JP7375812B2 - 塗布装置、並びにヘッドユニット - Google Patents

Description

本発明は、被塗工体上に所定の厚みで液体材料を塗布する塗布装置、並びにその塗布装置に組み込まれるヘッドユニットに関する。
本願は、２０１９年３月２８日に出願された日本国特願２０１９－０６２１８４号に基づき優先権を主張し、その内容をここに援用する。

従来より、被塗工体としての薄い基板やフィルムシートの表面に、液体材料（塗布液）を一様な厚さで塗布する為の各種の方法が知られている。半導体素子の製造工程等では、液体のフォトレジスト（感光剤）を高速に回転する半導体ウェハ上に滴下して遠心力で半導体ウェハの表面に均一な厚みでレジストの塗膜を形成するスピンコート方式が使われている。また、液晶や有機ＥＬによる表示パネルの製造工程では、大面積のガラス基板（１ｍ～３ｍ角）上に各種の液体材料による塗膜を形成する必要があるが、スピンコート方式では難しいため、スクリーン塗工法、グラビアロール塗工法、ダイコート塗工法等の印刷方式が使われている。そのうちのダイコート塗工法は、大きな面積に渡って均一な厚みで塗膜を形成できることから、精密な塗布作業が求められる製造工程で多用されている。ダイコート塗工法は、被塗工体（基板）を所定の速度で移動させつつ、その移動方向と直交した方向（基板の幅方向）に直線的に延びた微小幅のスリット（スロット、リップとも呼ぶ）開口から吐出する液体材料を被塗工体の表面に接液させる方法である。そのようなダイコート塗工法による塗布装置（エクストルージョン方式のダイコーター）の一例が、以下の特許文献１に開示されている。

特許文献１には、可撓性のウェブの表面に、ダイコータの塗布ヘッドのスリットから吐出される塗布液を過剰な厚みで塗工した後、バー塗布装置のヘッドによって過剰分の塗布液を掻き落として、塗布層を所望の厚さに制御することが開示されている。さらに特許文献１では、ダイコータの塗布ヘッドからの塗布液の吐出量を調整する為に、塗布ヘッドのスリットの開口間隙（ギャップ）をボルトの回転によって調整する間隔調整部材が、塗布ヘッドのスリットが延びる方向（長手方向）の複数個所の各々に設けられている。そして、予め測定されたウェブの幅方向（塗布ヘッドのスリットが延びる方向）の塗布液の厚さ分布（断面が凹状、又は凸状）が補償されるように複数の間隔調整部材を調整して、ウェブの幅方向に関して指定された厚さ分布となるように塗布液を塗工している。しかしながら特許文献１では、複数の間隔調整部材で調整されるスリットの開口間隙の長手方向における分布を直接的に把握していない為、各間隔調整部材のボルトの調整量（回転量）は、ウェブに塗工された後の塗布液の厚さ分布から判断される経験則によって適切な状態に追い込むことになる。

特開２００７－００７５７１号公報

本発明の第１の態様は、基板支持機構で支持される被処理基板の表面と対向した先端部に、第１方向にスリット状に延びて形成された開口部から塗布液を吐出して、前記被処理基板の表面に前記塗布液を塗工する塗布装置であって、前記塗布液を一時的に貯留する為に前記第１方向に延設された貯留部と、前記貯留部から前記先端部の開口部に向けて前記塗布液を通す流路を形成する為に、所定の間隔で対向して前記第１方向に延設された一対の内壁面を形成するように対向する一組のスロット片部材で構成されるスロット部とを有するヘッド機構と、前記一組のスロット片部材のうちの少なくとも一方側に設けられて、前記一対の内壁面の前記間隔、又は前記間隔の変化に対応した計測信号を出力する計測機構と、を備える。

本発明の第２の態様は、基板支持機構で支持される被処理基板の表面と対向した先端部に、第１方向にスリット状に延びて形成された開口部から吐出される塗布液を、前記被処理基板の表面に所定の厚さで塗布する塗布装置であって、前記塗布液を一時的に貯留する為に前記第１方向に延設された貯留部から前記先端部の開口部に向けて前記塗布液を通す流路を形成するように、所定の間隔で対向して前記第１方向に延設された一対の内壁面で構成されるダイヘッド機構と、前記第１方向と直交した第２方向における前記開口部の幅の変化を検出する為に、前記一対の内壁の前記間隔の変化を計測する開口幅計測機構と、を備える。

本発明の第３の態様は、基板支持機構で支持される被処理基板の表面と対向した先端部に、第１方向にスリット状に延びて形成された開口部から吐出される塗布液を、前記被処理基板の表面に所定の厚さで塗布する塗布装置であって、前記塗布液を一時的に貯留する為に前記第１方向に延設された貯留部と、前記貯留部から前記先端部の開口部に向けて前記塗布液を通す流路を形成する為に、所定の間隔で対向して前記第１方向に延設された一対の内壁面を形成するスロット片部材で構成されるスロット部とを有するヘッド機構と、前記一対の内壁面のうちの少なくとも一方の内壁面を構成する前記スロット片部材に対して透過性を有するエネルギー線の照射によって、前記流路を通る前記塗布液の状態を観察する観察機構と、を備える。

本発明の第４の態様は、第１方向にスリット状に延びた開口部から被処理基板の表面に所定の厚さで塗布液を吐出するダイコート方式の塗布装置のヘッドユニットであって、前記塗布液を一時的に貯留する為に前記第１方向に延設された貯留部から前記開口部に向けて前記塗布液を通す流路を形成する為に、所定の間隔で対向して前記第１方向に延設された一対の内壁面の一方を形成する第１のスロット片部材と、該第１のスロット片部材と対向して配置され、前記一対の内壁面の他方を形成する第２のスロット片部材とを備え、前記第１のスロット片部材と前記第２のスロット片部材のいずれか一方の全体、又は前記内壁面を形成する部分を誘電体材料で構成する。

第１の実施の形態によるロール・ツー・ロール（Roll to Roll）方式の塗布装置の全体構成を示す図である。 図１に示した塗布装置のうち、塗工ヘッド部と回転ドラムの部分の構成を拡大して示す斜視図である。 図１に示した塗布装置のうち、塗工ヘッド部を支持して上下方向に移動（微動）させる為の支持機構の概略的な構成を示す斜視図である。 図１に示した塗布装置内に設けられる計測部からの情報を処理すると共に、各駆動部の制御を行う制御機構（制御装置）の概略的な構成を示すブロック図である。 図１～図４で示した塗工ヘッド部（ダイコート用のヘッドユニット）を分解して、各部の構造を詳細に示す斜視図である。 図５に示したヘッドユニットＤＣＨをＸＺ面と平行な面で切断した部分断面と、第１の実施形態におけるセンサーユニットＳＵとの配置関係を示す図である。 図２、図６に示したセンサーユニットＳＵの具体的な光学構成を示す斜視図である。 図７に示したセンサーユニットＳＵの光学構成における共役関係と各ビームの収斂／発散の様子をＸＺ面内で誇張して表した光路図である。 図７に示した開口絞り４０から面Ｃｐまでの光路部分の光学部材（開口絞り４０、レンズ系４１、反射ミラー４２）の配置を拡大して表した斜視図である。 図９中のレンズ４１ａを等速度で移動させたときに、図８のフォトセンサー４４から出力される光電信号４４Ａの強度変化の様子を表したグラフである。 ヘッドユニットＤＣＨのスロット部ＳＬＴの幅を形成するリップ片部材ＨＡの内側の壁面ＨＡ１とリップ片部材ＨＢの内側の壁面ＨＢ１とのＸＹ面内における変形の様子を誇張して表した図である。 図４の塗工制御部１０Ａ、図１中の主制御ユニット１０に設けられる制御用の表示モニター装置（ディスプレー）ＤＳＰの表示画面の一例を表す図である。 スロット部ＳＬＴの先端の開口部ＳＳの幅を調整する為の駆動ユニットＡＣＤをピエゾ素子とした場合のヘッドユニットＤＣＨの構成の部分断面を示す図である。 スロット部ＳＬＴの先端の開口部ＳＳの幅を調整する為の駆動ユニットＡＣＤを粗微動型のマイクロメータヘッドとした場合のヘッドユニットＤＣＨの構成の部分断面を示す図である。 第２の実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ２の全体構成をリップ片部材ＨＡ側から見た斜視図である。 第２の実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ２の全体構成をリップ片部材ＨＢ側から見た斜視図である。 第２の実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ２の全体構成をＹ方向（スロット部ＳＬＴが延びる方向）から見た端面図である。 第２の実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ２の全体構成を下側（スロット部ＳＬＴの開口部ＳＳ側）から見た斜視図である。 第３の実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ３をＹ方向（スロット部ＳＬＴが延びる方向）から見た側面図である。 第３の実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ３のＹ方向の一部分をＸＺ面と平行な面で破断した断面図である。 第３の実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ３の－Ｙ方向側の端部付近をリップ片部材ＨＢ側の下方から見た斜視図である。 第４の実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ４の構成をＹ方向から見た部分断面図である。 図２２に示した渦電流センサーＳＫ１によってスロット部ＳＬＴの幅（又は幅の変化）を計測する計測回路の一例を示す回路ブロック図である。 第５の実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ５の構成をＹ方向から見た部分断面と、スロット部ＳＬＴの幅（又は幅の変化）を静電容量の変化によって計測する回路の一例を示す回路ブロック図である。 センサーユニットＳＵとして図２４の静電容量センサーを用いる場合の変形例による概略構成を示す図である。 第６の実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ６の構成をＹ方向から見た部分断面と、スロット部ＳＬＴを流れる塗布液Ｌｑの状態を監視する撮像部の概略的な配置とを示す図である。 第７の実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ７の構成をＹ方向から見た部分断面と、スロット部ＳＬＴの幅（又は幅の変化）を分光干渉計で計測する場合の構成を示す図である。 塗布装置の変形例による概略構成を示す図であり、回転ドラム式の塗布装置におけるヘッドユニットＤＣＨの配置の変形例を示す。 塗布装置の変形例による概略構成を示す図であり、平坦搬送式の塗布装置におけるヘッドユニットＤＣＨの配置の変形例を示す。

本発明の態様に係る塗布装置、或いは塗布装置のヘッドユニットについて、好適な実施の形態を掲げ、添付の図面を参照しながら以下で詳細に説明する。なお、本発明の態様は、これらの実施の形態に限定されるものではなく、多様な変更または改良を加えたものも含まれる。つまり、以下に記載した構成要素には、当業者が容易に想定できるもの、実質的に同一のものが含まれ、以下に記載した構成要素は適宜組み合わせることが可能である。また、本発明の要旨を逸脱しない範囲で構成要素の種々の省略、置換または変更を行うことができる。

［第１の実施の形態］
図１～図４は、第１の実施の形態によるダイコート（スリットコート）方式の塗布装置の概略的な全体構成を示す図である。本実施の形態では、図１に示すように、ロール・ツー・ロール（Roll to Roll）方式でフレキシブルな長尺のシート基板Ｐ上に塗布液を塗工して乾燥させるスタンドアロンタイプの塗布装置を例示する。しかしながら、スタンドアロンタイプではなくインラインタイプの塗布装置としても良い。インラインタイプとは、電子デバイス等を製造する為の複数の工程の各々を担う各種の処理装置がシート基板Ｐの搬送方向に沿って並んだ製造ライン中に組み込まれる形態の塗布装置である。

図１に示すように、設置場所（工場等）の床面１に設置される本実施の形態の塗布装置は、塗工処理すべき長尺のシート基板Ｐが巻かれた供給ロール２、供給ロール２にモータによって回転駆動力（トルク）を付与する駆動部３、供給ロール２から引き出されるシート基板Ｐをダイコート方式の塗工部５に搬送するローラＲａ、Ｒｂ、Ｒｃ、シート基板Ｐを安定に支持して一定速度で搬送する回転ドラムＤＲ（基板支持機構）、ニップローラＮＲ、シート基板Ｐの表面に塗布された塗布液を乾燥させる為の乾燥ユニット６Ａ、６Ｂ、乾燥ユニット６Ａ、６Ｂ内でシート基板Ｐを支持する複数のローラＲｅ、Ｒｆ、乾燥後のシート基板Ｐを巻き取る回収ロール７、回収ロール７にモータによって回転駆動力（トルク）を付与する駆動部８、そして、塗布装置の全体の動作を制御する主制御ユニット１０等を備える。なお、図１において、直交座標系ＸＹＺのＺ軸は重力方向とし、Ｚ軸と垂直なＸＹ面は床面１と平行な水平面とし、供給ロール２、回収ロール７、ローラＲａ～Ｒｃ、Ｒｅ～Ｒｇ、ニップローラＮＲ、回転ドラムＤＲの各々の回転中心線はＹ軸と平行に設置される。

さらに、本実施の形態による塗布装置は、シート基板Ｐの搬送方向に関して回収ロール７の上流側に配置されるローラＲｇの位置で、シート基板Ｐの表面の塗膜の厚みの平均値やシート基板Ｐの幅方向（図１中のＹ方向）の厚み分布等を計測する膜厚計測ユニット１２も備えている。また、塗工部５のダイコートのヘッドユニットＤＣＨに対してシート基板Ｐを安定に支持する回転ドラムＤＲは、シート基板Ｐの長尺方向（搬送方向）に関する塗膜の厚みムラの発生を低減する為に、モータを含む回転駆動部４によって所定の回転速度で精密に回転するように主制御ユニット１０によって制御される。主制御ユニット１０は、供給ロール２から回転ドラムＤＲ（及びニップローラＮＲ）までの間で各ローラＲａ、Ｒｂ、Ｒｃを通るシート基板Ｐに所定のテンションを与えるように、供給ロール２に回転トルクを付与する駆動部３を制御する。

同様に主制御ユニット１０は、回転ドラムＤＲから回収ロール７までの間で各ローラＲｅ、Ｒｆ、Ｒｇを通るシート基板Ｐに所定のテンションを与えるように、回収ロール７に回転トルクを付与する駆動部８を制御する。さらに主制御ユニット１０は、塗工部５内に設けられた計測センサーからの計測情報の収集、塗工部５内に設けられた駆動機構（アクチュエータ）への駆動情報（目標値やパラメータ等）の送出、膜厚計測ユニット１２からの計測情報の収集、乾燥ユニット６Ａ、６Ｂへの設定情報（加熱温度や風速等のパラメータ）の送出等を行う。

本実施の形態の塗布装置では、図１に示すように、シート基板Ｐの搬送方向に沿って２つの乾燥ユニット６Ａ、６Ｂが配置されているが、これは、シート基板Ｐに塗布される塗布液の種類や塗布厚によって乾燥条件が異なることに対応する為である。例えば、常温でも揮発性の高い溶剤を含む塗布液を塗工する場合、最初の乾燥ユニット６Ａでは溶媒を素早く蒸発させて排気する為に、乾燥ユニット６Ａ内に乾燥用の気体ＤｒＡが早い風速で流れるように設定され、後段の乾燥ユニット６Ｂでは溶剤がほとんど抜けた状態の塗布液を十分に硬化させる為に比較的に高い温度（９０℃～２００℃）に設定される。乾燥ユニット６Ａ、６Ｂの各々の内部空間は、電熱ヒータ、赤外線ランプ、セラミックヒータ等によって所定の温度に設定される。なお、シート基板Ｐの母材は、ＰＥＴ（ポリエチレン・テレフタレート）フィルム、ＰＥＮ（ポリエチレン・ナフタレート）フィルム、ポリイミドフィルム等の樹脂材とするが、その他に、例えば厚さ１００μｍ以下の極薄のシート状に形成した可撓性を持たせたガラス材、圧延等で薄くシート状に形成したステンレス等の金属材、或いはセルロースナノファイバーを含有する紙材等であっても良い。

図２は、図１に示した塗布装置のうちの塗工部５のヘッドユニット（ヘッド機構）ＤＣＨと回転ドラムＤＲの配置や構成を拡大して示す斜視図である。金属製の回転ドラムＤＲは、回転の中心線ＡＸｏと同軸に取り付けられて回転駆動部４からのトルクが与えられるシャフトＳｆｔと、中心線ＡＸｏから半径φｄの円筒面状の外周面ＤＲａとを有する。シャフトＳｆｔは、中心線ＡＸｏが床面１（ＸＹ面）と平行でＹ軸と平行になるように塗布装置のボディフレームにベアリングを介して固定され、ＸＺ面内で時計回りに回転される。ゴム製のニップローラＮＲは、中心線ＡＸｏと垂直なＸＺ面内で見たとき、回転ドラムＤＲの外周面ＤＲａのうちのシャフトＳｆｔよりも下方の位置でシート基板Ｐをニップするように配置される。シート基板Ｐは、ニップローラＮＲに向けて＋Ｘ方向にほぼ水平に搬送された後、回転ドラムＤＲの外周面ＤＲａに巻き付いた状態で回転ドラムＤＲの上方の位置まで搬送され、そこからほぼ水平に＋Ｘ方向に一定の速度で搬送される。ヘッドユニットＤＣＨは、回転ドラムＤＲの外周面ＤＲａの最上部の位置でシート基板Ｐの表面に塗布液Ｌｑを吐出する。

本実施の形態におけるヘッドユニット（ヘッド機構）ＤＣＨは、Ｙ方向に細長く形成されて、Ｘ方向に結合される一対のリップ片部材（スロット片部材とも呼ぶ）ＨＡ、ＨＢと、ヘッドユニットＤＣＨのＹ方向の両端部の各々でリップ片部材ＨＡ、ＨＢと結合される端部板ＨＣとで構成される。ヘッドユニットＤＣＨの内部には、塗布液Ｌｑを一時的に貯留する為に、ＸＺ面内でほぼ半円形の断面形状でくり貫かれてＹ方向に延設されたマニホールドＭＨ（貯留部）と、マニホールドＭＨの下端部から－Ｚ方向に延設されて、塗布液Ｌｑを通すスロット部ＳＬＴとが形成されている。スロット部ＳＬＴは一対のリップ片部材ＨＡ、ＨＢが結合される部分に形成され、スロット部ＳＬＴのＸ方向の幅は、塗布液Ｌｑの粘性や設定される塗布厚に応じて、数μｍ～数十μｍに設定される。スロット部ＳＬＴのＹ方向の長さは、シート基板ＰのＹ方向の幅よりも小さく設定されている。スロット部ＳＬＴの最下端部はスリット状の開口となっており、塗布液Ｌｑが一様な流量で吐出する。塗布液Ｌｑは、一対のリップ片部材ＨＡ、ＨＢのうち－Ｘ方向に位置するリップ片部材ＨＢの側面部に接続される供給チューブＳＴを介して、ヘッドユニットＤＣＨ内のマニホールドＭＨ内に加圧された状態で供給される。これにより、塗布液ＬｑはマニホールドＭＨ内に所定の圧力で満たされ、スロット部ＳＬＴ内を通ってシート基板Ｐに向けて吐出される。

本実施の形態では、ヘッドユニットＤＣＨ内のスロット部ＳＬＴ（或いはスリット状の開口）のＸ方向の間隔（リップ間隔、スロット幅）を計測する為に、リップ片部材ＨＡは光学ガラス、石英等の透明な硝材、又はアクリル製やシクロオレフィンポリマー（ＣＯＰ）製等の透明な樹脂材で作られている。これらの硝材や樹脂材は電気的に絶縁性が高い誘電体材料である。リップ片部材ＨＡの外側（＋Ｘ方向側）には、スロット部ＳＬＴ（或いはスリット状の開口）のＸ方向の間隔を計測する為のセンサーユニット（開口幅計測機構）ＳＵがＹ方向に所定の間隔で複数配置されている。また、リップ片部材ＨＢは、スロット部ＳＬＴのＸ方向の間隔（リップ間隔、スロット幅）を微調整できるようにステンレス（ＳＵＳ）等の金属材料で作られている。リップ片部材ＨＢの外側（－Ｘ方向側）には、スロット部ＳＬＴ（或いはスリット状の開口）のＸ方向の間隔を微調整する為の駆動ユニット（アクチュエータ）ＡＣＤがＹ方向に所定の間隔で複数配置されている。本実施の形態では、複数のセンサーユニットＳＵの各々で計測されるスロット部ＳＬＴの間隔に関する計測情報に基づいて、塗工動作中であっても、スロット部ＳＬＴの幅のＹ方向に関する偏差（幅の誤差分布）をリアルタイムに計測することが可能となる。

さらに、本実施の形態では、計測されたスロット部ＳＬＴの幅の誤差分布に関する計測情報に基づいて、複数の駆動ユニットＡＣＤによって、スロット部ＳＬＴの幅のＹ方向の誤差分布を調整することが可能である。駆動ユニットＡＣＤは、従来の特開２００７－００７５７１号公報に開示されているようなネジによる手動の調整機構であっても良いが、本実施の形態では、推力を発生するアクチュエータを組み込んだ自動の調整機構とする。またセンサーユニットＳＵは、本実施の形態では、光透過性の硝材によるリップ片部材ＨＡを介してスロット部ＳＬＴの幅（Ｘ方向の間隔）、すなわちスロット部ＳＬＴ内に満たされる塗布液ＬｑのＸ方向の厚みを光学的に計測するように構成される。その為、センサーユニットＳＵの計測用のエネルギー線としての光（ビーム）は、塗布液Ｌｑに対して透過性を持つ波長帯域に設定される。

図３は、図１に示した塗布装置の塗工部５のヘッドユニットＤＣＨを支持して上下方向（Ｚ方向）に移動させる為の支持機構の概略的な構成を示す斜視図であり、図２で示したセンサーユニットＳＵの図示は省略してある。図３において、ヘッドユニットＤＣＨのＹ方向の両端部の各々には、固定部材２０Ａ、２０Ｂが取り付けられ、固定部材２０Ａ、２０Ｂの各々はＺ方向に延設されたガイド部材２１Ａ、２１Ｂに沿って上下方向に移動可能に支持される。ガイド部材２１Ａ、２１Ｂは塗布装置のボディフレームに固定され、ガイド部材２１Ａ、２１Ｂの各々の上部には、ヘッドユニットＤＣＨの上端部と結合されたピストン部２３Ａ、２３ＢをＺ方向に駆動するＺ駆動部２２Ａ、２２Ｂが設けられている。

Ｚ駆動部２２Ａ、２２Ｂは、シート基板Ｐの先端部を回転ドラムＤＲの外周面ＤＲａに掛け回す際に、ヘッドユニットＤＣＨを外周面ＤＲａから上方に退避させたり、ヘッドユニットＤＣＨの下端部のスリット状の開口部（リップ開口部、スロット開口部）ＳＳとシート基板Ｐの表面との間のギャップを所定量に設定（微調整）したりする為に、ヘッドユニットＤＣＨを上下動する。さらに、Ｚ駆動部２２Ａによるピストン部２３ＡのＺ方向の駆動量と、Ｚ駆動部２２Ｂによるピストン部２３ＢのＺ方向の駆動量とを個別に調整することで、ヘッドユニットＤＣＨの開口部ＳＳのＹ方向に延びるエッジ端とシート基板Ｐの表面とのＹ方向の平行度を微調整することができる。Ｚ駆動部２２Ａ、２２Ｂは、送りネジによる粗微動マイクロメータヘッドによる手動の駆動機構であっても良いが、本実施の形態では、推力を発生するアクチュエータを組み込んだ自動の駆動機構とする。

図４は、図１～図３に示した塗布装置の塗工部５内の各駆動部と、主制御ユニット１０内に設けられる塗工制御部１０Ａとの接続関係を示す制御系のブロック図である。塗工部５内には、図２、図３で示したヘッドユニットＤＣＨ、複数のセンサーユニットＳＵ、複数の駆動ユニットＡＣＤ、及びＺ駆動部２２Ａ、２２Ｂの他に、複数のセンサーユニットＳＵの各々からの計測信号を入力して、ヘッドユニットＤＣＨのスロット部ＳＬＴのＸ方向の幅、或いは、その幅のＹ方向における誤差分布に関する計測情報３０Ａを塗工制御部１０Ａに出力する計測処理部３０と、塗工制御部１０Ａからの指令情報３１Ａに基づいて、複数の駆動ユニットＡＣＤの各々に駆動信号を出力する駆動制御部３１とが設けられる。さらに、塗工部５には、タンク３２内の塗布液ＬｑをチューブＳＴａを介して吸い上げて、ヘッドユニットＤＣＨ内のマニホールドＭＨに接続される供給チューブＳＴに供給するポンプ３３と、供給される塗布液Ｌｑの圧力を計測する圧力計３４とが設けられる。圧力計３４で計測された計測情報３４Ａは、塗工制御部１０Ａに送出され、塗工制御部１０ＡはヘッドユニットＤＣＨに供給される塗布液Ｌｑの圧力が目標値になるようにポンプ３３をサーボ制御する。

塗工制御部１０Ａは、図１に示した膜厚計測ユニット１２からの計測情報１２Ａを入力して、塗工された塗布液Ｌｑの厚みや厚みムラに応じた補正情報を生成して、駆動制御部３１に補正の為の指令情報３１Ａを送出する機能も有する。また塗工制御部１０Ａは、回転駆動部４をサーボ制御して回転ドラムＤＲを目標となる回転速度で回転させると共に、Ｚ駆動部２２Ａ、２２Ｂをサーボ制御してヘッドユニットＤＣＨのＺ方向の高さ位置の調整を行う。さらに塗工制御部１０Ａには、塗工動作中に生じ得る不具合（エラー）に応じて、塗工動作を緊急に停止させたり、警告メッセージを生成したりする為の発報装置３６が接続されている。発報装置３６は、塗工制御部１０Ａ内に収集される各種の計測情報や生成される駆動制御の情報等に基づいて塗工動作の可否や動作条件（パラメータ）の適否を判定すると共に、緊急停止ボタンからの停止信号も入力する。

なお、不図示ではあるが、例えば国際公開第２０１３／１４６１８４号パンフレットに開示されているように、回転ドラムＤＲ（基板支持機構）のシャフトＳｆｔと同軸に、回転ドラムＤＲの半径φｄとほぼ同じ半径を有するエンコーダ計測用のスケール円盤を設け、スケール円盤の外周面に周方向に沿って格子状に刻設された目盛（スケール部）をエンコーダヘッドで読み取る構成を設けても良い。そしてエンコーダヘッドから出力される計測信号（９０°の位相差を有する２相信号等）に基づいて求められる回転ドラムＤＲの外周面ＤＲａの周速度を用いて、回転駆動部４をサーボ制御すると良い。その際、回転ドラムＤＲの中心線ＡＸｏから見たとき、エンコーダヘッドの読み取り位置とヘッドユニットＤＣＨの塗布液Ｌｑの吐出位置（塗工位置）とをほぼ同じ方位に配置することにより、回転ドラムＤＲの外周面ＤＲａの周速度のムラが塗工位置で高精度に計測できるので、サーボ制御によって周速度のムラを十分に小さく抑えることができる。

〔ヘッドユニットＤＣＨ〕
図５は、本実施の形態における塗工部５のヘッドユニットＤＣＨの構造を分解して示す斜視図である。図２～図４で示したように、ヘッドユニットＤＣＨは光透過性の硝材（石英等）によるリップ片部材ＨＡと金属製（ＳＵＳ等）のリップ片部材ＨＢとを貼り合せた構造となっている。図５では図２に示した端部板ＨＣの図示は省略する。リップ片部材ＨＡは、Ｙ方向に細長い板状に形成され、リップ片部材ＨＡのリップ片部材ＨＢと対向する側（内側）の面ＨＡ１（内壁面ＨＡ１とも呼ぶ）とその反対側（外側）の面ＨＡ２（外壁面ＨＡ２とも呼ぶ）とはＹＺ面と平行に設定され、その厚み（面ＨＡ１と面ＨＡ２のＸ方向の間隔）は、マニホールドＭＨ内やスロット部ＳＬＴ内に満たされる塗布液Ｌｑの圧力によって大きく変形しない程度に設定される。本実施の形態では、リップ片部材ＨＡの面ＨＡ１は、スロット部ＳＬＴの一方の面（内壁面）となる為、全面が光学研磨等によって均一な平面に仕上げられている。

リップ片部材ＨＡの外側の面ＨＡ２に対して－Ｚ方向（下側）に連なる外側の面ＨＡ３は、内側の面ＨＡ１との間の厚みが小さくなるように加工されている。外側の面ＨＡ３は、内側の面ＨＡ１と平行に形成されており、図２で示した複数のセンサーユニットＳＵは、外側の面ＨＡ３からスロット部ＳＬＴのＸ方向の幅を計測する。リップ片部材ＨＡの外側の面ＨＡ３から－Ｚ方向（下側）にテーパー状に連なる面の先端部ＨＡ４は、図３又は図４に示したスリット状の開口部（リップ開口部、スロット開口部）ＳＳのＹ方向に延びたエッジとなる部分である。実際の先端部ＨＡ４は、Ｘ方向の幅が０．５ｍｍ～数ｍｍ程度でＸＹ面と平行になった面、又はＸＺ面内で微細な曲率半径で丸められた面となるように研磨されている。さらに、リップ片部材ＨＡのＹ方向の両端側と＋Ｚ方向（上方）の端部には、リップ片部材ＨＢとの貼り合せの為の締結ネジＦＳを貫通させる複数の孔ＨＡ５が形成されている。

リップ片部材ＨＢは、Ｙ方向に細長い板状に形成され、リップ片部材ＨＢのリップ片部材ＨＡの内側の面ＨＡ１と接触して締結される内側の面ＨＢ２、ＨＢ３に対して、ＸＺ面内で半円状に窪ませたマニホールドＭＨと、スロット部ＳＬＴの他方の面（内壁面）となるように、面ＨＢ２に対してスロット部ＳＬＴのＸ方向の間隔分だけ研磨によって一様に凹ませた平坦な面ＨＢ１（内壁面ＨＢ１とも呼ぶ）とを有する。本実施の形態では、面ＨＢ１のＹ方向の長さがシート基板Ｐ上に塗工可能なＹ方向の幅に対応しており、面ＨＢ１の－Ｚ方向（下方）の先端部ＨＢ４は、図３又は図４に示したスリット状の開口部（リップ開口部、スロット開口部）ＳＳのＹ方向に延びたエッジとなる部分である。リップ片部材ＨＢの内側のマニホールドＭＨとスロット部ＳＬＴを形成する面ＨＢ１とを囲むように配置される面ＨＢ２、ＨＢ３には、締結ネジＦＳが螺合する複数のネジ孔ＨＢ５が形成されている。また、マニホールドＭＨには、図４に示したように、供給チューブＳＴからの塗布液Ｌｑを流入させる為のポート部（開口）ＳＴ’が形成されている。なお、不図示ではあるが、複数の締結ネジＦＳで貼り合わされたリップ片部材ＨＡとリップ片部材ＨＢとが接触する面ＨＡ１と面ＨＢ２、ＨＢ３との界面には、加圧された塗布液Ｌｑの滲み出しを防止する為の極薄のパッキングシート材が挟み込まれる。

図５に示したヘッドユニットＤＣＨでは、塗布液Ｌｑの流路となるスロット部ＳＬＴの内壁を構成するリップ片部材ＨＡの内側の面ＨＡ１と、リップ片部材ＨＢの内側の面ＨＢ１との平行性を高精度に保つことによって、シート基板Ｐ上に塗工される塗布液Ｌｑの厚みのＹ方向の均一性が確保できる。しかしながら、図５の構造から明らかなように、リップ片部材ＨＡの先端部ＨＡ４側とリップ片部材ＨＢの先端部ＨＢ４側とは、スロット部ＳＬＴ（開口部ＳＳ）を形成する必要が有る為、締結ネジＦＳ等による締結ができない。その為、特に粘性の高い塗布液Ｌｑを高い圧力でスロット部ＳＬＴ内に通すような場合、開口部ＳＳ付近のリップ片部材ＨＡ、ＨＢが互いに外側に膨らむように変形し、その結果、開口部ＳＳでのスリット幅がＹ方向に関して均一でなくなり、塗工された塗布液Ｌｑの厚さにムラが生じることになる。そこで、本実施の形態では、センサーユニットＳＵを用いて、スロット部ＳＬＴ（開口部ＳＳのスリット）のＸ方向の幅の変化を光学的に計測する。

〔センサーユニットＳＵ（開口幅計測機構）の構成〕
図６は、図５に示したヘッドユニットＤＣＨをＸＺ面と平行な面で切断した部分断面と、本実施の形態におけるセンサーユニットＳＵとの配置関係を示す図である。図６に示すように、本実施の形態におけるセンサーユニットＳＵは、光透過性のリップ片部材ＨＡの外側の面ＨＡ３からＺ方向に位置ずれした２本の計測用の光ビームＢＭａ、ＢＭｂの各々を光軸ＡＸｍに沿ってスロット部ＳＬＴに向けて投射し、リップ片部材ＨＡの内側の面ＨＡ１での光ビームＢＭａの反射ビームと、リップ片部材ＨＢの内側の面ＨＢ１での光ビームＢＭｂの反射ビームとの光学特性の変化を検出して、スロット部ＳＬＴのＸ方向の幅（ギャップ）ΔＳｇの変化を計測する。図６において、スロット部ＳＬＴ内には塗布液Ｌｑが－Ｚ方向（下方）に一定の流量で流され、先端の開口部ＳＳ（先端部ＨＡ４、ＨＢ４）から吐出する塗布液Ｌｑは、シート基板Ｐの表面と開口部ＳＳとのＺ方向のギャップ量ΔＺｇ、塗布液Ｌｑの粘性やシート基板Ｐの移動速度（周速度）に応じて、Ｘ方向に関してメニスカス状の液溜りＬｑａを形成した後、シート基板Ｐの移動に伴ってＸ方向に引っ張られていく。

本実施の形態では、光ビームＢＭａのリップ片部材ＨＡの面ＨＡ１での反射率、及び光ビームＢＭｂのリップ片部材ＨＢの面ＨＢ１での反射率を高める為に、面ＨＡ１及び面ＨＢ１の一部分に耐酸性、耐アルカリ性の金（Ａｕ）等の貴金属、又は耐酸性、耐アルカリ性の物質による反射膜ＲＦａ、ＲＦｂが形成される。反射膜ＲＦａと反射膜ＲＦｂは、投射される光ビームＢＭａ、ＢＭｂの高さ方向（Ｚ方向）の位置ずれ量に対応してＺ方向のずれた位置に、真空蒸着等によって１μｍ以下の厚み、望ましくは０．５μｍ～０．１μｍ程度の厚みで形成される。先の図２で示したように、センサーユニットＳＵはリップ片部材ＨＡの面ＨＡ３と対向してＹ方向に複数並べられる為、反射膜ＲＦａ、ＲＦｂは、光軸ＡＸｍの高さ位置を挟んでＺ方向に位置ずれした状態で、それぞれＹ方向にベルト状に連続して形成しても良い。

また、光ビームＢＭａ、ＢＭｂの波長は、塗布液Ｌｑがフォトレジストや紫外線硬化樹脂のように、主に紫外域の波長帯域（波長４５０ｎｍ以下）に感光感度を有する感光性塗布液の場合は、その感光感度の波長帯域よりも長い非感光性の波長帯となるように設定される。また、スロット部ＳＬＴ内の塗布液Ｌｑの厚み（幅ΔＳｇ）が数十μｍ程度と薄くても、紫外波長～可視波長での光透過率が低くなる塗布液Ｌｑの場合は、光ビームＢＭａ、ＢＭｂの波長を赤外域（波長７００ｎｍ以上）に設定しても良い。

図６に示したセンサーユニットＳＵは、光ビームＢＭａを面ＨＡ１の反射膜ＲＦａ上にスポット光として集光させると共に、光ビームＢＭｂを面ＨＢ１の反射膜ＲＦｂ上にスポット光として集光させるように構成され、光ビームＢＭａの集光点と光ビームＢＭｂの集光点とのＸ方向の位置ずれ量（フォーカスオフセット量）に基づいて、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇを計測する。図７は、２本の光ビームＢＭａ、ＢＭｂを用いたセンサーユニットＳＵの具体的な光学構成を示す斜視図である。図７において、計測用の光ビームＢＭａ、ＢＭｂの源となるビームＢＭは、半導体レーザ光源やＬＥＤ等から射出され、不図示のレンズ系によって一定の直径の平行光束に整形された後、開口絞り（ＮＡ絞り）４０の円形開口に照射され、ビームＢＭの裾野の１／ｅ^２以下の強度分布がカットされる。開口絞り４０の円形開口を透過したビームＢＭ（平行光束）はレンズ系４１によって集光され、反射ミラー４２で９０度に反射されて光軸ＡＸｍと平行に進み、面Ｃｐでビームウェストとなった後に発散して偏光ビームスプリッタＰＢＳ１に入射する。偏光ビームスプリッタＰＢＳ１に入射するビームＢＭは、ここではＹ方向の直線偏光であり、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１の偏光分離面（ＸＹ面に対して４５°傾いた面）は、面ＣｐからのビームＢＭをそのまま透過し、１／４波長板ＱＰ１を透過したビームＢＭは円偏光に変換されて、レンズ系Ｌ１に入射する。レンズ系Ｌ１の光軸は、図６に示した光軸ＡＸｍに相当し、反射ミラー４２で反射されたビームＢＭの主光線（中心光線）は、光軸ＡＸｍと平行な状態で、且つ光軸ＡＸｍから－Ｚ方向に一定の量だけ偏心した状態でレンズ系Ｌ１に入射する。

１／４波長板ＱＰ１を透過したビームＢＭは、光ビームＢＭａとなって、レンズ系Ｌ１とレンズ系Ｌ２とで構成されるリレー光学系（結像光学系）を介してリップ片部材ＨＡの面ＨＡ１に形成された反射膜ＲＦａにテレセントリックな状態で投射される。レンズ系Ｌ１、Ｌ２によるリレー光学系は、反射ミラー４２の後の面Ｃｐと反射膜ＲＦａ（面ＨＡ１）とを光学的に共役関係（結像関係）にするように設定される。従って、レンズ系Ｌ２から射出する光ビームＢＭａは、反射膜ＲＦａ上でスポット光となるような収斂光束にされる。なお、本実施の形態では、レンズ系Ｌ１とレンズ系Ｌ２によるリレー光学系はテレセントリックな縮小結像系となっており、瞳面Ｅｐはレンズ系Ｌ１とレンズ系Ｌ２の中間位置よりもレンズ系Ｌ２側に寄っている。反射膜ＲＦａ上でスポット光となって投射された光ビームＢＭａの反射ビームは、レンズ系Ｌ２、瞳面Ｅｐ、レンズ系Ｌ１を逆進して、１／４波長板ＱＰ１に達する。１／４波長板ＱＰ１を逆進して偏光ビームスプリッタＰＢＳ１に入射する反射ビームは、１／４波長板ＱＰ１の作用でＺ方向の直線偏光に変換されている為、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１の偏光分離面で＋Ｚ方向に進むように９０°で反射され、偏光ビームスプリッタＰＢＳ２に入射する。偏光ビームスプリッタＰＢＳ２は、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１と同じ特性のものであり、光軸ＡＸｍを中心に偏光ビームスプリッタＰＢＳ１を１８０°だけ回転させた位置に配置される。

偏光ビームスプリッタＰＢＳ１から＋Ｚ方向に進んで偏光ビームスプリッタＰＢＳ２に入射した反射ビームは、偏光ビームスプリッタＰＢＳ２の偏光分離面で－Ｘ方向に進むように９０°で反射され、１／４波長板ＱＰ２を透過して主光線（中心光線）が光軸ＡＸｍと平行に進む光ビームＢＭｂとなって、リレー光学系のレンズ系Ｌ１に入射する。その際、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１から偏光ビームスプリッタＰＢＳ２に向かう反射ビームは、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１と偏光ビームスプリッタＰＢＳ２の間の位置でビームウェストとなるように収斂した後に発散して、偏光ビームスプリッタＰＢＳ２に入射する。１／４波長板ＱＰ２を透過した光ビームＢＭｂは、光軸ＡＸｍに対して＋Ｚ方向に偏心した状態でレンズ系Ｌ１に入射し、瞳面Ｅｐ、レンズ系Ｌ２を通って、リップ片部材ＨＢの面ＨＢ１に形成された反射膜ＲＦｂにテレセントリックな状態で投射される。レンズ系Ｌ２から射出する光ビームＢＭｂは、反射膜ＲＦａと反射膜ＲＦｂとのＸ方向の間隔が、設計上で設定されているスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇの値と一致している場合、即ち、幅ΔＳｇに変動が無い場合、反射膜ＲＦｂ上でスポット光として集光されるように設定されている。

反射膜ＲＦｂ上でスポット光となって投射された光ビームＢＭｂの反射ビームは、レンズ系Ｌ２、瞳面Ｅｐ、レンズ系Ｌ１を逆進して、１／４波長板ＱＰ２に達する。１／４波長板ＱＰ２を逆進して偏光ビームスプリッタＰＢＳ２に入射する反射ビームは、１／４波長板ＱＰ２の作用でＹ方向の直線偏光に変換される為、偏光ビームスプリッタＰＢＳ２の偏光分離面をそのまま透過して、ピンホール板４３に達する。ピンホール板４３上には、反射膜ＲＦｂ上に形成されるスポット光の反射像がリレー光学系（レンズ系Ｌ１、Ｌ２）によって拡大投影される。スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇに変動が無い場合、ピンホール板４３上に投影されるスポット光の反射像は直径が最も小さく、シャープな強度分布を持つ。そこで、ピンホール板４３には、そのスポット光の反射像が最もシャープな状態のときの直径に対応したピンホールが設けられ、ピンホール板４３の裏側には、ピンホールを透過して反射ビームの光量（強度）に応じた光電信号４４Ａを出力するフォトセンサー４４が設けられる。フォトセンサー４４は、ビームＢＭの波長域で感度が高い素子であれば良く、シリコンフォトダイオード（ＳＰＤ）等で構成される。

図７のセンサーユニットＳＵの構成では、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇが設計値から変動なく維持されている場合、レンズ系４１の後の面Ｃｐと、反射膜ＲＦａと、２つの偏光ビームスプリッタＰＢＳ１、ＰＢＳ２の間でビームウェストとなる面Ｃｐ’と、反射膜ＲＦｂと、ピンホール板４３との各々が互いに共役関係となるように設定されている。即ち、図７のセンサーユニットＳＵは共焦点型光学センサーとして構成される。図８は、そのような共役関係と各ビームの収斂／発散の様子をＸＺ面内で誇張して表した光路図であり、塗布液Ｌｑで満たされたスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇは設計値と一致していて、幅ΔＳｇの変動量（誤差量）はゼロとする。

図７に示したレンズ系４１によって収斂された光源からのビームＢＭは、図８に示すように、面Ｃｐでビームウェストとなった後、発散光束となって、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１、１／４波長板ＱＰ１を透過して、光軸ＡＸｍから－Ｚ方向に偏心した位置で、リレー光学系の前段のレンズ系Ｌ１に光ビームＢＭａとしてテレセントリックな状態で入射する。レンズ系Ｌ１を通った光ビームＢＭａは、その主光線が瞳面Ｅｐの中心（光軸ＡＸｍの位置）を斜めに通るように進み、リレー光学系の後段のレンズ系Ｌ２に入射する。レンズ系Ｌ２から射出する光ビームＢＭａは収斂光束となり、その主光線（中心光線）が光軸ＡＸｍと平行なテレセントリックな状態でリップ片部材ＨＡの面ＨＡ３から入射して反射膜ＲＦａ上でスポット光（ビームウェスト）となるように集光される。従って、この状態のとき、リレー光学系（レンズ系Ｌ１、Ｌ２）によって、面Ｃｐと反射膜ＲＦａとは光学的に共役な関係（結像関係）に設定されている。反射膜ＲＦａに投射された光ビームＢＭａの反射ビームＢＭａ’は、光ビームＢＭａと同じ光路を逆進し、リレー光学系（Ｌ１、Ｌ２）に入射する。リレー光学系のレンズ系Ｌ２から射出する反射ビームＢＭａ’は、面Ｃｐでビームウェストとなるような収斂光束となるが、１／４波長板ＱＰ１と偏光ビームスプリッタＰＢＳ１の作用によって、偏光ビームスプリッタＰＢＳ２の方向（＋Ｚ方向）に反射される為、ＸＹ面と平行な面Ｃｐ’でビームウェストとなるように集光される。

面Ｃｐ’は、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１と偏光ビームスプリッタＰＢＳ２の間に生成されるが、反射膜ＲＦａの位置で光ビームＢＭａがビームウェストとなるベストフォーカス状態のとき、面Ｃｐ’の偏光ビームスプリッタＰＢＳ１の偏光分離面からの距離は、面Ｃｐから偏光ビームスプリッタＰＢＳ１の偏光分離面までの距離と等しくなっている。面Ｃｐ’でビームウェストとなるように集光された反射ビームＢＭａ’は、発散光束となって偏光ビームスプリッタＰＢＳ２に入射し、そこで９０°に反射された後、１／４波長板ＱＰ２を透過して、光軸ＡＸｍから＋Ｚ方向に偏心した位置で、リレー光学系のレンズ系Ｌ１に光ビームＢＭｂとしてテレセントリックな状態で入射する。レンズ系Ｌ１を通った光ビームＢＭｂは、その主光線が瞳面Ｅｐの中心（光軸ＡＸｍの位置）を斜めに通るように進み、リレー光学系のレンズ系Ｌ２に入射する。レンズ系Ｌ２から射出する光ビームＢＭｂは収斂光束となり、その主光線（中心光線）が光軸ＡＸｍと平行なテレセントリックな状態でリップ片部材ＨＡの面ＨＡ３から入射して、スロット部ＳＬＴの塗布液Ｌｑを透過して反射膜ＲＦｂ上でスポット光（ビームウェスト）となるように集光される。

従って、この状態のとき、リレー光学系（Ｌ１、Ｌ２）によって、面Ｃｐ’と反射膜ＲＦｂとは光学的に共役な関係（結像関係）に設定されている。反射膜ＲＦｂに投射された光ビームＢＭｂの反射ビームＢＭｂ’は、光ビームＢＭｂと同じ光路を逆進し、リレー光学系（Ｌ１、Ｌ２）に入射する。リレー光学系のレンズ系Ｌ２から射出する反射ビームＢＭｂ’は、面Ｃｐ’でビームウェストとなるような収斂光束となるが、１／４波長板ＱＰ２と偏光ビームスプリッタＰＢＳ２の作用によって、偏光ビームスプリッタＰＢＳ２を＋Ｘ方向に透過し、ＹＺ面と平行に配置されるピンホール板４３のピンホールの位置でビームウェストとなるように集光される。反射膜ＲＦｂの位置で光ビームＢＭｂがビームウェストとなるベストフォーカス状態のとき、ピンホール板４３の偏光ビームスプリッタＰＢＳ２の偏光分離面からの距離は、面Ｃｐ’から偏光ビームスプリッタＰＢＳ２の偏光分離面までの距離と等しくなっている。このように、光ビームＢＭａが反射膜ＲＦａの位置でビームウェストとなり、且つ光ビームＢＭｂが反射膜ＲＦｂの位置でビームウェストとなるベストフォーカス状態のとき、ピンホール板４３を透過する反射ビームＢＭｂ’の光量は最大となり、フォトセンサー４４から出力される光電信号４４Ａのレベルは最も大きな値となる。

次に、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇが設計値から変化した場合を説明するが、ここでは、説明を簡単にする為、センサーユニットＳＵの各種の光学部材（レンズ系Ｌ１、Ｌ２、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１、ＰＢＳ２、レンズ系４１、ピンホール板４３等）を保持する保持筐体（鏡筒等を含む保持金物）が、リップ片部材ＨＡ（外側の面ＨＡ３）に対して少なくともＸ方向には微動しないように取り付けられているものとする。すなわち、スロット部ＳＬＴ内の塗布液Ｌｑの内圧の上昇によって、リップ片部材ＨＡがリップ片部材ＨＢに対して＋Ｘ方向に膨らむように変形した場合でも、図８に示したセンサーユニットＳＵの全体（保持筐体）がリップ片部材ＨＡ（若しくはリップ片部材ＨＢ）と一緒にＸ方向に変位し、反射膜ＲＦａ（若しくは反射膜ＲＦｂ）とリレー光学系（レンズ系Ｌ２）との間の光路長は変化しないものとする。従って、図８のセンサーユニットＳＵのフォトセンサー４４からの光電信号４４Ａの強度変化は、リップ片部材ＨＡの内側の面ＨＡ１（反射膜ＲＦａ）、若しくはリップ片部材ＨＢの内側の面ＨＢ１（反射膜ＲＦｂ）を基準にしたスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇの変動を表すことになる。

さらに、図７で示した開口絞り４０の後のレンズ系４１のうちの少なくとも１つのレンズは、図９に示すように、レンズ系４１の光軸方向に移動可能に設けられる。図９は、図７に示した開口絞り４０から面Ｃｐまでの光路部分を拡大して表した斜視図である。本実施の形態では、開口絞り４０から平行光束となって射出されるビームＢＭを入射するレンズ系４１は２枚のレンズ４１ａ、４１ｂで構成され、そのうち開口絞り４０側のレンズ４１ａを保持するレンズマウント４１ｃが、リニアアクチュエータ（小型の超音波モータやリニアモータ）５０によって光軸方向に所定のストロークで移動可能に設けられる。その移動位置はリニアスケール（エンコーダ）５１から出力される位置情報５１Ａによって計測される。

レンズ系４１のうちのレンズ４１ａを光軸方向に移動させることによって、面Ｃｐを通るビームＢＭのビームウェストの位置（集光位置）を、面Ｃｐを中心とした一定の範囲で、リレー光学系（Ｌ１、Ｌ２）の光軸ＡＸｍに沿った方向（Ｘ方向）に移動させることができる。レンズ４１ａをリニアアクチュエータ５０の移動ストロークの中間位置（中立位置）に移動させると、ビームＢＭのビームウェストは面Ｃｐに位置し、レンズ４１ａをリニアアクチュエータ５０の移動ストロークの最も開口絞り４０側に移動させると、ビームＢＭのビームウェストは集光位置Ｃｐａにシフトし、レンズ４１ａをリニアアクチュエータ５０の移動ストロークの最もレンズ４１ｂ側に移動させると、ビームＢＭのビームウェストは集光位置Ｃｐｂにシフトする。

本実施の形態では、図４に示した計測処理部３０が、センサーユニットＳＵの各々のリニアスケール５１で計測されるレンズ４１ａの光軸方向（図７、図９中のＹ方向）の位置情報５１Ａと、図７や図８に示したフォトセンサー４４からの光電信号４４Ａの強度変化とに基づいて、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇの変動量（誤差量）や、その変動量のＹ方向の分布等に関する計測情報３０Ａを生成する。なお、リニアアクチュエータ５０の駆動によって、ビームＢＭのビームウェストの位置が集光位置Ｃｐａと集光位置Ｃｐｂとの間で光軸方向にシフトすることから、このようなシフトのことをフォーカスシフトとも呼ぶ。フォーカスシフトは、レンズ系４１（２枚のレンズ４１ａ、４１ｂ）の全体をリニアアクチュエータ５０によって光軸方向に移動させる構成にしても同様に実現できる。

図９において、レンズ４１ａを移動ストロークの中間位置（中立位置）に設定したとき、ビームＢＭのビームウェスト（集光点）は面Ｃｐに位置し、図８で説明したように、リレー光学系（Ｌ１、Ｌ２）から射出する計測用の光ビームＢＭａは、反射膜ＲＦａ上でビームウェストとなるように集光する。反射膜ＲＦａからの反射ビームＢＭａ’は、偏光ビームスプリッタＰＢＳ１の偏光分離面で反射されて、面Ｃｐ’でビームウェストになるように集光され、さらに偏光ビームスプリッタＰＢＳ２で反射されて、計測用の光ビームＢＭｂとなって、反射膜ＲＦｂに投射される。Ｘ方向に関する反射膜ＲＦａと反射膜ＲＦｂの間隔、即ちスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇが設計値（初期値）と一致している場合、フォトセンサー４４の光電信号４４Ａは最も高い強度値となるが、幅ΔＳｇが設計値（初期値）に対して増加する方向、又は減少する方向に変化した場合、光電信号４４Ａは最も高い強度値よりも低い値となる。これは、反射膜ＲＦｂからの反射ビームＢＭｂ’がピンホール板４３上でビームウェストにならずにデフォーカスした状態（スポット光の径がボケて広がった状態）で集光される為、ピンホールを透過する反射ビームＢＭｂ’の光量が減少するからである。

図１０は、レンズ４１ａを等速度で移動させたときにフォトセンサー４４から出力される光電信号４４Ａの強度変化の様子を模式的に表したグラフである。図１０（Ａ）は、横軸を時間とし、縦軸をレンズ４１ａの移動位置としたレンズ４１ａの位置変化の一例を表すグラフであり、図１０（Ｂ）、図１０（Ｃ）、図１０（Ｄ）の各々は、横軸を時間とし、縦軸を光電信号４４Ａの強度値とした信号の強度変化の一例を表すグラフである。図１０（Ａ）において、レンズ４１ａは時刻Ｔ０から時刻Ｔ１の間、移動ストロークのプラス側のリミット位置＋ＬＭＰ（例えば、図９中の最も開口絞り４０側の位置）に静止し、時刻Ｔ１から等速度で移動ストロークのマイナス側のリミット位置－ＬＭＰ（例えば、図９中の最もレンズ４１ｂ側の位置）に向けて移動する。その移動の間、レンズ４１ａは時刻Ｔ２で中立位置を横切り、時刻Ｔ３でリミット位置－ＬＭＰに達して静止する。

スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇに変動が無く、設計値（初期値）に維持されている場合、フォトセンサー４４からの光電信号４４Ａの強度は、図１０（Ｂ）のように変化する。図１０（Ａ）のようにレンズ４１ａが時刻Ｔ２で中立位置となったときに、光電信号４４Ａの強度は図１０（Ｂ）のように最大値となる。図４で示した計測処理部３０は、時刻Ｔ１から時刻Ｔ３までの間に、図９に示したリニアスケール５１から出力される位置情報５１Ａ（デジタルカウンタでの計測用のアップ／ダウンパルス信号）に対応して、光電信号４４Ａの強度値をアナログ／デジタルコンバータ（ＡＤＣ）でデジタル値に変換して、図１０（Ｂ）の信号波形をレンズ４１ａの位置と対応させて波形メモリに記憶する。計測処理部３０は、波形メモリに記憶された波形を解析して、波形中の最大値に対応したレンズ４１ａの位置Ｐｘを特定する。さらに計測処理部３０は、その特定された位置Ｐｘが中立位置に対して許容範囲内であれば、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇが変化していないと判断する。

一方、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇが初期値に対して増加、又は減少していた場合、上記のようにして、レンズ４１ａを時刻Ｔ１から時刻Ｔ３の間に等速度でスイープ移動させたときに得られる光電信号４４Ａの強度は、図１０（Ｃ）、又は図１０（Ｄ）に示すように、中立位置（初期位置）から許容範囲以上にずれた位置（時刻Ｔａ又は時刻Ｔｂ）で最大値（ピーク値）となる。図１０（Ｃ）の場合、光電信号４４Ａの強度が最大値となるレンズ４１ａの位置Ｐｘａは、中立位置からプラス方向にずれ量ΔＥｓａだけシフトし、図１０（Ｄ）の場合、光電信号４４Ａの強度が最大値となるレンズ４１ａの位置Ｐｘｂは、中立位置からマイナス方向にずれ量ΔＥｓｂだけシフトしている。そのずれ量ΔＥｓａ、ΔＥｓｂは、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇの初期値からの変動量に比例している。

ここで、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇの初期値からの変動量をδｇとし、光電信号４４Ａの強度が最大値となるときのレンズ４１ａの位置Ｐｘの初期位置からのずれ量をΔＥｓとし、比例定数をｋとしたとき、計測処理部３０は、δｇ＝ｋ・ΔＥｓの関係から変動量δｇを算出する。比例定数ｋは、図７（又は図８）に示したセンサーユニットＳＵの主にリレー光学系（レンズ系Ｌ１、Ｌ２）の倍率や焦点距離等の設計条件から一義的に設定可能である。なお、図１０（Ａ）のようなレンズ４１ａのスイープ動作は、リミット位置＋ＬＭＰとリミット位置－ＬＭＰとの間で複数回実行し、その間に得られる光電信号４４Ａのスイープ動作毎の波形を波形メモリに取り込んで、スイープ動作毎に記憶した複数の波形の平均によってピーク位置を特定しても良い。

以上のようなセンサーユニットＳＵは、リップ片部材ＨＡの外側の面ＨＡ３と対向して、Ｙ方向に所定の間隔で複数設けられているので、計測処理部３０は、センサーユニットＳＵの各々で計測される光電信号４４Ａの波形中のピーク位置を求め、それぞれの計測位置（計測用の光ビームＢＭａ、ＢＭｂの投射位置）におけるスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇの変動量δｇや幅ΔＳｇの値を計測する。図１１は、スロット部ＳＬＴの幅を形成するリップ片部材ＨＡの内側の壁面ＨＡ１とリップ片部材ＨＢの内側の壁面ＨＢ１とのＸＹ面内での変形の様子を誇張して表した図である。スロット部ＳＬＴ内に満たされる塗布液Ｌｑの内圧が高くなると、壁面ＨＡ１と壁面ＨＢ１との間隔である幅ΔＳｇは、初期の幅ΔＳｇ０に対して大きくなる。特に、スロット部ＳＬＴのＹ方向の中央部分は、その幅ΔＳｇが最も大きく膨らむように変形する。図２で示したように、本実施の形態では、スロット部ＳＬＴの長手方向（Ｙ方向）に沿って６つのセンサーユニットＳＵ１～ＳＵ６が一定間隔で配置される。

図４中の計測処理部３０は、センサーユニットＳＵ１～ＳＵ６の各々からの光電信号４４Ａ（図８）と位置情報５１Ａ（図９）とに基づいて、各々の計測位置で、スロット部ＳＬＴの実際の幅ΔＳｇ１～ΔＳｇ６と、初期の幅ΔＳｇ０からの変動量δｇ１～δｇ６とを求める。これらの実際の幅ΔＳｇ１～ΔＳｇ６の値と変動量δｇ１～δｇ６の値は、計測情報３０Ａとして図４の塗工制御部１０Ａに送られる。センサーユニットＳＵ１～ＳＵ６による実際の幅ΔＳｇ１～ΔＳｇ６の値と変動量δｇ１～δｇ６の値は、一定のインターバル時間ごと計測（更新）される。そのインターバル時間は、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇの変動量δｇの時間的な変化の頻度や変化の緩慢度に応じた任意の時間に設定することができる。例えば、変動量δｇの変化が短時間に発生する場合、インターバル時間は数秒程度に設定され、変動量δｇの変化が時間的に緩慢に生じるような場合、インターバル時間は分単位（又は３０秒単位）で設定される。

〔スロット部ＳＬＴの幅のモニター〕
図１２は、図４の塗工制御部１０Ａ（又は図１中の主制御ユニット１０）に設けられる制御用のモニター装置（ディスプレー）の表示画面ＤＳＰの一例を表す図である。図１２において、表示画面ＤＳＰの下段には、計測処理部３０から塗工制御部１０Ａに送られてくる計測情報３０Ａに基づいて、ヘッドユニットＤＣＨのスロット部ＳＬＴの現在の幅ΔＳｇ１～ΔＳｇ６の各々の値に対応した高さを持つバーグラフＢｇ１～Ｂｇ６が、センサーユニットＳＵ１～ＳＵ６の配置に対応した並びで表示される。バーグラフＢｇ１～Ｂｇ６の各々の長さ（高さ）が、計測された実際の幅ΔＳｇ１～ΔＳｇ６の値に対応している。また、各バーグラフＢｇ１～Ｂｇ６のうち、幅ΔＳｇの初期値である幅ΔＳｇ０（初期幅ΔＳｇ０）を中心として設定される許容範囲±ηから外れたバーグラフＢｇ２～Ｂｇ５については、初期幅ΔＳｇ０からの変動量δｇ２～δｇ５が色分けされて表示される。

表示画面ＤＳＰの上段には、下段に表示されるスロット部ＳＬＴの現在の幅ΔＳｇ１～ΔＳｇ６の分布の下で、塗布液Ｌｑをシート基板Ｐ上に塗工した場合に推定される塗布厚のＹ方向の分布ＧＦが表示される。分布ＧＦは、表示画面ＤＳＰの下段に表示されるスロット部ＳＬＴの現在の幅ΔＳｇ１～ΔＳｇ６（先端の開口部ＳＳのＸ方向の幅）の分布の他に、塗布液Ｌｑの粘性、スロット部ＳＬＴ内の塗布液Ｌｑの圧力、図６に示したシート基板Ｐの表面と開口部ＳＳとのＺ方向のギャップ量ΔＺｇ、シート基板Ｐの送り速度等に基づいて、塗工制御部１０Ａ（又は図１中の主制御ユニット１０）がシミュレーションを行った結果として表示される。オペレータ（作業者）は、表示画面ＤＳＰを見ることによって、分布ＧＦにおける最も薄い部分（Ｙ方向の位置）と、最も厚い部分（Ｙ方向の位置）とを直感的に把握することができる。

なお、図１２の表示画面ＤＳＰに示したバーグラフＢｇ１～Ｂｇ６のうち、バーグラフＢｇ２～Ｂｇ５は、許容範囲±ηから大きく外れた状態で表したが、実際の塗工動作の間は、図２又は図４で説明した駆動制御部３１と複数の駆動ユニットＡＣＤによって、計測処理部３０で計測された変動量δｇ１～δｇ６の各々が、ほぼゼロとなるように、複数の駆動ユニットＡＣＤの各々がサーボ制御される為、６つのセンサーユニットＳＵ１～ＳＵ６の各々によって計測されるスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇ１～ΔＳｇ６の各々は、いずれも初期幅ΔＳｇ０を中心とした許容範囲±η内に収められている。なお、図１２の表示画面ＤＳＰの右下に表示される「Adjust」のボタンＣＢは、センサーユニットＳＵ１～ＳＵ６によって計測されるスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇ１～ΔＳｇ６の計測値と初期幅ΔＳｇ０との対応関係や、レンズ４１ａの移動ストローク中の中立位置等を較正するキャリブレーション動作を実行する為のボタンである。

〔第１の駆動ユニットＡＣＤ（電動式）〕
図４で説明したように、複数の駆動ユニットＡＣＤが駆動制御部３１によって電気的に制御される構成とする場合は、例えば、リップ片部材ＨＢの先端の開口部ＳＳを規定する先端部ＨＢ４を、推力が小さい小型のアクチュエータであっても容易に弾性変形するような構造にすることが望ましい。例えば、特開２００５－０３４７４８号公報に開示されているように、外力により変形して開口部ＳＳに近いスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇ（間隔）を容易に変化させることができる薄板を、リップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１に沿って設け、圧電体の歪み（伸縮）を利用したピエゾ素子や、金属の熱膨張を利用したヒートボルト等の電気的なアクチュエータによって薄板を変形させてスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇの長手方向（Ｙ方向）のムラを補正する構成としても良い。

図１３は、スロット部ＳＬＴの内壁面ＨＢ１を金属製の薄板ＴＰで形成し、駆動ユニットＡＣＤを印加電圧に応じて全長が伸びるピエゾ素子とした場合のヘッドユニットＤＣＨの部分断面を示す図である。駆動ユニットＡＣＤは、Ｙ方向に沿った離散的な複数の位置の各々に、伸縮方向がＺ軸とＸ軸の各々に対して約４５°になるように設けられる。そしてリップ片部材ＨＢの－Ｚ方向の先端部には、Ｘ方向の厚みを小さくしたヒンジ部ＨｇｓがＹ方向に延設される。リップ片部材ＨＢの一部であってヒンジ部Ｈｇｓの下側（－Ｚ方向）には、駆動ユニットＡＣＤが伸びたときの推力（押圧力）を受ける作用部分ＨＢｐが形成されている。

また、駆動ユニットＡＣＤの作用部分ＨＢｐと反対側には、駆動ユニットＡＣＤを支持する金属製のバックアップ部材ＢＵが、リップ片部材ＨＢの－Ｘ方向の外壁面ＨＢ５に固定されている。駆動制御部３１からの駆動電圧が駆動ユニットＡＣＤ（ピエゾ素子）に印加されると、駆動ユニットＡＣＤは印加電圧の大きさに応じた量で４５°方向に伸びるが、その伸張力を受けて、作用部分ＨＢｐと薄板ＴＰの－Ｚ方向の先端部とはヒンジ部Ｈｇｓの部分でＸＺ面内において反時計回りに弾性変形（屈曲）する。これによって、リップ片部材ＨＢの先端部ＨＢ４がリップ片部材ＨＡの先端部ＨＡ４側に接近するように変位し、スロット部ＳＬＴの開口部ＳＳの幅ΔＳｇ（間隔）をミクロンオーダーで減少させることができる。駆動ユニットＡＣＤは印加電圧をゼロにすると、駆動ユニットＡＣＤは初期の長さに戻り、作用部分ＨＢｐと薄板ＴＰの－Ｚ方向の先端部も弾性変形前の状態に戻る。

〔第２の駆動ユニットＡＣＤ（手動式）〕
ところで、複数の駆動ユニットＡＣＤが電動式ではなく、マイクロメータヘッド等の手動式による駆動機構（ネジの回転によるスピンドル部の微動）の場合は、図１２に示した表示画面ＤＳＰの下段に表示されるバーグラフＢｇ１～Ｂｇ６が短時間（例えば、１～５秒間隔）で更新表示されるように設定し、オペレータが表示画面ＤＳＰを見ながら、バーグラフＢｇ１～Ｂｇ６のうち許容範囲±ηから外れるような変動傾向を示したセンサーユニットＳＵのＹ方向の位置に対応した駆動ユニットＡＣＤ（マイクロメータヘッド）を手動で調整することができる。ヘッドユニットＤＣＨの近傍にモニター装置が無く、オペレータがモニター装置を直視できないときは、表示画面ＤＳＰを表示させたタブレット端末をヘッドユニットＤＣＨの近傍に置いて、マイクロメータヘッドの操作（調整作業）を行えば良い。

図１４は、手動式の駆動ユニットＡＣＤとして、マイクロメータヘッドＭＭＨを用いて、ヘッドユニットＤＣＨのスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇ（先端の開口部ＳＳのＸ方向の幅）を調整する為の機構の部分断面を表す図である。ヘッドユニットＤＣＨの断面構造は、先の図６に示した構造と同じものであり、リップ片部材ＨＡの外壁面ＨＡ３側にはセンサーユニットＳＵが配置され、金属製のリップ片部材ＨＢの－Ｘ方向側の外壁面ＨＢ５には、金属製の調整用支持部材ＢＵＰがネジＦｓｃで固着されている。この調整用支持部材ＢＵＰは、例えば、従来の技術として挙げた特開２００７－００７５７１号公報に開示された構成と同様に、スロット部ＳＬＴ（開口部ＳＳ）が延びるＹ方向の複数の位置の各々に設けられる。調整用支持部材ＢＵＰは、リップ片部材ＨＢよりも高い剛性の金属材料で作られているのが望ましく、調整用支持部材ＢＵＰの－Ｚ方向の下半分程度の部分は、リップ片部材ＨＢの外壁面ＨＢ５から－Ｘ方向に数ｍｍ程度の平行な隙間が形成されるように作られている。

調整用支持部材ＢＵＰの－Ｚ方向の先端付近には開口Ｕｏが形成され、Ｘ方向に可動のスピンドル部ＳＰＲが開口Ｕｏを通るように調整用支持部材ＢＵＰに固定されたマイクロメータヘッドＭＭＨが設けられる。マイクロメータヘッドＭＭＨは、スピンドル部ＳＰＲのＸ方向の粗動の為の粗動用ダイヤルＣＤｇと、スピンドル部ＳＰＲのＸ方向の微動の為の微動用ダイヤルＦＤｇとを備え、スピンドル部ＳＰＲは、例えば粗動用ダイヤルＣＤｇの１回転でＸ方向に２５０μｍ移動し、微動用ダイヤルＦＤｇの１回転でＸ方向に５μｍ移動する。粗動用ダイヤルＣＤｇや微動用ダイヤルＦＤｇの回転によってスピンドル部ＳＰＲを＋Ｘ方向に移動させることにより、リップ片部材ＨＢの下方部分が調整用支持部材ＢＵＰに対して＋Ｘ方向に押圧される。これにより、リップ片部材ＨＢのマニホールドＭＨよりも下の部分が、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇ（開口部ＳＳの幅）を狭める方向に僅かに湾曲（弾性変形）する。セットビスＬｓｃは調整用支持部材ＢＵＰに螺合されて、リップ片部材ＨＢのマニホールドＭＨのＺ方向の高さ位置よりも下方の位置で外壁面ＨＢ５に当接する。マイクロメータヘッドＭＭＨによる調整後に、セットビスＬｓｃを締め付けることにより、リップ片部材ＨＢのマニホールドＭＨよりも下の部分の湾曲（弾性変形）の状態がマイクロメータヘッドＭＭＨで調整された状態に維持される。

このようなマイクロメータヘッドＭＭＨが取り付けられた調整用支持部材ＢＵＰは、リップ片部材ＨＢの面ＨＢ５のＹ方向に沿った複数の位置に設けられており、各々の位置でマイクロメータヘッドＭＭＨを調整することにより、図１１に例示したリップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１のＸＹ面内での湾曲を補正して、スロット部ＳＬＴ（開口部ＳＳ）の実際の幅ΔＳｇ１～ΔＳｇ６の各々を許容範囲内に揃えることが可能となる。なお、マイクロメータヘッドＭＭＨとしては、例えば、シグマ光機株式会社より販売されているウォーム式粗微動マイクロメータヘッドＷＧＰ－１３Ｒ、或いは株式会社ミツトヨより販売されているマイクロメータヘッドＭＨＴ－５ＦＰ，ＭＨＴ－ＬＣ等が利用できる。

〔第２の実施の形態〕
図１５～１８は、第２の実施の形態による第２のヘッドユニットＤＣＨ２の構造を示す図であり、先の図５、図６、図１３、図１４に示したヘッドユニットＤＣＨと類似した機能の部材や部分には同じ符号を付してある。また図１５～１８の直交座標系ＸＹＺは、図５、図６に示した直交座標系ＸＹＺと合わせてある。図１５はヘッドユニットＤＣＨ２をリップ片部材ＨＡ側から見た斜視図であり、図１６はヘッドユニットＤＣＨ２をリップ片部材ＨＢ側から見た斜視図であり、図１７はヘッドユニットＤＣＨ２をＹ方向（スロット部ＳＬＴが延びる方向）から見た端面図であり、図１８はヘッドユニットＤＣＨ２を下側（スロット部ＳＬＴの開口部ＳＳ側）から見た斜視図である。

本実施の形態では、先の図５に示したように、複数の締結ネジＦＳによって互いにＸ方向に締結されるリップ片部材ＨＡとリップ片部材ＨＢは、共に金属製（例えばステンレス）とする。そして、ヘッドユニットＤＣＨ２の内部に形成されるマニホールドＭＨの下端部から－Ｚ方向に延設されるスロット部ＳＬＴは、リップ片部材ＨＡの－Ｘ方向側（内側）の平坦な壁面ＨＡ１（図１７参照）とリップ片部材ＨＢの＋Ｘ方向側（内側）の平坦な壁面ＨＢ１（図１７参照）とで構成される。スロット部ＳＬＴのＸ方向の幅ΔＳｇは、壁面ＨＡ１と壁面ＨＢ１の間に挟み込まれる極薄の金属製のシート部材（シム部材）ＳＭｐの厚みで規定される。シート部材ＳＭｐのＹＺ面内で見た外形はリップ片部材ＨＡ、ＨＢの外形と同じに形成され、ＹＺ面内で見た内側の形状はスロット部ＳＬＴとマニホールドＭＨとを避けるように矩形に切り取られた形状となっている。また、シート部材ＳＭｐには、リップ片部材ＨＡの外側の壁面ＨＡ２の周辺部に形成されて締結ネジＦＳを通す複数の孔ＨＡ５（図１５、図１８参照）の各々に対応した位置に、締結ネジＦＳを通す孔が形成されている。

リップ片部材ＨＡの下側（－Ｚ方向側）には、図１５に示すように、Ｙ方向に沿って７つの円形の開口部ＨＬ１～ＨＬ７（ｎ＝１～７としてＨＬｎと呼称することもある）がほぼ一定の間隔で形成されている。７つの開口部ＨＬｎの各々は、図１７に示すように、先の第１の実施形態の図６～図９で説明した光学的なセンサーユニットＳＵからの光ビームＢＭａ、ＢＭｂ、及び反射ビームＢＭａ’、ＢＭｂ’を通すような大きさ（直径）に設定されている。そして、リップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１のうちの開口部ＨＬｎに対応した部分には、開口部ＨＬｎをふさぐようなＺ方向の寸法を持った光透過性の透明板部材（石英板、光学ガラス板、アクリル板等の誘電体材料）ＧＨｐが埋め込まれている。透明板部材ＧＨｐのＸ方向の厚みは、リップ片部材ＨＡのＸ方向の厚みよりも薄く、１ｍｍ～数ｍｍ程度に設定され、透明板部材ＧＨｐの－Ｘ方向側の面は、リップ片部材ＨＡの内側の壁面ＨＡ１と同一面となるように、リップ片部材ＨＡの壁面ＨＡ１に形成された凹部内に接着剤等で固定されている。透明板部材ＧＨｐは、開口部ＨＬ１～ＨＬ７の各々をふさぐように個別に設けても良いし、開口部ＨＬ１～ＨＬ７の全体をＹ方向にまとめてふさぐようにＹ方向に延設された１枚としても良い。

また、本実施の形態のヘッドユニットＤＣＨ２には、先の図１３、１４で示したように、リップ片部材ＨＢの－Ｘ方向側の外壁面ＨＢ５に固定された調整用支持部材ＢＵＰが設けられる。そしてリップ片部材ＨＢの下側（－Ｚ方向）でＸ方向の厚みが小さくなった先端の作用部分ＨＢｐと調整用支持部材ＢＵＰの下側部分（－Ｚ方向）との間には、作用部分ＨＢｐをＸ方向に微動させる為の駆動ユニットＡＣＤの複数がＹ方向に並べて設けられる。本実施の形態の駆動ユニットＡＣＤは、図１６～１８に示すように、Ｙ方向の６ヶ所に一定間隔で設けられ、パイプＰｋ１～Ｐｋ６を介して供給される空圧（加圧、又は減圧）によってＸ方向の寸法が伸縮することで推力を発生する小型の空圧ポンプで構成される。本実施の形態では、図１８のように、６ヶ所の駆動ユニットＡＣＤの各々のＹ方向の位置が、リップ片部材ＨＡの下側部の７ヶ所の開口部ＨＬ１～ＨＬ７の各々のＹ方向の位置の中間付近に設定される。なお、先の図４に示した塗工部５のポンプ３３から供給される塗布液Ｌｑは、図１６、１７のように、供給チューブＳＴとポート部ＳＴ’を介して、ＸＺ面内での断面形状が円形のマニホールドＭＨに供給され、スロット部ＳＬＴを通ってヘッドユニットＤＣＨ２の先端の開口部ＳＳに供給される。

以上、本実施の形態によれば、リップ片部材ＨＡは加工が容易な金属材料で作られ、光学的なセンサーユニットＳＵからの計測用の光ビームＢＭａ、ＢＭｂや反射ビームＢＭａ’ＢＭｂ’を通す部分だけに開口部ＨＬｎが形成される構造となるので、剛性が高いヘッドユニットＤＣＨ２にすることができる。さらに、スロット部ＳＬＴ側の開口部ＨＬｎを塞ぐ透明板部材ＧＨｐは、第１の実施の形態のリップ片部材ＨＡの下方部の厚さに比べて薄くできるため、センサーユニットＳＵからの計測用の光ビームＢＭａ、ＢＭｂや反射ビームＢＭａ’、ＢＭｂ’の収斂度や発散度に対応する開口数（ＮＡ）を大きくしてスポット光（ビームウェスト）を小さくした場合でも、透明板部材ＧＨｐの介在により生じるスポット光のフォーカス方向の集光位置の変化を小さくできる。

本実施の形態では、スロット部ＳＬＴ内で塗布液Ｌｑと接触するリップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１の表面と透明板部材ＧＨｐの表面とが同一面となるように設定される。しかしながら、透明板部材ＧＨｐ（厚みが一定）を開口部ＳＳのＹ方向の長さに亘って延設した１枚の部材とした場合は、必ずしも同一面にする必要はなく、±数μｍ程度、或いはスロット部ＳＬＴの設定される幅ΔＳｇに対して±数十％程度までの段差が生じても良い。また、リップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１と透明板部材ＧＨｐとは材質が異なる為、塗布液Ｌｑによっては摩擦係数（親撥液特性）が異なる場合があるので、内壁面ＨＡ１の表面と透明板部材ＧＨｐの表面との両方に、耐酸性、耐アルカリ性、耐腐食性の透明薄膜（親液性、又は撥液性）を蒸着形成しても良い。なお、透明板部材ＧＨｐを樹脂材とする場合は、吸水性が低く光透過性が良好な材質（アクリル、シクロオレフィンポリマー等）とするのが良い。

〔第３の実施の形態〕
図１９～２１は、第３の実施の形態による第３のヘッドユニットＤＣＨ３の構造を示す図であり、先の図５、図６、図１３、図１４に示したヘッドユニットＤＣＨ、或いは図１５～１８に示したヘッドユニットＤＣＨ２と類似した機能の部材や部分には同じ符号を付してある。また図１９～２１の直交座標系ＸＹＺは、図５、図６、或いは図１５～１８に示した直交座標系ＸＹＺと同じに設定されている。図１９はヘッドユニットＤＣＨ３をＹ方向（スロット部ＳＬＴが延びる方向）から見た側面図であり、図２０はヘッドユニットＤＣＨ３のＹ方向の一部分をＸＺ面と平行な面で破断した断面図であり、図２１はヘッドユニットＤＣＨ３の－Ｙ方向側の端部付近をリップ片部材ＨＢ側の下方から見た斜視図である。

本実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ３は、図１９、図２０に示したように、複数の締結ネジＦＳが貫通する複数の孔ＨＡ５が形成された金属製（例えばステンレス）の板状のリップ片部材ＨＡと、リップ片部材ＨＡの平坦な壁面ＨＡ１と対向する平坦な壁面ＨＢ１を備えた金属製（例えばステンレス）のリップ片部材ＨＢと、壁面ＨＡ１と壁面ＨＢ１の間にスロット部ＳＬＴを形成する為の極薄の金属製のシート部材（シム部材）ＳＭｐとで構成される。シート部材ＳＭｐは、図１５～１８で示したヘッドユニットＤＣＨ２のものとほぼ同じ形状に作られ、シート部材ＳＭｐの厚みによってスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇが規定される。リップ片部材ＨＡの下方（－Ｚ方向）には、複数の光学的なセンサーユニットＳＵの各々からの計測用の光ビームＢＭａ、ＢＭｂや反射ビームＢＭａ’、ＢＭｂ’を通すように、Ｙ方向に帯状に延設された開口部ＨＬ０が形成され、リップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１側には、開口部ＨＬ０を塞ぐように埋設される透明板部材（石英、ガラス、アクリル等）ＧＨｐが設けられる。透明板部材ＧＨｐのリップ片部材ＨＢ側の表面と、リップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１の表面とは同一面となるように設定される。

塗布液Ｌｑは、供給チューブＳＴとポート部（開口）ＳＴ’を介して、リップ片部材ＨＡとリップ片部材ＨＢとが接合されたときに内部に形成されるマニホールドＭＨ内に供給され、スロット部ＳＬＴを通って先端のスリット状の開口部ＳＳ（先端部ＨＡ４、ＨＢ４）から吐出する。なお、第２の実施の形態と同様に、透明板部材ＧＨｐの表面と内壁面ＨＡ１の表面との両方に、耐酸性、又は耐アルカリ性、又は耐腐食性の透明薄膜（親液性、又は撥液性）を蒸着形成しても良い。

本実施の形態のリップ片部材ＨＢは、ＸＺ面内で見ると、図１９、２０に示すように、Ｚ方向に推力（伸縮力）を発生する駆動ユニットＡＣＤ（複数）の上下を支持する為の－Ｘ方向に延設された支持部ＨＢ６、ＨＢ６’と、リップ片部材ＨＢの支持部ＨＢ６’の下方の作用部分ＨＢｐ（先端部ＨＢ４を含む）をＸＺ面内で微少傾斜させるように、支持部ＨＢ６’の根本部分に形成されたヒンジ部Ｈｇｓとを有する。リップ片部材ＨＢの上方の支持部ＨＢ６は、ヘッドユニットＤＣＨ３のＹ方向の長さに渡ってＹ方向に連続して延設され、リップ片部材ＨＢのＺ方向の中間付近の支持部ＨＢ６’は、図２１に示すように、複数の駆動ユニットＡＣＤの数に対応してＹ方向に分離されている。作用部分ＨＢｐは、分離された支持部ＨＢ６’の各々に対応して、Ｚ方向に延びたすり割り部ＨＢ７（図２０、２１参照）を挟んでＹ方向に分離されている。但し、すり割り部ＨＢ７はリップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１まで達しないように形成され、すり割り部ＨＢ７でのリップ片部材ＨＢのＸ方向の厚みは作用部分ＨＢｐのＸ方向の厚みよりも小さく設定される。なお、図２０は、すり割り部ＨＢ７の位置でリップ片部材ＨＢを破断した状態を示す。また、すり割り部ＨＢ７やヒンジ部Ｈｇｓはワイヤー放電加工機、レーザ加工機等で容易に形成することができる。

以上の構成により、駆動ユニットＡＣＤが伸張方向に推力を発生すると、支持部ＨＢ６’の作用点ＰＰｏがＺ方向に微動される。それによって、ＸＺ面内でＬ字状に一体化している支持部ＨＢ６’と作用部分ＨＢｐとが、ヒンジ部Ｈｇｓを中心にＸＺ面内で反時計方向に弾性変形により微小回転（傾斜）する。これによって、リップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１の先端部ＨＢ４のうち、作用部分ＨＢｐに対応した部分がＸ方向に微小変位し、その部分におけるスロット部ＳＬＴの開口部ＳＳの幅ΔＳｇが狭められる。支持部ＨＢ６’の作用点ＰＰｏでのＺ方向の変位量は、図１９に示すように、ヒンジ部Ｈｇｓから作用点ＰＰｏまでの長さＤｘとヒンジ部Ｈｇｓから先端部ＨＢ４までの長さＤｚ（Ｄｚ≦Ｄｘ）との比Ｄｚ／Ｄｘで決まる比率で、先端部ＨＢ４のＸ方向の変位量に変換される。本実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ３も、先の第１の実施の形態の図２～４に示したヘッドユニットＤＣＨに置き換えることができ、Ｙ方向に延設された開口部ＨＬ０に沿って複数の光学的なセンサーユニットＳＵを配置することによって、透明板部材ＧＨｐを通してスロット部ＳＬＴ（開口部ＳＳ）の幅ΔＳｇのＹ方向の複数位置での誤差を計測することができる。また、第１の実施の形態の図４に示した駆動制御部３１によって、図１９に示した駆動ユニットＡＣＤ（複数）を駆動することにより、スロット部ＳＬＴ（開口部ＳＳ）の幅ΔＳｇを部分的に調整することができる。

本実施の形態では、図２０に示したように、リップ片部材ＨＡの下方にＹ方向に延設された開口部ＨＬ０が形成されるので、リップ片部材ＨＢの下方部分（先端部ＨＡ４）の剛性が低下する可能性もある。その為、本実施の形態の透明板部材ＧＨｐは、第２の実施の形態の透明板部材ＧＨｐ（図１７）に比べてＸ方向の厚みが大きく設定され、リップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１に形成された開口部ＨＬ０のＹＺ面内の寸法よりも少し大きな寸法で形成された窪み部内に埋設されて硬化型の接着剤等で固定される。本実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ３によれば、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇを計測する為の構成（開口部ＨＬ０、透明板部材ＧＨｐ）と、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇを調整する為の微動機構（支持部ＨＢ６’、作用部分ＨＢｐ、ヒンジ部Ｈｇｓ）とを、少ない部品点数で剛性高く構成することができる。また、Ｌ字状に一体化された支持部ＨＢ６’と作用部分ＨＢｐとのヒンジ部Ｈｇｓからの長さの比率Ｄｚ／Ｄｘ（図１９）を小さくすることで、駆動ユニットＡＣＤとして小さな推力のもの、すなわち小型の駆動ユニットＡＣＤを使用することができる。

〔第４の実施の形態〕
図２２は、第４の実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ４の構成をＹ方向から見た部分断面図である。図２２の直交座標系ＸＹＺは、図５、図６、図１５～１８、図１９～２１の各々に示した直交座標系ＸＹＺと同じに設定されている。また、先の各実施の形態で説明したヘッドユニットＤＣＨ、ＤＣＨ２、ＤＣＨ３と類似した機能の部材や部分には同じ符号を付してある。本実施の形態では、リップ片部材ＨＡ、ＨＢの各々はステンレス等の金属で作られ、リップ片部材ＨＡ、ＨＢの各々の内壁面ＨＡ１、ＨＢ１で規定されるスロット部ＳＬＴのＸ方向の幅（ギャップ）ΔＳｇを計測する７つのセンサーユニットＳＵ（開口幅計測機構）として、渦電流センサーＳＫ１～ＳＫ７（総称する場合はＳＫｎとする）を用いる。

渦電流センサーＳＫ１～ＳＫ７は、図１５の構成と同様に、Ｙ方向に沿って所定の間隔でリップ片部材ＨＡに形成された円形の開口部ＨＬ１～ＨＬ７（総称する場合はＨＬｎとする）の各々に、リップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１と対向するように埋め込まれる。渦電流センサーＳＫｎは、交流信号（高周波）の印加によって交流磁束を発生するセンサコイルを含み、センサコイルと対向した金属片（リップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１）に交流磁束が印加されると、金属片の表面に交流磁束の強度に応じた渦電流が発生し、金属片とセンサコイルの間隔変化に応じてセンサコイルの電気的なインピーダンスが変化することを利用したギャップセンサーである。本実施の形態では、そのインピーダンスの変化による電圧変化を計測して、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇを計測する。

渦電流センサーＳＫｎは磁束（磁場）を利用するので、センサコイルの周囲に、ターゲットとしての金属片（リップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１）以外の金属体が存在すると、計測誤差（オフセット）を発生することがある。その為、本実施の形態では、図２２に示すように、渦電流センサーＳＫｎの各々を筒状の非磁性体（非金属、不導体）による絶縁管ＢＦ１～ＢＦ７（総称する場合はＢＦｎとする）に貫入し、その絶縁管ＢＦｎの各々を開口部ＨＬ１～ＨＬ７に埋め込む構成とする。絶縁管ＢＦｎは、剛性が高いガラス、セラミックス、テフロン（登録商標）、ポリカーボネート等の材料で構成され、その肉厚はリップ片部材ＨＡに印加されるセンサコイルからの磁束が低減されるように設定される。また、渦電流センサーＳＫｎの各々は、互いの磁束による相互干渉を受けないようにＹ方向の間隔が設定される。渦電流センサーＳＫｎは液体中でも使用可能であるので、渦電流センサーＳＫｎの先端部（先端面）をリップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１と同一面とするように配置することも可能である。

しかしながら、塗布液Ｌｑに溶剤が含まれている場合、その溶剤によって渦電流センサーＳＫｎの先端部が変質したり腐食したりする可能性があるので、本実施の形態では、先の図１７で説明した透明板部材（石英板、ガラス板等）ＧＨｐと同様の板部材（石英板、ガラス板等）ＧＨｐ’が、リップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１側の開口部ＨＬｎの各々をふさぐように設けられている。本実施の形態では、板部材ＧＨｐ’は渦電流センサーＳＫｎの磁束を良好に透過し、渦電流を発生しない透磁性の材料であって、塗布液Ｌｑによって変質したり腐食したりしない材料であれば良く、必ずしも光透過性を有する必要はない。板部材ＧＨｐ’のリップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１と対向する側の面は、リップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１と同一の面となるように設定されている。なお、本実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ４では、リップ片部材ＨＡの先端部ＨＡ４（シート基板Ｐの搬送方向の下流側で塗布液Ｌｑが流れ出す側）のＸＺ面内の断面形状は、塗布液Ｌｑを均一な厚みで塗工する為に、角ばった頂角部を面取りして滑らかな微小曲面に形成されている。

図２３は、図２２に示した渦電流センサーＳＫｎのうち、代表して渦電流センサーＳＫ１によってスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇを計測する計測回路ユニットの一例を示す回路ブロック図である。計測回路ユニットには、一定の周波数（数十ＫＨｚ～数ＭＨｚ）の高周波信号を発生する発振回路１００、渦電流センサーＳＫ１のセンサコイルに高周波信号を印加すると共に、インピーダンス変化に応じてセンサコイルの両端に印加される高周波信号のレベルが変化する共振回路１０１、レベル変化する共振回路１０１からの高周波信号を検波して、高周波信号の振幅に応じた電圧のアナログ信号を出力する検波回路１０２、検波されたアナログ信号の電圧の変化特性をスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇの変化量と線形に対応付けた計測信号ＳＶ１を出力する線形化回路１０３とを備えている。この計測回路ユニットのうち、共振回路１０１、検波回路１０２、線形化回路１０３は、７つの渦電流センサーＳＫ１～ＳＫ７の各々に対して個別に設けられ、発振回路１００は共通に設けられる。７つの渦電流センサーＳＫｎの各々に対応した線形化回路１０３から出力される計測信号ＳＶ１～ＳＶ７は、先の図４に示した塗工部５の一部として設けられる計測処理部３０に送出される。

本実施の形態では、計測処理部３０内に、アナログ信号である計測信号ＳＶ１～ＳＶ７のいずれか１つを任意のタイミング、又は一定時間ごとのタイミングで選択出力するアナログマルチプレクサ回路１０４と、選択された計測信号ＳＶ１～ＳＶ７の１つをデジタル値に変換するアナログ－デジタル変換器（ＡＤＣ）１０５とが設けられる。計測処理部３０は、ＡＤＣ１０５から出力される計測信号ＳＶ１～ＳＶ７のデジタル値に基づいて、先の図１１、図１２で説明したように、スロット部ＳＬＴのＹ方向の７ヶ所の各々の実際の幅ΔＳｇ１～ΔＳｇ７の値と変動量δｇ１～δｇ７の値とを計測情報３０Ａとして生成する。計測信号ＳＶ１～ＳＶ７から生成された計測情報３０Ａに基づいて、図４に示した制御システムによって、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇ１～ΔＳｇ７の各々が目標とする幅の許容範囲内に入るように、図１３、図１４、図１７、又は図１９に示した駆動ユニットＡＣＤ（マイクロメータヘッドＭＭＨ）が駆動（調整）される。また、図１２のように、表示画面ＤＳＰ上に計測された幅ΔＳｇ１～ΔＳｇ７の値と変動量δｇ１～δｇ７の値とを表示しても良い。

以上、本実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ４では、センサーユニットＳＵとして小型の渦電流センサーＳＫｎを用いる為、リップ片部材ＨＡに形成する開口部ＨＬｎの寸法（直径）を小さくでき、リップ片部材ＨＡの剛性低下を抑えることができる。また、渦電流センサーＳＫｎは、図２３の共振回路１０１からの高周波信号用のシールド線を接続するだけで良い為、ヘッドユニットＤＣＨ４の周囲空間にセンサーユニットＳＵの一部分となる付加的な構造物が不要となり、コンパクトなヘッドユニットが得られる。なお、スロット部ＳＬＴを通る塗布液Ｌｑに金属製（導電性）のナノ粒子が含有されている場合は、金属製のナノ粒子を含有しない塗布液Ｌｑの場合に計測されるスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇの実際の計測値に対して誤差（オフセット）を持って計測されることもある。その為、実際の幅ΔＳｇと計測信号ＳＶｎの値との対応関係を予めキャリブレーションしておくのが良い。

〔第５の実施の形態〕
図２４は、第５の実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ５の構成をＹ方向から見た部分断面図である。図２４の直交座標系ＸＹＺは、図５、図６、図１５～１８、図１９～２１、図２２の各々で規定した直交座標系ＸＹＺと同じに設定されている。また、先の各実施の形態で説明したヘッドユニットＤＣＨ、ＤＣＨ２～ＤＣＨ４と類似した機能の部材や部分には同じ符号を付してある。本実施の形態では、リップ片部材ＨＡ、ＨＢの各々はステンレス等の金属で作られ、リップ片部材ＨＡ、ＨＢの各々の内壁面ＨＡ１、ＨＢ１で規定されるスロット部ＳＬＴのＸ方向の幅（ギャップ）ΔＳｇを計測するセンサーユニットＳＵ（開口幅計測機構）として、静電容量センサーが用いられる。静電容量センサーは、リップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１側に埋め込まれた絶縁体ＩＳＰのスロット部ＳＬＴ（塗布液Ｌｑ）に対抗する面側に形成された導電層ＣＤＰを一方の電極とし、リップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１を他方の電極として構成され、導電層ＣＤＰと内壁面ＨＢ１と間に満たされる塗布液ＬｑのＸ方向の厚み（幅ΔＳｇ）により変化する静電容量を計測する。従って、本実施の形態では、塗布液Ｌｑとして、例えば、金、銅、アルミ、カーボンナノチューブ（金属性）等の金属ナノ粒子等を高い濃度で含んで導電性が高い液体の場合、スロット部ＳＬＴのギャップΔＳｇ内の液体の静電容量が相当に小さくなるため、計測精度が得られなかったり、計測自体が困難になったりすることがある。

図２４において、絶縁体ＩＳＰは剛性が高いガラス材やセラミック材等で構成され、導電層ＣＤＰは塗布液Ｌｑによる影響を受け難い金等の貴金属やステンレス等で構成される。導電層ＣＤＰは、リップ片部材ＨＡの内部をＸ方向に貫通する孔ＨＡ８内に通された配線によって、リップ片部材ＨＡの＋Ｘ方向の外壁面に固定された絶縁ブッシュ部材を介して金属端子ＴＭＨに接続される。この金属端子ＴＭＨの近くには、金属端子ＴＭＬがリップ片部材ＨＡの＋Ｘ方向の外壁面に直接植設される。本実施の形態では、リップ片部材ＨＡ、ＨＢが共に金属であり、金属製のシート部材（シム部材）ＳＭｐを挟んで締結ネジＦＳ（図５参照）によってＸ方向に締結されている為、リップ片部材ＨＡ、ＨＢは電気的に抵抗が無い導通状態になっている。

従って、金属端子ＴＭＨと金属端子ＴＭＬとの間には、導電層ＣＤＰとリップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１との間に満たされる塗布液Ｌｑの厚みに対応した静電容量（所謂、電解コンデンサ）が生じる。本実施の形態でも、絶縁体ＩＳＰのリップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１と対向する面は、リップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１と同一面となるように形成され、導電層ＣＤＰもなるべく薄くなるように、例えば、１μｍ～十数μｍ程度の厚みで形成される。導電層ＣＤＰを薄くできないときは、絶縁体ＩＳＰの塗布液Ｌｑと接する側の面を導電層ＣＤＰの厚み分だけへこませた窪みを形成し、その窪みに導電層ＣＤＰを埋め込んでも良い。また、絶縁体ＩＳＰと導電層ＣＤＰと金属端子ＴＭＨは、リップ片部材ＨＡのＹ方向に分割された複数の領域の各々に設けられる。なお、図２４の構成では、導電層ＣＤＰのＹＺ面内での面積を可能な範囲で大きくしておくのが好ましい。具体的には、導電層ＣＤＰのＺ方向の最大寸法は、リップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１に沿ったマニホールドＭＨの直下部から先端部ＨＡ４までの間に設定することができる。また、導電層ＣＤＰをＹ方向の複数の領域の各々に設ける場合、個々の導電層ＣＤＰのＹ方向の最大寸法は、リップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１のＹ方向の寸法を、分割すべき領域の数で除した寸法よりも僅かに短い寸法に設定することができる。

図２４に示すように、金属端子ＴＭＨには、発振器ＯＳＣから出力される周波数が数ＫＨｚ～数ＭＨｚ程度の範囲の所定周波数の正弦波状の高周波信号（発振信号）が印加される。金属端子ＴＭＬは、差動増幅器（オペアンプ）ＯＰＡの反転入力に接続される。オペアンプＯＰＡの非反転入力は接地電位（ゼロ電位）に接続され、反転入力と出力の間には抵抗値Ｒｆの帰還抵抗器ＲＲが接続されている。図２４のオペアンプＯＰＡで構成される計測回路接続は、自動平衡ブリッジ回路と呼ばれ、金属端子ＴＭＨに接続される計測器ＶＭ１で測られる高周波信号の振幅強度Ｅ１と、オペアンプＯＰＡの出力に接続される計測器ＶＭ２で測られる高周波信号の振幅強度Ｅ２との比率を求めることで、塗布液Ｌｑの厚み変化（静電容量の変化）を計測することができる。金属端子ＴＭＨ、ＴＭＬ間に現れる静電容量によるインピーダンス値Ｚｘは、Ｚｘ＝Ｒｆ・（Ｅ１／Ｅ２）で求められる。なお、図２４に示した計測器ＶＭ１、ＶＭ２は、実際は整流回路（検波回路）とアナログ・デジタル変換器等によって振幅強度Ｅ１、Ｅ２の各々に対応したデジタル値を生成する電子回路等で構成される。

２つの平行な電極間に誘電率εの媒体（塗布液Ｌｑ）が充填されているとき、電極間の幅（ギャップ）をΔＳｇ、電極の面積（即ち導電層ＣＤＰのＹＺ面内での面積）をＡＳとしたとき、静電容量Ｃｘは一般的に、Ｃｘ＝ε・ＡＳ／ΔＳｇで求められる。従って、発振器ＯＳＣから出力される高周波信号の周波数ｆの角周波数をω（ω＝２πｆ）とすると、Ｚｘ＝１／（ω・Ｃｘ）の関係から計測されたインピーダンス値Ｚｘに基づいて、静電容量Ｃｘが分かり、さらに塗布液Ｌｑの誘電率εと電極（導電層ＣＤＰ）の面積ＡＳとが既知であれば、幅ΔＳｇを求めることができる。その為、本実施の形態では、予め塗布液Ｌｑの誘電率εを正確に計測しておく必要がある。塗布液Ｌｑの誘電率εは、塗布液Ｌｑの温度によっても変化し得るので、スロット部ＳＬＴを通るときの塗布液Ｌｑの温度の下で誘電率εを予め計測しておくのが良い。

また、図２４では、静電容量センサーの電極としての導電層ＣＤＰと絶縁体ＩＳＰをリップ片部材ＨＡ側にのみ設けたが、同様の構成（導電層ＣＤＰ、絶縁体ＩＳＰ、金属端子ＴＭＨ）をリップ片部材ＨＢ側に対向配置しても良い。さらに、リップ片部材ＨＡとリップ片部材ＨＢの両方を絶縁性の材料（石英、ガラス、セラミックス等）で構成する場合は、絶縁体ＩＳＰが不要になるが、リップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１とリップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１との各々に導電層ＣＤＰと同等の電極面をＹ方向の分割された領域の各々、或いはＹ方向の離散的な位置の各々に形成する必要がある。

以上、本実施の形態では、センサーユニットＳＵとして静電容量センサーを用いるので、塗布液Ｌｑの誘電率εが既知の場合は、幅ΔＳｇｎ（ｎは、例えば１～７）の設定値が数μｍ～数十μｍの微小なギャップであったとしても、比較的に高い分解能で実際の幅ΔＳｇｎの各々の値や各変動量δｇｎを計測することができる。また、スロット部ＳＬＴに充填されながら－Ｚ方向に流れる塗布液Ｌｑ中に比較的に大きな気泡（径が数ミリ程度）が混じったり、スロット部ＳＬＴ内で部分的に塗布液Ｌｑが瞬間的に途切れたりした場合、静電容量センサーの導電層ＣＤＰとリップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１との間の静電容量が瞬間的に変化する。

そこで、図２４の自動平衡ブリッジ回路で計測されるインピーダンス値Ｚｘを短いインターバル時間（例えば、１ミリ秒）で更新計測する計測タイミング制御回路（又は、プロッセサによるソフトウェア計測機能）を設け、インピーダンス値Ｚｘに急峻な変動が生じたか否かを逐次モニターする。そのような急峻な変動が生じたときは、シート基板Ｐ上に塗布される塗布液Ｌｑの膜厚に大きなムラが生じた可能性があり、図４中の発報装置３６を作動させたり、シート基板Ｐ上のムラが生じた可能性のある部分（領域）をマークしたりすることができる。更新計測のインターバル時間をＴｉｃとしたとき、時間Ｔｉｃは、スロット部ＳＬＴ内を－Ｚ方向に流れる塗布液Ｌｑの流速Ｖｑ（ｍｍ／ｓ）と、導電層ＣＤＰのＺ方向の寸法Ｌｚｃ（ｍｍ）とにより、Ｔｉｃ≦Ｌｚｃ／Ｖｑの関係に設定されるが、さらには、２・Ｔｉｃ＜Ｌｚｃ／Ｖｑの関係に設定するのが好ましい。

〔静電容量センサーの変形例〕
図２５は、センサーユニットＳＵとして図２４の静電容量センサーを用いる場合の変形例による概略構成を示す図であり、直交座標系ＸＹＺは、図２４で規定した直交座標系ＸＹＺと同じに設定されている。また、図２４で説明したヘッドユニットＤＣＨ５や回路構成と類似した機能の部材や部分には同じ符号を付してある。本変形例では、リップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１のＹ方向に沿って分割された複数の領域の各々に、導電層ＣＤＰａ、ＣＤＰｂ、ＣＤＰｃ、ＣＤＰｄ、・・・が設けられる。導電層ＣＤＰａ、ＣＤＰｂ、ＣＤＰｃ、ＣＤＰｄ、・・・の各々は、内壁面ＨＡ１のＹ方向の寸法に亘って延びるように内壁面ＨＡ１に埋設された絶縁体ＩＳＰの表面に、向かい側のリップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１と対向するように形成される。本変形例の場合、導電層ＣＤＰａ、ＣＤＰｂ、ＣＤＰｃ、ＣＤＰｄ、・・・の各々のＹ方向の寸法は、Ｙ方向に隣り合った導電層同士が接触することなく、一定の隙間を空けるように配置される。

本変形例では、図２４に示した自動平衡ブリッジ回路と、複数の導電層ＣＤＰａ、ＣＤＰｂ、ＣＤＰｃ、ＣＤＰｄ、・・・の各々の間に第１のスイッチ回路ＳＷ１を設け、複数の導電層ＣＤＰａ、ＣＤＰｂ、ＣＤＰｃ、ＣＤＰｄ、・・・のいずれか１つが金属端子ＴＭＨを介して順番に自動平衡ブリッジ回路と短時間だけ接続されるように切り替える構成とした。図２４では、第１のスイッチ回路ＳＷ１を機械的なロータリースイッチで表したが、実際は高周波帯域（数ＭＨｚ）までの発振器ＯＳＣからの高周波信号を電子的に切り替えられるアナログマルチプレクサ回路で構成される。さらに本変形例では、発振器ＯＳＣの高周波信号の振幅強度Ｅ１とオペアンプＯＰＡの出力信号の振幅強度Ｅ２とを、１つの計測器ＶＭ３で計測するように、第２のスイッチ回路ＳＷ２を設けた。第２のスイッチ回路ＳＷ２は、発振器ＯＳＣの高周波信号とオペアンプＯＰＡの出力信号とのいずれか一方を計測器ＶＷ３に接続するように切り替えるもので、先の第１のスイッチ回路ＳＷ１と同様のアナログマルチプレクサ回路で構成される。

図２５の構成において、第１のスイッチ回路ＳＷ１が、例えば、導電層（電極）ＣＤＰａの金属端子ＴＭＨに発振器ＯＳＣからの発振信号を印加するように選択されている状態で、第２のスイッチ回路ＳＷ２は、発振器ＯＳＣの発振信号を計測器ＶＷ３に接続して発振信号の振幅強度Ｅ１を計測した後、オペアンプＯＰＡの出力信号を計測器ＶＷ３に接続して出力信号の振幅強度Ｅ２を計測するように切り替えられる。この切り替え動作は１回でも良いが、高速に複数回行って、計測された複数回の振幅強度Ｅ１の平均値と、計測された複数回の振幅強度Ｅ２の平均値とを用いて、スロット部ＳＬＴの導電層ＣＤＰａが設けられた領域での幅ΔＳｇａ（又は規定の幅からの変化量）を求めても良い。第１のスイッチ回路ＳＷ１が、他の導電層ＣＤＰｂ、ＣＤＰｃ、ＣＤＰｄ、・・・の各々に発振器ＯＳＣからの発振信号を印加するように切り替えられた場合も、同様にして、第２のスイッチ回路ＳＷ２の切り替えによって、スロット部ＳＬＴの導電層ＣＤＰｂ、ＣＤＰｃ、ＣＤＰｄ、・・・の各々が設けられた領域での幅ΔＳｇｂ，ΔＳｇｃ，ΔＳｇｄ，・・・、（又は規定の幅からの変化量）を求めることができる。

本変形例では、Ｙ方向に分割された領域の各々でのスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇａ，ΔＳｇｂ，ΔＳｇｃ，ΔＳｇｄ・・・を求めるために、計測回路として、１つの自動平衡ブリッジ回路を用いて、順次に導電層ＣＤＰａ、ＣＤＰｂ、ＣＤＰｃ、ＣＤＰｄ、・・・を切り替えるようにした。その為、各導電層ＣＤＰａ、ＣＤＰｂ、ＣＤＰｃ、ＣＤＰｄ、・・・ごとに計測回路（自動平衡ブリッジ回路）を設けた場合に生じ得る計測回路間の誤差が無くなり、計測されたスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇａ，ΔＳｇｂ，ΔＳｇｃ，ΔＳｇｄ、・・・の各々の変動状態を正確に比較することが可能となる。

〔第６の実施の形態〕
次に、図２６を参照して、スロット部ＳＬＴを光学的に観察する為のモニター系が設けられたヘッドユニットＤＣＨ６の構成を第６の実施の形態として説明する。図２６の直交座標系ＸＹＺは、図５、図６、図１５～１８、図１９～２２、図２４の各々で規定した直交座標系ＸＹＺと同じに設定されている。また、先の各実施の形態で説明したヘッドユニットＤＣＨ、ＤＣＨ２～ＤＣＨ５と類似した機能の部材や部分には同じ符号を付してある。図２６は、ヘッドユニットＤＣＨ６をＹ方向から見た断面図であり、本実施の形態では、先の図５の構成と同様に、リップ片部材ＨＡがＸ方向に所定の厚みを有する平行平板状の光透過性材料（例えば、石英）で構成される。一方、リップ片部材ＨＢは、金属材料（例えば、ステンレス）で構成され、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇを規定する金属製の極薄のシート部材（シム部材）ＳＭｐを挟んで、リップ片部材ＨＡと結合される。

リップ片部材ＨＢは、先の図１９～２１の構成と同様に、スロット部ＳＬＴの先端部ＨＢ４のＸ方向の位置を、Ｙ方向に分割した複数の領域の各々で微調整する為に、Ｚ方向に推力を発生する駆動ユニットＡＣＤと、リップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１の先端部ＨＢ４に近い部分に形成されたヒンジ部Ｈｇｓと、ヒンジ部Ｈｇｓから先端部ＨＢ４までの作用部分ＨＢｐと、駆動ユニットＡＣＤのＺ方向の推力を、ヒンジ部Ｈｇｓを中心とした作用部分ＨＢｐの微小回転力に変換する支持部ＨＢ６’とを備える。また、リップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１に窪みとして形成されるマニホールドＭＨ内には、供給チューブＳＴとポート部ＳＴ’とを介して塗布液Ｌｑが供給される。なお、ポート部ＳＴ’の流路の一部と接続されて外気に連通するアウトレット部ＳＴｐには、マニホールドＭＨ内に供給される塗布液Ｌｑの圧力をモニターする圧力センサー３４Ｂが接続される。その圧力センサー３４Ｂは、先の図４に示した圧力計３４の代わり、又は付加的に設けられ、マニホールドＭＨ内に供給される塗布液Ｌｑの圧力の僅かな揺らぎ、即ち、図４に示したポンプ３３によって不可避的に発生し得る脈動が計測できるような感度を有するのが望ましい。

本実施の形態では、リップ片部材ＨＡの全体が平行平板状の光透過性材料で構成されているので、リップ片部材ＨＡの外壁面ＨＡ２側からは、スロット部ＳＬＴ内を流れる塗布液Ｌｑの状態（泡や微小異物の混入、塗布液ＬｑのＸ方向の厚みムラ等）を、光学的に観察（監視）することが可能である。そこで本実施の形態では、スロット部ＳＬＴ内の塗布液Ｌｑを観察する為の照明部６０と撮像部６２とを、リップ片部材ＨＡの外壁面ＨＡ２と対向するように配置する。撮像部６２は、スロット部ＳＬＴを規定する内壁面ＨＡ１、ＨＢ１と垂直な光軸ＡＸｓに沿って配置される撮像レンズ系６２Ａと、ＣＣＤやＣＭＯＳによるカラー撮像素子６２Ｂとを有する。撮像部６２は、スロット部ＳＬＴのＹ方向（長手方向）に所定間隔で複数設けられ、スロット部ＳＬＴのＹ方向の全体寸法に亘って、各撮像部６２のカラー撮像素子６２Ｂの撮像範囲がＹ方向に継がれるように配置される。カラー撮像素子６２Ｂは、２Ｋサイズ、又は４Ｋサイズのフルハイビジョンモード対応の撮像素子が良い。また、撮像部６２は、携帯電話、スマートフォン、タブレット等に搭載されているモジュール化された小型撮像ユニット（撮像レンズと撮像素子を含む）にしても良い。

照明部６０内には、Ｙ方向に一定間隔で一列に並べられた複数のＬＥＤ光源６０Ａと、複数のＬＥＤ光源６０Ａの各々からの照明光（波長４００ｎｍよりも長い波長帯域）を共に入射するように、スロット部ＳＬＴのＹ方向の寸法と同程度の長さを有し、その長手方向にはパワー（屈折力）を有さず、短手方向には一定のパワー（屈折力）を有する細長いシリンドリカルレンズ６０Ｂとが、光軸ＡＸｉに沿って配置される。照明部６０の光軸ＡＸｉは内壁面ＨＡ１、ＨＢ１に対して傾けて配置され、複数のＬＥＤ光源６０Ａからの照明光は、撮像部６２の（フォーカスが合されたスロット部ＳＬＴ）を斜め上方から傾斜照明（暗視野照明とも言う）する。なお、照明部６０からの照明光がリップ片部材ＨＡの外壁面ＨＡ２に入射する際、外壁面ＨＡ２で弱い強度で正反射光が発生すると、その正反射光が撮像部６２の撮像レンズ系６２Ａに直接入射して、撮像した映像にフレアーが生じることもある。その為、図２６のように、照明部６０と撮像部６２との間の空間に、撮像部６２の撮像範囲を遮蔽せずに、外壁面ＨＡ２からの正反射光を遮蔽する遮光板６０Ｃが設けられる。遮光板６０Ｃは、シリンドリカルレンズ６０ＢのＹ方向の寸法と同程度の寸法を有して、Ｙ方向に延設されている。

照明部６０の複数のＬＥＤ光源６０Ａの各々は、照明光として白色のみを発光するもの、白色、赤色→黄色→緑色→青色と連続的又は段階的に発光色が変えられるもの、或いは赤外波長域（７００ｎｍ以上）の光を発光するものであっても良い。そのように照明光の波長帯域を変えられるようにおくと、スロット部ＳＬＴ内の塗布液Ｌｑの種類に応じて変化し得る光学的な特性（波長吸収特性）に応じて発光色を調整することができ、撮像された画像の明暗状態やコントラストを良好にすることができる。塗布液Ｌｑがフォトレジストの場合、照明光の波長帯域はフォトレジストの感光波長帯域を外した範囲に設定される。複数のＬＥＤ光源６０Ａの各々の発光色の調整や全体的な照明強度の調整は点灯制御回路６１によって行われる。点灯制御回路６１は、複数のＬＥＤ光源６０Ａの各々を連続点灯させるだけでなく、一定の周期で一定時間だけ点灯するパルス点灯させるモードを備えている。パルス点灯モードでは、撮像部６２のカラー撮像素子６２Ｂの撮像フレームレート（２８ｆｐｓ，３０ｆｐｓ，６０ｆｐｓ等）に対応した周期で、ＬＥＤ光源６０Ａの各々をパルス発光させる。

撮像部６２の複数のカラー撮像素子６２Ｂの各々からの映像信号は画像処理装置６３に送られ、画像処理装置６３はスロット部ＳＬＴ内の塗布液Ｌｑの状態を画像解析する。画像処理装置６３は、撮像される映像信号を一定の時間ごとにサンプリングして静止画を一時的に記憶する画像メモリ部、記憶した静止画中に現れる可能性のある泡や微小異物等の不純物の像を特定する不純物分析部、スロット部ＳＬＴ内の塗布液Ｌｑの静止画中のＹ方向に関する濃淡ムラや色ムラを分析して、塗布液Ｌｑの層厚（正常であれば幅ΔＳｇと等しい）がＹ方向に関して減少した部分が生じたか否かを特定する層厚分析部等を備えている。また、画像処理装置６３には、撮像されたスロット部ＳＬＴ内の塗布液Ｌｑの映像をリアルタイムに表示する表示モニターも接続されている。なお、映像信号をサンプリングする時間間隔（インターバル時間）Ｔｉｓは、撮像部６２による撮像範囲（スロット部ＳＬＴ）のＺ方向の寸法をＩＦｚ（ｍｍ）、スロット部ＳＬＴ内を－Ｚ方向に流れる塗布液Ｌｑの流速をＶｑ（ｍｍ／ｓ）としたとき、Ｔｉｓ≦ＩＦｚ／Ｖｑに設定され、画像処理装置６３はインターバル時間Ｔｉｓ毎にサンプリングする静止画を高速に画像処理する。

以上、本実施の形態では、ヘッドユニットＤＣＨ６のスロット部ＳＬＴ内を通る塗布液Ｌｑの状態（気泡や異物等の不純物の混入、層厚のムラ）をリアルタイムに監視（異常検知）することができ、シート基板Ｐ上に塗工された塗布液Ｌｑの塗布ムラ発生の可能性を早期に知ることができる。画像処理装置６３の不純物分析部や層厚分析部によって異常が検知された場合は、その時点でのシート基板Ｐ上のＸ方向の位置（部分）に塗布ムラが生じている可能性があるので、画像処理装置６３の分析結果に応答して、シート基板ＰのＹ方向の端部付近、又はシート基板Ｐの裏面に、塗布ムラ発生を表すマークやパターン等のスタンプを打込んだり印刷したりする刻印部を更に設けておくと良い。

〔第７の実施の形態〕
以上の各実施の形態において、センサーユニットＳＵとして、光学式、磁気式、静電式の各センサー構成を説明したが、光学式のセンサーユニットＳＵとしては、図７～図９に示したような共焦点型光学式センサーの他に、三角測量式変位センサー、分光干渉計センサー等が利用できる。さらに、光学式のセンサーユニットＳＵとして、被計測面（リップ片部材ＨＡの内壁面ＨＡ１、又はリップ片部材ＨＢの内壁面ＨＢ１）に面精度の高い反射面（例えば、図６、図８中の反射膜ＲＦａ、ＲＦｂ）が形成できる場合は、マイケルソン型、フィゾー型、マッハ・ツェンダー型等のレーザ干渉計システムを利用することもできる。

高い計測分解能が得られると共に、小型のヘッド部を有するファイバー伝送式の分光干渉計センサーを用いることができる。図２７は、第７の実施の形態によるヘッドユニットＤＣＨ７の構成をＹ方向から見た部分断面と、スロット部ＳＬＴの幅（又は幅の変化）を分光干渉計センサーで計測する場合の構成を示す図である。図２７の直交座標系ＸＹＺは、図５、図６、図１５～１８、図１９～２２、図２４、図２６の各々で規定した直交座標系ＸＹＺと同じに設定されている。また、先の各実施の形態で説明したヘッドユニットＤＣＨ、ＤＣＨ２～ＤＣＨ６と類似した機能の部材や部分には同じ符号を付してある。また、分光干渉計センサーとしては、株式会社キーエンスより販売されている「マイクロヘッド型分光干渉レーザ変位計ＳＩ－Ｆシリーズ」等を利用することができる。

本実施の形態では、ヘッドユニットＤＣＨ７を構成するリップ片部材ＨＡ、ＨＢが、金属製とガラス（石英）製のいずれであっても良い。図２７に示すように、リップ片部材ＨＡのＺ方向の下方部分（開口部ＳＳに近い位置が望ましい）には、分光干渉計センサーのヘッド部７０Ａが配置される孔ＨＡ８（ＹＺ面内で円形）が形成され、リップ片部材ＨＢのＺ方向の下方部分には、分光干渉計センサーのヘッド部７０Ｂが配置される孔ＨＢ８（ＹＺ面内で円形）が形成されている。孔ＨＡ８、ＨＢ８はスロット部ＳＬＴを挟んで互いに対向するように配置されるが、スロット部ＳＬＴを形成する内壁面ＨＡ１、ＨＢ１まで貫通しないような深さで形成されている。孔ＨＡ８の内壁面ＨＡ１側の底部（－Ｘ方向）には、ＹＺ面と平行な反射面を有する反射板７１Ａが設けられ、孔ＨＢ８の内壁面ＨＢ１側の底部（＋Ｘ方向）には、ＹＺ面と平行な反射面を有する反射板７１Ｂが設けられる。２枚の反射板７１Ａ、７１Ｂの各々の反射面は、スロット部ＳＬＴを挟んでＸ方向に一定の間隔となるように配置されるが、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇの変化に応じて、２枚の反射板７１Ａ、７１ＢのＸ方向の間隔も変化する。

分光干渉計センサーのヘッド部７０Ａ、７０Ｂの各々は、ヘッドユニットＤＣＨ７のリップ片部材ＨＡ、ＨＢとは別に装置内に固定されている固定部材７２Ａ、７２Ｂに取り付けられている。固定部材７２Ａ、７２Ｂは、低熱膨張係数の金属材（例えば、インバー）やセラミックス等で構成され、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇの変化、即ち、リップ片部材ＨＡ、ＨＢの図１１に示したような変形に影響されることなく、直交座標系ＸＹＺ内で安定した状態で保持されている。その為、分光干渉計センサーのヘッド部７０Ａは、固定部材７２Ａを基準とした反射板７１Ａの反射面のＸ方向の位置変化を計測し、分光干渉計センサーのヘッド部７０Ｂは、固定部材７２Ｂを基準とした反射板７１Ｂの反射面のＸ方向の位置変化を計測する。従って、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇが初期の状態のときに、分光干渉計センサーのヘッド部７０Ａ、７０Ｂの各々によって反射板７１Ａ、７１Ｂの各反射面のＸ方向の位置を初期位置として予め計測しておき、その初期位置からの変化を逐次計測することで、幅ΔＳｇの変動を求めることができる。なお、固定部材７２Ａ、７２Ｂは、図３中に示したガイド部材２１Ａ、２１Ｂと同様に、塗布装置のボディフレームに固定される。

なお、図２７に示した孔ＨＡ８、ＨＢ８、反射板７１Ａ、７１Ｂ、ヘッド部７０Ａ、７０Ｂのセットは、リップ片部材ＨＡ、ＨＢのＹ方向の適当な間隔毎に設けられる。また、リップ片部材ＨＡ、ＨＢの各々に孔ＨＡ８、ＨＢ８が形成し難い場合は、反射板７１Ａをリップ片部材ＨＡの外壁面ＨＡ２の一部に固定し、反射板７１Ｂをリップ片部材ＨＢの外壁面ＨＢ２の一部に固定して、その反射板７１Ａ、７１ＢのＸ方向の位置をそれぞれ分光干渉計センサーのヘッド部７０Ａ、７０Ｂで計測しても良い。

〔その他の変形例１〕
図２８Ａ、図２８Ｂは、ヘッドユニットＤＣＨによる塗工形態が異なる塗布装置の変形例を示し、図２８Ａは回転ドラム式の塗布装置におけるヘッドユニットＤＣＨの配置の変形例を示す。図２８Ａの直交座標系ＸＹＺは、図５、図６、図１５～１８、図１９～２２、図２４、図２６、図２７の各々で規定した直交座標系ＸＹＺと同じに設定されている。また、先の各実施の形態で説明したヘッドユニットＤＣＨ、ＤＣＨ２～ＤＣＨ７と類似した機能の部材や部分には同じ符号を付してある。

図２８Ａは、図１に示した塗布装置におけるヘッドユニットＤＣＨを縦置きから横置きに変更した構成の塗布装置の概略構成であり、長尺のシート基板Ｐは、ローラＲｈに巻き付けられて折り返された後、回転ドラムＤＲ（基板支持機構）の進入位置Ｐｉｎで接触し始め、上方の離脱位置Ｐｏｕｔで回転ドラムＤＲの外周面から離れるように搬送される。進入位置Ｐｉｎは、回転ドラムＤＲの中心線ＡＸｏから見たときに－Ｘ方向（時計の９時方向）と－Ｚ方向（時計の６時方向）の間の角度方位に設定される。ヘッドユニットＤＣＨのスロット部ＳＬＴの先端の開口部ＳＳは、回転ドラムＤＲの中心線ＡＸｏから見たときに－Ｘ方向（時計の９時方向）の塗布位置Ｐｃｄでシート基板Ｐと対向するように配置される。また、ヘッドユニットＤＣＨには、先の各実施の形態や変形例のいずれかと同様に、光学式、静電容量式、電磁気式（渦電流式）のいずれかによる複数のセンサーユニットＳＵｎと、複数の駆動ユニット（アクチュエータ）ＡＣＤがＹ方向に並べて設けられる。

さらに、図２８Ａの回転ドラムＤＲには、シート基板Ｐを４０℃～８０℃の範囲の所定温度に温める為に、外周面の全体を加熱する温調ヒータＨＴＦが設けられている。これは、塗布液Ｌｑが接着剤のように常温（室温）では粘性が高く、温めることで粘性を低減させて塗布膜の厚みを一様化する為である。シート基板Ｐは、回転ドラムＤＲの進入位置Ｐｉｎから離脱位置Ｐｏｕｔの間の約１５０°～１２０°に亘って回転ドラムＤＲの外周面に密着して、外周面の温度に馴染む。なお、塗布液Ｌｑの温度と回転ドラムＤＲの外周面の温度とを±５％以下の温度差に設定する為、ヘッドユニットＤＣＨを構成するリップ片部材（スロット片部材）ＨＡ、ＨＢの温度と、ヘッドユニットＤＣＨに供給される塗布液Ｌｑの温度とを調整する温調ヒータ部材が設けられている。

ここで、回転ドラムＤＲの外周面の半径をφｄ（ｍｍ）、シート基板Ｐの搬送速度をＶｃｐ（ｍｍ／秒）、進入位置Ｐｉｎから塗布位置Ｐｃｄまでの回転角度をθｋ、常温のシート基板Ｐを所定温度（目標温度）の物体に接触させた瞬間からシート基板Ｐがその目標温度に馴染むまでの時間（温度遷移時間）をＴｚ（秒）としたとき、
〔２・π・φｄ・（θｋ／３６０）〕／Ｖｃｐ≧Ｔｚ
の関係となるように設定される。この条件を満たすようにすると、シート基板Ｐが進入位置Ｐｉｎから塗布位置Ｐｃｄに移動するまでに、シート基板Ｐの温度を目標温度に設定することができる。また、この条件を満たす為に、回転角度θｋを調整するように進入位置Ｐｉｎ又は塗布位置Ｐｃｄを外周面に沿った周方向に変更しても良い。進入位置Ｐｉｎの調整はローラＲｈの配置を変更することで可能である。

図２８Ａのように、塗布液Ｌｑの温度が常温に対して数十度以上（例えば、５０～８０℃程度）に加熱された状態で、ヘッドユニットＤＣＨ内のマニホールドＭＨ、スロット部ＳＬＴに供給される塗布装置では、リップ片部材ＨＡ、ＨＢも塗布液Ｌｑの温度と同じ温度になることから、常温時に、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇを塗布液Ｌｑの圧力に応じて最適に調整したとしても、実際の塗工処理中には、リップ片部材ＨＡ、ＨＢの温度上昇による熱膨張を原因として、Ｙ方向に関するスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇの分布が大きく変動する場合もある。先に説明した各実施の形態によれば、塗布液Ｌｑが加熱されてリップ片部材ＨＡ、ＨＢが熱膨張したとしても、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇの変化を複数のセンサーユニットＳＵによってほぼ直接的にリアルタイムに計測することが可能なので、図４（並びに、図１３、図１７、図１９、図２６）に示した駆動ユニット（アクチュエータ）ＡＣＤによって、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇがＹ方向に一様（均一）になるように塗工動作中であっても迅速に補正することができる。

〔その他の変形例２〕
図２８Ｂはシート基板を平坦搬送する塗布装置の概略構成を示し、図２８Ｂの直交座標系ＸＹＺは、図５、図６、図１５～１８、図１９～２２、図２４、図２６、図２７の各々で規定した直交座標系ＸＹＺと同じに設定されている。また、先の各実施の形態で説明したヘッドユニットＤＣＨ、ＤＣＨ２～ＤＣＨ７と類似した機能の部材や部分には同じ符号を付してある。図２８Ｂにおいて、シート基板Ｐは、シート基板Ｐの両面を挟み込むニップローラＮＲａ、ＮＲｂによって一定のテンションが付与された状態で、下流側のローラＲｊに向けて所定速度で平坦状に搬送される。図２８Ａと同様のヘッドユニットＤＣＨは、ニップローラＮＲａ、ＮＲｂとローラＲｊの間で、スロット部ＳＬＴの先端の開口部ＳＳが＋Ｚ方向（上向き）になるように配置される。

本変形例では、シート基板Ｐの裏面側（－Ｚ側）が被塗工面となっており、シート基板Ｐの搬送方向に関して下流側に位置するヘッドユニットＤＣＨのリップ片部材（スロット片部材とも呼ぶ）ＨＡの先端部ＨＡ４は、上流側に位置するリップ片部材（スロット片部材とも呼ぶ）ＨＢの先端部ＨＢ４よりも＋Ｚ方向に僅か（数μｍ～数十μｍ）に突出するように構成されている。シート基板Ｐは、リップ片部材ＨＡの先端部ＨＡ４に所定の摩擦力で接触するように搬送され、スロット部ＳＬＴの先端の開口部ＳＳから吐出される塗布液Ｌｑは、リップ片部材ＨＢの先端部ＨＢ４とシート基板Ｐの裏面との間の隙間を満たされた状態でシート基板Ｐに塗布される。塗布液Ｌｑが塗工されたシート基板Ｐは、ローラＲｊで＋Ｚ方向に折り曲げられ、図１に示された乾燥ユニット６Ａに搬入される。

本変形例のように、ヘッドユニットＤＣＨによる塗布位置において、シート基板Ｐを保持する基板支持機構が設けられていない場合であって、シート基板Ｐが光透過性（透明）の場合、図２８Ｂ中でシート基板Ｐの＋Ｚ方向側に計測機構や観察（撮像）機構を設ければ、ヘッドユニットＤＣＨのスリット状の開口部ＳＳから吐出される塗布液Ｌｑの状態を、シート基板Ｐを介して計測または観察することができる。例えば観察（撮像）機構を用いる場合は、開口部ＳＳから吐出されて、ヘッドユニットＤＣＨの先端部ＨＡ４の上面とシート基板Ｐとの間を通る塗布液Ｌｑ、或いは先端部ＨＡ４を通過した直後にシート基板Ｐに付着した塗布液ＬｑのＹ方向の厚みムラを、色ムラ又は濃度ムラとして観察又は計測可能であり、その計測結果に基づいてスロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇ（開口部ＳＳの幅）の変化を検知することもできる。なお、図２８Ｂでは、ヘッドユニットＤＣＨをシート基板Ｐの下方側（－Ｚ方向側）に配置したが、シート基板Ｐの上方側（＋Ｚ方向側）に配置して、開口部ＳＳを規定するリップ片部材ＨＢの先端部ＨＢ４がシート基板Ｐの上面側と接触するように配置しても良い。

〔その他の変形例３〕
以上の各実施の形態や変形例では、ロール・ツー・ロール方式で可撓性の長尺なシート基板Ｐに対して塗布液Ｌｑを塗工する塗布装置を例示したが、被塗工体としては、縦寸法と横寸法とが規定された枚葉の基板（ガラス基板、金属板、樹脂基板、用紙）であっても良い。その場合、枚葉の基板は平坦な支持面を有する基板ホルダ（基板支持機構）上の当該支持面に吸着保持され、基板ホルダは駆動機構によって基板の表面に沿って一次元に移動される。その移動の間、先に説明したヘッドユニットＤＣＨ（或いはＤＣＨ２～ＤＣＨ７のいずれか）の先端部ＨＡ４、ＨＢ４の開口部ＳＳを基板の表面から所定のギャップ量ΔＺｇ（図６参照）に設定することにより、枚葉の基板上に塗布液Ｌｑが所定の厚みで塗工される。

枚葉の基板の場合は、特に基板上の塗工開始位置と塗工終了位置とを正確に設定する必要がある。そこで、基板上の四隅、或いは基板上の塗工領域の端部付近に、開始位置を表すアライメントマークと終了位置を表すアライメントマークを予め形成しておき、そのアライメントマークを検出するアライメントセンサーを、塗工時の基板の移動方向に関してヘッドユニットＤＣＨの塗布位置から上流側に一定間隔だけ離して設ける。アライメントセンサーは、移動する基板上の開始位置を表すアライメントマークを検出したことを、図４に示した塗工制御部１０Ａに通知し、塗工制御部１０Ａはポンプ３３を起動して、ヘッドユニットＤＣＨに塗布液Ｌｑを供給する。なお、ポンプ３３の起動直前において、塗布液ＬｑはマニホールドＭＨ内とスロット部ＳＬＴ内とに充填されているが、ポンプ３３による塗布液Ｌｑの加圧供給が無い為、開口部ＳＳからは吐出されない。そして、アライメントセンサーが基板上の終了位置を表すアライメントマークを検出したことを塗工制御部１０Ａに通知すると、塗工制御部１０Ａは直ちにポンプ３３を停止する。

このように、基板上の塗工領域の位置を表すようにアライメントマークが形成されていて、塗布装置側にアライメントマークを検出するアライメントセンサーが設けられている場合は、基板上に設定された塗工領域のみに正確に塗布液Ｌｑを成膜することができる。このことは、枚葉の基板に限らず、先の各実施の形態や変形例で説明したような回転ドラムＤＲで支持されて搬送される長尺なシート基板Ｐに対しても同様に適用できる。その場合、アライメントマークは、シート基板Ｐの幅方向（Ｙ方向）の両端付近に、例えば塗工領域の長尺方向の長さに亘って一定間隔で設けられる。その塗工領域の長尺方向の長さが２００ｃｍで、次の塗工領域までの長尺方向の間隔（余白）が１５ｃｍである場合、アライメントマークは塗工領域に付随して長尺方向に例えば１０ｃｍ間隔で形成される。従って、アライメントセンサーがシート基板Ｐの移動中に塗工領域に付随した最初のアライメントマークを検出した時点でヘッドユニットＤＣＨからの塗布液Ｌｑの吐出を開始し、その後、アライメントセンサーがアライメントマークを２０（２００ｃｍ／１０ｃｍ）回検出した時点で、ヘッドユニットＤＣＨからの塗布液Ｌｑの吐出を停止させればよい。

このように、枚葉の基板上、又はシート基板Ｐ上に設定された塗工領域に正確に塗布液Ｌｑを成膜する際、図４に示したポンプ３３の起動／停止の応答時間が短いことが好ましい。ポンプ３３の起動／停止の応答特性が急峻ではなく比較的に緩慢な場合は、図４中の供給チューブＳＴ、又はチューブＳＴａの流路中に液体用の電磁弁を設けたり、チューブＳＴ、ＳＴａ自体を機械的にクランプするクランパーを設けたりすれば良い。

〔その他の変形例４〕
先の図５、図１４に示したヘッドユニットＤＣＨ、又は図２６に示したヘッドユニットＤＣＨ６の場合、センサーユニットＳＵ（ＳＵ１～ＳＵ６）や撮像部６２が配置される側のリップ片部材ＨＡは、全体が光透過性の誘電体材料（ガラスや石英等の硝材、アクリル等の樹脂材）で構成される。その為、リップ片部材ＨＡの外壁面ＨＡ３側からは、スロット部ＳＬＴの他に、その上のポート部（開口）ＳＴ’を通してマニホールドＭＨ（貯留部）内に一時的に貯留される塗布液Ｌｑの状態も観察することができる。そこで、先の図２６に示したような撮像部６２（及び照明部６０）と同様の撮像部を、マニホールドＭＨ内の塗布液Ｌｑを観察するようにＹ方向に複数並べて配置しても良い。これによって、塗布液Ｌｑ内に混入した異物（ゴミ）や気泡の有無を画像解析によって調べることができる。

更に、リップ片部材ＨＡの全体が光透過性の誘電体材料で構成されるので、マニホールドＭＨ内、又はスロット部ＳＬＴ内に混入した異物や気泡を、超音波照射器やレーザー光照射器によって、塗工性能上で問題無い程度の粒径（塗布液Ｌｑの基板上での設定厚みよりも小さいサイズ）に粉砕することもできる。超音波照射器は、例えば誘電体材料によるリップ片部材ＨＡに超音波振動子を取り付けて、常時、振動を与え続けても良い。レーザー光照射器を用いる場合は、塗布液Ｌｑの光学特性（感光性、吸収性）を考慮して、塗布液Ｌｑを変質させないような波長帯域であって、繰り返し発振周波数が高く、ピーク強度が大きい高輝度なパルスレーザー光を発生する光源を用いることができる。なお、塗布液Ｌｑが紫外線硬化性の樹脂液の場合、スロット部ＳＬＴ内を流れる塗布液Ｌｑに、調整された強度で紫外線（波長４３６ｎｍ以下）を照射すると、スロット部ＳＬＴの開口部ＳＳから吐出される塗布液Ｌｑ（紫外線硬化性の樹脂液）の粘性が高まり、基板（シート基板Ｐ）上に塗工される塗布液Ｌｑを厚くすることができる。

〔その他の変形例５〕
先の各実施の形態や変形では、例えば図１１、図２５に示したように、ヘッドユニットＤＣＨ（又はＤＣＨ２～ＤＣＨ７）のスロット部ＳＬＴ（又は開口部ＳＳ）のＸ方向（第２方向）に関する幅ΔＳｇを計測するセンサーユニットＳＵを、スロット部ＳＬＴの長手方向（Ｙ方向）の複数個所の各々に設けた。しかしながら、Ｙ方向に関する幅ΔＳｇの変化量の分布が、スロット部ＳＬＴのＹ方向の中心位置での幅ΔＳｇの計測のみで予測可能な場合は、その中心位置の１ヶ所だけにセンサーユニットＳＵを設けても良い。その場合、中心位置の１ヶ所だけのセンサーユニットＳＵによる幅ΔＳｇの計測値と、スロット部ＳＬＴの全体のＹ方向における幅変化の分布特性との相関を事前に求めて、データベース化しておく必要がある。

〔その他の変形例６〕
先の各実施の形態や変形例において、シート基板Ｐの移動方向に関して下流側に位置するリップ片部材ＨＡの全体、又は一部分を誘電体材料（硝材や樹脂材）としたが、シート基板Ｐの移動方向に関して下流側に位置するリップ片部材ＨＢの全体、又は一部分を誘電体材料（硝材や樹脂材）としても良い。先の図６、図２２に示したように、シート基板Ｐの移動方向に関して上流側に位置するリップ片部材ＨＢの先端部ＨＢ４とシート基板Ｐとの間には、塗布液Ｌｑが－Ｘ方向に膨らんだメニスカス状の液溜りＬｑａが形成される。その液溜りＬｑａのメニスカス状態がＹ方向に関して崩れることなく安定していると、シート基板Ｐ上に成膜される塗布液Ｌｑもムラなく一様な厚みで塗工される。

そこで、リップ片部材ＨＢの全体を光透過性の誘電体材料（硝材や樹脂材）とすると、リップ片部材ＨＢの外壁面ＨＢ３等を介して、先端部ＨＢ４とシート基板Ｐとの間に形成される塗布液Ｌｑの液溜りＬｑａを撮像装置によって光学的に観察可能となる。撮像装置からの映像信号に基づいて、液溜りＬｑａのメニスカス状態の変化を画像解析することによって、Ｙ方向に関する塗布ムラ（膜厚の変化）の発生をリアルタイムに検知することもできる。更に、画像解析で得られた液溜りＬｑａのメニスカス状態の変化に基づいて、スロット部ＳＬＴ（開口部ＳＳ）のＹ方向における幅ΔＳｇの分布を調整するように、図４中の駆動制御部３１を介して複数の駆動ユニット（アクチュエータ）ＡＣＤの各々を駆動しても良い。

以上の各実施の形態や各変形において、センサーユニットＳＵは、ヘッドユニットＤＣＨの幅ΔＳｇのスロット部ＳＬＴ内に満たされる塗布液Ｌｑの液厚の変化を計測するものであり、撮像部６２は、スロット部ＳＬＴ内（又はマニホールドＭＨ内）の塗布液Ｌｑの状態を観察するものである。計測や観察の為のエネルギーは、光、電場（静電容量計測）、磁場（渦電流計測）の他に、Ｘ線やγ線も利用できる。その場合、リップ片部材ＨＡ、ＨＢの全体、又は一部分は、Ｘ線やγ線に対して透過性を有する材料で構成される。

また、以上の各実施の形態や各変形例に示したヘッドユニットＤＣＨやセンサーユニットＳＵは、基板上に塗布すべき塗工液を途中で切り替える場合、或いは２種以上の塗工液を順に重ね塗りする場合を考慮して、回転ドラムＤＲの外周面の周方向（或いは基板を平坦に支持する場合は基板の移動方向）に沿った複数ヶ所の各々に、それぞれの塗工液の特質（粘性、透明度、導電度、温度等）に応じて予めスロット部ＳＬＴ（開口部ＳＳ）の幅ΔＳｇやギャップ量ΔＺｇ等が調整されたヘッドユニットＤＣＨ（及びセンサーユニットＳＵ）を配置しても良い。

さらに、以上の各実施の形態や各変形例では、基板Ｐと対向する先端部に形成されるスリット状の開口部ＳＳ（スロット部ＳＬＴの先端）が１本の場合のヘッドユニットＤＣＨとしたが、例えば、特開２００２－１３６９０９号公報に開示されているように、スリット状の開口部の複数を近接させて平行に並べて、各開口部から異なる塗布液を同時に吐出させて複数層の塗膜を重層塗工する構成のヘッドユニットであっても良い。その場合、複数のスリット状の開口部ＳＳの各々の幅ΔＳｇは、ヘッドユニットＤＣＨを構成する透明なリップ片部材ＨＡや透明板部材ＧＨｐ（図１７参照）を介してスロット部ＳＬＴの幅を計測する光学式のギャップセンサー（図８参照）と、リップ片部材（スロット片部材）ＨＡ、ＨＢ内に埋め込み可能な渦電流センサーＳＫ（図２２参照）や静電容量センサー（図２４参照）とを併用する（基板の移動方向に関する開口部ＳＳの配置に応じて使い分ける）ことにより、独立に計測可能である。

上記の各実施の形態や各変形例で示したリップ片部材（スロット片部材）ＨＡの内壁面ＨＡ１、リップ片部材（スロット片部材）ＨＢの内壁面ＨＢ１や図５で示した面ＨＢ２、ＨＢ３は、機械加工やラッピング（研磨）処理によって、その平坦性がサブミクロン以下になるように仕上げられている。特に、図１５～図２１に示したように、極薄の金属製のシート部材（シム部材）ＳＭｐの厚みによって、スロット部ＳＬＴの幅ΔＳｇを規定する構造のヘッドユニットＤＣＨの場合、シム部材ＳＭｐと密着するリップ片部材（スロット片部材）ＨＡ、ＨＢの内壁面側の各面の平坦度が悪いと、その密着部から塗布液が染み出す場合もある。その為、ラッピング処理によって平坦化された面の上に、表面をナノメートルオーダーで高精度に平坦化研磨した石英板（光学原器）を載せて、その接触界面での光（単色光）の干渉により生じるニュートン縞の状態を観察することで、ラッピング処理の適否が判断できる。

２…供給ロール
４…回転駆動部
５…塗工部
６Ａ、６Ｂ…乾燥ユニット
７…回収ロール
１０Ａ…塗工制御部
１２…膜厚計測ユニット
３０…計測処理部
３１…駆動制御部
４４…フォトセンサー
４４Ａ…光電信号
６０…照明部
６２…撮像部
６３…画像処理装置
７０Ａ、７０Ｂ…分光干渉計センサーのヘッド部
ＡＣＤ…駆動ユニット（アクチュエータ）
ＡＸｏ…中心線
ＢＭａ、ＢＭｂ…光ビーム
ＣＤＰ、ＣＤＰａ、ＣＤＰｂ、ＣＤＰｃ、ＣＤＰｄ…導電層
ＤＣＨ、ＤＣＨ２～ＤＣＨ７…ヘッドユニット
ＤＲ…回転ドラム（基板支持機構）
ＧＨｐ…透明板部材
ＧＨｐ’…板部材
ＨＡ、ＨＢ…リップ片部材（スロット片部材）
ＨＡ１、ＨＢ１…内壁面
ＨＡ４、ＨＢ４…先端部
ＨＴＦ…温調ヒータ
Ｌｑ…塗布液
ＭＨ…マニホールド（貯留部）
ＭＭＨ…マイクロメータヘッド
ＯＳＣ…発振器
Ｐ…シート基板
ＲＦａ、ＲＦｂ…反射膜
ＳＫ１～ＳＫ７…渦電流センサー
ＳＬＴ…スロット部
ΔＳｇ、ΔＳｇ１～ΔＳｇ６…幅
ＳＭｐ…シート部材（シム部材）
ＳＳ…開口部
ＳＵ、ＳＵ１～ＳＵ６…センサーユニット
δｇ１～δｇ６…変動量
ＳＶ１～ＳＶ７…計測信号

Claims (6)

1. 第１方向にスリット状に延びて形成された開口部から塗布液を吐出して、被処理基板の表面に前記塗布液を塗工する塗布装置のヘッドユニットであって、
   前記第１方向と直交する第２方向に所定の間隔で対向して設けられた第１のスロット片部材と第２のスロット片部材とを有し、対向する前記第１のスロット片部材の壁面と前記第２のスロット片部材の壁面とで、前記塗布液を前記開口部に通すスロット部を形成するヘッド機構と、
   前記第１方向に沿って前記第１のスロット片部材に複数設けられ、前記間隔、又は前記間隔の変化に対応した計測信号を出力する計測機構と、
   複数の前記計測機構に対応するように、前記第１方向に沿って前記第２のスロット片部材に複数設けられ、前記間隔を調整可能な駆動ユニットと、
   を備え、
   前記第１のスロット片部材の全体、又は一部分が誘電体材料で構成され、
   前記計測機構は、前記塗布液が前記スロット部を流れている間に、第１の光を前記第１のスロット片部材の外側から前記誘電体材料と前記塗布液との界面に照射し、前記界面で反射した前記第１の光を第２の光として前記第１のスロット片部材の外側から前記誘電体材料と前記塗布液とを介して前記第２のスロット片部材の壁面に照射し、前記壁面で反射した前記第２の光を検出して前記間隔、又は前記間隔の変化を計測する、ヘッドユニット。
2. 請求項１に記載のヘッドユニットであって、
   前記誘電体材料は、ガラス材、石英材、樹脂材のいずれかである、ヘッドユニット。
3. 請求項１または２に記載のヘッドユニットであって、
   前記誘電体材料は、前記塗布液と接する前記第１のスロット片部材の壁面の一部を成すように前記第１のスロット片部材に埋設された平行平板状の部材であり、前記第１のスロット片部材のその他の部分を金属材とした、ヘッドユニット。
4. 請求項１～３のいずれか１項に記載のヘッドユニットであって、
   前記誘電体材料の前記界面には、前記光に対して反射性を有する反射層が部分的に形成されている、ヘッドユニット。
5. 請求項１～４のいずれか１項に記載のヘッドユニットを有する、塗布装置。
6. 請求項５に記載の塗布装置であって、
   前記複数の駆動ユニットの各々を、前記複数の計測機構で計測された前記間隔、又は前記間隔の変化の前記第１方向における分布に基づいて駆動する駆動制御部を備える塗布装置。

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