JPH0377973B2 - - Google Patents

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JPH0377973B2
JPH0377973B2 JP3641783A JP3641783A JPH0377973B2 JP H0377973 B2 JPH0377973 B2 JP H0377973B2 JP 3641783 A JP3641783 A JP 3641783A JP 3641783 A JP3641783 A JP 3641783A JP H0377973 B2 JPH0377973 B2 JP H0377973B2
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JP3641783A
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Takeshi Kishido
Kazuo Kato
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Konica Minolta Inc
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Konica Minolta Inc
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Publication date
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Publication of JPH0377973B2 publication Critical patent/JPH0377973B2/ja
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/007Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work

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  • Coating Apparatus (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は帯状可撓性支持体を無接触で支持して
塗布液を極めて均一な膜厚に塗布する装置に関す
る。
更に詳しくは、写真感光材料等の支持体の塗布
面とは反対側の面を無接触支持させながら連続状
に走行させて1種または2種以上の塗布液を塗布
する装置に関し、とくに連続的な両面塗布を行な
うのに適した塗布装置に関する。
〔従来技術〕
従来、支持体の両面塗布技術としては、種々の
手段、方法が知られている。例えば特公昭48−
44171号公報には、支持体の片面に塗布し、これ
をゲル化した後、ゲル化した面を直接支持ロール
に接触させて、反対面に連続して塗布する方法が
記載され、又、特公昭49−17853号公報には、小
孔もしくはスリツトを有するロール曲面から気体
を噴出して支持体を浮上させ、塗布機(コータ
ー)の先端を支持体に押しつけて、塗布する方法
が記載されている。両面塗布については特に言及
していない。さらに特公昭51−38737号公報には、
小孔を有するロール曲面から気体を噴出させ、支
持体を浮上させ、かつ支持体両端のみをロールに
よつて支持しながら塗布する装置が記載され、両
面塗布が可能であることが示唆されている。さら
に又、特開昭55−45410号公報には、支持体の片
面に塗布した後、その面の両端のみロールによつ
て支持しながら、未塗布面側から減圧して支持体
の振動を抑えて未塗布面側に塗布する方法が記載
されている。
しかし、上記従来技術では、次のような欠点が
ある。すなわち、特公昭48−44171号公報に記載
の技術では、ゲル化した面を支持する支持ロール
上にわずかな塵埃やキズがあつても、ゲル化した
塗布面は乱されてしまうし、ロール上に塗布層の
一部が付着残存しても同様であり、メインテナン
スが極めて困難であるという欠点があり、さらに
支持ロールの周速度が支持体の搬送速度とわずか
でもずれれば、やはりゲル化した塗布層は大きく
乱されるという欠点がある。
又、特公昭49−17853号公報に記載の技術では、
支持体の巾が大きくなると支持体の巾手方向の浮
き量差が大きくなり、塗布機先端を支持体に均等
に押しつけることができないので、支持体全面に
わたつて均一な塗布層を得ることは難しいという
欠点があり、また塗布機の前後での支持体の振動
を抑える配慮がなされていないため、塗布ムラを
発生しやすいという欠点があり、さらに塗布機を
押しつけるという方法であるため写真感光材料の
塗布に一般的に用いられるスライドホツパー等の
ビード塗布法を適用できないという欠点がある。
さらに特公昭51−38737号公報に記載の技術で
は、ロールで支持される支持体両端部と無接触で
支持される他の部分でコーター先端との距離が異
なり、支持体全面で均一な膜厚の塗布層を得るこ
とは難しいという欠点があり、具体的には縦筋状
の塗布故障が出やすいということであるが、支持
体巾が広くなるに従つてコーター先端と支持体と
の距離の場所による差も大きくなり、塗布液が全
くつかない様な部分も生じてしまうという欠点が
ある。
さらに又、特開昭55−45410号公報に記載の技
術では、支持体はロールによつて支持される両端
部を除いては、張力によつて発生する背圧(T/
R、T:張力、R:支持体面の曲率半径)と、コ
ーター側からの減圧との微妙なバランスで、その
位置が決まつており、少しでもこれらのバランス
がくずれれば支持体の位置が変動し、コーター先
端と支持体の距離が変動するので、横段状の塗布
ムラが発生するが、コーター側からの減圧を全巾
にわたつて常に一定に保つことは極めて難しく、
横段状の塗布ムラとともに縦筋、塗布液がつかな
い等の塗布故障も起こりやすいという欠点があ
る。
本発明者等は、上記欠点を解決するために鋭意
研究を重ねた結果、次のような知見を得た。すな
わち従来技術を全体として見た場合、無接触で支
持体を支持して塗布を行なう方法(装置)では、
単に基本的な形式を提供するだけか、支持体の厚
み方向の振動を抑えることに主眼を置いているの
みで、支持体の巾手方向にわたつてコーター先端
と支持体との距離(以下「コーターギヤツプ」と
呼ぶ)を均一にするということについては全く触
れられていない。このことはスライドホツパー等
を用いるビード塗布法では、特に重要である。な
ぜならこのコーターギヤツプの巾手方向の均一性
が失われると、縦筋状の塗布ムラが出やすくなつ
たり、ひどい場合には塗布液が一部支持体に接触
しないというような事態も生じる。通常コーター
先端と気体噴出器外表面は支持体巾手方向に可能
な限りの真直性をもつて製作されるので、支持体
の気体噴出器外表面からの距離すなわち浮き量が
巾手方向で均一であれば、コーター先端との距離
も機械加工精度の範囲内で均一になる。
ところが、支持体の浮き量は、何の対策もとら
ない場合、巾手方向で大きな分布をもつてしま
い、実用的な塗布装置を構成することは困難であ
つた。特に支持体巾がおよそ500mm以上となると、
この傾向は顕著になり、巾が広がれば広がるほど
巾手方向に均一な浮き量を得ることは難しくな
る。生産効率を考慮した実用的な塗布装置では、
ほとんどが支持体巾500mm以上と考えられるため、
この問題を避けて実用的な無接触支持(両面)塗
布装置を得ることは不可能である。
本明細書において、支持体巾が500mm以上ある
ものを「広巾」といい、500mm未満のものを「狭
巾」という。
〔発明の目的〕
本発明は上記知見に基づいて成されたものであ
り、その第1の目的は、写真感光材料等の様に帯
状可撓性支持体に極めて均一な膜厚の塗布層を形
成する際に該支持体を無接触で支持し、支持体巾
に関係無くコーター先端との距離を巾手方向で均
一に保持しながら、塗布できる塗布装置を提供す
ることにある。
本発明の第2の目的は、連続的な両面塗布が可
能となると共に乾燥工程を一度だけ通過させれば
すむ様な極めて生産効率の高い塗布乾燥工程を実
生産スケールで実施できる塗布装置を提供するこ
とにある。
〔発明の構成〕
本発明の塗布装置は、連続的に走行する支持体
をはさんで、互いにほぼ対向する位置にコーター
と気体噴出器を配設し、該気体噴出器から前記支
持体に向つて気体を噴出することにより、前記支
持体を無接触で支持しながら、前記コーターによ
つて塗布を行なう塗布装置であつて、前記支持体
と噴出器との間隙に発生する支持静圧が、前記噴
出器へ送り込まれる気体の供給圧の1/10〜1/1000
となり、かつ前記コーターによる塗布液の接触部
における浮き量を20〜500μとなるように、前記
供給圧、前記噴出器内の圧力損失および前記支持
体に加える張力を設定して塗布する構成の塗布装
置において、前記支持体巾が500mm以上であり、
前記気体噴出器の開孔率がW2・Q≦5×105[但
し、Wは支持体巾(cm)、Qは単位面積あたりの
気体噴出量(ml/min・cm2、常温・常圧時)を示
す]であり、且つ気体噴出器外表面のうち、支
持体の巾手方向両端に対向する位置に、該支持体
と接触しない帯状の突出部を設けた構成、又は
気体噴出器の開孔率が、支持体の巾手方向の両端
部において、中央部より大きくなつている構成を
有する。
以下、本発明について詳述する。
本発明における気体噴出器は、長手方向に一定
の張力がかかりながら搬送されている帯状可撓性
支持体(以下、支持体と略す)に向かつて気体を
噴出し、これを該噴出器の外表面の曲率に応じて
彎曲させて無接触で支持するものである。一般に
前記気体噴出器は前記支持体の巾よりやや巾の広
い中空の筐体で気体を噴出しないと前記支持体が
接触する部分はある曲率を有し、その部分を中心
として内部に供給された気体を外部へ噴出するべ
く、外殻に気体通過部分が設けられている。該気
体通過部分は貫通孔としてもいいし、何らかの多
孔質体を用いることもできる。又、コーターは前
記気体噴出器にほぼ対向する位置に配設され、無
接触で支持されている前記支持体に塗布液を塗布
する。
上記の気体噴出器とコーターを用いた無接触支
持において塗布をする際、2つの大きな問題点が
ある。1つは前記支持体の浮き量の微小変動であ
り、もう1つは巾手方向の浮き量の不均一性であ
る。前者については特願昭56−175801号明細書
(特開昭58−79566号公報参照。以下、同じ。)に
記載の方法によつて解決することが可能だが、支
持体の巾が広くなつてくると後者の問題が大きく
なり、実際上写真感光材料等の様に精密かつ均一
な膜厚の塗布を行なうことは不可能になる。この
様に巾手方向の浮き量が大きな問題となつてくる
のは、無接触支持されている部分の支持体に対向
している気体噴出器外表面の曲率、無接触支持部
の長手方向の長さ、支持体に加えられる張力など
によつて異なるが、支持体巾がおよそ500mm以上
の場合である。通常生産効率を考慮した塗布工程
では、支持体巾は500mm以上であるので、巾手方
向の浮き量の均一化について何らかの処置を行な
う必要がある。
通常の塗布においては、支持体は有接触のバツ
クアツプロールによつて支持されるので、バツク
アツプロールの真直度、真円度、コーター先端の
真直度、バツクアツプロールとコーターの取付精
度等によつて支持体とコーター先端との距離すな
わちコーターギヤツプの変動と巾手方向での分布
がどのくらいになるかが決定される。
これに対し無接触支持による塗布では、ここに
支持体の浮き量の要素が加わるわけだが、気体噴
出器のコーター先端に対向する部分とコーター先
端の巾手方向の真直度ならびに互いの平行度はミ
クロンオーダーの精度出しが可能なので、実質的
にコーターギヤツプの巾手方向分布は支持体の浮
き量の巾手方向分布そのものと言つていい。コー
ターギヤツプの巾手方向分布に必要な均一性は塗
布条件等にもよるが通常はおよそ40μ以内の巾に
抑えることが必要である。コーターギヤツプの巾
手方向分布が大きくなると縦筋状の塗布ムラが生
じやすくなるし、さらに分布が大きくなるとコー
ターギヤツプの大きなところでは、支持体に全く
液が塗布されないという様なことも起こり、均一
な膜厚の塗布は全く不可能となる。
そこで、この様な支持体の巾手方向の浮き量分
布が生じる原因についてであるが、これは気体噴
出器から噴出された気体が、気体噴出器外表面と
支持体との間隙(=高静圧空間)を通つて外部へ
流出する際、支持体の浮き量変動の抑制を考慮し
た特願昭56−175801号明細書に記載された様な装
置の場合、気体のほとんどが巾手方向に流れるこ
とに起因する。即ち高静圧空間を通過する際に気
体が受ける流路抵抗は、支持体の巾によつて決ま
ることになり、支持体巾が広くなるほど流路抵抗
の積算値は大きくなるから、高静圧空間の中央部
からは噴出された気体が逃げにくくなり、中央部
での気体蓄積量が増えるので中央部の浮き量が大
きくなつて巾手方向の浮き量分布が大巾なものに
なつていくのである。要するにここでいう浮き量
分布とは、主に中央部が大きく両端部が小さいと
いう形のものである。
上記の原因を踏まえた上で巾手方向の浮き量
(特にコーター先端に対向する位置即ち塗布位置)
の均一化を実現したのが本発明の装置である。具
体的には支持体巾が広くなるほど気体噴出器外表
面の単位面積あたりの気体噴出量が小さくなる様
に開孔率(気体通過部分を貫通孔とした場合、無
接触支持部において各貫通孔の最狭小部の気体噴
出方向に垂直な断面の面積の総和が、気体噴出器
外表面の面積に占める割合をいい、気体通過部分
が多孔質などの場合は同一条件で同一風量が得ら
れる貫通孔の場合に換算したものをいう。)が調
整されている気体噴出器を用いることによつて達
成される。これは、中央に近づくほど気体の滞留
量が増加する様な状態を生じることなく、気体が
高静圧空間から流出できる量以上は噴出させない
という考えに基づいている。ここで重要なのは巾
手方向の浮き量分布を小さくするには、単に気体
噴出位置を変えても効果がないということであ
る。つまり中央部の浮き量が大きいからといつて
中央部の開孔率を下げ、他の部分を上げたりして
も、それだけでは、中央部への気体のまわりこみ
が起こつたりして浮き量分布にはほとんど影響が
無く、結局無接触支持部全体として開孔率を下げ
ることが必要だということである。
ここで言う開孔率とは局部的なものではなく無
接触支持部全体における平均値をさすものであつ
て、さらにこの無接触支持部とは気体噴出器が支
持体に無接触支持力を及ぼしている部分とそうで
ない部分との境界部13〔(第1図参照)この部
分は噴出気体がすぐに外部に流出して特に浮き量
が小さくなるので、大量の気体を噴出させたりし
て支持体の接触を防ぐため支持体巾によつて開孔
率を調整するという手段とは無関係である。)や
開孔率を他の部分より特に大きくした巾手方向両
端部を除いた部分を指すものとする。
本発明に用いられる気体噴出器による無接触支
持で支持体の浮き量に関係する他の要因として
は、支持体張力(以下、Tと略す)、気体噴出器
外表面の無接触支持部における曲率半径(以下、
Rと略す)、無接触支持部の長手方向の長さ(以
下、Lと略す)があげられる。TとRは背圧(=
支持静圧)T/Rを決め(特願昭56−175801号明
細書参照)、Lは気体の長手方向への逃げやすさ
を決める(これにはRも若干関係がある)。よつ
て例えば他の条件が変わらずにT/Rのみ大きく
なつたとすると浮き量は小さくなるし、同様にL
のみ小さくなつたとするとやはり浮き量は小さく
なる。しかしこれらの要素を変化させても巾手方
向の浮き量分布を本質的に解消するには致らな
い。しかもここであげた三つの要素(T,R,
L)はいずれも下記の様な制限があるため大巾な
変化を与えることができない。Tは支持体の搬送
安定性や支持体、搬送系の機械的強度等から制限
を受け、ある範囲に限定される。Lは無接触支持
部の出入口から塗布位置までの距離を決めるの
で、外乱による浮き量変動を防ぐためにはできる
だけ大きい方がいい(Lが大きいとますます気体
を逃げづらくなるので浮き量分布には悪い方向に
進む。)。RはT/Rが適度な範囲にはいる様に
(特願昭56−175801号明細書参照)する一方、L
をある程度大きくとれる様にしなくてはならない
ので、両方から制限を受ける。これらT,R,L
の好ましい範囲の具体的な数字については略す
が、いずれにしてもその範囲はあまり広くないの
で、巾手方向の浮き量分布を小さく抑えるために
単位面積あたりの気体噴出量を支持体巾に応じて
ある値以下にしていくという本発明の考え方が特
に影響されるものではない。
次に本発明に係る塗布装置の一実施例について
添付図面に基づき詳述する。
第1図は本発明の一実施例を示す塗布装置の縦
断面図であり、塗布方法としてスライドホツパー
による二層塗布方式を採用し、連続的に支持体の
両面に写真用感光液を塗布する場合を示してい
る。第2図は本発明に用いられる気体噴出器の一
例を示す縦断面図である。
第1図において、被塗布支持体2は、先ず支持
ロール3に直接接触してコーター1にて従来公知
の方法で塗布される。塗布された塗布層4をゲル
化させるため、該支持体2は冷風ゾーン8を通過
する。該冷風ゾーン8ではスリツト板もしくは小
孔群7により塗布面4に冷風を当て、更に冷却効
率を上げるため、支持体2の塗布されていない面
側に2〜3mmの間隔を置いて且つ中央ボツクス5
に設置されたロール群6を接触させ、その反対側
からサクシヨンしてロール群6との接触面積を増
大させ、塗布層4を冷却ゲル化することが望まし
い。ゲル化された塗布層4を有する支持体2は続
いて気体噴出器3′の無接触支持部にてその反対
面に塗布層11が前記支持体2をはさんで、前記
気体噴出器3′に対向して配設されたコーター
1′により塗布される。気体噴出器3′としては、
様々な形態が可能であるが、製作上の容易さ等か
ら最も一般的と考えられるロール形式のものにつ
いて例示する。
中空ロール状をなす気体噴出器3′はその外殻
の無接触支持部に相当する部分には複数個の気体
噴出用の貫通孔10を有し、内部に供給された気
体は、該貫通孔10を通つてロール外表面9か
ら、ゲル化された塗布層4の面に噴出して被塗布
支持体2を無接触の状態で支持するものである
が、写真感光材料の製造においては、塗布された
層の湿潤状態又は乾燥後の膜厚は通常1%以下の
変動に抑える必要があり、そのためにはコーター
1′の先端部と被塗布支持体2の塗布されるべき
面との間隙をできるだけ一定に保つ必要がある。
この間隙の許容されるべき変動幅は、種々検計を
重ねた結果、数μ以下、最大でも10μ以下に抑え
る必要のあることがわかつた。
このような観点から、本発明者らは先に特願昭
56−175801号明細書において、浮き量変動を抑え
る手段について提案した。即ち同明細書におい
て、気体噴出器3′を貫通孔10を有する中空ロ
ールで構成した場合は、該貫通孔10の最狭小部
の直径d(第2図)ならびに長さl(第2図)、開
孔率(無接触支持部において、各貫通孔10の最
狭小部の断面積の総和が気体噴出器3′外表面に
占める割合)、そしてロール外径を適当に決めれ
ば、支持体張力と供給圧を調整することによつ
て、支持静圧(=背圧)と供給圧の比を1/10〜 1/1000、塗布液接触部における浮き量を20〜500μ の範囲でそれぞれ一つの値をとる様にすることが
可能で、これによつて被塗布可撓性支持体の浮き
量変動を上記許容巾内に抑えることができること
を明らかにした。
本発明は、前述の如く、気体噴出器の無接触支
持部の開孔率を問題とするものであるが、これも
前記の浮き量変動と深い関係にある、即ち、前記
の手段で浮き量の変動を抑えることが可能な気体
噴出器が提供されるが、かかる気体噴出器を用い
ても、支持体巾が広い場合に支持体の巾手方向の
浮き量が均一化されない場合があるので、本発明
の制御手段が機能するものである。
即ち本発明を実施する手順であるが、気体噴出
器の無接触支持部の開孔率を決めるには、ある程
度実験的手段が必要である。即ち、前記特願昭56
−175801号明細書に記載の手段によつて提供され
るところの気体噴出器を製作して、あとは巾手方
向の浮き量が均一化されるまで適宜気体通過部分
を閉塞して開孔率を落としていけばよい。
なお支持体巾と気体噴出量の関係については、
W2・Q≦5×105となるように調整される。ここ
にWは支持体巾(cm)、Qは単位面積あたりの気
体噴出量(ml/min・cm2、常温・常圧時)を示
す。
次にこの気体通過部分の閉塞手段、すなわち開
孔率の調整手段であるが、気体通過部分の構成に
もよるが、通常気体噴出器内部側から接着剤等に
よつて閉塞するのが簡単かつ確実な手段である。
なお、一つの気体噴出器によつて、巾の異なる支
持体に塗布しようとする場合は、該噴出器の開孔
率を任意に変更できる構成を採用すればよい。例
えば、第6図に示す如く、各々種々のパターンの
貫通孔を有する2又はそれ以上の気体噴出器を2
重又はそれ以上に互いにスライド可能になるよう
に多層構成にし、支持体巾に応じて気体噴出器を
スライドさせることによつて、重なり合う貫通孔
の数を調整する(図面上矢符方向に回動する)こ
とで、実際に気体を噴出する貫通孔の数を変えら
れるようにすればよい。なお、多層構成にした気
体噴出器の貫通孔のパターンは同種パターン(第
6図)であつてもよいし、異種パターンであつて
もよいことはもとよりである。
本発明によれば、支持体の巾手方向の両端で
は、気体が極めて逃げやすいため、気体の逃げ道
を狭める手段として、例えば第4図及び第5図に
示す如く支持体の巾手方向両端に対向する位置
に、支持体と接触しない帯状の突出部15を設け
たりしてもよいし、また支持体の巾手方向両端部
での浮き量の落ちこみを防止するため、両端にご
く近い部分のみ噴出気体量を増加させる手段とし
て、気体噴出器の開孔率をその他の部分に比して
両端部の方ではるかに大きくするようにしてもよ
い。
これらの具体的条件は実験的に容易に求めるこ
とができる。
本発明における無接触支持に用いる気体として
は、N2ガス、フレオンガス、空気等、安全上問
題のないものであれば何でも良いが、最も一般的
には空気である。無接触支持部において反対面に
塗布された被塗布支持体2は、その後、図示しな
い冷風ゾーンにおいて無接触の状態で両面に冷風
を当てながら塗布層11をゲル化した後、図示し
ない無接触乾燥ゾーンへ搬送されていくが、本発
明によれば、この無接触でのゲル化する部分ある
いは無接触乾燥ゾーンにおいて、被塗布支持体が
走行方向に垂直な方向に変動(又は振動)して
も、無接触支持部において吸収されて伝播せず、
均一な塗布が可能であることがわかつた。尚、本
発明で使用する被塗布支持体としては、ポリエチ
レンテレフタレート、三酢酸セルロース等のプラ
スチツクフイルム、ペーパー等写真感光材料用支
持体等を使用することができる。又無接触支持部
での曲面9の材質は特に制約はなく中空部12の
内圧に耐え得るものであれば何でも良いが、表面
にハードクロムメツキを施した真ちゆう鋼あるい
はステンレス鋼が望ましく、この場合のように貫
通孔10を設ける際には穴あけ加工の容易さを考
えるとベークライトあるいはアクリル樹脂等のプ
ラスチツク材料も用いることができる。
又本発明を実施するに当つては、無接触支持部
においてゲル化された塗布層4に気体が衝突し、
該塗布層4がこの気体の動圧により乱されない様
にするため、無接触支持部に進入する直前の該塗
布層の温度を2〜10℃、好ましくは2〜5℃にし
て塗布層4のゲル強度を上げておくことが望まし
い。
以上本発明について説明したが、本発明の実施
例はこれに限定されず、気体噴出器としては無接
触支持部においてその外表面として支持体との間
隙に高静圧を保つため連続した曲面を有し、該曲
面から気体が噴出可能であり、かつ本発明の条件
さえ満足すればどんなものでも良く、外形がロー
ル状であつたり、気体を気体噴出器の内部から外
部へ通過させる部分が貫通孔であつたりする必要
はなく、他の構成の気体噴出器を配した塗布装置
でもよい。たとえば気体噴出器の形としては、半
円筒形でも楕円筒形でも良いし、該気体噴出器の
他の1例を示す第3図のような無接触支持部のみ
外表面に曲率をもたせ、他は平面で構成された様
な形でもよい。一方、気体噴出器内部に供給され
た気体を外部へと通過させる部分だが、この部分
は気体を通過させるとともに圧力損失を与えるこ
とが大きな役割である。この条件さえ満たされれ
ばどんな形式でも良いわけで、貫通孔とする場合
もその形は丸穴でも多角形の穴でも良いし、また
第3図に示す如く焼結金属等の多孔質体14によ
つて無接触支持部の気体噴出器外殻を構成するよ
うな形式でも良い。さらに気体噴出器を中空とせ
ずに、その気体入口から無接触支持部における外
表面に至るまですべて前記の様な多孔質体によつ
て構成することも可能である。
なお、被塗布支持体の片面及び反対面に塗布す
る方法としては、ビード塗布法、エクストル−ジ
ヨン塗布法、流延塗布法等従来公知の方法を用い
ることができる。
〔発明の効果〕
以上述べた様に前記特願昭56−175801号明細書
に記載の条件を考慮した上で、充分に調整した本
発明の装置を用いると、支持体の巾手方向の浮き
量分布は実用的な支持体巾(500mm以上)に対し
ては、どんな場合も最大20μ程度の巾に抑えこむ
ことが可能で、浮き量変動も極めて小さいので、
無接触支持による高精度かつ均一な膜厚の塗布が
可能となる。ひいては写真感光材料等の製造にお
いて連続的な両面塗布が実生産スケールで実施で
きる。
〔実施例〕
以下、本発明の具体的実施例をあげる。先ず、
参考例をあげる。
参考例 1 第1図に示す1000mm巾を有する支持体の塗布装
置において、気体噴出器3′は中空のロールに複
数個の気体噴出用貫通孔10を有する構成(第2
図参照)とし、該ロール外表面の半径を100mmと
し、該貫通孔10は丸穴として直径dを50μ、長
さlを10mm、開孔率を0.002%とした。
ただし、無接触支持境界部13では、支持体全
巾にわたつて長手方向10mmの範囲で直径dが
180μ、長さlが10mmで、開孔率は0.157%となる
ようにした。
空気をロール中空部にゲージ圧1.0Kg/cm2で供
給し、貫通孔10より噴出させた。気体噴出量Q
は、無接触支持部における単位面積あたりの平均
値として6.33ml/min・cm2、常温・常圧時であつ
た。従つてW2Q=6.33×104である。
また第4図に示す様に無接触支持部の長さL
は、R・θ(但しθはロール型気体噴出器が支持
体に支持力を及ぼす角度をいう。以下、この角度
をラツプ角と呼ぶ。)にほぼ等しいので、ここで
はθ=180゜としてLは約157mmとなる。支持体2
は無接触で支持されるため、気体噴出器3′は回
転しない(全面に気体噴出孔を設けて回転させる
ことも考えられるが特にその必要はない。)。コー
ター(例えばスライドホツパー)1によつて写真
感光材料用塗布液が有接触回転式の通常のバツク
アツプロール3に支持された支持体2の片面に塗
布され、この塗布層4は冷風ゾーン8を通過する
際にゲル化される。さらに支持体2は気体噴出器
3′によつて無接触で支持されながら塗布層4の
反対面に写真感光材料用塗布液をコーター(スラ
イドホツパー)1′によつて塗布されて、塗布層
11が形成される。ここではレントゲン写真用塗
布液を用いて塗布を行なつた。コーター1,1′
ともに下層にゼラチンをバインダーとしたレント
ゲン写真用ハロゲン化銀乳剤を上層に保護層用ゼ
ラチン水溶液をそれぞれ55μ、20μの湿潤膜厚と
なるように二層同時塗布を行なつた。支持体2は
厚さ180μのポリエチレンテレフタレートフイル
ムで、支持体の長手方向張力を0.1Kg/cm巾とし
て毎分50mの速度で搬送した。支持体2の浮き量
(この場合気体噴出器外表面と塗布層4の表面と
の距離)はコーター1′の先端に対向する部分に
おいて中央部で200μ、両端部で170μとなつてお
り、その他の部分もすべてこの範囲にはいつてい
た。以上の様な条件のもとで両面塗布後、図示し
ない無接触セツトゾーンと無接触乾燥ゾーンを通
つて、乾燥されて得られた塗布試料は両面とも縦
筋などの塗布ムラの全く無い、均一な仕上がり
で、写真性能上も良好なものであつた。
なお、参考例−1において無接触支持部の気体
噴出孔の数を増加させて、開孔率を0.02%にした
以外は、参考例−1と同様にして塗布を行なつ
た。このとき浮き量はコーター1′に対向する部
分において中央部で380μ、両端部で200μとなつ
た(なおW2Q=6.33×105である。)。この様な状
態ではコーター1′によつて塗布を行なつてもコ
ーターギヤツプが、支持体中央部で適当な値とな
る様に設定すると、支持体両端部においては、コ
ーターギヤツプは大きく開いてしまい、その部分
には塗布液が接触しなくなり、均一な塗布は不可
能となつた。
参考例 2 参考例−1において、他の条件は同一にして、
搬送速度のみ毎分120mに変更して、両面塗布を
行ない、乾燥した結果、参考例−1と同様に両面
とも縦筋等の塗布ムラの無い、均一な塗布層が得
られた。
参考例 3 参考例−1において気体噴出器3′前の支持体
2の引きまわしを変更して気体噴出器3′のラツ
プ角θを250゜として、それに対応して貫通孔を増
加させた以外は参考例−1と同様の条件にする
と、塗布位置の浮き量は中央部で230μ、両端部
で200μとなり、他の部分もすべてこの範囲には
いつていた。この装置を用いて参考例−1と同様
の塗布を行なつたところ、塗布ムラの無い、均一
な塗布層が得られた。
参考例 4 参考例−1において、他の条件は同一にして、
Rのみ50mmに変更して両面塗布を行なつた。この
とき浮き量は中央部で170μ、両端部で150μとな
り、参考例−1と同様に塗布ムラの無い、均一な
塗布層が得られた。
参考例 5 参考例−4において、他の条件は同一にして、
搬送速度のみ毎分120mに変更して、両面塗布を
行ない、乾燥した結果、参考例−4と同様に両面
とも縦筋等の塗布ムラの無い、均一な塗布層が得
られた。
参考例 6 参考例−3において、他の条件は同一にして、
Rのみ50mmに変更して両面塗布を行なつた。この
とき浮き量は中央部で200μ、両端部で180μとな
り、参考例−3と同様に塗布ムラの無い、均一な
塗布層が得られた。
実施例 1 本実施例は第1図に示す塗布装置で、厚さ
100μ、巾2000mmのポリエチレンテレフタレート
フイルムに印刷用感光材料用塗布液の両面塗布を
行なう場合を示す。半径Rが100mmのロール型気
体噴出器外表面の支持体両端部に対向する部分に
は、第4図及び第5図に示す様に高さhが300μ、
巾wが10mm、長さL′が300mmの突出部15が設け
てある。気体噴出部分は参考例−1と同様、直径
dが50μ、長さlが10mmの貫通丸穴であるが、単
位面積あたりの孔数を減少させて、開孔率は
0.0008%とした。気体供給圧を1.0Kg/cm2とした
ところ、Qは2.5ml/min・cm2、常温・常圧時で
あつた(W2Q=105)。毎分60mで搬送しながらコ
ーター1によつて下層に色素を溶解したゼラチン
水溶液を、上層に保護層用ゼラチン水溶液を、そ
れぞれ湿潤膜厚55μ、20μで塗布し、さらにコー
ター1′によつて下層に印刷用感光材料用ハロゲ
ン化銀乳剤を、上層に保護層用ゼラチン水溶液を
それぞれ湿潤膜厚55μ、20μで塗布した後、無接
触支持、無接触乾燥を行なつた。支持体2の浮き
量はコーター1′の先端に対向する位置で最大
400μ(中央部)、最小370μ(両端部)であつた。こ
の結果得られた塗布層は両面とも全面にわたつて
塗布故障の無い均一な仕上がりで、写真性能上も
良好なものだつた。
実施例 2 実施例−1において、他の条件は同一にして、
両端部の巾w′10mmの帯状の部分(第5図参照)
のみ貫通孔径を180μとして、開孔率を0.05%に増
加させた。これによつてコーター1′の先端に対
向する部分の浮き量は全巾にわたつて10μ以内の
差に抑えられた。この結果搬送速度を毎分120m
に上げて実施例−1と同じ条件の塗布を行なつて
も、縦筋状の塗布ムラ等の全く無い良好な塗布層
が得られた。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明の一実施例を示す塗布装置の縦
断面図であり、塗布方法としてスライドホツパー
による二層塗布方式を採用し、連続的に支持体の
両面に塗布する場合を示している。第2図は本発
明に用いられる気体噴出器の一例を示す縦断面図
である。第3図は本発明に用いられる気体噴出器
の他の一例を示す縦断面図、第4図及び第5図は
本発明に用いられる気体噴出器の他の一例を示す
側面図ならびにA方向から見た正面図、第6図は
本発明に用いられる気体噴出器の他の一例を示す
縦断面図である。 図中、1,1′はコーター、2は支持体、3は
支持ロール、3′は気体噴出器、4,11は塗布
層、9は気体噴出器外表面、10は貫通孔、15
は突出部、lは貫通孔の長さ、dはその直径、h
は突出部の高さ、wはその巾を示す。

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 1 連続的に走行する支持体をはさんで、互いに
    ほぼ対向する位置にコーターと気体噴出器を配設
    し、該気体噴出器から前記支持体に向つて気体を
    噴出することにより、前記支持体を無接触で支持
    しながら、前記コーターによつて塗布を行なう塗
    布装置であつて、前記支持体と噴出器との間隙に
    発生する支持静圧が、前記噴出器へ送り込まれる
    気体の供給圧の1/10〜1/1000となり、かつ前記コ
    ーターによる塗布液の接触部における浮き量を20
    〜500μとなるように、前記供給圧、前記噴出器
    内の圧力損失および前記支持体に加える張力を設
    定して塗布する構成の塗布装置において、前記支
    持体巾が500mm以上であり、前記気体噴出器の開
    孔率がW2・Q≦5×105[但し、Wは支持体巾
    (cm)、Qは単位面積あたりの気体噴出量(ml/
    min・cm2、常温・常圧時)を示す]であり、且つ
    気体噴出器外表面のうち、支持体の巾手方向両
    端に対向する位置に、該支持体と接触しない帯状
    の突出部を設けた構成、又は気体噴出器の開孔
    率が、支持体の巾手方向の両端部において、中央
    部より大きくなつている構成を有する塗布装置。
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