JPH07117699B2 - 塗布装置 - Google Patents

塗布装置

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JPH07117699B2
JPH07117699B2 JP62296398A JP29639887A JPH07117699B2 JP H07117699 B2 JPH07117699 B2 JP H07117699B2 JP 62296398 A JP62296398 A JP 62296398A JP 29639887 A JP29639887 A JP 29639887A JP H07117699 B2 JPH07117699 B2 JP H07117699B2
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JP
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roll
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幸登 中村
徳治 高橋
和三 古田
智秀 水越
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Konica Minolta Inc
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Konica Minolta Inc
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    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03CPHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
    • G03C1/00Photosensitive materials
    • G03C1/74Applying photosensitive compositions to the base; Drying processes therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C5/00Apparatus in which liquid or other fluent material is projected, poured or allowed to flow on to the surface of the work
    • B05C5/007Slide-hopper coaters, i.e. apparatus in which the liquid or other fluent material flows freely on an inclined surface before contacting the work
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B05SPRAYING OR ATOMISING IN GENERAL; APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05CAPPARATUS FOR APPLYING FLUENT MATERIALS TO SURFACES, IN GENERAL
    • B05C9/00Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important
    • B05C9/06Apparatus or plant for applying liquid or other fluent material to surfaces by means not covered by any preceding group, or in which the means of applying the liquid or other fluent material is not important for applying two different liquids or other fluent materials, or the same liquid or other fluent material twice, to the same side of the work

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Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] この発明は塗布装置に係り、詳しくは光学式変位センサ
を備えた塗布装置に関する。
[従来の技術] 塗布装置として、例えば特開昭51−38737号公報に記載
の如く、写真感光材料用支持体にエアバックロールから
所定圧の気体を噴出して浮上させ、非接触状態で走行さ
せながら、写真感光材料用支持体の表面に塗布液のビー
ドを形成して塗布するものがある。
この場合には、写真感光材料用支持体の走行中において
張力変動によって、エアバックロールと写真感光材料用
支持体との間隙(浮き量)が変動することがある。ま
た、塗布液のビードの形成を容易にするために負圧室を
備えるものにあっては、負圧室の側壁と写真感光材料用
支持体の間隙が変化すると、負圧室の圧力に影響を与え
ビード上面側と下面側部との空気圧力差が変化し、エア
バックロールと写真感光材料用支持体との間隙(浮き
量)が変動することがある。
[発明が解決しようとする課題] これらの原因で塗布ムラが発生することがあり、この塗
布ムラは写真感光材料のように均一な膜厚の塗布が要求
されるものでは、感度変動等を誘発して好ましくない。
特にハロゲン化銀感光材料の場合には、数十ミクロンの
膜厚で均一の塗布が要求されるため、生産性が高く、安
定して均一に塗布する必要があり、しかもユーザーに不
良品が出回るのを未然に防止することが要求されてい
る。
このため、この発明者等は塗布ムラの発生を防止すべく
鋭意検討の結果、エアバックロールと写真感光材料用支
持体の間隙を測定することによって、写真感光材料用支
持体の走行状態における変動を正確に知ることができれ
ば、この測定情報で写真感光材料用支持体の変動を防止
するように制御することが可能になり、さらに測定情報
の解析で写真感光材料用支持体の変動原因を知ることが
でき、塗布ムラの発生に有効に対処することが可能であ
ると共に、製品管理が確実になり不良品の発生を未然に
防止することが可能になることを見出した。
ところが、写真感光材料用支持体に塗布される塗布液は
30℃前後の温度があり、この熱の影響でエアバックロー
ルの写真感光材料用支持体側は微妙に変化することがあ
り、このエアバックロールの変形によって、エアバック
ロールの表面と光学式変位センサの測定面とがずれ、写
真感光材料用支持体とエアバックロールとの間隙の測定
に悪影響があることが判明した。
この発明はかかる点に鑑みてなされたもので、エアバッ
クロールの変形の影響を極力軽減し、正確な写真感光材
料用支持体の位置測定を可能にする塗布装置を提供する
ことを目的としている。
[課題を解決するための手段] 前記課題を解決するために、この発明は、走行する写真
感光材料用支持体にエアバックロールから気体を噴射
し、写真感光材料用支持体を非接触状態に支持し、この
写真感光材料用支持体の表面に塗布液のビードを形成し
て塗布する塗布装置において、前記写真感光材料用支持
体に光を照射し写真感光材料用支持体とエアバックロー
ルとの間隙を測定する光学式変位センサを前記エアバッ
クロールに備え、この光学式変位センサは押圧機構を介
してエアバックロールの変形に追従して移動可能に押圧
保持されることを特徴としている。
[作用] この発明では、写真感光材料用支持体に光を照射して、
写真感光材料用支持体とエアバックロールとの間隙を測
定する光学式変位センサがエアバックロールに備えられ
ている。この光学式変位センサはエアバックロールが写
真感光材料用支持体に塗布される塗布液の影響で変形す
ると、この変形に応じて押圧機構によって追従して移動
する。このため、エアバックロールの測定面と、光学式
変位センサの測定面との位置がずれることがないから、
エアバックロールが熱変形しても、写真感光材料用支持
体とエアバックロールとの間隙測定への悪影響を軽減す
ることができる。
[実施例] 以下、この発明の塗布装置を添付図面に示す具体例に基
づき説明する。
第1図はこの発明の塗布装置の概略図である。
図において、符号1は塗布液が塗布される支持体である
写真感光材料用支持体で、エアバックロール2を介して
高速搬送される。このエアバックロール2には噴射孔2a
が形成されており、エアバックロール2内の所定圧の空
気がこの噴射孔2aから写真感光材料用支持体1に吹き付
けられ、写真感光材料用支持体1を非接触状態に支持す
るようにしている。
エアバックロール2に近接して塗布液供給装置3が位置
しており、その液供給路4a,4bには流量ポンプ5a,5bの駆
動で種類の異なる塗布液が供給される。この実施例では
2種類の塗布液が供給されるが、1種類以上何種類でも
よい。液供給路4a,4bの上方には垂直の狭いスリット6a,
6bが形成され、塗布液がこのスリット6a,6bを通り、塗
布液供給装置3のスライド面7上へ流出する。このスラ
イド面7はエアバックロール2方向へ向い傾斜してお
り、流出した塗布液は層をなして流下し、スライド面7
の下端部から写真感光材料用支持体1に塗布され、この
スライド面7の下端部と写真感光材料用支持体1との間
には塗布液のビード8が形成される。
このビード8の下面側には圧力調整ボックス9が設けら
れ、この圧力調整ボックス9で下面側空気圧力を小さく
して、ビード8を上から下に押し付け、塗布を確実にし
ている。
この塗布液は種々の溶液が用いられるが、特に写真感光
材料である親水性コロイド溶液で例えばゼラチン、ポリ
ビニールアルコールなどの親水性バインダーで、粘度4
〜40cpの低粘度の塗布組成物に好適である。また、揮発
性溶剤を含む塗布液は正圧によってスライド面における
蒸発を抑制することができる。
また、前記のような親水性コロイド溶液を塗布する写真
感光材料用支持体としては、ポリエチレンテレフタレー
ト、トリアセチルセルロース、ポリプロピレンなどのプ
ラスチックフィルムや紙等の写真感光材料用支持体が用
いられる。
この写真感光材料用支持体1のエアバックロール2側面
には、バック層10が形成されており、このように塗布液
が塗布された写真感光材料用支持体1の両面にハロゲン
化銀写真感光材料を塗布するものでもよい。
エアバックロール2の内部には光学式変位センサ11が備
えられ、写真感光材料用支持体1とエアバックロール2
との間隙Lを、塗布液のビード8の形成部の近傍で測定
するようになっている。
光学式変位センサ11は第2図乃至第6図に示すように構
成されている。即ち、光学式変位センサ11の支持筒12は
エアバックロール2に軸方向と直交する方向に装着さ
れ、この支持筒12の先端部12aはエアバックロール2の
写真感光材料用支持体側2aにおいてその内面に当接し、
後端部12bにはキャップ13が螺着されている。
このキャップ13のフランジ部13aは、環状の例えばゴム
で形成された弾性体14を介してエアバックロール2の写
真感光材料用支持体1側と反対側2bに当てがわれる。こ
のキャップ13は第4図に示すように、プレート15を介し
てキャップ13のフランジ部13aに位置決めネジ16を挿通
してエアバックロール2に螺着し、さらにこの位置決め
ネジ16の間に板バネ17を介して締付ネジ18が挿通され、
この締付ネジ18でエアバックロール2に締付固定されて
いる。
板バネ17は一対の屈曲した足部17aを有しており、この
足部17aをプレート15に当接した状態で締付ネジ18を締
付けると屈曲し、これにより付勢力が与えられる。
キャップ13のフランジ部13aと、エアバックロール2と
の外側面の間には、前記弾性体14によって締付状態で所
定の間隙Sが形成されており、板バネ17で常に写真感光
材料用支持体1の方向へ付勢された支持筒12の移動を許
容するようになっている。これらが光学式変位センサ11
の押圧機構を構成しており、エアバックロール2の写真
感光材料用支持体側2aの変形に追従して移動可能に押圧
保持されている。
従って、塗布液供給装置3により、写真感光材料用支持
体1に塗布液が塗布されるとき、塗布液の温度の影響で
エアバックロール2の写真感光材料用支持体側2aが変形
すると、この変形に追従して光学式変位センサ11の支持
筒12を移動する。このため、エアバックロール2の測定
面と光学式変位センサ11の測定面とがずれることが軽減
され、写真感光材料用支持体1とエアバックロール2と
の間隙の測定精度が向上する。
さらに、キャップ13には配線19を接続するコネクタ20が
ビス21で締付けられている。
光学式変位センサ11の支持筒12の内部には光源側ユニッ
ト22がブラケット23を介して支持体24に備えられ、この
光源側ユニット22には半導体レーザ25、投光レンズ26、
スリット27が内蔵されている。この半導体レーザ25の波
長は例えば780nmが用いられ、光量も写真感光材料用支
持体1に塗布される塗布液に影響を与えないように調整
される。半導体レーザ25からの光はこの投光レンズ26、
スリット27を介して、入射部を構成するプリズム28に入
射され、このプリズム28からさらに写真感光材料用支持
体1の測定面へ入射され、ここで反射された反射光は再
びプリズム28を介して受光レンズ29で収束され、位置検
出センサ30に入力される。
プリズム28は平面形状が大径の薄型のものが用いられて
おり、ホルダ31を密着係合されている。このホルダ31は
支持筒12及びエアバックロール2の写真感光材料用支持
体側2aにOリング32,33でシールして支持され、気密性
を確保している。
従って、エアバックロール2の内部に光学式変位センサ
11を備えても、エアバックロール2内の高圧空気が支持
筒12の先端部12aとエアバックロール2の写真感光材料
用支持体側2aの間から侵入しても、プリズム28のホルダ
31によって気密性が確保されているため、エアバックロ
ール1の開口部2cや支持筒12の内部に漏れることが防止
される。
前記支持体24はプリズム28とホルダ31に固定され、この
支持体24の受部24aには第3図に示すようにフランジ34a
を有する固定バー34が螺着されている。この固定バー34
は支持プレート35に挿通して支持されており、この固定
バー34の回動で両者は近接方向へ締付固定される。さら
に、支持体24には前記半導体レーザ25及び位置検出セン
サ30の駆動回路や制御回路が設けられたプリント配線基
板36,37が取付けられている。
位置検出センサ30はセンサホルダ38に支持され、位置検
出センサ30に入射される光の位置での出力状態を位置検
出回路39で検出し、その検出信号をCRT40に入力して表
示する。このCRT40に表示される波形を第7図に示す。
光学式変位センサ11はエアバックロール2の長さにより
複数個配置され、この実施例では5個配置されており、
第7図のa〜eはその配置位置を示している。さらに、
このa〜eはエアバックロール2と写真感光材料用支持
体1との間隙、即ちビード間隙を示し、さらにこのa〜
eでの振幅が写真感光材料用支持体1の変動量を示して
いる。
第2図において、写真感光材料用支持体1が例えば左
側、即ちエアバックロール2から離れると、位置検出セ
ンサ30への反射光の入射位置が下側に移動する。
また、仮りに、写真感光材料用支持体1が右側へ移動し
てエアバックロール2に近接すると、位置検出サセン30
への反射光の入射位置が上側へ移動する。この写真感光
材料用支持体1の変動に応じて、第7図のa〜eで、そ
の写真感光材料用支持体1の変動量が垂直方向へ表示さ
れており、この実施例ではb,d,eの位置での写真感光材
料用支持体1の変動が大きくなっている。
この位置検出センサ30として半導体位置検出素子(PS
D)が用いられているが、例えば固体撮像素子(CCD)等
で構成してもよい。さらに、この位置検出センサ30は位
置調整機構41で写真感光材料用支持体1の検出位置に応
じて移動させ、測定レンジが調整可能になっている。
この位置調整機構41を構成するカムプレート42は支持体
24の受部24aに支持ピン43を介して回動可能に支持され
ている。このカムプレート42には切欠部42aが形成され
ており、この切欠部42aにはセンサホルダ38に固定され
たピン44が係合されている。従って、位置検出センサ30
はカムプレート42の作動によって水平方向へスライド
し、このカムプレート42の移動は一対の操作バー45,46
によって行なわれる。操作バー45,46の一端部は支持体2
4のの支持部24bを貫通し、それぞれカムプレート42の支
持ピン43を挟んだ対称位置に当接し、他端部は支持プレ
ート35に挿通されている。この操作レバー45,46のいず
れか一方、例えば右側を押動すると、カムプレート42が
左側へ回動し、左側を押動するとカムプレート42が右側
へ回動し、このカムプレート42に連動して位置検出セン
サ30が移動し、測定位置の調整が行なわれる。
この位置検出センサ30の固定は位置規制バー47によって
行なわれ、この位置規制バー47の一端部は支持体24の図
示しない支持部に挿通され、他端部は支持プレート35に
螺着され、後端側から工具で回動すると、その先端がセ
ンサホルダ38を押圧して位置の規制を行なう。
[発明の効果] この発明において、写真感光材料用支持体に光を照射し
写真感光材料用支持体とエアバックロールとの間隙を測
定する光学式変位センサを前記エアバックロールに備
え、この光学式変位センサは押圧機構を介してエアバッ
クロールの変形に追従して移動可能に押圧保持されるか
ら、光学式変位センサはエアバックロールが写真感光材
料用支持体に塗布される塗布液の影響で変化すると、こ
の変形に応じて押圧機構によって追従して移動する。こ
のため、エアバックロールの測定面と、光学式変位セン
サの測定面との位置がずれることがないから、エアバッ
クロールが熱変形しても、写真感光材料用支持体とエア
バックロールとの間隙測定への悪影響を軽減することが
でき、測定精度が向上する。
【図面の簡単な説明】
第1図はこの発明塗布装置の概略図、第2図は光学式変
位センサの横断面図、第3図は光学式変位センサの縦断
面図、第4図は光学式変位センサの側面図、第5図はキ
ャップの取付状態を示す一部斜視図、第6図は第3図の
VI−VI断面図、第7図は測定波形を示す図である。 図中符号1は写真感光材料用支持体、2はエアバックロ
ール、3は塗布液供給装置、8はビード、9は圧力調整
ボックス、11は光学式変位センサ、13はキャップ、14は
弾性体、17は板バネ、18は締付ネジである。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 水越 智秀 東京都日野市さくら町1番地 コニカ株式 会社内 (56)参考文献 特開 昭57−63164(JP,A) 特開 昭62−163773(JP,A)

Claims (1)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】走行する写真感光材料用支持体にエアバッ
    クロールから気体を噴射し、写真感光材料用支持体を非
    接触状態に支持し、この写真感光材料用支持体の表面に
    塗布液のビードを形成して塗布する塗布装置において、
    前記写真感光材料用支持体に光を照射し写真感光材料用
    支持体とエアバックロールとの間隙を測定する光学式変
    位センサを前記エアバックロールに備え、この光学式変
    位センサは押圧機構を介してエアバックロールの変形に
    追従して移動可能に押圧保持されることを特徴とする塗
    布装置。
JP62296398A 1987-11-25 1987-11-25 塗布装置 Expired - Lifetime JPH07117699B2 (ja)

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JPH01137250A JPH01137250A (ja) 1989-05-30
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPS5763164A (en) * 1980-10-02 1982-04-16 Konishiroku Photo Ind Co Ltd Coating device
JPH069670B2 (ja) * 1986-01-16 1994-02-09 富士写真フイルム株式会社 塗布方法

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