JPH0375227B2 - - Google Patents

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は、被塗布支持体を浮かせて塗布する装
置に関する。更に詳しくは、写真感光材料等の被
塗布支持体の塗布面とは反対側の面を無接触支持
させながら連続状に走行させて１種または２種以
上の塗布液を塗布する装置に関し、とくに連続的
な両面塗布を行なうのに適切な塗布装置に関す
る。

従来、被塗布支持体の両面に塗布層を有する写
真感光材料の製造においては、該支持体の片面に
塗布液を塗布し、ゲル化して乾燥させた後、同じ
工程をもう一度通過させてもう一方の面に塗布液
を塗布・ゲル化・乾燥させていたが、生産効率を
上げる要請から塗布・乾燥工程を１度通過させる
だけで支持体の両面に塗布層を形成する両面塗布
法が種々提案されている。その中の１つに、先ず
被塗布支持体の片面に塗布し、ゲル化した後、反
対面に連続して塗布する方法がある。この方法に
は(i)特公昭48−44171号公報に記載の如く、被塗
布支持体の片面に塗布し、ゲル化した後、ゲル化
した面を支持ロールに直接接触させて反対面に塗
布する方法、あるいは(ii)特公昭49−17853号、特
公昭51−38737号の各公報に記載の如く、ある曲
率をもつた支持ロール面から気体を噴出して、被
塗布支持体を浮上させ、反対面に塗布する方法等
がある。前記(i)の如き方法では、支持ロールに少
しでも傷・塵埃があるとそのまま塗布故障とな
り、メンテナンスが非常に困難であること、たと
え傷・塵埃がないとしても塗布の開始部分、スプ
ライス部分等の塗布膜厚に変動のある箇所が支持
ロールに接触して通過する時には塗布層を乱し、
ロールにその一部分が付着して後に続く塗布層を
乱す等の欠点を有している。又、前記(ii)の方法に
おいては、被塗布支持体の張力変動などによる該
被塗布支持体の浮上距離（浮き量）の微少変動に
より、横段状の塗布ムラを発生し易い欠点があ
る。特に、特公昭49−17853号公報に記載の技術
の如く、小孔もしくはスリツトを有するロール曲
面から気体を噴出させて被塗布支持体を浮上さ
せ、塗布機先端を支持体面に押付けて塗布する方
法においては、支持体端部でその傾向が著しく、
また、特公昭51−38737号公報に記載の技術の如
く、被塗布支持体の両端縁を支承するロールを設
けて浮上させ塗布する装置においては、被塗布支
持体中央付近で、その傾向が著しい。

一方、前記(ii)の如き方法を実施する装置におい
ては、無接触支持部における支持体の巾方向（又
は横方向）の動きに対する抵抗は、通常、噴出さ
せる気体（主に空気）の粘性が非常に小さいた
め、ほとんど無視し得る程小さく、支持体は走行
方向に対し左右どちらかに偏つて搬送されたり、
あるいは左右に蛇行し易く、塗布された塗布層が
支持体面でうねり状になつて不均一な塗布層とな
り、あるいは支持体端部からはみ出たりして、収
率を低下させる等の欠点があつた。

この様な無接触支持部での支持体の偏りまたは
蛇行を解決する手段として、特公昭49−44108号
および特公昭50−19130号の各公報に記載の如く、
気体噴出孔を有するロール曲面の両端に、該曲面
の曲率半径より若干大きい鍔付きロールを設け
て、走行する支持体の両端部を該鍔付きロールに
接触させて支持しながら搬送する装置が提案され
ている。しかしながらこれらの装置においても、
支持体の厚みが薄い場合には、鍔付きロール部分
にしわ状になつて搬送されたり、あるいは支持体
の肉厚が厚い場合でも、支持体端部が鍔の上に乗
り上げたり、支持体中央部で浮上距離が変化して
凹凸が発生し、均一な塗布ができない等の欠点を
有している。

そこで、本発明の第１の目的は、上述の如き欠
点を解消し、被塗布支持体の浮上距離（浮き量）
の変動を抑えて支持ロールに無接触支持させ、反
対面に均一に塗布する装置を提供すると共に、そ
れによつて被塗布支持体の両面に連続して塗布す
ることができる塗布装置を提供するにある。

本発明の第２の目的は、無接触支持部における
支持体の偏り、あるいは蛇行を抑えて、その巾手
方向の走行位置を規制し、更に、無接触支持によ
る支持体の振動をも抑えて安定に搬送することが
できる塗布装置を提供するにある。

本発明のその他の目的は、本明細書の以下の記
述によつて明らかにされる。

本発明の上記目的は、一端がロールの中空部に
連通し、他端がロールの表面に開口している複数
の円筒状の気体噴出孔をほぼ一様に設けることに
より前記ロール表面に形成された無接触支持部に
対して、塗布されるべき面とは反対側のゲル化し
た塗布層を有する面を向けて支持体を無接触支持
させ、かつ、前記ロール表面の無接触支持部をか
こむように進行方向を転換させて連続状に走行さ
せながら、１種または２種以上の塗布液をスライ
ドホツパー塗布手段により塗布する構成の塗布装
置において、前記無接触支持部における前記ロー
ル曲面の曲率半径を30〜200mmとし、前記支持体
が接線方向に進入してくる前記ロール表面の円周
方向の位置から、進行方向を転換して、ロール表
面から離れる該ロール表面の円周方向の位置まで
のロール表面に形成された無接触支持部の面積に
対する前記気体噴出孔の総面積の比率を0.1％以
下とし、かつ、前記気体噴出孔の長さに対する該
気体噴出孔の直径の比を各0.1以下となるように
構成するとともに、前記支持体の移動方向からみ
て、前記無接触支持部に対する進入口近傍に、前
記支持体の塗布されるべき面と接触する可回転の
有接触支持ロールを設け、かつ、前記無接触支持
部を形成している部分の前記ロール表面と、該ロ
ール表面に近接する前記有接触支持ロールの表面
との最短距離が100mm以内となるように構成した
ことを特徴とする塗布装置によつて達成される。

次に本発明の代表的実施態様を示す図面に基い
て本発明を具体的に説明する。

第１図は本発明に係る塗布装置の一実施例を示
す縦断面図であり、塗布方法としてスライドホツ
パーによる二層塗布方式を採用し、連続的に支持
体の両面に塗布する場合を示している。第２図は
本発明の要部を示す縦断面図である。第３図は支
持体の引張張力と無接触支持部における支持体の
浮き量との関係を示すグラフであつて、Ａ曲線が
従来装置による場合、Ｂ曲線が本発明装置による
場合を示す。第３図のグラフにおいて、通常使用
される張力範囲での曲線の接線がなるべく水平に
近づくことが望ましい。そのためには、第３図に
おいて明らかな様に、張力を上げ、浮き量を小さ
くするほどよいわけだが、支持体の強度、搬送系
の問題、無接触支持部での接触の危険性等からい
ずれも、かなり限定されてしまう。よつて、技術
課題とすべきことは、曲線の型をＡ曲線よりもＢ
曲線の型に基づく条件設定をすることである。こ
れを実現する手段は、前述した様に、支持体張力
の変動、すなわち支持静圧の変動があつても、常
にほとんど不変の気体噴出量の得られる様な気体
噴出器を用いることである。理想的な方法は、支
持体張力の変動に応じて供給圧を変化させ、一定
の浮き量に保てる様な気体噴出量を常に与えるこ
とであるが、突発的な支持体張力の変動に即座に
対応して供給圧を変化させることは非常に困難で
あり、実際にはこれを行つても、供給圧、噴出量
とも変化する際に応答の遅れがでて、かえつて浮
き量の不安定さを増してしまうことになる。第４
図および第５図はそれぞれ本発明の他の実施例を
示す縦断面図である。

各図において、被塗布支持体２は、先ず支持ロ
ール３に直接接触して塗布機１にて従来公知の方
法で塗布される。塗布された塗布層４をゲル化さ
せるため、該支持体２は冷風ゾーン８を通過す
る。該冷風ゾーン８ではスリツト板もしくは小孔
群７により塗布面４に冷風を当て、更に冷却効率
を上げるため、支持体２の塗布されていない面側
に２〜３mmの間隔を置いて且つ中空ボツクス５に
設置されたロール群６を接触させ、その反対側か
らサクシヨンして搬送ロール即ち有接触支持ロー
ル６との接触面積を増大させ、塗布層４を冷却ゲ
ル化することが望ましい。続いてゲル化された塗
布層４を有する支持体２は、無接触支持ロール
３′に最も近い有接触支持ロール６′を介して、本
発明に係る塗布装置の支持ロール３′の無接触支
持部にてその反対面に塗布層１１が塗布機１′よ
り塗布される。この無接触支持部（被塗布支持体
が接線方向に進入してくるロール表面の円周方向
の位置から、進行方向を転換して前記ロール表面
から離れる円周方向の位置までのロール表面部）
においては、表面にほぼ一様に形成された複数個
の気体噴出孔１０を有するロール曲面９から、ゲ
ル化された塗布層４の面に気体を噴出して被塗布
支持体２を無接触の状態で支持するものである
が、写真感光材料の製造においては、塗布された
層の湿潤状態又は乾燥後の膜厚は通常１％以下の
変動に抑える必要があり、そのためには塗布機
１′の先端部と被塗布支持体２の塗布されるべき
面との間隙をできるだけ一定に保つ必要がある。
この間隙の許容されるべき変動幅は、種々検討を
重ねた結果、数μ以下、最大でも10μ以下に抑え
る必要のあることがわかつた。本発明によれば、
無接触支持部におけるロール曲面９の曲率半径を
30〜200mmとし、噴出孔１０の開孔率を0.1％以下
とし、且つ第２図に示す如く、該噴出孔１０の直
径ｄ（噴出孔１０が同一直径に形成されない場合
は、ロール曲面の表面における直径をいう。以
下、同じ。）と該曲面の外表面から内表面までの
厚さｌの比ｄ／ｌを0.1以下になる様にして気体
を噴出させ被塗布支持体２を無接触支持すること
により、各気体噴出孔１０における気体噴出量の
変動をなくし、被塗布支持体２の浮量変動を上記
許容幅に抑えることができる。その理由は以下の
通りである。

被塗布支持体２の変動を引起す主な原因は塗布
層１１を塗設されたのち該支持体２が支持ロール
曲面９による無接触支持部を通過するとフリーの
状態になり、一時期は全く支持されない状態とな
ることにより、支持体２が走行方向に直角な方向
へ振れること、あるいは搬送系そのものに起因す
る支持体２の張力変動である。そこで、支持体２
に加える張力の値を種々変化させた時の曲面９の
表面と、ゲル化された塗布層４の表面までの距
離、即ち浮き量との関係をグラフ化すると第３図
の如くなる。第３図のＡ曲線は開孔率１％、曲面
９の曲率半径100mm、ｄ＝２mm、ｌ＝５mm、気体
の供給圧＝500mmAqとした場合のもので、例えば
張力を0.1Kg／cmにした場合、張力変動がその10
％であるとすると、浮き量の変動は数十ミクロン
にも及び、この場合には横段状の塗布ムラを生じ
る。一方、第３図のＡ曲線の条件で開孔率を小さ
くする、あるいは孔径ｄを小さくして深さｌを長
くして本発明による条件にすると第３図のＢ曲線
に示す様なグラフとなる。このＢ曲線は開孔率を
0.05％、ｄ＝0.4mm、ｌ＝７mm（ｄ／ｌ＝0.057）
とし、供給圧＝1000mmAqとした場合のもので、
張力を同じく0.1Kg／cmにとり、その変動を10％
とすると、浮き量の変動は数ミクロン〜10ミクロ
ンの範囲である。即ち、浮き量の変動を抑えるに
は第３図のグラフで、通常使用する張力の各点に
おける曲線の傾きの絶対値が小さくなることが必
要であり、そのためには開孔率を小さくし、孔径
ｄを小さく且つ深さｌを大きくとり、それによつ
て噴出孔から噴出する気体の量が減るため、気体
供給圧を大きくする必要のあることが判明した。
実験により種々検討した結果、写真感光材料の製
造の様に、非常に均一な膜厚分布を必要とする場
合には、上述の如く開孔率を0.1％以下、噴出孔
直径ｄと厚さｌとの比ｄ／ｌを0.1以下となる条
件で気体を噴出させ、無接触支持することによ
り、浮き量変動は許容幅に抑えることができるこ
とが判明した。

本発明の無接触支持部における気体噴出孔１０
は、支持ロールの中空部１２から高圧気体を供給
されるが、該中空部１２の気体の供給圧は0.05〜
１Kg／cm²の範囲が望ましい。0.05Kg／cm²未満にす
ると、曲面９の外表面とゲル化された塗布層４の
表面までの浮上距離（浮き上り量）が小さくな
り、両者が接触して塗布層４を乱す恐れがあり、
更に１Kg／cm²を越えると、噴出孔１０より流出す
る気体の流量が増加して上記浮上距離が大きくな
り、被塗布支持体２の変動（又は振動）が急激に
増大して塗布層１１に横段状の塗布故障が発生す
ることがある。又開孔率及びｄ／ｌの値を前記数
値範囲外にとる気体噴出孔１０からの気体の流出
抵抗が減少することにより、流出流量が増減して
同様に浮上距離が大きくなり、被塗布支持体の浮
き量変動が許容幅を越えてしまう。また本発明に
おける曲面９の外表面の曲率は30〜200mmの範囲
である。30mm未満になると被塗布支持体２は一定
張力の下で搬送されているが、一定張力の下でも
無接触支持するために必要な曲面９の外表面と塗
布層４との間の圧力は増加していくため、この圧
力によりゲル化した塗布層４が乱され易くなる。
又、200mmを越えると張力変動に対する浮き量変
化が第３図に示すＡ曲線の如く大きくなり、無接
触支持部における支持体２の振動が大きくなつ
て、均一な塗布ができなくなる。

次に、前記無接触支持ロール３′に最近接の有
接触支持ロール６′について説明する。この支持
ロール６′を含む搬送ロール群６は、一方の面に
排気口５′をもつ中空ボツクス５の他の面に配置
され、該ボツクス５の中空部は大気圧に対し−50
〜200mm水柱の負圧となる様に排気口５′からブロ
ワー等（図示せず）の手段により吸引され、支持
体２を支持ロール群６の表面の一部に密着させる
ものであり、支持ロール群６は支持体２の走行に
つれ同一周速でフリーに回転する、いわゆる真空
コロ装置と呼ばれているものである。本発明では
無接触支持部へ支持体２が進入してくる直前のロ
ール６′、即ち支持ロール群６の支持体走行方向
に対して出側のロール６′の位置を、前記無接触
支持部における進入口の無接触支持ロール３′の
表面と、支持体２が離れる直前における有接触ロ
ール６′の表面との距離、換言すれば、前記無接
触支持ロール３′の前記無接触支持部を形成して
いるロール表面と、前記有接触ロール６′の表面
との最短距離が100mm以内となるように規制する
ものである。支持ロール６′をこの様な位置に置
くことにより、支持体２が支持ロール６′を出て
無接触支持部に入るまでの支持体２の自由スパン
長を非常に短かく、あるいはほぼ零にすることが
でき、かつ支持体２は支持ロール６′によるサク
シヨンと相まつて有接触で規制されているため、
無接触支持部での支持体２の偏りあるいは蛇行が
防止される。

本発明の他の実施例においては、第４図に示す
如く、無接触支持部へ進入してくる直前の支持ロ
ール６′は１個であつてもよい。この場合、支持
ロール６′での支持体２の接触面積（即ち、抱き
角もしくはラツプ角）はできるだけ大きくとるこ
とが望ましい。その際、支持体２の引き回し上、
第５図に示す如く支持ロール６′の手前に適当な
曲率をもち且つ表面に複数個の気体噴出孔１３を
もつリバーサー１４を設けて、気体（通常空気）
をゲル化した塗布面４に噴出して無接触支持し、
支持ロール６′での支持体２の抱き角を大きくと
ることが好ましい。

本発明における無接触支持に用いる気体として
は、N₂ガス、フレオンガス、空気等安全上問題
のないものであれば何でも良いが、最も一般的に
は空気であり、更にこの空気もゲル化した塗布層
４に衝突するため、再びゾル化しない様に予め０
〜10℃程度に冷却しておくことがが望ましい。無
接触支持部において反対面に塗布された被塗布支
持体２は、その後、図示しない冷風ゾーンにおい
て無接触の状態で両面に冷風を当てながら塗布層
１１をゲル化した後、図示しない無接触乾燥ゾー
ンへ搬送されていくが、本発明によれば、この無
接触でのゲル化する部分あるいは無接触乾燥ゾー
ンにおいて、被塗布支持体が走行方向に垂直な方
向に変動（又は振動）しても、無接触支持部にお
いて吸収されて伝播せず、均一な塗布が可能であ
ることがわかつた。尚、本発明で使用する被塗布
支持体としては、ポリエチレンテレフタレート、
三酢酸セルロース等のプラスチツクフイルム、ペ
ーパー等写真感光材料用支持体等を使用すること
ができる。又無接触支持部での曲面９の材質は特
に制約はなく中空部１２の内圧に耐え得るもので
あれば何でも良いが、表面にハードクロムメツキ
を施したステンレス鋼あるいは真ちゆう鋼が望ま
しく、穴あけ加工の容易さを考えるとベークライ
トあるいはアクリル樹脂等のプラスチツク材料も
用いることができる。

又本発明を実施するに当つては、無接触支持部
においてゲル化された塗布層４に気体が衝突し、
該塗布層４がこの気体の動圧により乱されない様
にするため、無接触支持部に進入する直前の該塗
布層の温度を２〜10℃、好ましくは２〜５℃にし
て塗布層４のゲル強度を上げておくことが望まし
い。

本発明によれば次のような効果がある。

(1) 被塗布支持体の片面に写真用感光液等の１種
以上の塗布液を塗布した後、該塗布層をゲル化
し、該ゲル化した塗布面を接触させることな
く、連続して反対面に塗布する塗布部におい
て、複雑な装置を用いることなく簡便な装置で
被塗布支持体を浮上させ、浮上距離の変動を抑
えて、塗布機先端部と塗布されるべき面との間
隙を正確に保ちながら、均一な塗布が可能とな
る。

(2) それによつて、塗布乾燥工程を１回通過させ
るだけで被塗布支持体の両面にほとんど同時に
塗布できるため、生産効率を飛躍的に増大させ
ることが可能である。

(3) 無接触支持部での支持体の走行の際の支持体
の巾方向の偏り、蛇行を防止できて製品の無用
な塗布ロスを防止できる。また、２種以上の塗
布液の塗布を行う場合は、塗布液を供給するた
めのホツパーの数（第１図の塗布機１′は２つ
のホツパーからなる）を増やすことにより達成
される。

以下に本発明の具体的実施例を挙げる。

実施例 １ 第１図に示す塗布装置において、幅1400mm（気
体噴出孔が存在する幅；1245mm）の支持ロール
３′の曲面９の曲率半径を100mm、無接触支持部に
ほぼ一様に形成される円筒状の気体噴出孔１０の
直径ｄを0.4mm、長さｌを15mm、開孔率を0.1％と
し、約７℃に冷却した空気を第２図に示す中空部
１２の圧力を0.2Kg／cm²として噴出させた。また
支持ロール３′の無接触支持部の支持体進入口位
置におけるロール３′表面と、ロール６′の支持体
離れ位置におけるロール６′表面との最短距離を
90mmとし、中空コロボツクス５内サクシヨン圧を
100mm水柱とした。そこで厚さ0.18mm、幅1235mm
のポリエチレンテレフタレートフイルムを第１図
に示すように毎分60mおよび毎分120mの速度で
搬送しながら、塗布機１にて、ゼラチンをバイン
ダーとしたレントゲン用のハロゲン化銀乳剤を下
層として湿潤時の厚さ60μとなるように、上層と
してて保護層用ゼラチン水溶液を湿潤時の厚さ
20μとなるように２層同時に塗布した。続けてス
リツト板７より約５℃の冷風を塗布面４に吹かせ
ながらゲル化した後、無接触支持部において上記
条件にて無接触搬送しながら、塗布機１′にて塗
布機１と同じ条件でレントゲン用乳剤、保護層用
ゼラチン水溶液を２層同時に塗布し、該塗布層１
１をゲル化した後、乾燥した。得られた塗布層１
１は、いずれの搬送速度においても横段状の塗布
故障がなく、均一な膜厚であつた。また塗布層４
も問題がなかつた。さらには無接触支持部におけ
る支持体２の偏りもなく、蛇行についても巾方向
で±１mmの範囲内に抑制された。

比較例 １ 実施例１において、他の条件は同一で両ロール
３，６表面間の距離を120mmとして両面に塗布し
乾燥して得られたものは横段状の塗布ムラの発生
はないが、無接触支持部での支持体の蛇行が±５
mmとなり、実用上の問題が残つた。

実施例 ２ 第１図に示す塗布装置において幅1400mm（気体
噴出孔が存在する幅；1245mm）の支持ロール３′
の曲面９の曲率半径を75mm、無接触支持部にほぼ
一様に形成される円筒状の気体噴出孔１０の直径
ｄを0.3mm、深さｌを10mm、開孔率を0.05％とし、
中空部１２の圧力を0.15Kg／cm²として、約７℃に
冷却した空気を噴出させた。また両ロール３′，
６′表面間の距離を10mmとし、中空コロボツクス
５内サクシヨン圧を110mm水柱とした。そこで厚
さ0.1mm、幅1235mmのポリエチレンテレフタレー
トフイルムを第１図に示す如く毎分80mの速度で
搬送しながら、塗布機１にて下層液として印刷感
材用ハレーシヨン防止用の色素を溶解させたゼラ
チン水溶液を湿潤時の厚さ65μとなる様に、上層
液として保護層用ゼラチン水溶液を25μになる様
に同時に塗布した。続けて冷風ゾーン８にてゲル
化した後、無接触支持部にて反対面に、下層とし
て印刷感材用ハロゲン化銀乳剤を60μの湿潤厚さ
となるように、上層として保護層用ゼラチン水溶
液を20μの湿潤時の厚さとなるように塗布し、該
塗布層をゲル化した後乾燥した。得られたものは
均一な塗布面をもつものであつたし、さらに無接
触支持部における支持体２の偏りもなく、蛇行に
ついても±0.5mmの範囲内に抑制された。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明に係る塗布装置の一実施例を示
す縦断面図であり、塗布方法としてスライドホツ
パーによる二層塗布方式を採用し、連続的に支持
体の両面に塗布する場合を示している。第２図は
本発明の要部を示す縦断面図である。第３図は支
持体の引張張力と無接触支持部における支持体の
浮き量との関係を示すグラフであつて、Ａ曲線が
従来装置による場合、Ｂ曲線が本発明装置による
場合を示す。第４図および第５図はそれぞれ本発
明の他の実施例を示す縦断面図である。 図中、１，１′は塗布機、２は支持体、３′は無
接触支持ロール、４，１１は塗布層、６′は有接
触支持ロール、９はロール曲面、１０は気体噴出
孔、ｌは噴出口の深さ、ｄはその直径を示す。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １ 一端がロールの中空部に連通し、他端がロー
   ルの表面に開口している複数の円筒状の気体噴出
   孔をほぼ一様に設けることにより前記ロール表面
   に形成された無接触支持部に対して、塗布される
   べき面とは反対側のゲル化した塗布層を有する面
   を向けて支持体を無接触支持させ、かつ、前記ロ
   ール表面の無接触支持部をかこむように進行方向
   を転換させて連続状に走行させながら、１種また
   は２種以上の塗布液をスライドホツパー塗布手段
   により塗布する構成の塗布装置において、 前記無接触支持部における前記ロール曲面の曲
   率半径を30〜200mmとし、 前記支持体が接線方向に進入してくる前記ロー
   ル表面の円周方向の位置から、進行方向を転換し
   て、ロール表面から離れる該ロール表面の円周方
   向の位置までのロール表面に形成された無接触支
   持部の面積に対する前記気体噴出孔の総面積の比
   率を0.1％以下とし、かつ、 前記気体噴出孔の長さに対する該気体噴出孔の
   直径の比を各0.1以下となるように構成するとと
   もに、 前記支持体の移動方向からみて、前記無接触支
   持部に対する進入口近傍に、前記支持体の塗布さ
   れるべき面と接触する可回転の有接触支持ロール
   を設け、かつ、 前記無接触支持部を形成している部分の前記ロ
   ール表面と、該ロール表面に近接する前記有接触
   支持ロールの表面との最短距離が100mm以内とな
   るように構成したことを特徴とする塗布装置。 ２ 前記支持体に対して前記有接触支持ロールの
   反対側の位置であつて、該支持体の移動方向から
   みて、前記有接触支持ロールの手前側の位置に、
   気体噴出孔を有するリバーサーを配置してなる特
   許請求の範囲第１項記載の塗布装置。