例１と同様にして得られた４−ベンゾイルメチル−
４−エチル−１−（４−メトキシフェニル）−３−メチ
ル−２−ピラゾリン−５−オン０．７ｇ（２ミリモル）
をアセトニトリル１０ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド５ｍｌの混合溶液に溶解し、該溶液に氷冷下に、
硝酸セリウム（ＩＶ）アンモニウム２．４１ｇ（４．４
ミリモル）を溶解した水溶液４ｍｌを徐々に滴下した
後、冷却下に１５分間反応を行った。反応終了後、反応
液を氷水中に注ぎ目的物を酢酸エチルで抽出し、抽出液
を水洗及び硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮し
て得られた粗生成物を少量の酢酸エチルを含むエーテル
から結晶化させることにより目的物０．２９ｇを得た。 物性 m.p.186.1 ℃（分解） 収率 ５９％
４−エチル−１−（４−メトキシフェニル）−３−メチ
ル−２−ピラゾリン−５−オン０．７ｇ（２ミリモル）
をアセトニトリル１０ｍｌ及びＮ，Ｎ−ジメチルホルム
アミド５ｍｌの混合溶液に溶解し、該溶液に氷冷下に、
硝酸セリウム（ＩＶ）アンモニウム２．４１ｇ（４．４
ミリモル）を溶解した水溶液４ｍｌを徐々に滴下した
後、冷却下に１５分間反応を行った。反応終了後、反応
液を氷水中に注ぎ目的物を酢酸エチルで抽出し、抽出液
を水洗及び硫酸マグネシウムで乾燥後、減圧下に濃縮し
て得られた粗生成物を少量の酢酸エチルを含むエーテル
から結晶化させることにより目的物０．２９ｇを得た。 物性 m.p.186.1 ℃（分解） 収率 ５９％
【００６５】実施例６． ４−ベンゾイルメチル−４−
エチル−３−メチル−１−（２−プロペン−１−イル）
−２−ピラゾリン−５−オン（化合物No.B-10 ）の製造
エチル−３−メチル−１−（２−プロペン−１−イル）
−２−ピラゾリン−５−オン（化合物No.B-10 ）の製造
【化１９】 実施例２で得られた４−ベンゾイルメチル−４−エチル
−３−メチル−２−ピラゾリン−５−オン２．４４ｇ
（１０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０
ｍｌに溶解し、該溶液にカリウム−ｔ−ブトキシド１．
３ｇ（純度＞９５％、１１ミリモル）を氷冷下に加えて
１時間攪拌し、次いで冷却下に臭化アリル１．３３ｇ
（１１ミリモル）を滴下して１時間反応を行い、一夜放
置した。反応終了後、反応液を氷水中に注ぎ、目的物を
酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗及び硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧下に濃縮して得られた粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸
エチル＝４：１）で分離することにより目的物２．０ｇ
を得た。更に得られた目的物をｎ−ヘキサン及びエーテ
ルの混合溶液より結晶化を行い無色結晶を得た。 物性 m.p. 54.8 ℃ 収率 ７０％
−３−メチル−２−ピラゾリン−５−オン２．４４ｇ
（１０ミリモル）をＮ，Ｎ−ジメチルホルムアミド２０
ｍｌに溶解し、該溶液にカリウム−ｔ−ブトキシド１．
３ｇ（純度＞９５％、１１ミリモル）を氷冷下に加えて
１時間攪拌し、次いで冷却下に臭化アリル１．３３ｇ
（１１ミリモル）を滴下して１時間反応を行い、一夜放
置した。反応終了後、反応液を氷水中に注ぎ、目的物を
酢酸エチルで抽出し、抽出液を水洗及び硫酸マグネシウ
ムで乾燥後、減圧下に濃縮して得られた粗生成物をシリ
カゲルカラムクロマトグラフィー（ｎ−ヘキサン：酢酸
エチル＝４：１）で分離することにより目的物２．０ｇ
を得た。更に得られた目的物をｎ−ヘキサン及びエーテ
ルの混合溶液より結晶化を行い無色結晶を得た。 物性 m.p. 54.8 ℃ 収率 ７０％
【００６６】本発明の一般式(I) で表される２−ピラゾ
リン誘導体を有効成分として含有する除草剤は、例えば
イヌビエ（イネ科１年生、水田の害草）、タマガヤツリ
（カヤツリグサ科１年生草、水田の害草）、マツバイ
（カヤツリグサ科多年生草、湿地、水路、水田に発生、
水田の多年生害草）、ウリカワ（オモダカ科、水田、湿
地、溝に発生する多年生害草）、ホタルイ（カヤツリグ
サ科多年生草、水田、湿地、溝に発生）、スズメノテッ
ポウ（イネ科雑草、水田、低湿地に発生）、エンバク
（イネ科越年草、平地、荒地、畑地に発生）、ヨモギ
（キク科多年生草、山野、畑地に発生）、メヒシバ（イ
ネ科１年生草、畑、樹園地の強害草）、ギシギシ（タデ
科多年生草、畑地、道端に発生）、コゴメガヤツリ（カ
ヤツリグサ科１年生草、アオビユ（ヒユ科１年生草、空
き地、道端、畑地に発生）、オナモミ（キク科１年生
草、畑地の害草）、イチビ（アオイ科１年生草、畑地の
害草）、ヨウシュチョウセンアサガオ（ヒルガオ科１年
生草、畑地の害草）、オオイヌノフグリ（ゴマノハグサ
科１〜２年生草、畑地の害草）、ヤエムグラ（アカネ科
１年生草、畑地、樹園地の害草）等の水田、畑、樹園
地、湿地等に発生する１年生及び多年生雑草を除草する
のに有用であり、特に水田におけるイヌビエ、ホタルイ
等の雑草の防除に有用である。
リン誘導体を有効成分として含有する除草剤は、例えば
イヌビエ（イネ科１年生、水田の害草）、タマガヤツリ
（カヤツリグサ科１年生草、水田の害草）、マツバイ
（カヤツリグサ科多年生草、湿地、水路、水田に発生、
水田の多年生害草）、ウリカワ（オモダカ科、水田、湿
地、溝に発生する多年生害草）、ホタルイ（カヤツリグ
サ科多年生草、水田、湿地、溝に発生）、スズメノテッ
ポウ（イネ科雑草、水田、低湿地に発生）、エンバク
（イネ科越年草、平地、荒地、畑地に発生）、ヨモギ
（キク科多年生草、山野、畑地に発生）、メヒシバ（イ
ネ科１年生草、畑、樹園地の強害草）、ギシギシ（タデ
科多年生草、畑地、道端に発生）、コゴメガヤツリ（カ
ヤツリグサ科１年生草、アオビユ（ヒユ科１年生草、空
き地、道端、畑地に発生）、オナモミ（キク科１年生
草、畑地の害草）、イチビ（アオイ科１年生草、畑地の
害草）、ヨウシュチョウセンアサガオ（ヒルガオ科１年
生草、畑地の害草）、オオイヌノフグリ（ゴマノハグサ
科１〜２年生草、畑地の害草）、ヤエムグラ（アカネ科
１年生草、畑地、樹園地の害草）等の水田、畑、樹園
地、湿地等に発生する１年生及び多年生雑草を除草する
のに有用であり、特に水田におけるイヌビエ、ホタルイ
等の雑草の防除に有用である。
【００６７】本発明の一般式(I) で表される２−ピラゾ
リン−５−オン誘導体を有効成分として含有する除草剤
は出芽前及び出芽後にある雑草に対して優れた除草効果
を示すことから、有用植物の植え付け予定地に予め処理
するとか、有用植物の植え付け後（有用植物が樹園のご
とく既に定植されている場合を含む）雑草の発生始期か
ら生育期に処理することにより本発明除草剤の有する特
徴ある生理活性を効果的に発現させることができる。し
かし本発明の除草剤はこのような態様おいてのみ使用さ
れねばならないというものではなく、例えば本発明除草
剤は水田用除草剤として使用することができるばかりで
なく、一般雑草の除草剤としても使用することができ、
例えば刈り取り跡、休耕田畑、畦畔、農道、水路、牧草
造成地、墓地、公園、道路、運動場、建物の周辺の空き
地、開墾地、線路端、森林等の一般雑草の駆除のために
使用することもできる。この場合、雑草の発生始期まで
に処理するのが経済的にも最も効果的であるが、必ずし
もこれに限定されず、生育期にある雑草をも防除するこ
とが可能である。
リン−５−オン誘導体を有効成分として含有する除草剤
は出芽前及び出芽後にある雑草に対して優れた除草効果
を示すことから、有用植物の植え付け予定地に予め処理
するとか、有用植物の植え付け後（有用植物が樹園のご
とく既に定植されている場合を含む）雑草の発生始期か
ら生育期に処理することにより本発明除草剤の有する特
徴ある生理活性を効果的に発現させることができる。し
かし本発明の除草剤はこのような態様おいてのみ使用さ
れねばならないというものではなく、例えば本発明除草
剤は水田用除草剤として使用することができるばかりで
なく、一般雑草の除草剤としても使用することができ、
例えば刈り取り跡、休耕田畑、畦畔、農道、水路、牧草
造成地、墓地、公園、道路、運動場、建物の周辺の空き
地、開墾地、線路端、森林等の一般雑草の駆除のために
使用することもできる。この場合、雑草の発生始期まで
に処理するのが経済的にも最も効果的であるが、必ずし
もこれに限定されず、生育期にある雑草をも防除するこ
とが可能である。
【００６８】本発明の一般式(I) で表される２−ピラゾ
リン−５−オン誘導体を除草剤として使用する場合、農
薬製剤上の常法に従い、使用上都合の良い形状に製剤し
て使用するのが一般的である。即ち、本発明の一般式
(I) で表される２−ピラゾリン−５−オン誘導体は、こ
れらを適当な不活性担体に、又は必要に応じて補助剤と
一緒に、適当な割合に配合して溶解、分離、懸濁、混
合、含浸、吸着若しくは付着させ、適宜の剤形、例えば
懸濁剤、乳剤、液剤、水和剤、粒剤、粉剤、錠剤等に製
剤して使用すれば良い。
リン−５−オン誘導体を除草剤として使用する場合、農
薬製剤上の常法に従い、使用上都合の良い形状に製剤し
て使用するのが一般的である。即ち、本発明の一般式
(I) で表される２−ピラゾリン−５−オン誘導体は、こ
れらを適当な不活性担体に、又は必要に応じて補助剤と
一緒に、適当な割合に配合して溶解、分離、懸濁、混
合、含浸、吸着若しくは付着させ、適宜の剤形、例えば
懸濁剤、乳剤、液剤、水和剤、粒剤、粉剤、錠剤等に製
剤して使用すれば良い。
【００６９】本発明で使用できる不活性担体としては固
体又は液体の何れであっても良く、固体の担体になりう
る材料としては、例えばダイズ粉、穀物粉、木粉、樹皮
粉、鋸粉、タバコ茎粉、クルミ殻粉、ふすま、繊維素粉
末、植物エキス抽出後の残渣、粉砕合成樹脂等の合成重
合体、粘土類（例えばカオリン、ベントナイト、酸性白
土等）、タルク類（例えばタルク、ピロフィライド
等）、シリカ類（例えば珪藻土、珪砂、雲母、ホワイト
カーボン〔含水微粉珪素、含水珪酸ともいわれる合成高
分散珪酸で、製品により珪酸カルシウムを主成分として
含むものもある。〕）、活性炭、イオウ粉末、軽石、焼
成珪藻土、レンガ粉砕物、フライアッシュ、砂、炭酸カ
ルシウム、燐酸カルシウム等の無機鉱物性粉末、硫安、
燐安、硝安、尿素、塩安等の化学肥料、堆肥等を挙げる
ことができ、これらは単独で若しくは二種以上の混合物
の形で使用される。
体又は液体の何れであっても良く、固体の担体になりう
る材料としては、例えばダイズ粉、穀物粉、木粉、樹皮
粉、鋸粉、タバコ茎粉、クルミ殻粉、ふすま、繊維素粉
末、植物エキス抽出後の残渣、粉砕合成樹脂等の合成重
合体、粘土類（例えばカオリン、ベントナイト、酸性白
土等）、タルク類（例えばタルク、ピロフィライド
等）、シリカ類（例えば珪藻土、珪砂、雲母、ホワイト
カーボン〔含水微粉珪素、含水珪酸ともいわれる合成高
分散珪酸で、製品により珪酸カルシウムを主成分として
含むものもある。〕）、活性炭、イオウ粉末、軽石、焼
成珪藻土、レンガ粉砕物、フライアッシュ、砂、炭酸カ
ルシウム、燐酸カルシウム等の無機鉱物性粉末、硫安、
燐安、硝安、尿素、塩安等の化学肥料、堆肥等を挙げる
ことができ、これらは単独で若しくは二種以上の混合物
の形で使用される。
【００７０】液体の担体になりうる材料としては、それ
自体溶媒能を有するものの他、溶媒能を有さずとも補助
剤の助けにより有効成分化合物を分散させうることとな
るものから選択され、例えば代表例として次に挙げる担
体を例示できるが、これらは単独で若しくは２種以上の
混合物の形で使用され、例えば水、アルコール類（例え
ばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノ
ール、エチレングリコール等）、ケトン類（例えばアセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル
類（例えばエチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、
ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等）、脂肪族
炭化水素類（例えばケロシン、鉱油等）、芳香族炭化水
素類（例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベン
トナフサ、アルキルナフタレン等）、ハロゲン化炭化水
素類（例えばジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素等）、エステル類（例えば酢酸エチル、ジイソプピル
フタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレー
ト等）、アミド類（例えばジメチルホルムアミド、ジエ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、ニトリ
ル類（例えばアセトニトリル等）、ジメチルスルホキシ
ド類等を挙げることができる。
自体溶媒能を有するものの他、溶媒能を有さずとも補助
剤の助けにより有効成分化合物を分散させうることとな
るものから選択され、例えば代表例として次に挙げる担
体を例示できるが、これらは単独で若しくは２種以上の
混合物の形で使用され、例えば水、アルコール類（例え
ばメタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノ
ール、エチレングリコール等）、ケトン類（例えばアセ
トン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、
ジイソブチルケトン、シクロヘキサノン等）、エーテル
類（例えばエチルエーテル、ジオキサン、セロソルブ、
ジプロピルエーテル、テトラヒドロフラン等）、脂肪族
炭化水素類（例えばケロシン、鉱油等）、芳香族炭化水
素類（例えばベンゼン、トルエン、キシレン、ソルベン
トナフサ、アルキルナフタレン等）、ハロゲン化炭化水
素類（例えばジクロロエタン、クロロホルム、四塩化炭
素等）、エステル類（例えば酢酸エチル、ジイソプピル
フタレート、ジブチルフタレート、ジオクチルフタレー
ト等）、アミド類（例えばジメチルホルムアミド、ジエ
チルホルムアミド、ジメチルアセトアミド等）、ニトリ
ル類（例えばアセトニトリル等）、ジメチルスルホキシ
ド類等を挙げることができる。
【００７１】他の補助剤としては次に例示する代表的な
補助剤をあげることができ、これらの補助剤は目的に応
じて使用され、単独で、ある場合は二種以上の補助剤を
併用し、又ある場合には全く補助剤を使用しないことも
可能である。有効成分化合物の乳化、分散、可溶化及び
／又は湿潤の目的のために界面活性剤が使用され、例え
ばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエ
チレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレン
高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステ
ル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポ
リオキシエチレンソルビタンモノオレエート、アルキル
アリールスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸縮合物、
リグニンスルホン酸塩、高級アルコール硫酸エステル等
の界面活性剤を例示することができる。
補助剤をあげることができ、これらの補助剤は目的に応
じて使用され、単独で、ある場合は二種以上の補助剤を
併用し、又ある場合には全く補助剤を使用しないことも
可能である。有効成分化合物の乳化、分散、可溶化及び
／又は湿潤の目的のために界面活性剤が使用され、例え
ばポリオキシエチレンアルキルエーテル、ポリオキシエ
チレンアルキルアリールエーテル、ポリオキシエチレン
高級脂肪酸エステル、ポリオキシエチレン樹脂酸エステ
ル、ポリオキシエチレンソルビタンモノラウレート、ポ
リオキシエチレンソルビタンモノオレエート、アルキル
アリールスルホン酸塩、ナフタレンスルホン酸縮合物、
リグニンスルホン酸塩、高級アルコール硫酸エステル等
の界面活性剤を例示することができる。
【００７２】又、有効成分化合物の分散安定化、粘着及
び／又は結合の目的のために、次に例示する補助剤を使
用することもでき、例えばカゼイン、ゼラチン、澱粉、
メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アラ
ビアゴム、ポリビニルアルコール、松根油、糠油、ベン
トナイト、リグニンスルホン酸塩等の補助剤を使用する
こともできる。固体製品の流動性改良のために次に挙げ
る補助剤を使用することもでき、例えばワックス、ステ
アリン酸塩、燐酸アルキルエステル等の補助剤を使用で
きる。懸濁性製品の解こう剤として、例えばナフタレン
スルホン酸縮合物、縮合燐酸塩等の補助剤を使用するこ
ともできる。消泡剤としては、例えばシリコーン油等の
補助剤を使用することもできる。
び／又は結合の目的のために、次に例示する補助剤を使
用することもでき、例えばカゼイン、ゼラチン、澱粉、
メチルセルロース、カルボキシメチルセルロース、アラ
ビアゴム、ポリビニルアルコール、松根油、糠油、ベン
トナイト、リグニンスルホン酸塩等の補助剤を使用する
こともできる。固体製品の流動性改良のために次に挙げ
る補助剤を使用することもでき、例えばワックス、ステ
アリン酸塩、燐酸アルキルエステル等の補助剤を使用で
きる。懸濁性製品の解こう剤として、例えばナフタレン
スルホン酸縮合物、縮合燐酸塩等の補助剤を使用するこ
ともできる。消泡剤としては、例えばシリコーン油等の
補助剤を使用することもできる。
【００７３】有効成分化合物の配合割合は必要に応じて
加減することができ、例えば粉剤或いは粒剤とする場合
は０．０１〜５０重量％、又乳剤或いは水和剤とする場
合も同様０．０１〜５０重量％が適当である。本発明の
一般式(I) で表される２−ピラゾリン−５−オン誘導体
を有効成分として含有する除草剤は各種雑草を枯殺し若
しくは生育を抑制するためにそのまま、又は水等で適宜
希釈し、若しくは懸濁させた形で殺草若しくは生育抑制
に有効な量を当該雑草に、又は当該雑草の発生若しくは
成育が好ましくない場所において茎葉又は土壌に適用し
て使用すればよい。
加減することができ、例えば粉剤或いは粒剤とする場合
は０．０１〜５０重量％、又乳剤或いは水和剤とする場
合も同様０．０１〜５０重量％が適当である。本発明の
一般式(I) で表される２−ピラゾリン−５−オン誘導体
を有効成分として含有する除草剤は各種雑草を枯殺し若
しくは生育を抑制するためにそのまま、又は水等で適宜
希釈し、若しくは懸濁させた形で殺草若しくは生育抑制
に有効な量を当該雑草に、又は当該雑草の発生若しくは
成育が好ましくない場所において茎葉又は土壌に適用し
て使用すればよい。
【００７４】本発明の一般式(I) で表される２−ピラゾ
リン−５−オン誘導体を有効成分として含有する除草剤
の使用量は種々の因子、例えば目的、対象雑草、作物の
生育状況、雑草の発生傾向、天候、環境条件、剤型、施
用方法、施用場所、施用時期等により変動するが、有効
成分化合物として１ヘクタール当たり０．１ｇ〜１０ｋ
ｇの範囲から目的に応じて適宜選択すれば良い。本発明
の一般式(I) で表される２−ピラゾリン−５−オン誘導
体を有効成分として含有する除草剤を更に防除対象雑
草、防除適期の拡大のため、或いは薬量の低減をはかる
目的で他の除草剤と混合して使用することも可能であ
る。以下に本発明の代表的な製剤例及び試験例を示す
が、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、製
剤例中、部とあるのは重量部を示す。
リン−５−オン誘導体を有効成分として含有する除草剤
の使用量は種々の因子、例えば目的、対象雑草、作物の
生育状況、雑草の発生傾向、天候、環境条件、剤型、施
用方法、施用場所、施用時期等により変動するが、有効
成分化合物として１ヘクタール当たり０．１ｇ〜１０ｋ
ｇの範囲から目的に応じて適宜選択すれば良い。本発明
の一般式(I) で表される２−ピラゾリン−５−オン誘導
体を有効成分として含有する除草剤を更に防除対象雑
草、防除適期の拡大のため、或いは薬量の低減をはかる
目的で他の除草剤と混合して使用することも可能であ
る。以下に本発明の代表的な製剤例及び試験例を示す
が、本発明はこれらに限定されるものではない。尚、製
剤例中、部とあるのは重量部を示す。
【００７５】製剤例１． 本発明化合物 ５０部 キシレン ４０部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルと アルキルベンゼンスルホン酸カルシウムとの混合物 １０部 以上を均一に混合溶解して乳剤とする。 製剤例２． 本発明化合物 ３部 クレー粉末 ８２部 珪藻土粉末 １５部 以上を均一に混合粉砕して粉剤とする。
【００７６】製剤例３． 本発明化合物 ５部 ベントナイトとクレーの混合粉末 ９０部 リグニンスルホン酸カルシウム ５部 以上を均一に混合し、適量の水を加えて混練し、造粒、
乾燥して粒剤とする。製剤例４． 本発明化合物 ２０部 カオリンと合成高分散珪酸 ７５部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルとアル キルベンゼンスルホン酸カルシウムとの混合物 ５部 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
乾燥して粒剤とする。製剤例４． 本発明化合物 ２０部 カオリンと合成高分散珪酸 ７５部 ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテルとアル キルベンゼンスルホン酸カルシウムとの混合物 ５部 以上を均一に混合粉砕して水和剤とする。
【００７７】試験例１ 出芽前の水田雑草に対する除草
効果試験 １万分の１アールポットに土壌を詰めて水田状態にし、
水田雑草であるイヌビエ、ホタルイの種子を出芽前の状
態に調整した。これに本発明化合物（第１表に記載の化
合物）を有効成分とする薬剤を所定薬量の薬液として処
理をした。処理２１日後に除草効果を調査し、無処理と
比較して除草率を算出し、下記の基準に従って判定を行
った。又、同時にイネに対する薬害の調査も行い、下記
基準で判定した。
効果試験 １万分の１アールポットに土壌を詰めて水田状態にし、
水田雑草であるイヌビエ、ホタルイの種子を出芽前の状
態に調整した。これに本発明化合物（第１表に記載の化
合物）を有効成分とする薬剤を所定薬量の薬液として処
理をした。処理２１日後に除草効果を調査し、無処理と
比較して除草率を算出し、下記の基準に従って判定を行
った。又、同時にイネに対する薬害の調査も行い、下記
基準で判定した。
【００７８】除草活性の判定基準。 ５・・・１００％の殺草率。 ４・・・９０％〜９９％の殺草率。 ３・・・７０％〜８９％の殺草率。 ２・・・４０％〜６９％の殺草率。 １・・・１％〜３９の殺草率。 ０・・・０％の殺草率。 薬害の判定基準。 ５・・・１００％の殺草率。 ４・・・９０％〜９９％の殺草率。 ３・・・７０％〜８９％の殺草率。 ２・・・４０％〜６９％の殺草率。 １・・・２１％〜３９％の殺草率。 ０・・・０％〜２０％の殺草率（薬害無し）。 結果を第６表に示す。
【００７９】
【表３１】
【００８０】
【表３２】
【００８１】
【表３３】
【００８２】
【表３４】
【００８３】
【表３５】
【００８４】
【表３６】
【００８５】
【表３７】
【００８６】
【表３８】
【００８７】
【表３９】
【００８８】
【表４０】
【００８９】
【表４１】
【００９０】
【表４２】
【００９１】
【表４３】
【００９２】試験例２ 出芽後の水田雑草に対する除草
効果試験 １万分の１アールポットに土壌を詰めて水田状態にし、
水田雑草であるイヌビエ、ホタルイ及びコナギの種子を
一葉期になるように調整した。これに本発明化合物（表
１に記載の化合物）を有効成分とする薬剤の所定薬量の
薬液を処理をした。処理２１日後に除草効果を調査し、
無処理と比較して除草率を算出し、試験例１の基準に従
って判定を行った。又、同時にイネに対する薬害の調査
も行い、実施例１と同じ基準で判定し、結果を第７表に
示す。
効果試験 １万分の１アールポットに土壌を詰めて水田状態にし、
水田雑草であるイヌビエ、ホタルイ及びコナギの種子を
一葉期になるように調整した。これに本発明化合物（表
１に記載の化合物）を有効成分とする薬剤の所定薬量の
薬液を処理をした。処理２１日後に除草効果を調査し、
無処理と比較して除草率を算出し、試験例１の基準に従
って判定を行った。又、同時にイネに対する薬害の調査
も行い、実施例１と同じ基準で判定し、結果を第７表に
示す。
【００９３】
【表４４】
【００９４】
【表４５】
【００９５】
【表４６】
【００９６】
【表４７】
【００９７】
【表４８】
【００９８】
【表４９】
【００９９】
【表５０】
【０１００】
【表５１】
【０１０１】
【表５２】
【０１０２】
【表５３】
【０１０３】
【表５４】
【０１０４】
【表５５】
【０１０５】
【表５６】
【０１０６】試験例３ 出芽前の畑地雑草に対する除草
効果 縦１０ｃｍ×横２０ｃｍ×高さ５ｃｍのポリエチレン製
バットに土壌を詰め、これに畑地雑草であるスズメノテ
ッポウ（Ａｍ）、イヌビエ（Ｅｃ）、オオイヌノフグリ
（Ｖｐ）及び畑地作物としてコムギ及びダイズの種子を
播種覆土した。これに本発明化合物（表１に記載の化合
物）を有効成分とする薬剤を所定濃度の散布液として処
理した。処理１４日後に除草効果を調査し、試験例１と
同様にして殺草率を算出し、判定を行った。同時にダイ
ズ及びコムギに対する薬害を調査して、試験例１に準じ
て判定を行った。結果を第８表に示す。
効果 縦１０ｃｍ×横２０ｃｍ×高さ５ｃｍのポリエチレン製
バットに土壌を詰め、これに畑地雑草であるスズメノテ
ッポウ（Ａｍ）、イヌビエ（Ｅｃ）、オオイヌノフグリ
（Ｖｐ）及び畑地作物としてコムギ及びダイズの種子を
播種覆土した。これに本発明化合物（表１に記載の化合
物）を有効成分とする薬剤を所定濃度の散布液として処
理した。処理１４日後に除草効果を調査し、試験例１と
同様にして殺草率を算出し、判定を行った。同時にダイ
ズ及びコムギに対する薬害を調査して、試験例１に準じ
て判定を行った。結果を第８表に示す。
【０１０７】
【表５７】
【０１０８】
【表５８】
【０１０９】
【表５９】
【０１１０】
【表６０】
フロントページの続き (51)Int.Cl.6 識別記号 庁内整理番号 ＦＩ 技術表示箇所 Ｃ０７Ｄ 231:22 303:02） (Ｃ０７Ｄ 405/14 213:16 231:22 303:02） (Ｃ０７Ｄ 405/14 213:64 231:22 303:02） (Ｃ０７Ｄ 405/14 231:22 239:24） (Ｃ０７Ｄ 405/14 231:22 319:06 303:02）
Claims (3)
- 【請求項１】 一般式(I) 【化１】 〔式中、R は(C1-8)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル
基、(C2-6)アルケニル基、(C2-6)アルキニル基、(C1-6)
アルコキシ(C1-6)アルキル基、フェニル基、同一若しく
は異なっても良く、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ
基、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C1-6)
アルコキシ基、ハロ(C1-6)アルコキシ基、(C1-6)アルキ
ルチオ基、ハロ(C1-6)アルキルチオ基、ピリジル基又は
同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル
基、(C1-6)アルコキシ基、ハロ(C1-6)アルコキシ基、(C
1-6)アルキルチオ基又はハロ(C1-6)アルキルチオ基から
選択される１〜４個の置換基を有するピリジル基、ピリ
ジルオキシ基、同一又は異なっても良く、ハロゲン原
子、(C1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキルから選択
される１〜４個の置換基を有するピリジルオキシ基から
選択される１〜５個の置換基を有するフェニル基、フェ
ニル(C1-6)アルキル基、フェノキシ(C1-6)アルキル基、
ナフチル基、ピリジル基、ピリミジル基、同一又は異な
っても良く、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル
基、(C1-6)アルコキシ基又はハロ(C1-6)アルコキシ基か
ら選択される１〜３個の置換基を有するピリミジル基又
は１，３−ジオキサン−２−イル(C1-6)アルキル基を示
し、R1及びR2は同一又は異なっても良く、水素原子、(C
1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C1-6)アルコ
キシ基、(C1-6)アルキルチオ(C1-6)アルキル基、(C2-6)
アルケニル基、(C2-6)アルキニル基、(C1-6)アルコキシ
カルボニル(C1-6)アルキル基、又はフェニル(C1-6)アル
キル基を示し、R1及びR2は(C 3-6)アルキレン基で結合す
ることもできる。X は同一又は異なっても良く、ハロゲ
ン原子、ニトロ基、シアノ基、(C1-6)アルキル基、ハロ
(C1-6)アルキル基、(C1-6)アルコキシ基、ハロ(C1-6)ア
ルコキシ基、(C1-6)アルキルチオ基、アルキルスルフィ
ニル基、ハロ(C1-6)アルキルチオ基、シアノ(C1-6)アル
コキシ基、(C2-6)アルケニル基、(C2-6)アルキニル基、
(C2-6)アルケニルオキシ基、(C2-6)アルキニルオキシ
基、アミノ基、同一又は異なっても良くアルキル基、ハ
ロアルキル基, アルキルカルボニル基、ハロアルキルカ
ルボニル基、フェニルカルボニル基又は同一若しくは異
なっても良い１〜５個のハロゲン原子により置換された
フェニルカルボニル基から選択される１〜２個の置換基
を有するアミノ基、アミノカルボニル基、同一又は異な
っても良いモノ又はジ(C1-6)アルキルアミノカルボニル
基、(C1-6)アルコキシイミノ(C1-6)アルコキシ基、(C
1-6)アルキルカルボニルオキシ基、(C1-6)アルコキシカ
ルボニル基、(C1-6)アルコキシカルボニルオキシ基、(C
1-6)アルコキシカルボニル(C1-6)アルコキシ基、フェニ
ル基、フェノキシ基、同一又は異なっても良く、ハロゲ
ン原子、(C1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキル基か
ら選択される１〜５個の置換基を有するフェノキシ基、
フェニルチオ基、フェニル(C1-6)アルキルオキシ基、フ
ェニル(C2-6)アルキニル基、同一又は異なっても良く，
ハロゲン原子、(C1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキ
ル基から選択される１〜５個の置換基を環上に有するフ
ェニル(C2-6)アルキニル基、、ピリジルオキシ基、同一
又は異なっても良く，ハロゲン原子、(C1-6)アルキル基
又はハロ(C1-6)アルキル基から選択される１〜４個の置
換基を有するピリジルオキシ基、フタルイミドイル基又
は隣り合った炭素原子と結合した(C2-4)アルキレン基を
示し、n は０〜５の整数を示す。〕で表される２−ピラ
ゾリン−５−オン誘導体。 - 【請求項２】 一般式(II) 【化２】 〔式中、R'は水素原子、(C1-8)アルキル基、ハロ(C1-6)
アルキル基、(C2-6)アルケニル基、(C2-6)アルキニル
基、(C1-6)アルコキシ(C1-6)アルキル基、フェニル基、
同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原子、ニトロ
基、シアノ基、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル
基、(C1-6)アルコキシ基、ハロ(C1-6)アルコキシ基、(C
1-6)アルキルチオ基、ハロ(C1-6)アルキルチオ基、ピリ
ジル基又は同一若しくは異なっても良く、ハロゲン原
子、ニトロ基、シアノ基、(C1-6)アルキル基、ハロ(C
1-6)アルキル基、(C1-6)アルコキシ基、ハロ(C1-6)アル
コキシ基、(C1-6)アルキルチオ基又はハロ(C1-6)アルキ
ルチオ基から選択される１〜４個の置換基を有するピリ
ジル基、ピリジルオキシ基、同一又は異なっても良く、
ハロゲン原子、(C1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキ
ルから選択される１〜４個の置換基を有するピリジルオ
キシ基から選択される１〜５個の置換基を有するフェニ
ル基、フェニル(C1-6)アルキル基、フェノキシ(C1-6)ア
ルキル基、ナフチル基、ピリジル基、ピリミジル基、同
一又は異なっても良く、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)
アルキル基、(C1-6)アルコキシ基又はハロ(C1-6)アルコ
キシ基から選択される１〜３個の置換基を有するピリミ
ジル基又は１，３−ジオキサン−２−イル(C1-6)アルキ
ル基を示し、R1及びR2は同一又は異なっても良く、水素
原子、(C1-6)アルキル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C
1-6)アルコキシ基、(C1-6)アルキルチオ(C1-6)アルキル
基、(C2-6)アルケニル基、(C2-6)アルキニル基、(C1-6)
アルコキシカルボニル(C1-6)アルキル基、又はフェニル
(C1-6)アルキル基を示し、R1及びR2は(C3-6)アルキレン
基で結合することもできる。X は同一又は異なっても良
く、ハロゲン原子、ニトロ基、シアノ基、(C1-6)アルキ
ル基、ハロ(C1-6)アルキル基、(C1-6)アルコキシ基、ハ
ロ(C1-6)アルコキシ基、(C1-6)アルキルチオ基、アルキ
ルスルフィニル基、ハロ(C1-6)アルキルチオ基、シアノ
(C1-6)アルコキシ基、(C2-6)アルケニル基、(C2-6)アル
キニル基、(C2-6)アルケニルオキシ基、(C2-6)アルキニ
ルオキシ基、アミノ基、同一又は異なっても良くアルキ
ル基、ハロアルキル基, アルキルカルボニル基、ハロア
ルキルカルボニル基、フェニルカルボニル基又は同一若
しくは異なっても良い１〜５個のハロゲン原子により置
換されたフェニルカルボニル基から選択される１〜２個
の置換基を有するアミノ基、アミノカルボニル基、同一
又は異なっても良いモノ又はジ(C1-6)アルキルアミノカ
ルボニル基、(C1-6)アルコキシイミノ(C1-6)アルコキシ
基、(C1-6)アルキルカルボニルオキシ基、(C1-6)アルコ
キシカルボニル基、(C1-6)アルコキシカルボニルオキシ
基、(C1-6)アルコキシカルボニル(C1-6)アルコキシ基、
フェニル基、フェノキシ基、同一又は異なっても良く、
ハロゲン原子、(C1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)アルキ
ル基から選択される１〜５個の置換基を有するフェノキ
シ基、フェニルチオ基、フェニル(C1-6)アルキルオキシ
基、フェニル(C2-6)アルキニル基、同一又は異なっても
良く，ハロゲン原子、(C1-6)アルキル基又はハロ(C1-6)
アルキル基から選択される１〜５個の置換基を環上に有
するフェニル(C2-6)アルキニル基、、ピリジルオキシ
基、同一又は異なっても良く，ハロゲン原子、(C1-6)ア
ルキル基又はハロ(C1-6)アルキル基から選択される１〜
４個の置換基を有するピリジルオキシ基、フタルイミド
イル基又は隣り合った炭素原子と結合した(C2-4)アルキ
レン基を示し、n は０〜５の整数を示し、Z は酸素原子
又はエキソメチレン基を示す。〕で表される２−ピラゾ
リン−５−オン誘導体。 - 【請求項３】 請求項１記載の２−ピラゾリン−５−オ
ン誘導体を有効成分として含有することを特徴とする除
草剤。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4642795A JPH08217777A (ja) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | ２−ピラゾリン−５−オン誘導体及びその中間体並びに除草剤 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP4642795A JPH08217777A (ja) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | ２−ピラゾリン−５−オン誘導体及びその中間体並びに除草剤 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH08217777A true JPH08217777A (ja) | 1996-08-27 |
Family
ID=12746860
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP4642795A Pending JPH08217777A (ja) | 1995-02-10 | 1995-02-10 | ２−ピラゾリン−５−オン誘導体及びその中間体並びに除草剤 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH08217777A (ja) |
Cited By (12)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2006124874A2 (en) * | 2005-05-12 | 2006-11-23 | Kalypsys, Inc. | Inhibitors of b-raf kinase |
| JP2009541253A (ja) * | 2006-06-21 | 2009-11-26 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | アゾリルメチルオキシラン、植物病原菌類を防除するためのその使用、およびそれを含む組成物 |
| JP2009541430A (ja) * | 2006-07-05 | 2009-11-26 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | アゾリルメチルオキシラン、植物病原菌類を防除するためのその使用、およびそれを含む薬剤 |
| JP2009541250A (ja) * | 2006-06-23 | 2009-11-26 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | アゾリルメチルオキシラン、植物病原菌類を防除するためのその使用、およびそれを含む組成物 |
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| JP2009541263A (ja) * | 2006-06-23 | 2009-11-26 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | アゾリルメチルオキシラン、植物病原菌類を防除するためのその使用、およびそれを含む組成物 |
| JP2009544655A (ja) * | 2006-07-24 | 2009-12-17 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | アゾリルメチルオキシラン、植物病原菌類を防除するためのその使用、およびそれを含む薬剤 |
| JP2009544650A (ja) * | 2006-07-25 | 2009-12-17 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | アゾリルメチルオキシラン、植物病原菌類を防除するためのその使用、およびそれを含む薬剤 |
| JP2011506539A (ja) * | 2007-12-19 | 2011-03-03 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | アゾリルメチルオキシラン類、それらの使用及びそれらを含む組成物 |
| JP2011506543A (ja) * | 2007-12-19 | 2011-03-03 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | アゾリルメチルオキシラン、その使用及びそれを含む薬剤 |
| JP2011507815A (ja) * | 2007-12-19 | 2011-03-10 | ビーエーエスエフ ソシエタス・ヨーロピア | アゾリルメチルオキシラン類、それらの使用およびそれらを含む組成物 |
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-
1995
- 1995-02-10 JP JP4642795A patent/JPH08217777A/ja active Pending
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