JP2724400B2 - ウエブ塗布装置 - Google Patents
ウエブ塗布装置Info
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- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/04—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying liquid or other fluent material to opposite sides of the work
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C5/00—Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
- B05C5/007—Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B05—SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C—APPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
- B05C9/00—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
- B05C9/06—Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work
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Description
【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明はウエブ（帯状可撓性支持体）を浮上支持し
て塗布液を極めて均一な膜厚に塗布する装置に関するも
のである。
て塗布液を極めて均一な膜厚に塗布する装置に関するも
のである。
更に詳しくは、写真感光材料等のウエブの塗布面とは
反対側の面を、浮上支持しながら連続状に走行させて１
種または２種以上の塗布液を塗布する装置に関し、特に
連続的な両面塗布を行うのに適したウエブ塗布装置に関
するものである。
反対側の面を、浮上支持しながら連続状に走行させて１
種または２種以上の塗布液を塗布する装置に関し、特に
連続的な両面塗布を行うのに適したウエブ塗布装置に関
するものである。
従来、ウエブの両面塗布技術としては、種々の手段、
方法が知られている。
方法が知られている。
例えば、 ウエブの片面に塗布し、これをゲル化した後、ゲル化
した面を直接支持ロールに接触させて、反対面に連続し
て塗布する方法（特公昭48-44171号） 無数の小孔もしくはスリットを有するロール曲面から
気体を噴出してウエブを浮上させ、塗布機（コーター）
の先端をウエブに押しつけて塗布する方法（特公昭49-1
7853号） などが知られている。
した面を直接支持ロールに接触させて、反対面に連続し
て塗布する方法（特公昭48-44171号） 無数の小孔もしくはスリットを有するロール曲面から
気体を噴出してウエブを浮上させ、塗布機（コーター）
の先端をウエブに押しつけて塗布する方法（特公昭49-1
7853号） などが知られている。
しかし、上記従来技術では、 ゲル化した面を支持する支持ロール上にわずかな塵埃
やキズがあっても、ゲル化した塗布面は乱されてしまう
し、ロール上に塗布層の一部が付着残存しても同様であ
り、メンテナンスが極めて困難である。
やキズがあっても、ゲル化した塗布面は乱されてしまう
し、ロール上に塗布層の一部が付着残存しても同様であ
り、メンテナンスが極めて困難である。
支持ロールの周速度がウエブの搬送速度とわずかでも
ずれれば、やはりゲル化した塗布量は大きく乱される。
ずれれば、やはりゲル化した塗布量は大きく乱される。
又、特公昭49-17853号公報に記載の技術では、 ウエブの巾が大きくなるとウエブの巾手方向の浮き量
差が大きくなり、塗布機先端をウエブに均等に押しつけ
ることができないので、ウエブ全面にわたって均一な塗
布層を得ることは難しい。
差が大きくなり、塗布機先端をウエブに均等に押しつけ
ることができないので、ウエブ全面にわたって均一な塗
布層を得ることは難しい。
塗布機の前後でウエブの振動を抑える配慮がなされて
いないため、塗布ムラを発生し易い。
いないため、塗布ムラを発生し易い。
塗布機を押しつけるという方法であるため写真感光材
料の塗布に一般的に用いられるスライドホッパー等のビ
ード塗布法を適用できないという欠点がある。
料の塗布に一般的に用いられるスライドホッパー等のビ
ード塗布法を適用できないという欠点がある。
このため、本発明者等は先に、連続的に走行するウエ
ブを挟んで、互いにほぼ対向する位置に気体噴出器と減
圧チャンバ付きコーターを配設し、該気体噴出器から前
記ウエブに向かって気体を噴出することにより、前記ウ
エブを浮上支持しながら前記コーターにより塗布液の塗
布を行う塗布方法とその装置を提案し、実用に供してき
た（特願昭56-175801号）。
ブを挟んで、互いにほぼ対向する位置に気体噴出器と減
圧チャンバ付きコーターを配設し、該気体噴出器から前
記ウエブに向かって気体を噴出することにより、前記ウ
エブを浮上支持しながら前記コーターにより塗布液の塗
布を行う塗布方法とその装置を提案し、実用に供してき
た（特願昭56-175801号）。
しかしながら、上記従来のウエブ塗布装置では第４図
示の如く減圧チャンバ８内の減圧領域に対応する気体噴
出器11のウエブ抱き面11aの前後境界領域で、ウエブの
浮上量が低下してウエブ変形部3cが生じ、該部分がウェ
ブ抱き面に接触する事故が発生することがあった。
示の如く減圧チャンバ８内の減圧領域に対応する気体噴
出器11のウエブ抱き面11aの前後境界領域で、ウエブの
浮上量が低下してウエブ変形部3cが生じ、該部分がウェ
ブ抱き面に接触する事故が発生することがあった。
即ち、気体噴出器11に浮上支持されたウエブは通常、
ウエブ抱き面11aとの距離を一定量以上に保ちつつ回り
込んで走行する。ところが、減圧チャンバ８の減圧領域
に対応するウエブ抱き面の前後境界領域では、減圧チャ
ンバの減圧領域での背圧（ウエブとウエブ抱き面間の静
圧）が、他の部分の背圧より小さくなるため、ウエブと
ウエブ抱き面の間に閉じ込められた高静圧気体が減圧チ
ャンバ内の減圧領域へと流入する現象が発生する。この
結果、前記境界領域での高静圧気体の滞留量が急減して
ウエブ浮上量が減少し、ウェブのウエブ抱き面への接触
する事故を引き起こすこととなる。
ウエブ抱き面11aとの距離を一定量以上に保ちつつ回り
込んで走行する。ところが、減圧チャンバ８の減圧領域
に対応するウエブ抱き面の前後境界領域では、減圧チャ
ンバの減圧領域での背圧（ウエブとウエブ抱き面間の静
圧）が、他の部分の背圧より小さくなるため、ウエブと
ウエブ抱き面の間に閉じ込められた高静圧気体が減圧チ
ャンバ内の減圧領域へと流入する現象が発生する。この
結果、前記境界領域での高静圧気体の滞留量が急減して
ウエブ浮上量が減少し、ウェブのウエブ抱き面への接触
する事故を引き起こすこととなる。
この発明は上記の点に鑑み、前記境界領域におけるウ
エブの浮上量を一定量以上に維持して接触事故を防止で
きるウエブ塗布装置を提供することを目的としている。
エブの浮上量を一定量以上に維持して接触事故を防止で
きるウエブ塗布装置を提供することを目的としている。
上記の目的を達成するため、この発明は連続的に走行
するウエブを挟んで、互いにほぼ対向する位置に気体噴
出器と減圧チャンバ付きコーターを配設し、該気体噴出
器のウエブ抱き面から気体を噴出して前記ウエブを浮上
支持しながら塗布を行うウエブ塗布装置において、前記
減圧チャンバの減圧領域に対応するウエブ抱き面の前後
境界領域が、他のウエブ抱き面領域より大きな噴出量を
持たせ、該領域におけるウエブの浮上量を一定量以上に
維持できるように構成したものである。
するウエブを挟んで、互いにほぼ対向する位置に気体噴
出器と減圧チャンバ付きコーターを配設し、該気体噴出
器のウエブ抱き面から気体を噴出して前記ウエブを浮上
支持しながら塗布を行うウエブ塗布装置において、前記
減圧チャンバの減圧領域に対応するウエブ抱き面の前後
境界領域が、他のウエブ抱き面領域より大きな噴出量を
持たせ、該領域におけるウエブの浮上量を一定量以上に
維持できるように構成したものである。
以下、この発明を添付図面に示す実施例に基づいて説
明する。
明する。
第１図は本願ウエブ塗布装置の全体構成を示す縦断面
図、第２図は気体噴出器と第二コーター近傍の斜視図、
第３図は多孔質体を使って気体噴出器を構成した場合の
説明図である。
図、第２図は気体噴出器と第二コーター近傍の斜視図、
第３図は多孔質体を使って気体噴出器を構成した場合の
説明図である。
図において、１は第一コーター、２は第二コーター
で、該第一および第二コーター1,2はウエブ３の導入部D
1と導出部D2にそれぞれこの順序で設けられている。該
コーター1,2は各々湧出スリット1a,1bおよび2a,2bを備
え、該湧出スリット1a,1bおよび2a,2bから湧出する塗布
液Ｌによって、二層塗布を行えるようになっている。即
ち、第一コーター１は導入部D1付近でウエブ３の表面3a
に、第二コーター２は導出部D2付近でウエブ３の裏面3b
に塗布液Ｌをそれぞれ塗布し、ウエブ３の両面塗布を実
現できるように構成されている。
で、該第一および第二コーター1,2はウエブ３の導入部D
1と導出部D2にそれぞれこの順序で設けられている。該
コーター1,2は各々湧出スリット1a,1bおよび2a,2bを備
え、該湧出スリット1a,1bおよび2a,2bから湧出する塗布
液Ｌによって、二層塗布を行えるようになっている。即
ち、第一コーター１は導入部D1付近でウエブ３の表面3a
に、第二コーター２は導出部D2付近でウエブ３の裏面3b
に塗布液Ｌをそれぞれ塗布し、ウエブ３の両面塗布を実
現できるように構成されている。
前記ウエブ３は補助ローラ４に接触支持されて導入部
D1に搬入された後、主ローラ５に接触支持されて回り込
み、前記第一コーター１の近傍を通過時、該コーター１
で表面3aに塗布され、冷風ゾーン６へと搬送されるよう
になっている。
D1に搬入された後、主ローラ５に接触支持されて回り込
み、前記第一コーター１の近傍を通過時、該コーター１
で表面3aに塗布され、冷風ゾーン６へと搬送されるよう
になっている。
7,8は減圧チャンバで、該減圧チャンバ7,8は各コータ
ー1,2の塗布液Ｌからなるビード（コーターからウエブ
表面に架橋された状態の塗布液）を適宜吸引して、塗布
液Ｌのウエブ表面への転移を安定化するためのものであ
る。該減圧チャンバ7,8のうち、一方のチャンバ７は第
一コーター１のビードギャップB1の下側、他方のチャン
バ８は第二コーター２のビードギャップB2の下側にそれ
ぞれ設けられている。
ー1,2の塗布液Ｌからなるビード（コーターからウエブ
表面に架橋された状態の塗布液）を適宜吸引して、塗布
液Ｌのウエブ表面への転移を安定化するためのものであ
る。該減圧チャンバ7,8のうち、一方のチャンバ７は第
一コーター１のビードギャップB1の下側、他方のチャン
バ８は第二コーター２のビードギャップB2の下側にそれ
ぞれ設けられている。
前記冷風ゾーン６はウエブ３の表面3aに塗られた塗布
液Ｌを冷却してゲル化を促進するためのもので、ウエブ
３の裏面3b（未塗布面）を接触支持することで冷却しな
がら搬送する搬送ローラ群９と、ウエブ３の表面3a（既
塗布面）に冷風を当てて冷却する小孔（または）スリッ
ト群10を備えている。この冷風ゾーン６内の温度は塗布
条件（塗布液Ｌの温度、塗膜の厚さ、塗布速度など）や
ウエブ走行条件（ウエブ温度、ウエブ厚、ウエブ走行速
度など）にもよるが、通常、冷風ゾーン６を出て第二コ
ーター２に搬送される時のウエブ３の温度が10℃前後と
なるよう調整されている。
液Ｌを冷却してゲル化を促進するためのもので、ウエブ
３の裏面3b（未塗布面）を接触支持することで冷却しな
がら搬送する搬送ローラ群９と、ウエブ３の表面3a（既
塗布面）に冷風を当てて冷却する小孔（または）スリッ
ト群10を備えている。この冷風ゾーン６内の温度は塗布
条件（塗布液Ｌの温度、塗膜の厚さ、塗布速度など）や
ウエブ走行条件（ウエブ温度、ウエブ厚、ウエブ走行速
度など）にもよるが、通常、冷風ゾーン６を出て第二コ
ーター２に搬送される時のウエブ３の温度が10℃前後と
なるよう調整されている。
11は気体噴出器で、該気体噴出器11はウエブ３を浮上
支持してその表面3a（既塗布面）保護しながらウエブ３
を第二コーター２の近傍で回り込ませ、裏面3b（未塗布
面）に塗布液Ｌを塗布するためのものである。即ち、気
体噴出器11の外殻のウエブ抱き面11aは滑らかな円筒面
からなり、その表面部に多数設けられた微小気体噴出孔
Ｆから噴出器11内の気体をウエブ３の表面3aに向けて噴
出し、コーター２による塗布を行いながらウエブ３を浮
上搬送できるようになっている。該ウェブ抱き面11aに
対向する非ウエブ抱き面11bは円筒面になっている必要
はなく、微小気体噴出孔Ｆを備えていなくてもよい。
支持してその表面3a（既塗布面）保護しながらウエブ３
を第二コーター２の近傍で回り込ませ、裏面3b（未塗布
面）に塗布液Ｌを塗布するためのものである。即ち、気
体噴出器11の外殻のウエブ抱き面11aは滑らかな円筒面
からなり、その表面部に多数設けられた微小気体噴出孔
Ｆから噴出器11内の気体をウエブ３の表面3aに向けて噴
出し、コーター２による塗布を行いながらウエブ３を浮
上搬送できるようになっている。該ウェブ抱き面11aに
対向する非ウエブ抱き面11bは円筒面になっている必要
はなく、微小気体噴出孔Ｆを備えていなくてもよい。
前記ウエブ抱き面11aにおいて、減圧チャンバ８の減
圧領域に対応する抱き面の前後境界領域11cは、他の領
域より大きな気体噴出量（単位面積当たり）を有してい
る。
圧領域に対応する抱き面の前後境界領域11cは、他の領
域より大きな気体噴出量（単位面積当たり）を有してい
る。
即ち、該境界領域11cでは気体噴出孔Ｆの穿設密度を
増すか、その径を大きくするなどして噴出量を他のウエ
ブ抱き面領域より大きくし、ウエブとウエブ抱き面との
間の気体滞留量の減小に伴うウエブ３の浮上量低下を防
止できるようになっている。該境界領域11cの噴出量
は、ウエブ走行条件（ウエブ厚、ウエブ走行速度など）
や塗布条件（塗布膜厚、塗布粘度など）にもよるが、ウ
エブ抱き面11aの単位面積当たりの噴出量（通常は20Nml
/min・cm2以下）に対し、２〜５倍以上とするのが望ま
しい。また、噴出量を増加させる部分は必ずしも該境界
領域11cに限らず、それよりも減圧領域から遠い部分と
することも可能である。この場合、噴出量の多い部分が
塗布位置から遠ざかるため、塗布位置でのベース振動が
低減されることがあり、均一な塗布層を得るためには有
利な場合がある。
増すか、その径を大きくするなどして噴出量を他のウエ
ブ抱き面領域より大きくし、ウエブとウエブ抱き面との
間の気体滞留量の減小に伴うウエブ３の浮上量低下を防
止できるようになっている。該境界領域11cの噴出量
は、ウエブ走行条件（ウエブ厚、ウエブ走行速度など）
や塗布条件（塗布膜厚、塗布粘度など）にもよるが、ウ
エブ抱き面11aの単位面積当たりの噴出量（通常は20Nml
/min・cm2以下）に対し、２〜５倍以上とするのが望ま
しい。また、噴出量を増加させる部分は必ずしも該境界
領域11cに限らず、それよりも減圧領域から遠い部分と
することも可能である。この場合、噴出量の多い部分が
塗布位置から遠ざかるため、塗布位置でのベース振動が
低減されることがあり、均一な塗布層を得るためには有
利な場合がある。
ここで浮上支持に用いる気体としては、N2ガス、空気
等、安全上問題のないものであれば何でもよいが、最も
一般的には空気である。
等、安全上問題のないものであれば何でもよいが、最も
一般的には空気である。
浮上支持部において反対面に塗布された被塗布ウエブ
はその後、図示しない冷風ゾーンにおいて無接触の状態
で両面に冷風を当てながら塗布層をゲル化した後、無接
触乾燥ゾーンへ搬送されて行くが、この無接触でのゲル
化する部分あるいは無接触乾燥ゾーンにおいて、被塗布
ウエブが走行方向に垂直な方向に変動（又は振動）して
も、浮上支持部において吸収されて伝播せず、均一な塗
布が可能であるようになっている。
はその後、図示しない冷風ゾーンにおいて無接触の状態
で両面に冷風を当てながら塗布層をゲル化した後、無接
触乾燥ゾーンへ搬送されて行くが、この無接触でのゲル
化する部分あるいは無接触乾燥ゾーンにおいて、被塗布
ウエブが走行方向に垂直な方向に変動（又は振動）して
も、浮上支持部において吸収されて伝播せず、均一な塗
布が可能であるようになっている。
しかして、両面未塗布のウエブ３は補助ローラ４に接
触支持されて導入部D1に搬入され、主ローラ５に接触支
持されながら第一コーター１の近傍を回り込み、湧出ス
リット1a,1bから湧出される塗布液Ｌによって表面3aに
二層塗布される。
触支持されて導入部D1に搬入され、主ローラ５に接触支
持されながら第一コーター１の近傍を回り込み、湧出ス
リット1a,1bから湧出される塗布液Ｌによって表面3aに
二層塗布される。
次に、ウエブ３は冷風ゾーン６内で小孔群10からの冷
風を受けながら搬送ローラ９で接触支持搬送されて10℃
前後にまで冷却され、気体噴出器11へと搬送される。気
体噴出器11のウエブ抱き面11aの噴出孔Ｆから噴出され
る気体に既塗布状態の表面3aを浮上支持されたウエブ３
は第二コーター２によって裏面3bが塗布される。この
時、減圧チャンバ８の減圧領域に対応するウエブ抱き面
11aの前後境界領域11cではウエブとウエブ抱き面間の高
静圧気体が減圧チャンバ８の減圧領域内に流入する現象
が発生するが、該境界領域11cの気体噴出量は他の領域
より大きくなっているため、流出による滞留量低下は一
定量以内に抑えられ、前後境界領域11cの浮上量低下も
一定範囲内に維持される。このため、塗布条件は一定に
維持されてウエブの接触事故も起きることなく、両面を
均一塗布されたウエブ３は導出部D2から導出され、冷却
・乾燥工程へと搬送され両面塗布工程が終了する。
風を受けながら搬送ローラ９で接触支持搬送されて10℃
前後にまで冷却され、気体噴出器11へと搬送される。気
体噴出器11のウエブ抱き面11aの噴出孔Ｆから噴出され
る気体に既塗布状態の表面3aを浮上支持されたウエブ３
は第二コーター２によって裏面3bが塗布される。この
時、減圧チャンバ８の減圧領域に対応するウエブ抱き面
11aの前後境界領域11cではウエブとウエブ抱き面間の高
静圧気体が減圧チャンバ８の減圧領域内に流入する現象
が発生するが、該境界領域11cの気体噴出量は他の領域
より大きくなっているため、流出による滞留量低下は一
定量以内に抑えられ、前後境界領域11cの浮上量低下も
一定範囲内に維持される。このため、塗布条件は一定に
維持されてウエブの接触事故も起きることなく、両面を
均一塗布されたウエブ３は導出部D2から導出され、冷却
・乾燥工程へと搬送され両面塗布工程が終了する。
なお、この発明で使用する被塗布ウエブとしては、ポ
リエチレンテレフタレート、三酢酸セルロース等のプラ
スチックフィルム、ペーパー等写真感光材料用ウエブ等
を使用することができる。
リエチレンテレフタレート、三酢酸セルロース等のプラ
スチックフィルム、ペーパー等写真感光材料用ウエブ等
を使用することができる。
また、浮上支持部での曲面を構成する材質には特に制約
はなく中空部の内圧に耐え得るものであれば何でもよい
が、表面にハードクロムメッキを施した真ちゅう鋼ある
いはステンレス鋼が望ましく、この場合のように貫通孔
を設ける際には穴あけ加工の容易さを考えるとベークラ
イトあるいはアクリル樹脂等のプラスチック材料も用い
ることができる。
はなく中空部の内圧に耐え得るものであれば何でもよい
が、表面にハードクロムメッキを施した真ちゅう鋼ある
いはステンレス鋼が望ましく、この場合のように貫通孔
を設ける際には穴あけ加工の容易さを考えるとベークラ
イトあるいはアクリル樹脂等のプラスチック材料も用い
ることができる。
また、この発明を実施するに当たっては、浮上支持部
においてゲル化された塗布層に気体が衝突するが、該塗
布層がこの気体の動圧により乱されないようにするた
め、浮上支持部に進入する直前の該塗布層の温度を10℃
程度まで冷却して塗布層のゲル強度を上げておくことが
望ましい。
においてゲル化された塗布層に気体が衝突するが、該塗
布層がこの気体の動圧により乱されないようにするた
め、浮上支持部に進入する直前の該塗布層の温度を10℃
程度まで冷却して塗布層のゲル強度を上げておくことが
望ましい。
以上、実施例について説明したが、この発明の実施例
はこれに限定されず、気体噴出器としては浮上支持部に
おいてその外表面としてウエブとの間隙に高静圧を保つ
ため連続した曲面を有し、該曲面から気体が噴出可能で
あり、かつ、この発明の条件さえ満足すればどんなもの
でもよい。
はこれに限定されず、気体噴出器としては浮上支持部に
おいてその外表面としてウエブとの間隙に高静圧を保つ
ため連続した曲面を有し、該曲面から気体が噴出可能で
あり、かつ、この発明の条件さえ満足すればどんなもの
でもよい。
即ち、外形がロール状であったり、気体を気体噴出器
の内部から外部へ通過させる部分が貫通孔であったりす
る必要はなく、他の構成の気体噴出器を配した塗布装置
でもよい。例えば、気体噴出器の形としては、半円筒形
でも楕円筒形でもよいし、浮上支持部のみ外表面に曲率
をもたせ、他は平面で構成された様な形でもよい。
の内部から外部へ通過させる部分が貫通孔であったりす
る必要はなく、他の構成の気体噴出器を配した塗布装置
でもよい。例えば、気体噴出器の形としては、半円筒形
でも楕円筒形でもよいし、浮上支持部のみ外表面に曲率
をもたせ、他は平面で構成された様な形でもよい。
一方、気体噴出器内部に供給された気体を外部へと通
過させる部分は、気体を通過させるとともに、圧力損失
を与えることが大きな役割であるから貫通孔の断面形状
は丸穴でも多角形の穴でもよいし、焼結金属性等の多孔
質体Ｐによって浮上支持部の気体噴出器外殻を構成する
ような形式でもよい（第３図）。
過させる部分は、気体を通過させるとともに、圧力損失
を与えることが大きな役割であるから貫通孔の断面形状
は丸穴でも多角形の穴でもよいし、焼結金属性等の多孔
質体Ｐによって浮上支持部の気体噴出器外殻を構成する
ような形式でもよい（第３図）。
さらに、気体噴出器を中空とせずに、その気体入口か
ら浮上支持部における外表面に至るまですべてを前記の
様な多孔質体によって構成することも可能である。この
場合、前記前後境界領域に相当する部分を他の領域より
通気性の高い多孔質で構成することはもちろんである。
ら浮上支持部における外表面に至るまですべてを前記の
様な多孔質体によって構成することも可能である。この
場合、前記前後境界領域に相当する部分を他の領域より
通気性の高い多孔質で構成することはもちろんである。
以上の如く、この発明は連続的に走行するウエブを挟
んで、互いにほぼ対向する位置に気体噴出器と減圧チャ
ンバ付きコーターを配設し、該気体噴出器のウエブ抱き
面から気体を噴出して前記ウエブを浮上支持しながら塗
布を行うウエブ塗布装置において、前記減圧チャンバの
減圧領域に対応するウエブ抱き面の前後境界領域が、他
のウエブ抱き面領域より大きな噴出量を持つように構成
したことを特徴としているため、該境界領域におけるウ
エブの浮上量は静圧気体の流出にかかわらず一定量以上
に維持される。このため、減圧チャンバの近傍における
ウエブのウエブ抱き面への接触がほぼ完全に解消され、
塗布工程の安定化と塗布品質の向上に抜群の効果を奏す
るものである。
んで、互いにほぼ対向する位置に気体噴出器と減圧チャ
ンバ付きコーターを配設し、該気体噴出器のウエブ抱き
面から気体を噴出して前記ウエブを浮上支持しながら塗
布を行うウエブ塗布装置において、前記減圧チャンバの
減圧領域に対応するウエブ抱き面の前後境界領域が、他
のウエブ抱き面領域より大きな噴出量を持つように構成
したことを特徴としているため、該境界領域におけるウ
エブの浮上量は静圧気体の流出にかかわらず一定量以上
に維持される。このため、減圧チャンバの近傍における
ウエブのウエブ抱き面への接触がほぼ完全に解消され、
塗布工程の安定化と塗布品質の向上に抜群の効果を奏す
るものである。
第１図は本願ウエブ塗布装置の全体構成を示す縦断面
図、第２図は気体噴出器と第二コーター近傍の斜視図、
第３図は多孔質体を使って気体噴出器を構成した場合の
説明図、第４図は従来装置の気体噴出器とコーター近傍
の縦断面図である。 １……第一コーター ２……第二コーター ３……ウエブ 3a……ウエブ表面 3b……ウエブ裏面 ４……補助ローラ ５……主ローラ ６……冷風ゾーン 7,8……減圧チャンバ ９……搬送ローラ群 10……小孔群 11……気体噴出器 11a……ウエブ抱き面 11b……非ウエブ抱き面 11c……前後境界領域 D1……導入部 D2……導出部 B1,B2……ビードギャップ Ｌ……塗布液 Ｆ……気体噴出孔
図、第２図は気体噴出器と第二コーター近傍の斜視図、
第３図は多孔質体を使って気体噴出器を構成した場合の
説明図、第４図は従来装置の気体噴出器とコーター近傍
の縦断面図である。 １……第一コーター ２……第二コーター ３……ウエブ 3a……ウエブ表面 3b……ウエブ裏面 ４……補助ローラ ５……主ローラ ６……冷風ゾーン 7,8……減圧チャンバ ９……搬送ローラ群 10……小孔群 11……気体噴出器 11a……ウエブ抱き面 11b……非ウエブ抱き面 11c……前後境界領域 D1……導入部 D2……導出部 B1,B2……ビードギャップ Ｌ……塗布液 Ｆ……気体噴出孔
Claims (1)
- 【請求項１】連続的に走行するウエブを挟んで、互いに
ほぼ対向する位置に気体噴出器と減圧チャンバ付きコー
ターを配設し、該気体噴出器のウエブ抱き面から気体を
噴出して前記ウエブを浮上支持しながら塗布を行うウエ
ブ塗布装置において、前記減圧チャンバの減圧領域に対
応するウエブ抱き面の前後境界領域が、他のウエブ抱き
面領域より大きな噴出量を持つように構成したことを特
徴とするウエブ塗布装置。
Priority Applications (4)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1033439A JP2724400B2 (ja) | 1989-02-13 | 1989-02-13 | ウエブ塗布装置 |
| US07/426,435 US5136966A (en) | 1988-10-28 | 1989-10-25 | Web coating apparatus |
| DE68924321T DE68924321T2 (de) | 1988-10-28 | 1989-10-27 | Beschichtungsvorrichtung für Gewebe. |
| EP89311090A EP0366481B1 (en) | 1988-10-28 | 1989-10-27 | Web coating apparatus |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP1033439A JP2724400B2 (ja) | 1989-02-13 | 1989-02-13 | ウエブ塗布装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH02214564A JPH02214564A (ja) | 1990-08-27 |
| JP2724400B2 true JP2724400B2 (ja) | 1998-03-09 |
Family
ID=12386569
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP1033439A Expired - Fee Related JP2724400B2 (ja) | 1988-10-28 | 1989-02-13 | ウエブ塗布装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2724400B2 (ja) |
Families Citing this family (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP5048090B2 (ja) | 2010-01-20 | 2012-10-17 | 中外炉工業株式会社 | 両面塗工装置 |
| JP5529673B2 (ja) | 2010-08-16 | 2014-06-25 | 中外炉工業株式会社 | 両面塗工装置 |
| JP5799181B1 (ja) | 2015-01-07 | 2015-10-21 | 住友化学株式会社 | 有機電子素子の製造方法 |
| US20200075962A1 (en) * | 2018-09-04 | 2020-03-05 | Toyota Jidosha Kabushiki Kaisha | Manufacturing method and manufacturing apparatus for gas diffusion layer |
-
1989
- 1989-02-13 JP JP1033439A patent/JP2724400B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JPH02214564A (ja) | 1990-08-27 |
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| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
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